專利名稱：描繪方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使多個(gè)描繪頭沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)于描繪面相對(duì)地移 動(dòng)，從而在描繪面上描繪圖像的描繪方法及裝置。
背景技術(shù)：
以往，周知有在描繪面上形成圖像數(shù)據(jù)表示的期望的二維圖案的描繪 裝置。作為如上述的描繪裝置提出了各種方案，例如利用數(shù)字微反射鏡設(shè)備(以下稱為"DMD")等的空間光調(diào)制元件，根據(jù)圖像數(shù)據(jù)由空間光調(diào)制 元件調(diào)制光束，從而進(jìn)行曝光的曝光裝置。并且，作為使用如上述的DMD的曝光裝置，提出了例如通過(guò)使DMD 沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)于曝光面相對(duì)地移動(dòng)，并且根據(jù)向該掃描方向移 動(dòng)，由DMD時(shí)序地依次形成曝光點(diǎn)群，由此在曝光面上形成期望的圖像 的曝光裝置。此外，作為如上述的曝光裝置，也提出了在與掃描方向正交的方向上 配置多列設(shè)有DMD的曝光頭，并使該曝光頭列相對(duì)于曝光面相對(duì)地移動(dòng) 的曝光裝置的方案。通過(guò)如上述地構(gòu)成行曝光頭并進(jìn)行曝光，能夠縮短曝 光時(shí)間。但是，在具備如上述的多個(gè)曝光頭的曝光裝置中，每個(gè)曝光頭基于各 自不同的坐標(biāo)系在曝光面上曝光曝光圖像，每個(gè)曝光頭的曝光圖像在上述 掃描方向上發(fā)生偏離，無(wú)法曝光合適的曝光圖像。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于上述問(wèn)題，目的在于提供一種能夠在如上述曝光裝置的、 利用多個(gè)描繪頭描繪圖像的描繪方法及裝置中，不產(chǎn)生如上述的按各描繪頭的圖像的偏離地描繪合適的圖像的描繪方法及裝置。本發(fā)明的描繪方法使描繪頭相對(duì)于描繪面沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)地 移動(dòng)，并且與該移動(dòng)對(duì)應(yīng)地在所述描繪面上依次形成所述描繪點(diǎn)，從而在 所述描繪面上描繪圖像，所述描繪頭具有描繪元件二維狀配置的描繪點(diǎn)形 成部，且所述描繪元件基于表示所述圖像的圖像數(shù)據(jù)在描繪面上形成描繪 點(diǎn)，其中，利用在與所述掃描方向交叉的方向上排列的多個(gè)所述描繪頭進(jìn) 行所述描繪，所述描繪方法的特征在于，使用在每個(gè)描繪頭上預(yù)先設(shè)定的 基準(zhǔn)描繪元件，在所述描繪面上形成所述每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)，并且控制 基于所述各描繪頭的描繪時(shí)刻，以使所述每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)在所述掃描 方向上的規(guī)定的位置處排列。此外，上述本發(fā)明的描繪方法中，能夠利用所述各描繪頭在所述描繪 面形成的各部分圖像的所述交叉方向的任一側(cè)的端部上形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)。此外，能夠?qū)斎氲剿龈髅枥L頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使由 相互鄰接的所述描繪頭中的一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的形成所述 基準(zhǔn)點(diǎn)的端部連接由另一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的未形成所述基 準(zhǔn)點(diǎn)的在所述交叉方向上的端部。此外，作為所述修正，能夠?qū)嵤┬D(zhuǎn)處理。此外，能夠?qū)斎氲剿龈髅枥L頭的圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用所 述基準(zhǔn)描繪元件形成的描繪點(diǎn)的圖像構(gòu)成為描繪在與所述掃描方向交叉 的方向上的規(guī)定位置的圖像。此外，能夠?qū)斎氲剿龈髅枥L頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利 用相互鄰接的所述描繪頭在所述描繪面上形成的各部分圖像在與所述掃 描方向交叉的方向上連接。此外，作為使在所述交叉方向上連接而實(shí)施的修正，能夠?qū)嵤┎逖a(bǔ)或 間隔剔除處理。此外，能夠N重(N為2以上的自然數(shù))描繪所述描繪面。 本發(fā)明的描繪裝置，使描繪頭相對(duì)于描繪面沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)地 移動(dòng)，并且與該移動(dòng)對(duì)應(yīng)地在所述描繪面上依次形成所述描繪點(diǎn)，從點(diǎn)，其中，多個(gè)所述描繪頭在與所述掃描方向交叉的方向上排列，所述描 繪裝置的特征在于，所述多個(gè)描繪頭使用在該每個(gè)描繪頭上預(yù)先設(shè)定的基 準(zhǔn)描繪元件，在所述描繪面上形成基準(zhǔn)點(diǎn)，且具備描繪頭控制部，其控制 基于所述各描繪頭的描繪時(shí)刻，以使所述每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)在所述掃描 方向上的規(guī)定的位置處排列。此外，在上述本發(fā)明的描繪裝置中，所述各描繪頭是利用該各描繪頭 在所述描繪面形成的各部分圖像的所述交叉方向的任一側(cè)的端部上形成 所述基準(zhǔn)點(diǎn)。此外，具備掃描方向修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像 數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使由相互鄰接的所述描繪頭中的一個(gè)所述描繪頭形成的 部分圖像的形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的端部連接由另一個(gè)所述描繪頭形成的部分 圖像的未形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的且在所述交叉方向上的端部。此外，所述掃描方向修正機(jī)構(gòu)能夠?qū)斎氲礁髅枥L頭的部分圖像數(shù)據(jù) 實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理。此外，還具備描繪點(diǎn)位置修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的圖 像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用所述基準(zhǔn)像素形成的描繪點(diǎn)的圖像構(gòu)成為描繪 在與所述掃描方向交叉的方向上的規(guī)定位置的圖像。