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附有緩沖層的凹版制版輥及其制造方法

文檔序號:2726441閱讀:177來源:國知局
專利名稱:附有緩沖層的凹版制版輥及其制造方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種適于在瓦楞紙等粗面上進行印刷或者在微型光盤等 上印刷圖像,或者在液晶面板用玻璃上彩印用于構(gòu)成濾色片的矩陣圖像的附有緩沖層的凹版制版輥及其制造方法,尤其涉及設置類金剛石碳(DLC) io被膜層作為表面強化覆蓋層的附有緩沖層的凹版制版輥及其制造方法。
背景技術
以往,在印刷版、特別是在液晶面板用玻璃上彩色印刷用于構(gòu)成濾色 片的矩陣圖像或者在微型光盤等上彩色印刷圖像中,采用凹部膠版印刷或15 無水膠版印刷,而沒有采用凹板印刷。其原因在于,凹板印刷由于沒有緩 沖性而印刷壓力增大,有玻璃因而破碎,或者引起微型光盤等的變形的可 能性,所以適合使用通過借助由橡膠構(gòu)成的橡皮輥進行印刷,在印刷壓力 增大時,根據(jù)橡膠的變形可以抑制印刷壓力的增大的凹部膠版印刷。在向液晶面板用玻璃進行彩色印刷時,向玻璃轉(zhuǎn)移之后的濕墨液的膜20厚均勻地為5 6pm、干墨液的膜厚均勻地為1 1.5pm、均勻地透過背光 燈而且保證高透過率是必須的。另外,在向微型光盤等彩色印刷圖像時, 在可以清晰地得到圖像的前提下,需要使墨液的膜厚盡可能地薄。其原因 在于,在微型光盤等上印刷的圖像偏離中心印刷,所以形成圖像的墨液的 重量與采用下一代微型光盤裝置的流體動壓軸承的主軸電動機的高速旋25轉(zhuǎn)化一起,成為不能忽視的不平衡旋轉(zhuǎn)的原因。以往的凹板印刷版必須在鍍銅的表層部形成深度為15 25pm的單 元,這樣,濕墨液的膜厚成為15 25|_im,所以在向液晶面板用玻璃進行 彩色印刷或者向微型光盤等彩色印刷圖像時,墨液的膜厚過厚,不適合。 在以往的凹板印刷版中,不能在鍍銅的表面蝕刻形成深度為5 6pm30的單元,這是因為,鍍銅被膜為結(jié)晶組織,蝕刻不能均勻地進行。不可避免在單元的輪廓或底面發(fā)生凹凸或者大小不同導致的深度不同的單元。特別對于陰影部的大單元,即使深度可以成為5 6pm,對于光亮部的小單 元而言,在輪廓或底面發(fā)生凹凸的概率高,幾乎不可能可靠地使深度為5 6拜。5 因此,為了可靠地得到單元的深度為5 6)im的凹版,可以通過向堿玻璃烘烤圖像并顯影,利用氟酸蝕刻,由此形成深度均勻的非常準確的單 元。不過,這不是凹板印刷,而成為了借助橡皮輥進行印刷的凹部膠版印這樣一來,以往為了在液晶面板用玻璃上進行彩色印刷,或者向微型 io光盤等上迸行彩色印刷,采用凹部膠版印刷或無水平印刷版膠版印刷,沒 有采用凹板印刷。另一方面,以往的凸版(樹脂凸版)通過在光固化性樹脂上重疊掩模 薄膜,照射紅外光后進行蝕刻,或者在光固化性樹脂上形成炭黑的被膜, 涂敷正型的感光膜,利用激光烘烤負型圖像后顯影,接著照射紅外光后進15 行蝕刻來制版。但是,利用以往的印刷法制作的液晶面板用濾色片的圖像的清晰度 低,且存在線圖像的邊緣的紊亂、線圖像的凹凸,與利用薄膜法制作的液 晶面板用濾色片相比,質(zhì)量明顯差,所以只被擴展到與玩具相關的用途, 在計算機顯示器或電視等高級品中完全沒有被采用。20 利用凹部膠版印刷制作的液晶面板用濾色片的質(zhì)量差的原因如下。凹部膠版印刷在墨液從橡皮輥向玻璃等被印刷物轉(zhuǎn)移時或多或少施加了印 刷壓力。