專利名稱：一種光學(xué)標(biāo)識(shí)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)標(biāo)識(shí)，尤其涉及具有高識(shí)別率的光學(xué)標(biāo)識(shí)。
背景技術(shù)：
光學(xué)標(biāo)識(shí)是一種承載信息的圖形，它按照確定的光學(xué)模塊組與信息的對(duì)應(yīng)關(guān)系，使用不同的模塊組來(lái)表示信息。該光學(xué)標(biāo)識(shí)可由設(shè)備所讀取，被分析其包含的光學(xué)模塊組，并被基于該光學(xué)模塊組與信息的對(duì)應(yīng)關(guān)系，解碼出其所承載的信息。例如，條形碼就是ー種廣泛使用的光學(xué)標(biāo)識(shí)。平面碼(無(wú)論一維條碼還是ニ維碼)是用某種特定的幾何圖形模塊按一定規(guī)律在平面上分布的黒白或彩色圖形來(lái)記錄數(shù)據(jù)或信息的；在代碼編制上巧妙地利用構(gòu)成計(jì)算機(jī)內(nèi)部邏輯基礎(chǔ)的“0”、“1”比特流的概念，使用若干個(gè)與ニ進(jìn)制相對(duì)應(yīng)的幾何形體來(lái)表示文字?jǐn)?shù)值信息，通過(guò)圖象輸入設(shè)備或光電掃描設(shè)備自動(dòng)識(shí)讀以實(shí)現(xiàn)信息自動(dòng)處理。 常用的識(shí)別技術(shù)有光筆，(XD，紅外和激光等。而無(wú)論哪種識(shí)別技木，其基本原理都一祥光源照到條碼上，條碼的反射光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)成像到光電轉(zhuǎn)換器上，對(duì)光電轉(zhuǎn)換器轉(zhuǎn)換成的電信號(hào)譯碼后，輸出條碼識(shí)別結(jié)果。常用的提高條碼識(shí)別率的方法集中在識(shí)別原理的每個(gè)環(huán)節(jié)上如選擇光源，將普通光源換成紅外光源，甚至選擇激光光源來(lái)減少由于光衍射造成的識(shí)別率下降；或者優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)，如采用相差小，透光率高，景深更深的鏡頭組，使得遠(yuǎn)景和近景中的條碼都能識(shí)別；或者提高識(shí)別設(shè)備的分辨率等等。

實(shí)用新型內(nèi)容可見(jiàn)，在現(xiàn)有的提高光學(xué)標(biāo)識(shí)識(shí)別率的方法中，識(shí)別率的提高都建立在改進(jìn)識(shí)別系統(tǒng)本身，這需要増加很大的成本。找到ー種既不增加識(shí)別設(shè)備的成本，又能提高光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率是本實(shí)用新型的關(guān)鍵。申請(qǐng)人:經(jīng)過(guò)研究后發(fā)現(xiàn)，在很多情況下，導(dǎo)致識(shí)別率低下的原因之ー為光學(xué)標(biāo)識(shí)中某種類型的光學(xué)模塊組與在另ー種類型的光學(xué)模塊組相鄰，且該某種類型的光學(xué)模塊組較該另一種類型的光學(xué)模塊組明顯偏小。而識(shí)別系統(tǒng)獲得的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像多少會(huì)受到光的衍射或鏡頭畸變所影響，這種影響使得該某種類型的光學(xué)模塊組被“淹沒(méi)”，因此使得識(shí)別失敗，進(jìn)而導(dǎo)致識(shí)別率低下。為了解決該問(wèn)題，本實(shí)用新型的構(gòu)思在于，在生成光學(xué)標(biāo)識(shí)時(shí)，可以根據(jù)光學(xué)標(biāo)識(shí)中光學(xué)模塊組的分布情況，對(duì)ー些光學(xué)模塊組的圖形進(jìn)行修正，即將光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變?cè)诠鈱W(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品中進(jìn)行補(bǔ)償，例如增大前述某種類型的光學(xué)模塊組的尺寸和/或減少與該光學(xué)模塊組相鄰的光學(xué)模塊組的尺寸，或者改變其形狀。這樣，可以使得光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光學(xué)成像所得到的、受到衍射或畸變影響的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像更接近標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)標(biāo)識(shí)，從而，本實(shí)用新型的有益效果是提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率。