此外，具備交叉方向修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖 像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用相互鄰接的所述描繪頭在所述描繪面上形成的 各部分圖像在與所述掃描方向交叉的方向上連接。此外，所述交叉方向修正機(jī)構(gòu)能夠?qū)斎氲剿龈髅枥L頭的部分圖像 數(shù)據(jù)實(shí)施插補(bǔ)或間隔剔除處理。此外，能夠N重(N為2以上的自然數(shù))描繪所述描繪面。根據(jù)本發(fā)明的描繪方法及裝置，使用在每個(gè)描繪頭上預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn) 描繪元件，在描繪面上形成每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)，并控制基于各描繪頭的 描繪時(shí)刻，以使每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)在上述掃描方向上排列在相同的位 置，所以能夠使各描繪頭的坐標(biāo)系一致，并能夠不產(chǎn)生上述偏離地描繪合 適的圖像。


圖1表示本發(fā)明的描繪裝置一實(shí)施方式的曝光裝置的外觀立體圖； 圖2表示圖1的曝光裝置的掃描器的結(jié)構(gòu)立體圖； 圖3 (A)表示在感光材料的曝光面上形成的已曝光區(qū)域的俯視圖， (B)表示根據(jù)各曝光頭的曝光區(qū)域的排列的俯視圖；圖4表示圖1的曝光裝置的曝光頭的大概結(jié)構(gòu)的立體圖；圖5 (A)表示圖1的曝光裝置的曝光頭的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的俯視圖；圖5 (B)表示圖1的曝光裝置的曝光頭的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的俯視圖及側(cè)視圖；圖6表示圖1的曝光裝置的DMD的結(jié)構(gòu)的局部放大圖；圖7用于說(shuō)明DMD的動(dòng)作的立體圖；圖8表示光纖陣列光源的結(jié)構(gòu)的立體圖；圖9表示光纖陣列光源的激光發(fā)射部的發(fā)光點(diǎn)排列的主視圖；圖10表示在相鄰的曝光頭間存在相對(duì)位置偏離時(shí)，曝光面上的圖案 產(chǎn)生不均的例子的說(shuō)明圖；圖11表示基于相鄰兩個(gè)曝光頭的曝光區(qū)域和對(duì)應(yīng)的狹縫的位置關(guān)系 的俯視圖；圖12表示用于說(shuō)明利用狹縫測(cè)定曝光面上光點(diǎn)的位置的方法的俯視圖；圖13表示僅使用圖10的例子中選擇的使用像素，曝光面上的圖案產(chǎn) 生不均被改善的狀態(tài)的說(shuō)明圖；圖14表示在相鄰的曝光頭間存在相對(duì)位置偏離和存在安裝角度誤差 時(shí)，曝光面上的圖案產(chǎn)生不均的例子的說(shuō)明圖；圖15表示僅使用圖14的例子中所選擇的使用像素時(shí)，曝光面上的圖 案產(chǎn)生不均被改善的說(shuō)明圖；圖16表示參照曝光的第1例的說(shuō)明圖；圖17表示參照曝光的第2例的說(shuō)明圖；圖18是用于說(shuō)明關(guān)于兩個(gè)曝光頭的X軸方向上的偏離量的測(cè)量方法 的一例的圖；圖19表示參照標(biāo)度的一例的圖；圖20 (A)用于說(shuō)明由兩個(gè)曝光頭曝光的曝光圖案的Y軸方向的偏離的圖；圖20 (B)表示調(diào)整兩個(gè)曝光頭的曝光時(shí)刻后的曝光圖案的圖； 圖21用于說(shuō)明由兩個(gè)曝光頭曝光的曝光圖案的Y軸方向的偏離的修 正方法的圖；圖22用于說(shuō)明由于兩個(gè)曝光頭的設(shè)置角度等引起的曝光圖案的偏離 的圖；圖23用于說(shuō)明由于兩個(gè)曝光頭的設(shè)置角度等引起的曝光圖案的偏離 的測(cè)量方法的一例的圖；圖24A用于說(shuō)明將兩個(gè)曝光頭的曝光圖案在Y軸方向上連接的方法 其他的例子的圖；圖24B用于說(shuō)明將兩個(gè)曝光頭的曝光圖案在Y軸方向上連接的方法 其他的例子的圖；圖25用于說(shuō)明將各曝光頭的曝光圖案在Y軸方向上連接的方法其他 的例子的圖；圖26用于說(shuō)明將各曝光頭的曝光圖案在Y軸方向上連接的方法其他 的例子的圖；圖27A表示利用各微反射鏡曝光的曝光點(diǎn)的理想位置的圖；圖27B表示利用各微反射鏡曝光的曝光點(diǎn)由于光學(xué)系的成像位置的 誤差等引起的X軸方向偏離的例子的圖；圖27C是用于說(shuō)明修正由于光學(xué)系的成像位置的誤差等引起的曝光 點(diǎn)在X軸方向上的偏離的方法的一例的圖；圖28A表示利用各微反射鏡曝光的曝光點(diǎn)的理想位置的圖；圖28B表示利用各微反射鏡曝光的曝光點(diǎn)由于光學(xué)系的倍率的誤差 等引起的X軸方向偏離的例子的圖；圖28C是用于說(shuō)明修正由于光學(xué)系的倍率的誤差等引起的曝光點(diǎn)在X 軸方向上的偏離量的方法的一例的圖；圖29是用于說(shuō)明測(cè)量由于光學(xué)系的倍率的誤差等引起的曝光點(diǎn)在X 軸方向上的偏離量的方法的一例的圖。
具體實(shí)施方式
以下，基于附圖，詳細(xì)說(shuō)明關(guān)于本發(fā)明的描繪裝置一實(shí)施方式的曝光 裝置。如圖1所示，本實(shí)施方式所涉及的曝光裝置10具有將薄片狀感光材 料12吸附在表面上進(jìn)行保持的平板狀移動(dòng)平臺(tái)14。在由4個(gè)地腳16支撐 的厚板狀設(shè)置臺(tái)18上，沿著平臺(tái)移動(dòng)方向設(shè)有兩根導(dǎo)軌20。平臺(tái)14配置 成其長(zhǎng)度方向和平臺(tái)移動(dòng)方向同向，并且被支承為通過(guò)導(dǎo)軌20可往復(fù)移 動(dòng)。另外，在該曝光裝置10中，設(shè)有沿導(dǎo)軌20驅(qū)動(dòng)作為移動(dòng)機(jī)構(gòu)的平臺(tái) 14的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置(圖中未示出)。在設(shè)置臺(tái)18的中央部位，設(shè)有橫跨平臺(tái)14的移動(dòng)路徑的"〕"字狀 的門22。"〕"字狀的門22的各個(gè)端部固定在設(shè)置臺(tái)18的兩側(cè)面。在該 門22兩側(cè)的一側(cè)設(shè)有掃描器24，而在另一側(cè)設(shè)有檢測(cè)感光材料12的前端 和后端的多個(gè)(例如兩個(gè))傳感器26。掃描器24和傳感器26均設(shè)置在門 22上，并在平臺(tái)14移動(dòng)路徑的上方固定設(shè)置。另外，掃描器24和傳感器 26連接在圖中未示出的對(duì)它們進(jìn)行控制的控制器上。這里，為了說(shuō)明，在 與平臺(tái)14表面平行的平面內(nèi)，如圖1所示規(guī)定相互垂直的X軸和Y軸。沿平臺(tái)14的掃描方向的上游一側(cè)(以下僅記為"上游一側(cè)"。)的 端緣部位，形成向X軸方向張開(kāi)的"<"字形的狹縫28，等間隔地形成9 條。各狹縫28由位于上游一側(cè)的狹縫28a和位于下游一側(cè)的狹縫28b構(gòu) 成。狹縫28a和狹縫28b相互垂直，同時(shí)相對(duì)于X軸，狹縫28a有—45 度，狹縫28b有+45度的角度。在平臺(tái)14內(nèi)部的各狹縫28下方的位置， 分別裝入有單一元件型的光檢測(cè)器(圖中未示出)。