該印刷壓力由于擠壓墨液,所以墨液的輪廓向外側(cè)擴展或者紊亂, 這成為了不能減小線一空間的值的原因之一。另外,要轉(zhuǎn)印的墨液分別不 能以100%的概率從版向橡皮輥,進而從橡皮輥向玻璃等被印刷物進行轉(zhuǎn)25 移時,成為墨液被撕碎的結(jié)果,在玻璃等被印刷物上印刷的墨液的膜厚不均勻且在表面出現(xiàn)凹凸。要轉(zhuǎn)移的墨液能夠以100%的概率轉(zhuǎn)移在玻璃等被印刷物上的研究 結(jié)果被發(fā)表在論文上。如果利用該結(jié)果,通過涂敷堿玻璃制的印刷版的 O.lpm硅橡膠的被膜而賦予脫模性、以及在單元中盛裝光固化性墨液的時 30刻照射光,使墨液半干燥,成為難以弄碎的墨液,由此可以從版向橡皮輥以100%的概率轉(zhuǎn)移墨液,進而通過在向液晶面板用玻璃印刷轉(zhuǎn)移至硅衍 生物的橡皮輥的墨液之前再次照射光,使墨液半干燥,成為難以弄碎的墨液,同時在液晶面板用玻璃的表面涂敷0.2 0.3pm的膜厚的丙烯酸系粘 合劑,由此可以從橡皮輥向液晶面板用玻璃以100%的概率轉(zhuǎn)移墨液。 5 但是,為了從橡皮輥向液晶面板用玻璃以100%的概率轉(zhuǎn)移墨液,必須超精密地制作版或印刷裝置。即,在通常的印刷裝置的機械精密度下, 在從橡皮輥向液晶面板用玻璃轉(zhuǎn)移墨液時不可避免地施加印刷壓力且發(fā) 生變動。為了使印刷壓力完全消失或者完全不變動而提高機械精密度是極難的。io 假如能夠超精密地制作印刷機械,從而使橡皮輥與液晶面板用玻璃之間的間隙與墨液的膜厚完全一致而且在印刷中間隙尺寸不發(fā)生變動,則印刷壓力幾乎不變動。但是,實用化這樣的裝置幾乎是不可能的。這是因為,將橡皮輥與液晶面板用玻璃之間的間隙例如保持在5.5pm,在向液晶面板用玻璃轉(zhuǎn)移附著于橡皮輥的6(am的膜厚的墨液時, 15發(fā)生印刷壓力以使墨液的膜厚成為5.5|im。在橡皮輥旋轉(zhuǎn)同時使液晶面板用玻璃直動,以使其與橡皮輥的表面速度完全地一致時,使橡皮輥與液晶面板用玻璃之間的間隙完全不發(fā)生變動是極難的。橡皮輥必須超精密地制作成圓,圓筒,必須使液晶面板用玻璃完全沒有波動地直動。即使在橡皮輥的直徑中存在接近lpm的偏心,或者如果 20液晶面板用玻璃相對橡皮輥靠近或遠離lpm,這樣的話,墨液的膜厚變成4.5pm,印刷壓力變動,另外,橡皮輥與液晶面板用玻璃之間的間隙變得大于5.5pm,此時,附著于橡皮輥的墨液不能轉(zhuǎn)移到液晶面板用玻璃上。 因此,可以說無論怎樣追求凹版膠版印刷機械的超精密化,也必須施加印刷壓力,不可能抑制印刷壓力的變動。因而,施加印刷壓力,印刷壓 25力發(fā)生變動是必須的,所以從橡皮輥向液晶面板用玻璃以100。X的概率轉(zhuǎn)移墨液即使在實驗中能實現(xiàn),但也難以實用化。另一方面,以往的凸版(樹脂凸版)由于使用光固化性樹脂,所以如果將小的點形成為柱狀,則容易折損,不能消除固化樹脂的脆性,不能制作高精細的版。30 另外,在凹板印刷中,相對凹版制版輥(凹版圓筒),對應制版信息形成微小的凹部(凹版單元),制作版面,在該凹版單元中填充墨液,轉(zhuǎn) 印到被印刷物。在通常的凹版制版輥中,在鋁或鐵等金屬制或碳纖維強化樹脂(CFRP)等強化樹脂制中空輥的表面設置版面形成用的鍍銅層(版材),利用蝕刻,對應制版信息,在該鍍銅層形成多個微小的凹部(凹版5單元),接著,利用用于增加凹版制版輥的耐刷力的鉻鍍敷形成硬質(zhì)的鉻 層,成為表面強化覆蓋層,結(jié)束制版(版面的制作)。