根據(jù)本實(shí)用新型的ー個(gè)方面，提供了ー種光學(xué)標(biāo)識(shí)，該標(biāo)識(shí)由反射率不同的第一模塊組和第二模塊組沿指定方向交錯(cuò)排列而成，其特征在干a)第一模塊組(B’)包含的第一模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第二模塊組(A’)的第二模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，所述不同的圖形是用于補(bǔ)償光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變；或b)第二模塊組(D’)包含的第二模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第一模塊組(C’)的第一模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，所述不同的圖形是用于補(bǔ)償光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變。根據(jù)本實(shí)用新型的這個(gè)方面，將光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變?cè)诠鈱W(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品中的模塊的圖形上進(jìn)行補(bǔ)償，使得光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光學(xué)成像所得到的、受到衍射或畸變影響的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像更接近標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)標(biāo)識(shí)，從而提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率。 根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的尺寸與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的尺寸不同對(duì)a)情況，沿該方向，所述第一模塊組(B’)的尺寸比第一模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小，相差第一尺寸，和/或，所述第二模塊組(A’)的尺寸比第二模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大，相差第二尺寸；對(duì)b)情況，沿該方向，所述第二模塊組(D’)的尺寸比第二模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小，相差第一尺寸，和/或，所述第一模塊組(C’)的尺寸比第一模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大，相差第二尺寸。該方面的優(yōu)點(diǎn)在于，對(duì)于相鄰的、較小的ー種光學(xué)模塊組和較大的另ー種光學(xué)模塊組，増加的較小的光學(xué)模塊組的尺寸和/或減少的較大的光學(xué)模塊組的尺寸，將光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變?cè)诠鈱W(xué)標(biāo)識(shí)中進(jìn)行補(bǔ)償。使得光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光學(xué)成像所得到的、受到衍射或畸變影響的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像更接近標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)標(biāo)識(shí)，從而提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率。根據(jù)該方面的另ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的形狀不同。該優(yōu)選的實(shí)施方式，進(jìn)ー步通過(guò)修正光學(xué)標(biāo)識(shí)模塊組的形狀，將光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變?cè)诠鈱W(xué)標(biāo)識(shí)中進(jìn)行補(bǔ)償。使得光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光學(xué)成像所得到的、受到衍射或畸變影響的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像更接近標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)標(biāo)識(shí)，從而提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率。根據(jù)該方面的另ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述給定倍數(shù)不小于2倍。該優(yōu)選的實(shí)施方式給出了適合進(jìn)行修正的較大模塊組和較小模塊組的倍數(shù)大小。根據(jù)該方面的再一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第一尺寸和/或第二尺寸為標(biāo)識(shí)模塊尺寸的1%至30%。該優(yōu)選的實(shí)施方式給出了更具體的修正尺寸的大小。