各光檢驗(yàn)器與后述的 進(jìn)行使用像素選擇處理的運(yùn)算裝置(圖中未示出)相連接。掃描器24，如圖2和圖3 (B)所示，設(shè)有2行5列的大略矩陣狀排 列的10個(gè)曝光頭30。另外，在以下表示排列配置成m行n列的各個(gè)曝光 頭時(shí)，記為曝光頭30^。各曝光頭30設(shè)置在掃描器24上，讓后述的其內(nèi)部的數(shù)字微反射鏡器 件(DMD)36的像素列方向與掃描方向夾成規(guī)定的設(shè)定傾斜角度e。因此， 由各曝光頭30決定的曝光區(qū)域32，成為相對(duì)于掃描方向傾斜的矩形區(qū)域。 隨著平臺(tái)14的移動(dòng)，在感光材料12的曝光面上通過(guò)曝光頭30形成帶狀 的己曝光區(qū)域34，另外，在以下中，表示排列配置成m行n列的各個(gè)曝光頭的曝光區(qū)域時(shí)，記為露光區(qū)域32mn。另外，如圖3 (A)和圖3 (B)所示，各曝光頭30被配置成讓帶狀 的各個(gè)已曝光區(qū)域34與鄰接的己曝光區(qū)域34部分重合。為此，例如第l 行的曝光區(qū)域32 和曝光區(qū)域3212之間不能曝光的部分，可以通過(guò)第2行 的曝光區(qū)域3221曝光。另外，上述9條狹縫28的位置和鄰接的已曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分 的中心位置大略一致。另外，各狹縫28的大小做成充分覆蓋已曝光區(qū)域 34之間的重復(fù)部分寬度的大小。各個(gè)曝光頭30，如圖4和圖5所示，作為根據(jù)像素?cái)?shù)據(jù)按每個(gè)像素單 元對(duì)入射光調(diào)制的空間光調(diào)制元件，具有美國(guó)德州儀器公司制造的 DMD36。該DMD36連接在具有數(shù)據(jù)處理單元和反射鏡驅(qū)動(dòng)控制單元的控 制器上。在該控制器的數(shù)據(jù)處理單元中，基于輸入的圖像數(shù)據(jù)，對(duì)每個(gè)曝 光頭30，生成驅(qū)動(dòng)控制DMD36表面的使用區(qū)域中的各微反射鏡的控制信 號(hào)。另外，反射鏡驅(qū)動(dòng)控制單元，基于圖像數(shù)據(jù)處理單元生成的控制信號(hào)， 對(duì)每個(gè)曝光頭30控制DMD36的各微反射鏡的反射面的角度。如圖4所示，在DMD36的光入射側(cè)，依次配置光纖陣列光源38， 其具有光纖的射出端部(發(fā)光點(diǎn))沿與曝光區(qū)域32的長(zhǎng)邊方向一致的方 向配置成一列的激光射出單元；透鏡系統(tǒng)40，其對(duì)光纖陣列光源38射出 的激光光束校正并在DMD上聚光；反射鏡42，其讓透過(guò)該透鏡系統(tǒng)40 的激光光束向DMD36反射。另外，在圖4中，概略地圖示了透鏡系統(tǒng)40。上述透鏡系統(tǒng)40，如圖5詳細(xì)所示，包括 一對(duì)組合透鏡44，其使 光纖陣列光源3S射出的激光光束成平行光； 一對(duì)組合透鏡46，其將平行 光化后的激光光束光量分布校正成均勻分布；以及聚光透鏡48，其將光量 分布被校正后的激光光束聚光在DMD36上。另外，在DMD36的光反射側(cè)，配置將DMD36反射的激光光束在感 光材料12的曝光面上成像的透鏡系統(tǒng)50。透鏡系統(tǒng)50由兩片透鏡52和 54構(gòu)成，被配置為使得DMD36和感光材料12的曝光面成為共軛關(guān)系。本實(shí)施方式中，由光纖陣列光源38射出的激光光束設(shè)定為實(shí)際被擴(kuò) 大5倍后，在DMD36上各微反射鏡發(fā)射的光線通過(guò)上述透鏡系統(tǒng)50被聚 焦成約5)im。如圖6所示，DMD36是在SRAM單元(存儲(chǔ)器單元)56上將構(gòu)成各 個(gè)像素(pixel)的多個(gè)微型透鏡58配置成格子狀的反射鏡器件。在本實(shí) 施方式中，雖然使用配置成1024列X768行的微反射鏡58所構(gòu)成的 DMD36，但由與該DMD36連接的控制器可驅(qū)動(dòng)的即可使用的微反射鏡 58僅為1024列X256行。DMD36的數(shù)據(jù)處理速度是有限度的，由于與使 用的微反射鏡數(shù)目成比例來(lái)決定每行的調(diào)制速度，像這樣通過(guò)僅使用一部 分微反射鏡，每行的調(diào)制速度變快。各微反射鏡58由支柱支承。在其表 面蒸鍍鋁等高反射率的材料。另外，本實(shí)施方式中，各微反射鏡58的反 射率在90%以上，其配置間距在縱向和橫向均為13.7pm。 SRAM單元56 是通過(guò)含有鉸鏈和軛鐵的支柱用通常的半導(dǎo)體生產(chǎn)線制造的硅柵極 CMOS，均做成單片(一體型)結(jié)構(gòu)。在DMD36的SRAM單元56，寫入用二進(jìn)值表示的構(gòu)成所期望的二 維圖案的各點(diǎn)濃度的圖像信號(hào)后，由支柱支承的微反射鏡58，以對(duì)角線為 中心，以相對(duì)于配置有DMD36的基板側(cè)成土a度(例如土10度)中的一 個(gè)角度傾斜。圖7 (A)示出了微反射鏡58處于打開(kāi)狀態(tài)以+cc度傾斜的 狀態(tài)，圖7 (B)示出了微反射鏡58處于關(guān)閉狀態(tài)以一ci度傾斜的狀態(tài)。 因此，如圖6所示，通過(guò)根據(jù)圖像信號(hào)控制DMD36各像素的微反射鏡58 的傾斜，入射到DMD 36的激光光束B(niǎo)分別向各個(gè)微反射鏡58的傾斜方 向反射。另外，在圖6中，圖示了 DMD36局部放大的，以+ a度或一a度控 制各微反射鏡58的狀態(tài)的一例。通過(guò)連接在DMD36上的控制器對(duì)各微反 射鏡58的進(jìn)行開(kāi)/關(guān)控制。另外，在處于關(guān)閉狀態(tài)的微反射鏡58反射的激 光光束B(niǎo)行進(jìn)的方向上設(shè)置光吸收體(圖中未示出)。光纖陣列光源38，如圖8所示，具有多個(gè)激光模塊(例如14個(gè))60， 多模光纖62的一端與各激光模塊60結(jié)合。多模光纖62的另一端與具有 比多模光纖62小的包覆層口徑的多模光纖64結(jié)合。如圖9詳細(xì)所示，多 模光纖64的與多模光纖62相反一側(cè)的端部沿與掃描方向垂直的方向并排 7個(gè)，并配置成兩列而構(gòu)成激光輸出單元66。由多模光纖64的端部所構(gòu)成的激光輸出單元66，如圖9所示，被夾 在兩個(gè)表面平坦的支撐板68之間而被固定。另外，在多模光纖64的光射出端面，為對(duì)其保護(hù)，希望配置玻璃等透明的保護(hù)板。多模光纖64的光射出端面，由于光密度高，容易產(chǎn)生積塵和劣化，通過(guò)設(shè)置如所述的保護(hù) 板，防止端面附著塵埃，從而能夠延遲劣化。以下，用圖10至圖13，說(shuō)明有關(guān)本實(shí)施方式的曝光裝置10的使用像 素指定處理。在本實(shí)施方式中，由曝光裝置IO進(jìn)行雙重曝光處理，作為各曝光頭 30即各DMD 36的設(shè)定傾斜角度，若是各曝光頭30沒(méi)有裝配角度誤差的 理想狀態(tài)，采用可使用的1024列X256行微反射鏡58，正好成為雙重曝 光的角度eideal。該角度9ideal，與N重曝光的數(shù)N，對(duì)于成為構(gòu)成可使 用的微反射鏡58的各像素列的個(gè)數(shù)s、可使用的微反射鏡58的像素列方 向的像素間距p、以及沿與掃描方向垂直方向的可使用的微反射鏡58的像 素列間距5，由式(1)給出。