但是,在鍍鉻工序 中,由于使用毒性高的六價鉻,所以為了維持作業(yè)的安全而需要多余的成 本,而且還存在發(fā)生公害的問題,目前正期待能夠代替鉻層的表面強化覆 蓋層的出現(xiàn)。10 另一方面,在制造凹版制版輥(凹版圓筒)時,已知有在形成單元的鍍銅層上形成類金剛石碳(DLC),用作表面強化覆蓋層的技術(專利文 獻1 3),但存在DLC層與銅的粘附性弱、容易剝離的問題。另外,本 申請人:已經(jīng)提出了在中空輥上形成橡膠或樹脂層,在其上形成類金剛石碳 (DLC)的被膜之后,形成單元,制造凹板印刷版的技術(專利文獻4 15 7)。專利文獻1:特開平4一282296號公報 專利文獻2:特開2002 — 172752號公報 專利文獻3:特開2002 — 178653號公報 專利文獻4:特開平11一309950號公報 20 專利文獻5:特開平11—327124號公報專利文獻6:特開2000 — 15770號公報 專利文獻7:特開2000—10300號公報發(fā)明內(nèi)容25 本發(fā)明正是鑒于所述點而提出的,其目的在于提供一種印刷版的制造 方法,特別是提供一種可以通過具有緩沖性而可以相對硬質(zhì)的被印刷物進 行不使用橡皮輥的直接凹板印刷,可以良好地進行瓦楞紙印刷等對粗面的 凹板印刷,適于在液晶面板用玻璃上彩印用于構(gòu)成濾色片的矩陣圖像或者 在微型光盤等上彩印圖像的具有緩沖性的凹版的制造方法。30 為了解決所述課題,本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的特征在于,包含在表面設置有由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的緩沖層的中空輥, 設置在該緩沖層的表面而且在表面形成多個凹版單元的鍍銅層,在該鍍銅 層的表面設置的金屬層,在該金屬層的表面設置的該金屬的碳化金屬層和 覆蓋該碳化金屬層的表面的類金剛石碳被膜。 5 本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的制造方法的特征在于,包括準備在表面設置有由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的緩沖層的中空輥的工 序;在該緩沖層的表面形成鍍銅層的鍍銅工序;在該鍍銅層的表面形成多 個凹版單元的凹版單元形成工序;在該鍍銅層的表面形成金屬層的金屬層 形成工序;在該金屬層的表面形成該金屬的碳化金屬層的碳化金屬層形成 10工序;在該碳化金屬層的表面形成類金剛石碳被膜的類金剛石碳被膜形成 工序。作為所述碳化金屬層優(yōu)選為碳化金屬傾斜層,該碳化金屬傾斜層中的 碳的組成比被設定成從所述金屬層側(cè)向所述類金剛石碳被膜方向,碳的 比率逐漸增大。15 優(yōu)選所述鍍銅層的厚度為50 200pm,所述凹版單元的深度為5 150nm,所述金屬層的厚度為0.001 lpm,優(yōu)選為0.001 0.1(im,更優(yōu) 選為0.001 0.05|im,所述碳化金屬層的厚度為0.1 lpm,以及,所述類 金剛石碳被膜的厚度為0.1 1(Him。優(yōu)選分別利用濺射法形成所述金屬層、所述碳化金屬層即優(yōu)選的碳化 20金屬傾斜層、以及所述類金剛石碳被膜。優(yōu)選所述金屬為可以碳化而且與銅的親和性高的金屬。 