根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，對(duì)a)情況，所述第一和/或第二尺寸與所述第一模塊數(shù)大于所述第二模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第ニ模塊組的形狀與所述第一模塊數(shù)大于所述第二模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)；[0021]對(duì)b)情況，所述第一和/或第二尺寸與所述第二模塊數(shù)大于所述第一模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與所述第二模塊數(shù)大于所述第一模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)。該優(yōu)選的實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)在干，修正根據(jù)實(shí)際倍數(shù)而定，例如若倍數(shù)較大則修正較多，因此可以使得修正更加地精確，避免修正不足或修正過(guò)度，保證識(shí)別率。根據(jù)本實(shí)用新型的又一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第一尺寸和/或第二尺寸與該光學(xué)標(biāo)識(shí)的實(shí)際使用情況相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與該光學(xué)標(biāo)識(shí)的實(shí)際使用情況相關(guān)。該優(yōu)選的實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)在于，具體修正與該光學(xué)標(biāo)識(shí)的實(shí)際使用情況有關(guān)，這樣可以使得在實(shí)際使用時(shí)修正更加精確。根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述實(shí)際使用情況包括以下至少任ー項(xiàng) 該光學(xué)標(biāo)識(shí)被生成的大小； 該光學(xué)標(biāo)識(shí)所處的環(huán)境的光源； 該光學(xué)標(biāo)識(shí)被識(shí)別的距離； 識(shí)別該光學(xué)標(biāo)識(shí)所使用的光學(xué)系統(tǒng)。該實(shí)施方式給出了幾個(gè)具體的實(shí)際使用情況。根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ー維條形碼，所述方向?yàn)榕c條碼延伸方向垂直的方向；或所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ニ維碼，所述方向?yàn)楗司S碼的垂直方向和水平方向。該實(shí)施方式中，一維或ニ維條碼可以被基于本實(shí)用新型進(jìn)行修正，因此提高了條碼的識(shí)別率。根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式，對(duì)所述第一模塊組和/或第二模塊組的修正能夠用于提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)在一定情況下的識(shí)別率，所述一定情況包括如下至少任ー項(xiàng)對(duì)焦不準(zhǔn)；遠(yuǎn)距離；識(shí)別設(shè)備低分辨率；光源是多波長(zhǎng)；照度低環(huán)境。該實(shí)施方式給出了本實(shí)用新型的實(shí)施方式可應(yīng)用來(lái)解決幾種典型的惡劣條件下光學(xué)標(biāo)識(shí)識(shí)別率低的問(wèn)題。本實(shí)用新型的其它方面和優(yōu)點(diǎn)將在下文中描述，或者通過(guò)下文的說(shuō)明而由本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。

圖I是未經(jīng)修正的一個(gè)示例的ー維條形碼；圖2是經(jīng)過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)施方式修正的與圖I中的一維條形碼對(duì)應(yīng)的條形碼；圖3是未經(jīng)修正的一個(gè)示例的ニ維碼；圖4是經(jīng)過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)施方式修正的與圖3中的ニ維碼對(duì)應(yīng)的ニ維碼。附圖中，相同或相似的附圖標(biāo)記代表相同或相似的步驟模塊組或部件(模塊)模塊組。
具體實(shí)施方式