—n《^二層 (1)本實(shí)施方式的DMD36，如上所述，由于是將縱橫配置間距相等的多個(gè)微 反射鏡58配置成矩形柵格狀，因此，上述式(1)變?yōu)?《。,=W (3)在本實(shí)施方式中，如上所述，由于s = 256， N=2，由式(3)可得角 度e ideal約為0.45度。曝光裝置10被初期調(diào)整以使得各曝光頭30即各 DMD36的安裝角度成為該角度9ideal。圖IO表示在如上述的被初期調(diào)整的曝光裝置10中，兩個(gè)曝光頭(作 為一例，為曝光頭3012和3021)的關(guān)于X軸方向的相對(duì)位置偏離理想狀態(tài) 的影響所引起的曝光面上的圖案中產(chǎn)生不均的說(shuō)明圖。該相對(duì)于X軸方向的相對(duì)位置偏離是由于曝光頭間的相對(duì)位置的微 調(diào)整較困難而產(chǎn)生。在以下的附圖和說(shuō)明中，各自將曝光面上的各曝光區(qū)域32中的第m 行光點(diǎn)行記為r(m)，曝光面的第n列光點(diǎn)列記為c(n)，第m行第n列的光 點(diǎn)記為p(m，n)。圖IO上段部分表示向讓平臺(tái)14靜止的狀態(tài)下投影在感光材料12的曝光面上的、來(lái)自具有曝光頭3012和3021的DMD36的可使用 的微反射鏡58的光點(diǎn)群的圖案。圖10下段部分表示關(guān)于曝光區(qū)域3212和 3221的頭間連接區(qū)域及其周邊部位，在上段部分所示的光點(diǎn)群圖案出現(xiàn)的 狀態(tài)下使平臺(tái)14移動(dòng)進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，在曝光面上形成曝光圖案的狀態(tài)。 另外，在圖10中，出于說(shuō)明的方便，分別示出了基于由可使用的微反射 鏡58的每隔一列像素列形成的像素列群A的曝光圖案、和基于其余的像 素列形成的像素列群B的圖案，實(shí)際的曝光面上的曝光圖案是這兩個(gè)曝光 圖案的疊合。
在圖IO的例子中，上述的關(guān)于乂軸方向的曝光頭3012和3021之間的 相對(duì)位置偏離理想狀態(tài)的結(jié)果是在基于像素列群A的曝光圖案和基于像 素列群B的曝光圖案雙方中的曝光區(qū)域3212和3221的頭間連接區(qū)域中，產(chǎn) 生比理想的雙重曝光狀態(tài)曝光變得冗長(zhǎng)的部分。
為減輕上述那樣的在曝光面上的頭間連接區(qū)域出現(xiàn)的不均，在本實(shí)施 方式中，使用上述狹縫28和光檢測(cè)器的組合，在來(lái)自曝光頭3012和3021 的光點(diǎn)群中，對(duì)于構(gòu)成描繪面中的頭間連接區(qū)域的若干光點(diǎn)，檢測(cè)出其在 描繪面上的位置?；谄湮恢脵z測(cè)結(jié)果，在與光檢測(cè)器相連接的運(yùn)算裝置 中，對(duì)應(yīng)于構(gòu)成曝光頭3012和3021之間的頭間連接區(qū)域的光點(diǎn)的微反射鏡 中，選擇實(shí)際上在正式曝光處理中使用的微反射鏡，進(jìn)行連接區(qū)域使用像 素的選擇處理。
另外，采用圖ll及圖12，說(shuō)明使用狹縫28和光檢測(cè)器的組合的光點(diǎn) 位置檢測(cè)方法。圖11是表示與同圖10—樣的曝光區(qū)域3212和3221和對(duì)應(yīng) 的狹縫28之間的位置關(guān)系的俯視圖。正如已經(jīng)所述，狹縫28的大小做得 足夠覆蓋由曝光頭3012和3021的已曝光區(qū)域34之間的重復(fù)部分寬度，即 足夠覆蓋頭間連接區(qū)域。
圖12是說(shuō)明檢測(cè)作為一例的曝光區(qū)域32^的光點(diǎn)P (256， 1024)的 位置時(shí)的檢測(cè)方法的俯視圖。首先，使P (256， 1024)處于點(diǎn)亮狀態(tài)時(shí)， 使平臺(tái)14緩慢移動(dòng)從而使狹縫28沿Y軸方向相對(duì)移動(dòng)，將狹縫28定位 在讓光點(diǎn)P (256， 1024)來(lái)到上游一側(cè)狹縫28a與下游一側(cè)的狹縫28b 之間那樣的任意位置上d此時(shí)的狹縫28a與狹縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)記為(X0， Y0)。該坐標(biāo)(X0， Y0)的值，由給予平臺(tái)14的驅(qū)動(dòng)信號(hào)所表示的平臺(tái)14到上述位置的移動(dòng)距離，以及已知的狹縫28的X方向位置決定，并記 錄之。接下來(lái)，讓平臺(tái)14移動(dòng)，使狹縫28沿Y軸朝圖12的右側(cè)相對(duì)移動(dòng)。 然后，如圖12中的兩點(diǎn)虛線所示，在光檢測(cè)器檢測(cè)出光點(diǎn)P (256， 1024) 通過(guò)左側(cè)的狹縫28b時(shí)而讓平臺(tái)14停止。將此時(shí)的狹縫28a與狹縫28b 的交點(diǎn)坐標(biāo)記作(X0， Yl)?，F(xiàn)在，使平臺(tái)14向相反方向移動(dòng)，使狹縫28沿Y軸朝圖12的左側(cè) 方相對(duì)移動(dòng)。然后，在如圖12中的兩點(diǎn)虛線所示，在光檢測(cè)器檢測(cè)出光 點(diǎn)P(256， 1024)通過(guò)右側(cè)的狹縫28a時(shí)而讓平臺(tái)14停止。將此時(shí)的狹縫 28a與狹縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)記作(XO, Y2)。由以上的測(cè)定結(jié)果，通過(guò)X二X0+(Y1—Y2)/2， Y=(Yl+Y2)/2的計(jì)算確 定光點(diǎn)P (256， 1024)的坐標(biāo)(X， Y)。在選擇連接區(qū)域使用像素時(shí)，在圖10的例子中，首先，通過(guò)上述狹 縫28和光檢測(cè)器的組合檢測(cè)曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P (256， 1)的位置。 接著，以光點(diǎn)P (256， 1024) 、 P (256， 1023)…順序檢測(cè)出曝光區(qū)域 3221的光點(diǎn)行1" (256)上的光點(diǎn)位置，當(dāng)檢測(cè)出與曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P (256， 1)相比具有較大的X坐標(biāo)的光點(diǎn)P (256， n)時(shí)，結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作。 然后，對(duì)應(yīng)于構(gòu)成曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)列c (n+l)至c (1024)的光點(diǎn) 的微反射鏡確定作為正式曝光中不使用的微反射鏡。例如，在圖10的例 子中，示出了曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P (256， 1020)比曝光區(qū)域3212的P (256， l)具有較大的X坐標(biāo)，若在曝光區(qū)域322,的光點(diǎn)P (256， 1020) 被檢測(cè)出時(shí)結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作，將對(duì)應(yīng)于與圖13中斜線覆蓋的部分70相當(dāng)?shù)摹?