優(yōu)選所述金屬為從鉤(W)、硅(Si)、鈦(Ti)、鉻(Cr)、鉭(Ta) 以及鋯(Zr)構(gòu)成的組中選擇的一種或兩種以上金屬。 優(yōu)選利用蝕刻法或電子雕刻法形成所述凹版單元。 25 利用本發(fā)明,能夠使印刷版具有緩沖性,相對硬質(zhì)的被印刷物可以進行不使用橡皮輥的直接凹板印刷,適于在液晶面板用玻璃上彩色印刷用于 構(gòu)成濾色片的矩陣圖像或者在微型光盤等上彩色印刷圖像,另外,還可以 良好地進行瓦楞紙印刷等對粗面的印刷。另外,利用本發(fā)明,通過使用類 金剛石碳(DLC)被膜作為表面強化覆蓋層,可以省略鍍鉻工序,所以不 30使用毒性高的六價鉻,不需要用于實現(xiàn)操作穩(wěn)定性的多余成本,也不用擔心發(fā)生公害,而且類金剛石碳(DLC)被膜具有比得上鉻層的強度,耐刷 力也出色。


5 圖1是模式性地表示本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的制造工序的說明圖,(a)是在中空輥的表面設置由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的 緩沖層而成的版母材的整體截面圖,(b)是表示在緩沖層的表面形成鍍銅 層的狀態(tài)的部分放大截面圖,(c)是表示在鍍銅層形成凹版單元的狀態(tài)的 部分放大截面圖,(d)是表示在鍍銅層表面形成碳化鎢層的狀態(tài)的部分放 io 大截面圖,(e)是表示在金屬層表面形成碳化金屬層的狀態(tài)的部分放大截 面圖,(f)是表示在碳化金屬層表面覆蓋類金剛石碳(DLC)被膜的狀態(tài) 的部分放大截面圖。圖2是表示本發(fā)明的凹版制版輥的制造方法的流程圖。 圖3是本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的主要部分的放大截面圖。 is 圖中,IO —版母材(橡膠輥等),10a—凹版制版輥,lla—中空輥,llb —緩沖層,12 —鍍銅層,14一凹版單元,16 —金屬層,18 —碳化金屬 層(優(yōu)選為碳化金屬傾斜層),20 —類金剛石碳(DLC)被膜。
具體實施方式
20 以下對本發(fā)明的實施方式進行說明,不言而喻,這些實施方式只是例示,在不脫離本發(fā)明的技術思想的范圍內(nèi),可以進行各種變形。圖1是模式性地表示本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的制造工序的說明圖,(a)是在中空輥的表面設置由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的 緩沖層而成的版母材的整體截面圖,(b)是表示在緩沖層的表面形成鍍銅25層的狀態(tài)的部分放大截面圖,(c)是表示在鍍銅層形成凹版單元的狀態(tài)的 部分放大截面圖,(d)是表示在鍍銅層表面形成碳化鴨層的狀態(tài)的部分放 大截面圖,(e)是表示在金屬層表面形成碳化金屬層的狀態(tài)的部分放大截 面圖,(f)是表示在碳化金屬層表面覆蓋類金剛石碳(DLC)被膜的狀態(tài) 的部分放大截面圖。圖2是表示本發(fā)明的凹版制版輥的制造方法的流程30圖。圖3是本發(fā)明的附有緩沖層的凹版制版輥的主要部分的放大截面圖。使用圖1 圖3說明本發(fā)明方法。