下面參照?qǐng)DI至4中，對(duì)根據(jù)本實(shí)用新型對(duì)ー維條形碼和ニ維碼進(jìn)行修正的實(shí)施方式進(jìn)行詳述?？梢岳斫猓緦?shí)用新型并不限于條形碼，而可以使用于對(duì)任何光學(xué)標(biāo)識(shí)進(jìn)行修正。在第一個(gè)實(shí)施方式中，參照?qǐng)DI至2，對(duì)本實(shí)用新型在一維條形碼中的應(yīng)用進(jìn)行描述。在一個(gè)例子中，如圖I中條形碼下部的數(shù)字所示，需要被條形碼承載的信息為數(shù)字 693461310001。在第一個(gè)步驟中，根據(jù)信息693461310001，生成與該信息對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)的條形碼。具體的，生成該條形碼的方法與現(xiàn)有的條形碼編碼方法是一致的。生成的標(biāo)準(zhǔn)的條形碼是如 圖I所示的條形碼，該條形碼由第一模塊組和第二模塊組在橫向(即與條碼延伸方向垂直的方向)交錯(cuò)排列而成，該標(biāo)準(zhǔn)的條形碼中各黑、白條碼模塊的尺寸都是標(biāo)準(zhǔn)的條碼模塊的整數(shù)倍。其中，ー個(gè)第一模塊組指一段連續(xù)的黑色條碼模塊，ー個(gè)第二模塊組指一段連續(xù)的白色條碼模塊。值得注意的是，在第一個(gè)步驟中，該標(biāo)準(zhǔn)條形碼可以僅被電子地產(chǎn)生，例如產(chǎn)生為黑、白條碼模塊對(duì)應(yīng)的數(shù)字信號(hào)，或者產(chǎn)生為條形碼圖像的數(shù)字信號(hào)，該信號(hào)被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器中，而不必實(shí)際地被印刷或打印出來(lái)。在第二個(gè)步驟中，在該標(biāo)準(zhǔn)條形碼中進(jìn)行搜索，搜索前述的可能受到光的衍射或鏡頭畸變所影響的、相鄰的較小的ー種光學(xué)模塊組和較大的另ー種光學(xué)模塊組。具體地，捜索第一模塊組的寬度大于其相鄰的第二模塊組的寬度的給定倍數(shù)，該給定倍數(shù)例如不小于2倍。這可以由捜索第一模塊組的條碼模塊數(shù)量大于第二模塊組的條碼模塊數(shù)量的給定倍數(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。在一個(gè)實(shí)施方式中，標(biāo)準(zhǔn)條形碼被產(chǎn)生為黑、白條碼對(duì)應(yīng)的數(shù)字信號(hào)，例如邏輯值O對(duì)應(yīng)黑色條碼、邏輯值I對(duì)應(yīng)白色條碼，則本實(shí)施方式可以比較連續(xù)的邏輯值O與相鄰的連續(xù)的邏輯值I之間的個(gè)數(shù)倍數(shù)關(guān)系。例如，在圖I中，可以搜索到第一模塊組B中條碼模塊的數(shù)量是第二模塊組A中條碼模塊的數(shù)量的4倍。在另ー個(gè)實(shí)施方式中，標(biāo)準(zhǔn)條形碼被產(chǎn)生為條形碼圖像的數(shù)字信號(hào)，則可以使用圖像處理技術(shù)來(lái)分析黑色條碼圖像和相鄰的白色條碼圖像的寬度倍數(shù)。例如在圖I中，可以分析得到第一模塊組B的圖像的寬度是白色條碼模塊A組的圖像的寬度的4倍。則，需要修正的條碼模塊組為第二模塊組A、或第一模塊組B、或A和B兩者。在第三個(gè)步驟中，本實(shí)施方式確定沿條形碼的橫向増大第二模塊組A第一尺寸，或減小第一模塊組B第二尺寸，或増大第二模塊組A第一尺寸且同時(shí)減小第一模塊組B第ニ尺寸。優(yōu)選地，為了保證整個(gè)條碼的寬度與標(biāo)準(zhǔn)條碼的寬度一致，可以采用第三種方式即同時(shí)增大第二模塊組A第一尺寸且同時(shí)減小第一模塊組B第二尺寸。一種情況下，第一尺寸和第二尺寸相等，這樣可以保證整個(gè)條碼的寬度與標(biāo)準(zhǔn)的整個(gè)條碼寬度仍舊一致；另一種情況下，第一尺寸也可以與第二尺寸不相等。優(yōu)選地，第一尺寸和/或第二尺寸為標(biāo)準(zhǔn)的條碼模塊尺寸的1%至30%。[0058]優(yōu)選地，在一種情況下，本實(shí)施方式根據(jù)第一模塊組B的條碼模塊的數(shù)量大于第ニ模塊組A的條碼模塊的實(shí)際倍數(shù)，來(lái)確定第一尺寸和/或第二尺寸。例如，實(shí)際倍數(shù)越大，則第一尺寸和/或第二尺寸也應(yīng)該越大；而當(dāng)實(shí)際倍數(shù)并不大時(shí)，第一尺寸和/或第二尺寸可以較小，從而僅進(jìn)行細(xì)微的修正，通過(guò)這樣來(lái)對(duì)衍射或鏡頭畸變進(jìn)行合適的修正。實(shí)際倍數(shù)和第一尺寸/第二尺寸之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系可以預(yù)先經(jīng)過(guò)試驗(yàn)獲得較優(yōu)的結(jié)果，并存儲(chǔ)起來(lái)供使用。在另ー種情況下，特別是需要大批量地印制同一條形碼的情況下，可以針對(duì)該條形碼的實(shí)際使用情況，來(lái)確定它專門的第一尺寸和/或第二尺寸。具體地，首先，可以將該標(biāo)準(zhǔn)條碼實(shí)際地印制出來(lái)。并且，基于該條碼的實(shí)際使用情況，對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)條碼進(jìn)行識(shí)別。接著，基于識(shí)別結(jié)果，對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)條碼中的第二模塊組A和/或第一模塊組B的尺寸進(jìn)行修正，并重復(fù)生成、識(shí)別和修正步驟，直至識(shí)別率滿足預(yù)定條件。然后，記錄對(duì)于該第二模塊組A和/或第一模塊組B的尺寸的修正量，分別作為第一尺寸和/或第二尺寸。前述的實(shí)際使用情況包括以下至少任ー項(xiàng) 該條碼被生成的大??