構(gòu)成曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)列c (1021)至c (1024)的光點(diǎn)的微反射鏡確 定作為正式曝光中不使用的微反射鏡。接下來(lái)，對(duì)于N重曝光的數(shù)N，檢測(cè)出曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P (256， N)的位置。由于本實(shí)施方式中N二2，檢測(cè)出光點(diǎn)P (256， 2)的位置。 接著，在曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)列中，在除去作為對(duì)應(yīng)于在正式曝光中不使 用的光點(diǎn)列確定之外的構(gòu)成最右側(cè)的光點(diǎn)列c (1020)的光點(diǎn)的位置，從 P (1， 1020)以P (1， 1020) 、 P(2， 1020).....順次進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)檢測(cè)出 表示比曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P (256， 2)具有較大的X坐標(biāo)的光點(diǎn)P (m，1020)時(shí)，結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作。其后，在與光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置中，將曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P (256， 2)的X坐標(biāo)與曝光區(qū)域322,的光點(diǎn)P (m， 1020)和P (m—l， 1020)的X坐標(biāo)比較，當(dāng)曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P (m， 1020)的X坐標(biāo)一方接近曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P (256， 2)的坐標(biāo)時(shí)，將 對(duì)應(yīng)于曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P (1， 1020)到P (m—l， 1020)的微反射 鏡確定為正式曝光中不使用的微反射鏡，當(dāng)曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P(m—l， 1020)的X坐標(biāo)一方接近曝光區(qū)域32!2的光點(diǎn)P (256， 2)的坐標(biāo)時(shí)，將 對(duì)應(yīng)于曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P (1， 1020)到P (m—2， 1020)的微反射 鏡確定為正式曝光中不使用的微反射鏡。對(duì)于曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(256， N—1)即P(256， 1)的位置，以及構(gòu)成曝光區(qū)域3221的下一光點(diǎn)列c( 1019) 的各光點(diǎn)的位置，進(jìn)行相同的檢測(cè)處理及微反射鏡選擇處理。結(jié)果，例如， 將與構(gòu)成圖13中以網(wǎng)狀覆蓋的部分72的光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡追加確定為 正式曝光中不使用的微反射鏡。這些被確定為正式曝光中不使用的微反射 鏡，始終被發(fā)送將其微反射鏡的角度設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)角度的信號(hào)，這些微 反射鏡實(shí)際上在正式曝光中不被使用。若選擇如以上的正式曝光不使用的微反射鏡，曝光區(qū)域3212和3221 的頭間連接區(qū)域中，能夠讓相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部分和 相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分的總和為最小，如圖13的下 段所示，能夠?qū)崿F(xiàn)極接近于理想狀態(tài)的均勻雙重曝光。另外，在上述例子中，在確定構(gòu)成圖13中網(wǎng)狀的覆蓋部分72的光點(diǎn) 時(shí)，可以不將曝光區(qū)域32i2的光點(diǎn)P (256， 2)的X坐標(biāo)與曝光區(qū)域322, 的光點(diǎn)P (m， 1020)和P (m—l， 1020)的X坐標(biāo)進(jìn)行比較，直接將對(duì) 應(yīng)于曝光區(qū)域3221的光點(diǎn)P (1， 1020)到P (m—2， 1020)的微反射鏡 確定作為正式曝光不使用的微反射鏡。這種場(chǎng)合，在頭間連接區(qū)域中，能 夠選擇實(shí)際使用的微反射鏡，以使得相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光 的部分變得最小，且不出現(xiàn)相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分。 或者也可以將對(duì)應(yīng)于曝光區(qū)域322,的光點(diǎn)P(1， 1020)到P(m—l， 1020)的微反射鏡確定作為正式曝光中不使用的微反射鏡。這種場(chǎng)合，在頭間連 接區(qū)域中，能夠選擇實(shí)際使用的微反射鏡，以使得相對(duì)于理想的雙重曝光 成為不足曝光的部分變得最小，且不出現(xiàn)相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部分?；蛘?，在曝光面上的頭間連接區(qū)域中，能夠選擇實(shí)際使用的 微反射鏡，以使得相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部分的光點(diǎn)數(shù)與 相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分的光點(diǎn)數(shù)相等。接著，用圖14和圖15說(shuō)明上述的本實(shí)施方式的曝光裝置10的變形例的像素指定處理的例子。該例是在用圖IO至圖13說(shuō)明的像素指定處理 的例子中所考慮的曝光頭3212和3221之間的平行相對(duì)位置偏離的基礎(chǔ)上， 考慮各曝光頭3212和3221的安裝角度誤差以及曝光頭3212和3221之間的相 對(duì)安裝角度偏離，將此影響抑制到最小，進(jìn)而減輕曝光面上的清晰度和濃 度的不均的處理的例子。在該變形例中，曝光裝置IO，同上述的實(shí)施方式一樣，進(jìn)行雙重曝光 處理，作為各曝光頭30即各DMD36的設(shè)定傾斜度，是比滿足上述式(l) 的理想角度eideal若干大的角度，例如采用0.50度程度的角度e。