在圖1 (a)及圖3中,符號10為 版母材,使用在由鋁、鐵或碳纖維強化樹脂(CFRP)等強化樹脂等構(gòu)成 的中空輥lla的表面設置緩沖層llb而成的版母材(圖2的步驟100)。 該緩沖層lib由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成,將lmm 10cm左右的均 5勻的厚度且表面的光潔度高的片材狀的緩沖層,在接縫處沒有間隙地巻繞 且牢固地粘接在中空輥lla上,然后進行精密圓筒磨削以及鏡面研磨。在 該緩沖層lib的表面,利用鍍銅處理形成鍍銅層12 (圖2的步驟102)。在該鍍銅層12的表面形成多個微小凹部(凹版單元)14 (圖2的步 驟104)。作為凹版單元14的形成方法,可以使用蝕刻法(在版筒面涂敷 io感光液,直接烘烤之后,蝕刻,形成凹版單元14)或電子雕刻法(利用 數(shù)字信號使金剛石雕刻針機械地作動,在銅表面雕刻凹版單元14)等公 知的方法,但優(yōu)選蝕刻法。接著,在所述形成凹版單元14的鍍銅層12 (包括凹版單元14)的表 面形成金屬層16 (圖2的步驟106)。進而,在該金屬層16的表面形成該 15 金屬的碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層18 (圖2的步驟108)。作為 金屬層16及碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層18的形成方法,可以適 用濺射法、真空蒸鍍法(電子束法)、離子鍍法、MBE (分子束外延法)、 激光消融法、離子輔助成膜法、等離子CVD法等公知的方法,優(yōu)選濺射 法。20 作為所述金屬,優(yōu)選可以碳化且與銅的親和性高的金屬。作為該金屬, 可以使用鎢(W)、硅(Si)、鈦(Ti)、鉻(Cr)、鉭(Ta)以及鋯(Zr)等。所述碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層18中的金屬使用與所述金 屬層16相同的金屬。碳化金屬傾斜層18中的碳的組成比被設定為從金 25屬層側(cè)16向后述的類金剛石碳(DLC)被膜20方向,碳的比率逐漸地增 大。就是說,碳的組成比從0% 逐漸地(階段狀或無階段狀)增大比率, 最后成膜成大致100%。這種情況下,碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層18中的碳的組成 比的調(diào)節(jié)方法只要使用公知的方法即可,例如通過使用濺射法(使用固體 30金屬耙,在氬氣氣氛下階段狀或無階段狀逐漸地增大甲垸氣體、乙烷氣體、丙烷氣體、丁烷氣體、乙炔氣體等的注入量),可以形成改變碳及金屬二 者的組成比例的碳化金屬層即碳化金屬傾斜層18,以使碳化金屬層18中的碳的比例從鍍銅層12側(cè)向類金剛石碳(DLC)被膜20方向階段狀或無 階段狀逐漸地增大。5 通過這樣地調(diào)節(jié)碳化金屬層18的碳的比例,可以提高相對金屬層16及類金剛石碳(DLC)被膜20雙方的碳化金屬層18的粘附程度。另外, 如果使烴氣體的注入量為一定,則可以成為使碳及金屬的組成比例一定的 碳化金屬層,可以進行與碳化金屬傾斜層相同的作用。接著,在所述碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層18的表面覆蓋形 io 成類金剛石碳(DLC)被膜20 (圖2的步驟110)。