； 該條碼將要被識(shí)別所處的環(huán)境的光源； 該條碼將要被識(shí)別的距離； 將要識(shí)別該條碼所使用的光學(xué)系統(tǒng)。該步驟可以由ー個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行自動(dòng)地完成，例如該系統(tǒng)首先按給定尺寸印制該條碼，并調(diào)節(jié)光源與該條碼將要被識(shí)別所處的實(shí)際光源一致，然后進(jìn)行識(shí)別、修正，并重復(fù)印制、識(shí)別和修正步驟。圖2給出了第二模塊組A經(jīng)加寬第一尺寸得到條碼模塊組A’與第一模塊組B減窄第二尺寸得到條碼模塊組B’的ー維條形碼。為了便于觀看，附圖中的修正尺寸可能有所夸大，但這并不會(huì)改變本實(shí)用新型的技術(shù)方案本身。對(duì)第二模塊組A和/或第一模塊組B的修正能夠用于提高該條形碼在一定情況下的識(shí)別率，這里的一定情況包括如下至少任ー項(xiàng)對(duì)焦不準(zhǔn)；遠(yuǎn)距離；識(shí)別設(shè)備低分辨率；光源是多波長(zhǎng)；照度低環(huán)境。類似地，如圖I所示，白色第二模塊組D比其相鄰的黑色的第一模塊組C寬很多，因此，也有可能出現(xiàn)識(shí)別率低的問(wèn)題。所以，該實(shí)施方式還可以對(duì)C和/D的尺寸進(jìn)行修正。具體的實(shí)現(xiàn)方式是類似的，這里不再贅述。圖2還給出了第一模塊組C經(jīng)加寬第一尺寸得到條碼模塊組C’與第二模塊組D減窄第二尺寸得到條碼模塊組D’的ー維條形碼。以上以本實(shí)用新型應(yīng)用于一維條形碼的實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳述，下面再對(duì)本實(shí)用新型應(yīng)用于ニ維碼的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖3示出了ー個(gè)被生成的標(biāo)準(zhǔn)ニ維碼的例子。其中，白色的第二模塊組A在橫向(圖3中所示方位的水平方向)被兩側(cè)的黑色的第一模塊組B所包圍，并且第一模塊組B中模塊數(shù)量均是第二模塊組A的模塊數(shù)量的三倍。則本實(shí)施方式可以確定需要修正的模塊組為第二模塊組A和/或其兩側(cè)的第一模塊組B。貝U，本實(shí)施方式確定沿橫向增大白色的第二模塊組A第二尺寸，和/或減少其兩側(cè)的兩個(gè)黑色的第一模塊組B組中的至少ー個(gè)第一尺寸。優(yōu)選地，經(jīng)修正的第二模塊組A和經(jīng)修正的第一模塊組B的總尺寸與標(biāo)準(zhǔn)的第一模塊組A和第二模塊組B的總尺寸相同。如圖4所示，白色的第一模塊組A在橫向上被加寬為A’。其兩側(cè)黑色的第一模塊組B分別被減窄為B，。此外，圖3中，黑色的第二模塊組C在縱向(圖3中所示方位的豎直方向)上的下側(cè)與白色的第一模塊組D相鄰，其中，白色的第一模塊組D的模塊數(shù)量是黑色的第二模塊組C中的模塊數(shù)量的5倍。則，本實(shí)施方式確定沿橫向増大第二模塊組C第二尺寸，和/或減少第一模塊組D第一尺寸。優(yōu)選地，經(jīng)修正的第二模塊組C和經(jīng)修正的第一模塊組D的總尺寸與標(biāo)準(zhǔn)的第二模塊組C和第一模塊組D的總尺寸相同。如圖4所示，第二模塊組C在縱向上被從下側(cè)加長(zhǎng)為C’，第一模塊組D在縱向上被從上側(cè)縮短為D’。與以上在尺寸上進(jìn)行修正類似的，本實(shí)施方式還可以對(duì)所述第一尺寸和第二尺寸 對(duì)應(yīng)的修正區(qū)域的形狀，即第一模塊組和/或第二模塊組的形狀進(jìn)行修正，例如將其邊緣修正為弧形，如圖4中第一模塊組D’所示?？梢岳斫?，該修正的形狀可以是有利于提高識(shí)別率的任意形狀。為了便于觀看，附圖中的修正尺寸可能有所夸大，但這并不會(huì)改變本實(shí)用新型的技術(shù)方案本身。相應(yīng)地，本實(shí)用新型還提供了例如圖2和圖4所示的條形碼所示的光學(xué)標(biāo)識(shí)，該標(biāo)識(shí)由反射率不同的第一模塊組和第二模塊組沿指定方向交錯(cuò)排列而成，其特征在于在下述至少任ー情況滿足時(shí)a)第一模塊組(B’ )包含的第一模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第二模塊組(A’ )的第二模塊數(shù)的給定倍數(shù)；b)第二模塊組(D’ )包含的第二模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第一模塊組(C’ )的第一模塊數(shù)的給定倍數(shù)；所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，用于提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率。