這是因 為雖然各曝光頭30的安裝角度的微調(diào)整較困難，即使安裝角度多少產(chǎn) 生一些誤差，也設(shè)法使各曝光頭30的實(shí)際安裝角度不小于理想角度6ideal。 曝光裝置IO，在可調(diào)整的范圍內(nèi)，按照各曝光頭30即各DMD36的安裝角度變得接近該設(shè)定傾斜角度e的方式進(jìn)行初期調(diào)整。圖14表示在上述那樣進(jìn)行初期調(diào)整后的曝光裝置10中，通過(guò)兩個(gè)曝 光頭(作為一例為曝光頭3012和3021)的關(guān)于X軸方向的相對(duì)位置偏離， 以及由各曝光頭3012和3021的安裝角度誤差以及相對(duì)角度偏離的影響引起 的曝光面上的圖案中產(chǎn)生不均的例子。圖14的例子中，同圖10的例子一樣，作為關(guān)于X軸方向的曝光頭 3012和3021的相對(duì)位置偏離的結(jié)果，在基于像素列群A的曝光圖案和基于 像素列群B的曝光圖案的雙方，在曝光區(qū)域32i2和322i的頭間連接區(qū)域中， 產(chǎn)生比理想的雙重曝光狀態(tài)冗余曝光的部分74，引起濃度不均。加之，在圖14的例子中，由于各曝光頭的設(shè)定傾斜角度e比滿足上述式(1)的理想角度eideal若干要大，并且，各曝光頭的安裝角度的調(diào)整困難，實(shí)際的安裝角度是從上述設(shè)定傾斜角度e稍微偏離的結(jié)果，即使在曝光面上的頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域，在基于像素列群A的曝光圖案和基于像素列群B 的曝光圖案的雙方，對(duì)應(yīng)于各像素列端部的部分即像素列間的連接部分 中，產(chǎn)生比理想的雙重曝光狀態(tài)曝光冗長(zhǎng)的部分76,這引起濃度更加不均。在該變形例中，首先，進(jìn)行旨在減輕由上述各曝光頭3012和3021的安 裝角度誤差和相對(duì)安裝角度偏離的影響引起的濃度不均的使用像素選擇 處理。具體地，使用上述狹縫28和光檢測(cè)器的組合，關(guān)于曝光頭3012和3011的每一個(gè)，確定投影在曝光面上的像素列的實(shí)際傾斜角度e，，在與光 檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置中，基于該實(shí)際傾斜角度e'，選擇實(shí)際的在正式曝光中使用的微反射鏡。實(shí)際傾斜角度e'的確定如下進(jìn)行由上述狹縫28和光檢測(cè)器的組合，例如對(duì)于曝光頭3012檢測(cè)出圖14的曝光區(qū)域3212內(nèi) 的P(l,l)和P(256，l)的位置，而對(duì)于曝光頭3021則檢測(cè)出曝光區(qū)域3221內(nèi) 的P(l，1024)和P(256,1024)的位置，在運(yùn)算裝置中計(jì)算連接這些光點(diǎn)的直 線的傾斜角度。這樣，采用所確定的實(shí)際傾斜角度e'，與光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置， 將滿足tan6>' =iV (4)的關(guān)系的值t最接近的自然數(shù)T，針對(duì)各自曝光頭3012和3021導(dǎo)出，進(jìn)行將 DMD36上的第(T+l)行至第256行的微反射鏡確定為正式曝光中不使用 的微反射鏡的處理。例如，曝光頭3012是丁=254,對(duì)于曝光頭3021是丁=255， 確定對(duì)應(yīng)于構(gòu)成圖15中斜線所覆蓋的部分78和80的點(diǎn)的微反射鏡作為 正式曝光中不使用的微反射鏡。藉此，在曝光區(qū)域3212和3221上的頭間連 接區(qū)域以外的各區(qū)域，能夠使相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余的部分和相 對(duì)于理想的雙重曝光曝光成為不足部分的總和為最小。在此，替代導(dǎo)出最接近上述值t的自然數(shù)，也可以導(dǎo)出值t以上的最 小自然數(shù)。那種場(chǎng)合，在曝光區(qū)域3212和3221的頭間連接區(qū)域以外的各區(qū) 域中，能夠使相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部分變得最小，且不 出現(xiàn)相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分?；蛘咭部梢詫?dǎo)出t值以 下的最大自然數(shù)。那種場(chǎng)合，在曝光區(qū)域3212和3221的頭間連接區(qū)域以外 的各區(qū)域中，能夠使相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分變得最 小，且不出現(xiàn)相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部分。在頭間連接區(qū) 域以外的各區(qū)域中，也可以按照相對(duì)于理想的雙重曝光成為冗余曝光的部 分的光點(diǎn)數(shù)與相對(duì)于理想的雙重曝光成為不足曝光的部分的光點(diǎn)數(shù)相等 的方式，確定正式曝光中不使用的微反射鏡。其后，關(guān)于與圖15中構(gòu)成由斜線覆蓋的部分78和80的光點(diǎn)以外的 光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡，與用圖10至圖13說(shuō)明的上述使用像素選擇處理同 樣的處理，在圖15中，將與構(gòu)成由斜線覆蓋的部分82和由網(wǎng)狀覆蓋部分 84的光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡，追加確定作為正式曝光不使用的微反射鏡。這 ,被確定作為正式曝光中不使用的微反射鏡，始終，被發(fā)送將微反射鏡的 角度設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)的角度的信號(hào)，這些微反射鏡實(shí)際上在正式曝光中不 被使川。通過(guò)上述變形例，能夠減輕含有頭間連接區(qū)域及其以外的區(qū)域的描繪 面全體的清晰度和濃度的不均，進(jìn)行均勻的雙重曝光。以上，詳細(xì)說(shuō)明了有關(guān)本發(fā)明的描繪裝置的一實(shí)施方式及其變形例。 這只不過(guò)是例示，在不脫離本發(fā)明范圍的情況下可以進(jìn)行各種變形。例如，在上述實(shí)施方式及變形例中，作為用于檢測(cè)曝光面上光點(diǎn)位置 的機(jī)構(gòu)，雖然采用狹縫28和單一器件型的光檢測(cè)器的組合。也可以采用 不限定于此的任何方式，例如也可以用二維檢測(cè)器。在上述實(shí)施方式及變形例中，雖然基于由狹縫28和光檢測(cè)器的組合 的光點(diǎn)位置檢測(cè)結(jié)果，通過(guò)與光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置，作為選擇正式曝 光中實(shí)際使用的微反射鏡的方式，進(jìn)行使用例如全部可使用的微反射鏡的 參照曝光，通過(guò)目視參照曝光結(jié)果，確認(rèn)清晰度及濃度的不均，由操作者 通過(guò)手動(dòng)指定所使用的微反射鏡的方式，也包含在本發(fā)明的范圍中。