作為類金剛石碳(DLC) 被膜20的形成方法,與金屬層16及碳化金屬層即優(yōu)選的碳化金屬傾斜層 18的形成相同,可以適用濺射法、真空蒸鍍法(電子束法)、離子鍍法、 MBE (分子束外延法)、激光消融法、離子輔助成膜法、等離子CVD法 等公知的方法,優(yōu)選濺射法。 15 通過覆蓋所述的類金剛石碳(DLC)被膜20,使該類金剛石碳(DLC)被膜20起到表面強化覆蓋層的作用,可以得到?jīng)]有毒性且也不必擔心公 害的發(fā)生、同時耐刷力出色的凹版制版輥10a。在此,濺射法是若離子碰撞想要成為薄膜的材料(靶材料)上,則材 料發(fā)生飛濺,使該飛濺的材料在基板上堆積,制作薄膜的方法,其特征在 20于,對靶材料的制約少,可以大面積且再現(xiàn)性良好地制作薄膜等。真空蒸鍍法(電子束法)是向需要成為薄膜的材料照射電子束,使其 加熱蒸發(fā),在基板上附著(堆積)該經(jīng)蒸發(fā)的材料,制作薄膜的方法,其 特征在于,成膜速度快,對基板的損傷少等。離子鍍法是在使需要成為薄膜的材料蒸發(fā)之后,在利用高頻(RF) 25 (RF離子鍍法)或電弧(電弧離子鍍法)使其離子化的基板上堆積,制 作薄膜的方法,其特征在于,成膜速度快,附著速度大等。分子束外延法是在超真空中使原料物質(zhì)蒸發(fā),向加熱的基板上供給, 形成薄膜的方法。激光消融法是通過向靶入射高密度化的激光脈沖而使離子釋放,在對 30 置的基板上形成薄膜的方法。離子輔助成膜法是在真空容器內(nèi)設置蒸發(fā)源和離子源,輔助地利用離 子進行成膜的方法。等離子CVD法是在減壓下進行CVD法時為了在低溫下形成薄膜,利用等離子激發(fā)使原料氣體分解,使其在基板上反應堆積的方法。5 實施例以下舉出實施例,對本發(fā)明更具體地說明,不言而喻,這些實施例只 是例示的例子,不能限定地解釋本發(fā)明。 (實施例1)使用布邁蘭拉恩(y—乂,y,o)(株式會社新克制凹版制版輥10 制造裝置),進行到下述的鍍銅層的形成及蝕刻處理。首先,準備在圓周600mm、面長1100mm的鋁中空輥的表面巻繞厚度為5cm的硅橡膠層而 形成的附有緩沖層的版母材。將該版母材安裝于鍍敷槽中,利用計算機系 統(tǒng)的自動滑動裝置,使陽極室接近中空輥,直至20mm,使涂敷液充滿, 使版母材全部沒入,以18A/dm2、 6.0V形成8(^m的鍍銅層。鍍敷時間為15 20分鐘,鍍敷表面沒有麻點或坑的發(fā)生,得到均勻的鍍銅層。使用4H研 磨機(株式會社新克制研磨機),對該鍍銅層的表面研磨12分鐘,使該鍍 銅層的表面成為均勻的研磨面。在所述形成的鍍銅層涂敷(噴注式刮出涂敷機(7才y亍Y y:n —夕 一))、干燥感光膜(熱抗蝕劑(thermal resist): TSER—2104E4)。得到的20 感光膜的膜厚用膜厚計(FILLMETRICS公司制F20,松下Techno Trading 公司出售)計算,結(jié)果為4pm。接著,對圖像進行激光曝光、顯影。所述 激光曝光使用Laser StreamFX,以曝光條件5分/m々10W,進行規(guī)定的圖 案曝光。另外,所述顯影使用TLD顯影液(株式會社新克制顯影液),以 顯影液稀釋比率(原液l:水7), 24"C下進行60秒鐘,形成規(guī)定的圖案。25千燥該圖案(形成圖案),形成抗蝕劑圖像。進而,進行圓筒蝕刻,雕入由凹版單元構(gòu)成的圖像,然后,除去抗蝕 劑圖像,由此形成印刷版。此時,將凹版單元的深度作為5pm制作了圓 筒。所述蝕刻是在銅濃度60g/L、鹽酸濃度35g/L、溫度37°C、時間70 秒的條件下利用噴射方式進行的。