優(yōu)選地，所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的尺寸與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的尺寸不同對(duì)a)情況，沿該方向所述第一模塊組(B’ )比第一模塊數(shù)個(gè)標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小第一尺寸，和/或，所述第二模塊組(A’ )比第二模塊數(shù)個(gè)標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大第二尺寸；對(duì)b)情況，沿該方向所述第二模塊組(D’ )比第二模塊數(shù)個(gè)標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小第一尺寸，和/或，所述第一模塊組(C’ )比第一模塊數(shù)個(gè)標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大第二尺寸；這ー實(shí)施方式的一個(gè)更加具體的例子可以參照?qǐng)DI-圖4以及以上對(duì)圖I-圖4的相關(guān)說(shuō)明，在此不再贅述。所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的形狀不同。這ー實(shí)施方式的一個(gè)更加具體的例子可以參照?qǐng)D3-圖4以及以上對(duì)圖3-圖4的相關(guān)說(shuō)明，在此不再贅述。優(yōu)選地，所述給定倍數(shù)不小于2倍。優(yōu)選地，所述第一尺寸和/或第二尺寸為標(biāo)識(shí)模塊尺寸的I %至30%。[0094]優(yōu)選地，對(duì)a)情況，所述第一和/或第二尺寸與所述第一模塊數(shù)大于所述第二模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與所述第一模塊數(shù)大于所述第二模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)；對(duì)b)情況，所述第一和/或第二尺寸與所述第二模塊數(shù)大于所述第一模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與所述第二模塊數(shù)大于所述第一模塊數(shù)的實(shí)際倍數(shù)相關(guān)。優(yōu)選地，所述第一尺寸和/或第二尺寸與該光學(xué)標(biāo)識(shí)的實(shí)際使用情況相關(guān)，以及所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與該光學(xué)標(biāo)識(shí)的實(shí)際使用情況相關(guān)，所述實(shí)際使用情況包括以下至少任ー項(xiàng) 該光學(xué)標(biāo)識(shí)被生成的大??； 該光學(xué)標(biāo)識(shí)所處的環(huán)境的光源； 該光學(xué)標(biāo)識(shí)被識(shí)別的距離； 識(shí)別該光學(xué)標(biāo)識(shí)所使用的光學(xué)系統(tǒng)。優(yōu)選地，所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ー維條形碼，所述方向?yàn)榕c條碼延伸方向垂直的方向；或所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ニ維碼，所述方向?yàn)楗司S碼的橫向和縱向；所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的、與標(biāo)準(zhǔn)的模塊組不同的圖形能夠用于提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)在一定情況下的識(shí)別率，所述一定情況包括如下至少任ー項(xiàng)對(duì)焦不準(zhǔn)；遠(yuǎn)距離；識(shí)別設(shè)備低分辨率；光源是多波長(zhǎng)；照度低環(huán)境。以上實(shí)施方式的更加具體的例子可以參照?qǐng)DI-圖4以及以上對(duì)圖I-圖4的相關(guān)說(shuō)明，在此不再贅述。在以上的實(shí)施方式中，以ー維碼和ニ維碼僅存在黑、白兩種模塊為例對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行描述?？梢岳斫?，本實(shí)用新型并不限于此，而可以適用于其他任意種類和數(shù)量的顔色所構(gòu)成的光學(xué)標(biāo)識(shí)。并且，可以理解，本實(shí)用新型并不限于對(duì)光學(xué)標(biāo)識(shí)的模塊組的尺寸和形狀進(jìn)行修正，而可以對(duì)與其圖形有關(guān)的任何屬性，例如顔色、反光率等各種屬性進(jìn)行修正，以達(dá)到本實(shí)用新型的目的。盡管在附圖和前述的描述中詳細(xì)闡明和描述了本實(shí)用新型，應(yīng)認(rèn)為該闡明和描述是說(shuō)明性的和示例性的，而不是限制性的；本實(shí)用新型不限于上述實(shí)施方式。本實(shí)用新型也不限于針對(duì)光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變。本實(shí)用新型所要保護(hù)的光學(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品包括由本實(shí)用新型的方法所制造的光學(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品，也包括以其他任何方式制造的、落入光學(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品權(quán)利要求范圍之內(nèi)的光學(xué)標(biāo)識(shí)產(chǎn)品。那些本技術(shù)領(lǐng)域的一般技術(shù)人員能夠通過(guò)研究說(shuō)明書、公開(kāi)的內(nèi)容及附圖和所附的權(quán)利要求書，理解和實(shí)施對(duì)披露的實(shí)施方式的其他改變。在權(quán)利要求中，措詞“包括”不排除其他的元素和步驟，并且措辭“一個(gè)”不排除復(fù)數(shù)。權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記不應(yīng)理解為對(duì)范圍的限制。