進(jìn)一步，作為上述實(shí)施方式的其他變形例，也可以在設(shè)有各曝光頭30 的DMD36的可使用的微反射鏡中，僅使用構(gòu)成每(N-l)列像素列的微 反射鏡，或構(gòu)成相當(dāng)于所有像素行數(shù)的1/N行的互相鄰接的像素行的群的 微反射鏡，進(jìn)行參照曝光，從對(duì)應(yīng)于構(gòu)成頭間連接區(qū)域的光點(diǎn)的微反射鏡 中的參照曝光中所使用的器件中，確定正式曝光中不使用的微反射鏡，以 能夠?qū)崿F(xiàn)近似于理想的單重曝光的狀態(tài)。圖16表示僅使用構(gòu)成每(N—l)列像素列的微反射鏡進(jìn)行參照曝光 的方式一例的說(shuō)明圖。在該例中，正式曝光為雙重曝光，因此N:2。首先， 如圖16中實(shí)線所示，僅使用關(guān)于X軸方向鄰接的兩個(gè)曝光頭(作為一例 為曝光頭3012和3021)的第奇數(shù)列的光點(diǎn)列所對(duì)應(yīng)的微反射鏡，進(jìn)行參照 曝光，樣本輸出參照曝光結(jié)果。對(duì)于所輸出的參照曝光結(jié)果，操作者通過(guò)目視確認(rèn)清晰度和濃度的不均，推定實(shí)際傾斜角度，使得能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)頭間 連接區(qū)域中的清晰度和濃度的不均抑制至最小限的正式曝光，能夠指定正 式曝光中使用的微反射鏡。例如，在圖16中，對(duì)應(yīng)于斜線覆蓋示出的部分86和由網(wǎng)狀覆蓋示出的部分88的光點(diǎn)列的微反射鏡以外的微反射鏡，作為在構(gòu)成第奇數(shù)列的像素列的微反射鏡中在正式曝光中實(shí)際所使用的 微反射鏡指定。對(duì)于第偶數(shù)列的像素，另外同樣進(jìn)行參照曝光，也可指定 在正式曝光中實(shí)際使用的微反射鏡，也適用于與對(duì)第奇數(shù)列的像素列的圖 案相同的圖案。通過(guò)這樣指定在正式曝光中使用的微反射鏡，在使用第奇 數(shù)列和第偶數(shù)列雙方的微反射鏡的正式曝光中，能夠?qū)崿F(xiàn)接近頭間連接區(qū) 域的理想的雙重曝光的狀態(tài)。另外，參照曝光結(jié)果的分析，不限于通過(guò)操 作者目視，也可以是儀器的分析。圖17表示在關(guān)于X方向鄰接的兩個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012 和3021)中，僅使用構(gòu)成相當(dāng)于所有像素行數(shù)的1/N行的互相鄰接的像素 群中的微反射鏡進(jìn)行參照曝光的方式一例的說(shuō)明圖。在該例中，正式曝光 為雙重曝光，因此N=2。首先，如圖17中實(shí)線所示，僅使用對(duì)應(yīng)于第1 行至第128 (=256/2)行的光點(diǎn)的微反射鏡，進(jìn)行參照曝光，樣品輸出參 照曝光結(jié)果。對(duì)于所輸出的參照曝光結(jié)果，操作者通過(guò)目視確認(rèn)清晰度和 濃度的不均，推定實(shí)際傾斜角度，使得能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)頭間連接區(qū)域中的清晰 度和濃度的不均抑制至最小限的正式曝光，能夠指定正式曝光中使用的微 反射鏡。例如，在圖17中對(duì)應(yīng)于斜線覆蓋示出的部分90和由網(wǎng)狀覆蓋示 出的部分92的光點(diǎn)的微反射鏡以外的微反射鏡，作為第1行至第128 (= 256/2)行的微反射鏡中在正式曝光中實(shí)際所使用的微反射鏡指定。對(duì)于 129行目至256行目的微反射鏡中，另外同樣進(jìn)行參照曝光，也可指定在 正式曝光中實(shí)際使用的微反射鏡，也適用于與第1行至第128 (=256/2) 行的微反射鏡對(duì)應(yīng)的圖案相同的圖案。通過(guò)這樣指定在正式曝光中使用的 微反射鏡，在使用所有微反射鏡的正式曝光中，能夠?qū)崿F(xiàn)接近頭間連接區(qū) 域的理想的雙重曝光的狀態(tài)。另外，參照曝光結(jié)果的分析，不限于通過(guò)操 作者目視，也可以是儀器的分析。以上的實(shí)施方式及變形例，雖然均是對(duì)正式曝光為雙重曝光的情況進(jìn) 行了說(shuō)明，但并不限定于此，也可以是單重曝光以上的任何N重曝光。但是，為了通過(guò)補(bǔ)償效果進(jìn)一步減輕描繪面上殘留的二維圖案的清晰度和濃 度的不均，優(yōu)選為雙重以上的多重曝光。特別是通過(guò)三重至七重曝光程度， 能夠進(jìn)行良好地確保高清晰度與減輕清晰度及濃度不均的效果之間平衡 的曝光。此外，在上述的實(shí)施方式及變形例所述的曝光裝置中，頭間連接區(qū)域中使用像素的選擇，如上述的圖13的例所示，可僅在與該頭間連接區(qū)域 相關(guān)的兩個(gè)曝光頭中的一個(gè)曝光頭中，形成未使用的幾個(gè)像素的方式，也 可形成兩個(gè)曝光頭分配未使用的像素的方式。此處，在如上述的曝光裝置中，基于曝光結(jié)果，說(shuō)明對(duì)使用的微反射 鏡進(jìn)行指定的方法的一例。具體地，測(cè)量關(guān)于兩個(gè)曝光頭(作為一例曝光頭3012和3021)的X軸 方向相對(duì)位置的、理想狀態(tài)的偏離量，并基于該測(cè)量的偏離量，指定使用 的微反射鏡。首先說(shuō)明測(cè)量上述偏離量的方法。在測(cè)量上述偏離量時(shí)，例如在圖16中說(shuō)明的，僅使用曝光頭3012及 曝光頭3021的構(gòu)成每隔(N-l)根的像素列的微反射鏡，并曝光沿X軸方 向的直線。S卩，利用曝光頭3012及曝光頭3021的構(gòu)成各像素列的微反射鏡 曝光的曝光點(diǎn)沿X軸方向排列地進(jìn)行曝光。而且，以下，將如上述的僅使 用構(gòu)成每隔(N-l)根的像素列的微反射鏡的曝光方法稱為"間隔剔除參照 曝光"。并且，如上述地，在曝光沿X軸方向延伸的直線時(shí)，對(duì)于曝光頭3021， 不使用與規(guī)定的像素?cái)?shù)(以下稱為"規(guī)定的間隙曝光"。)對(duì)應(yīng)的微反射 鏡地進(jìn)行曝光。圖18表示如上述地曝光的沿X軸方向延伸的直線的一部分。而且， 圖18中，表示認(rèn)為具有由于曝光頭3021和曝光頭3012重復(fù)或不足地被曝 光的可能性的區(qū)域附近的直線。并且，圖18中的直線1^21是被曝光頭3021 曝光的直線，直線1^12是被曝光頭3012曝光的直線，直線Le表示利用與規(guī) 定的間隙圖像對(duì)應(yīng)的微反射鏡曝光的直線(因?yàn)閷?shí)際上未曝光，所以以下 稱為"間隔Le")。并且，如上所述地，不使用與規(guī)定的間隙圖像對(duì)應(yīng)的微反射鏡進(jìn)行曝 光，并且利用曝光頭3012或曝光頭3021，曝光如圖19所示的參考標(biāo)度Ls。如圖19所示，參考標(biāo)度Ls是指利用曝光頭3012或曝光頭3021的構(gòu)成像素 列的微反射鏡曝光的沿X方向延伸的直線，是將n個(gè)、n+l個(gè)、n+2個(gè)、 n+3個(gè)、n-l個(gè)、n-2個(gè)及n-3個(gè)曝光點(diǎn)(像素?cái)?shù))對(duì)應(yīng)的間隔L (n) 、 L (n+l) 、 L (n+2) 、 L (n+3) 、 L (n-l) 、 L (n-2)及L (n陽(yáng)3)按規(guī)定數(shù)量的曝光點(diǎn)沿X軸方向排列的直線。而且，參考標(biāo)度Ls可以由曝光頭 3012或曝光頭3021的任意一個(gè)曝光，也可由兩個(gè)曝光頭進(jìn)行曝光。