30 利用濺射法,在形成有該凹版單元的鍍銅層的上面形成鎢(W)層。濺射條件如下所述。鎢(W)樣品固體鎢靶,氣氛氬氣氣氛,成膜溫 度200 300°C,成膜時間60分鐘,成膜厚度0.03,。接著,在鉤(w)層的上面形成碳化鴇層。濺射條件如下所述。鉤(w)樣品固體鎢靶,氣氛在氬氣氣氛下逐漸增加烴氣體,成膜溫度200 5300°C,成膜時間60分鐘,成膜厚度O.lnm。進而,利用濺射法,在碳化鎢的上面覆蓋形成類金剛石碳(DLC)被膜。濺射條件如下所述。DLC樣品固體碳靶,氣氛氬氣氣氛,成膜 溫度200 300°C,成膜時間150分鐘,成膜厚度l]Lim,完成了凹版制版輥(凹版圓筒)。10 接著,相對所得到的凹版圓筒,作為印刷墨液,適用青色墨液察恩杯粘度18秒(SAKATAINX公司制水性墨液超拉米普阿(7—八°一, ^匕° 二7)藍800PR—5),使用OPP薄膜(Oriented Polypropylene Film:雙向拉伸聚丙烯薄膜),進行印刷測試(印刷速度120m/分)。得到的印刷物 沒有版灰霧,可以印刷至50,000m的長度。圖案的精密度沒有變化。另外, 15 DLC被膜相對被蝕刻的鍍銅圓筒的粘附性不存在問題。從該本發(fā)明的凹 版圓筒的光亮部到陰影部的級差由于沒有變成按照常規(guī)方法制作的鍍鉻 凹版圓筒,所以判斷為墨液轉(zhuǎn)移性沒有問題。作為其結(jié)果,確認了類金剛 石碳(DLC)被膜具有比得上以往的鉻層的性能,足以作為鉻層代替品使 用。20 (實施例2)與實施例1同樣地進行,制作將凹版單元的深度作為5pm的圓筒。 相對該圓筒將鎢(W)樣品變更成硅(Si)樣品,除此以外,與實施例1 同樣地進行,完成附有緩沖層的凹版制版輥,同樣地進行印刷測試,結(jié)果 同樣判明為具有沒有版灰霧等的同等的印刷性能。結(jié)果,確認了類金剛石25碳(DLC)被膜具有比得上以往的鉻層的性能,足以作為鉻層代替品使用。 此外,還確認了,使用鈦(Ti)、鉻(Cr)作為金屬樣品,進行相同的實 驗,可以得到相同的結(jié)果。30
權利要求
1.一種附有緩沖層的凹版制版輥,其特征在于,包含在表面設置有由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的緩沖層的中空輥,設置在該緩沖層的表面而且在表面形成多個凹版單元的鍍銅層,在該鍍銅層的表面設置的金屬層,在該金屬層的表面設置的該金屬的碳化金屬層,和覆蓋該碳化金屬層的表面的類金剛石碳被膜。
2.根據(jù)權利要求l所述的附有緩沖層的凹版制版輥,其特征在于, 所述碳化金屬層為碳化金屬傾斜層,該碳化金屬傾斜層中的碳的組成比被設定成從所述金屬層側(cè)向所述類金剛石碳被膜方向,碳的比率逐漸 增大。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的附有緩沖層的凹版制版輥,其特征在于,所述鍍銅層的厚度為50 20(^m,所述凹版單元的深度為5 150|am, 所述金屬層的厚度為0.001 lpm,所述碳化金屬層的厚度為0.1 lpm, 以及所述類金剛石碳被膜的厚度為0.1 10)im。 20
4.根據(jù)權利要求1 3中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥,其特征在于,所述金屬為可以碳化而且與銅的親和性高的金屬。