權(quán)利要求1.ー種光學(xué)標(biāo)識(shí)，該標(biāo)識(shí)由反射率不同的第一模塊組和第二模塊組沿指定方向交錯(cuò)排列而成，其特征在干a)第一模塊組(B’)包含的第一模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第二模塊組(A’ )的第二模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，所述不同的圖形是用于補(bǔ)償光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變；或b)第二模塊組(D’)包含的第二模塊數(shù)大于其相鄰的至少ー側(cè)的第一模塊組(C’ )的第一模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，所述不同的圖形是用于補(bǔ)償光學(xué)標(biāo)識(shí)由于光的衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的光學(xué)成像過(guò)程中產(chǎn)生的圖形畸變。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的尺寸與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的尺寸不同對(duì)a)情況，沿該方向，所述第一模塊組(B’ )的尺寸比第一模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小，相差第一尺寸，和/或，所述第二模塊組(A’ )的尺寸比第二模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大，相差第二尺寸；對(duì)b)情況，沿該方向，所述第二模塊組(D’ )的尺寸比第二模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸小，相差第一尺寸，和/或，所述第一模塊組(C’ )的尺寸比第一模塊數(shù)的標(biāo)識(shí)模塊的尺寸大，相差第二尺寸；和/或，所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的形狀與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的形狀不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述給定倍數(shù)不小于2倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述第一尺寸和/或第二尺寸為標(biāo)識(shí)模塊尺寸的1%至30%。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ー維條形碼，所述方向?yàn)榕c條碼延伸方向垂直的方向；或所述光學(xué)標(biāo)識(shí)包括ニ維碼，所述方向?yàn)楗司S碼的橫向和縱向。
專利摘要為提高例如條形碼等光學(xué)標(biāo)識(shí)識(shí)別率，本實(shí)用新型提出了一種光學(xué)標(biāo)識(shí)。該標(biāo)識(shí)由反射率不同的第一模塊組和第二模塊組沿指定方向交錯(cuò)排列而成，其特征在于第一模塊組(B’)包含的第一模塊數(shù)大于其相鄰的至少一側(cè)的第二模塊組(A’)的第二模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同，用于提高該光學(xué)標(biāo)識(shí)的識(shí)別率；或，第二模塊組(D’)包含的第二模塊數(shù)大于其相鄰的至少一側(cè)的第一模塊組(C’)的第一模塊數(shù)的給定倍數(shù)，且所述第一模塊組和/或所述第二模塊組的圖形與標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)識(shí)模塊組的圖形不同。優(yōu)選地，尺寸和/或形狀不同。本實(shí)用新型將例如光衍射或鏡頭畸變帶來(lái)的圖形畸變?cè)诠鈱W(xué)標(biāo)識(shí)中進(jìn)行補(bǔ)償，得成像后的光學(xué)標(biāo)識(shí)圖像更接近標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)標(biāo)識(shí)，從而提高光學(xué)標(biāo)識(shí)識(shí)別率。
文檔編號(hào)G06K19/06GK202615422SQ201120319398
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者趙立新, 趙立輝 申請(qǐng)人:我查查信息技術(shù)(上海)有限公司