5.根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥, 其特征在于,所述金屬為從由鉤(W)、硅(Si)、鈦(Ti)、鉻(Cr)、鉭(Ta)以及鋯(Zr)構(gòu)成的組中選擇的一種或兩種以上金屬。
6.—種附有緩沖層的凹版制版輥的制造方法,其特征在于, 包括準備在表面設置有由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的緩沖層的中空輥的工序;在該緩沖層的表面形成鍍銅層的鍍銅工序;在該鍍銅層的表面形成多個凹版單元的凹版單元形成工序; 在該鍍銅層的表面形成金屬層的金屬層形成工序; 在該金屬層的表面形成該金屬的碳化金屬層的碳化金屬層形成工序; 5 在該碳化金屬層的表面形成類金剛石碳被膜的類金剛石碳被膜形成 工序。
7. 根據(jù)權利要求6所述的附有緩沖層的凹版制版輥的制造方法,其 特征在于,所述碳化金屬層為碳化金屬傾斜層,該碳化金屬傾斜層中的碳的組成 10 比被設定成從所述金屬層側(cè)向所述類金剛石碳被膜方向,碳的比率逐漸增大。
8. 根據(jù)權利要求6或7所述的附有緩沖層的凹版制版輥的制造方法, 其特征在于,所述鍍銅層的厚度為50 200)im,所述凹版單元的深度為5 150|im, 15所述金屬層的厚度為0.001 lpm,所述碳化金屬層的厚度為0.1 lpm, 以及所述類金剛石碳被膜的厚度為0.1 10pm。
9. 根據(jù)權利要求6 8中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥的 制造方法,其特征在于,分別利用濺射法形成所述金屬層、所述碳化金屬層以及所述類金剛石20 碳被膜。
10. 根據(jù)權利要求6 9中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥 的制造方法,其特征在于,所述金屬為可以碳化而且與銅的親和性高的金屬。
11. 根據(jù)權利要求6 10中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥 25的制造方法,其特征在于,所述金屬為從由鎢(W)、硅(Si)、鈦(Ti)、鉻(Cr)、鉭(Ta) 以及鋯(Zr)構(gòu)成的組中選擇的一種或兩種以上金屬。
12. 根據(jù)權利要求6 11中任意一項所述的附有緩沖層的凹版制版輥 的制造方法,其特征在于,利用蝕刻法或電子雕刻法形成所述凹版單元。
全文摘要
本發(fā)明提供一種印刷版的制造方法,特別是提供一種可以通過具有緩沖性而可以相對硬質(zhì)的被印刷物進行不使用橡皮輥的直接凹板印刷,可以良好地進行瓦楞紙印刷等對粗面的凹板印刷,適于在液晶面板用玻璃上彩印用于構(gòu)成濾色片的矩陣圖像或者在微型光盤等上彩印圖像的具有緩沖性的凹版的制造方法。其中,包含在表面設置有由橡膠或具有緩沖性的樹脂構(gòu)成的緩沖層的中空輥、設置于該緩沖層的表面而且在表面形成多個凹版單元的鍍銅層、在該鍍銅層的表面設置的金屬層、在該金屬層的表面設置的該金屬的碳化金屬層、和覆蓋該碳化金屬層的表面的類金剛石碳被膜。
文檔編號G03F7/09GK101272918SQ200680035350
公開日2008年9月24日 申請日期2006年9月28日 優(yōu)先權日2005年9月30日
發(fā)明者佐藤勉, 杉山浩一, 淺野貴之, 重田龍男 申請人:株式會社新克
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