此外， 也可在如圖18所示的直線L2,或直線L,2的一部分上曝光參考標(biāo)度Ls，也 可與上述直線L2,及直線L,2單獨(dú)地曝光。此外，該參考標(biāo)度Ls也可由間隔剔除參照曝光進(jìn)行曝光。并且，參考標(biāo)度Ls中的間隔L (n)的曝光點(diǎn)的數(shù)量被設(shè)定為與規(guī)定 的間隙圖像對(duì)應(yīng)的微反射鏡的數(shù)量相同的數(shù)量，通過(guò)比較間隔Le的長(zhǎng)度 和間隔L，能夠測(cè)量與上述偏離量對(duì)應(yīng)的微反射鏡的數(shù)量。例如，如果間隔Le的長(zhǎng)度為與間隔L (n)相同的長(zhǎng)度，則上述偏離 量為0。并且，如果間隔Le的長(zhǎng)度為與間隔L (n-3)相同的長(zhǎng)度，則與 上述偏離量對(duì)應(yīng)的微反射鏡數(shù)為三個(gè)。從而，曝光頭3221的曝光區(qū)域相對(duì) 于曝光頭3012的曝光區(qū)域重復(fù)三個(gè)微反射鏡。從而，在如上述的情況下， 可不使用與圖16中的光點(diǎn)P (m， 1019)、光點(diǎn)P (m+l， 1019)及光點(diǎn) P (m+2， 1019)對(duì)應(yīng)的微反射鏡。而且，例如，如果間隔Le的長(zhǎng)度為與間隔L (n+2)相同的長(zhǎng)度，則 與上述偏離量對(duì)應(yīng)的微反射鏡數(shù)為兩個(gè)。即，曝光頭3012和曝光頭3021 間隔有像素列中的兩個(gè)微反射鏡。在如上述的情況下，可使用光點(diǎn)P(m-l， 1019)、光點(diǎn)P (m畫2， 1019)。而且，間隔Le的長(zhǎng)度與間隔L的比較可以由目視進(jìn)行，也可由規(guī)定 的測(cè)量裝置測(cè)量。如上所述地，基于間隔剔除參照曝光結(jié)果，能夠指定使用的微反射鏡。 此處，在上述的說(shuō)明中，對(duì)在曝光頭3021及曝光頭3012中，通過(guò)指定 使用的反射鏡，消除由于兩個(gè)曝光頭的X軸方向上的相對(duì)位置關(guān)系的偏離 的影響導(dǎo)致的曝光圖案的不均的方法進(jìn)行了說(shuō)明，但如上所述地，即使指 定各曝光頭中使用的微反射鏡，例如如果基于曝光頭3021和曝光頭3012 的向曝光面上的曝光時(shí)刻不合適，則由曝光頭3021曝光的曝光圖案和由曝光頭曝光頭3012曝光的曝光圖案在Y方向上偏離。例如，如果考慮利用曝光頭3021及曝光頭3012分別如上所述地間隔剔 除參照曝光在X軸方向上延伸的直線I^、直線Lu的情況，則若各曝光 頭的曝光時(shí)刻不合適，如圖20A所示，直線I^和直線L,2在Y方向上偏離。從而，如圖20B所示，為使直線L2i和直線I^在Y方向上無(wú)偏離地 連接，期望控制由曝光頭3021及曝光頭3012進(jìn)行的曝光時(shí)刻。具體地，例如，使用上述狹縫28和光檢測(cè)器的組合或二維檢測(cè)器， 測(cè)量與圖20B的直線L21的右端的曝光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡和與直線L12的 左端的曝光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡的位置，并求這些微反射鏡的Y軸方向的距 離，基于該距離與載置臺(tái)14的移動(dòng)速度，求得曝光頭3021及曝光頭3012 的曝光時(shí)刻，并在該曝光時(shí)刻進(jìn)行曝光，以使直線L2,與直線I^在Y軸 方向上無(wú)偏離地連接。此外，不僅限于上述的方法，也可在預(yù)先確定的曝光時(shí)刻下利用曝光 頭3021及曝光頭3012實(shí)際上曝光直線La及直線L12，并利用規(guī)定的測(cè)量方 式測(cè)量該曝光的直線！^與直線"2的Y軸方向上的偏離量，并基于該偏 離量，調(diào)整上述預(yù)先確定的曝光時(shí)刻。此外，也可進(jìn)一步在曝光頭3021和曝光頭3012中，如圖21所示，預(yù) 先設(shè)定構(gòu)成基準(zhǔn)的微反射鏡r21、 r12 (以下稱為"基準(zhǔn)微反射鏡"。)， 調(diào)整曝光頭3021及曝光頭3012的曝光時(shí)刻，以使利用該基準(zhǔn)微反射鏡r21、 r12曝光的曝光點(diǎn)rp21、 rp22位于預(yù)先確定的曝光面上的Y軸方向上的基 準(zhǔn)線RL上。此外，在如上所述地測(cè)量Y軸方向上的偏離量時(shí)，也考慮微反射鏡的 束(beam)的掃描方向與Y軸方向不一致，從而產(chǎn)生偏離的情況下，以 規(guī)定的微反射鏡在其掃描方向上畫直線，并以該直線為基準(zhǔn)，進(jìn)行各曝光 頭的基準(zhǔn)微反射鏡形成的曝光位置的測(cè)量。例如，如果確定掃描方向與X 軸方向之間的角度，則在該掃描方向上設(shè)定該角度的假想線，作為相對(duì)于 該假想線的偏離，進(jìn)行曝光位置的測(cè)量。而且，也可進(jìn)行粗調(diào)，以使圖案 的位置及角度與假想線配合。而且，作為上述基準(zhǔn)微反射鏡，位于各曝光頭DMD的相同位置的微反射鏡被指定，例如，如圖21所示，可指定與直線I^的左端的曝光點(diǎn)對(duì) 應(yīng)的微反射鏡和與直線L,2的左端的曝光點(diǎn)對(duì)應(yīng)的微反射鏡。此外，作為調(diào)整時(shí)刻，以使利用基準(zhǔn)微反射鏡r21、 rl2曝光的曝光點(diǎn)rp21、 rpl2位于 預(yù)先設(shè)定的曝光面上的Y軸方向的基準(zhǔn)線RL上，例如，也可在預(yù)先設(shè)定 的曝光時(shí)刻下，利用曝光頭3021和曝光頭3012曝光直線1^及直線1^12，并 利用規(guī)定的測(cè)量方式測(cè)量基準(zhǔn)線RL、曝光點(diǎn)rp21及曝光rpl2的位置關(guān)系， 基于該測(cè)量的位置關(guān)系與載置臺(tái)14的移動(dòng)速度，如上述地調(diào)整曝光時(shí)刻。此外，上述基準(zhǔn)線RL也可在曝光面上預(yù)先設(shè)定，但例如也可將基于 規(guī)定的曝光頭的基準(zhǔn)微反射鏡的光點(diǎn)、且沿X軸方向平行(與掃描方向正 交)的直線作為基準(zhǔn)線RL設(shè)定，并調(diào)整曝光時(shí)刻，以使基于其他的曝光 頭的基準(zhǔn)微反射鏡的光點(diǎn)也位于上述基準(zhǔn)線RL上。而且，作為上述規(guī)定 的曝光頭，例如可指定圖3B中的曝光頭30u。此處，即使如上述地在以使與基準(zhǔn)微反射鏡對(duì)應(yīng)的光點(diǎn)位于基準(zhǔn)線 RL上的曝光時(shí)刻下，利用曝光頭3021和曝光頭3012曝光，例如在曝光頭 3021或曝光頭3012的DMD的實(shí)際傾斜角度偏離規(guī)定傾斜角度的情況下， 如圖22所示，直線L2,及直線Li2相對(duì)于X軸方向不平行。gp，由曝光頭 3021曝光的曝光圖案及由曝光頭3012曝光的曝光圖案以與基準(zhǔn)微反射鏡對(duì) 應(yīng)的光點(diǎn)為中心旋轉(zhuǎn)。因此，按各曝光頭測(cè)量如上述的以與基準(zhǔn)微反射鏡對(duì)應(yīng)的光點(diǎn)為中心 的旋轉(zhuǎn)偏離量，并通過(guò)對(duì)表示利用各曝光頭曝光的曝光圖案的曝光圖象數(shù) 據(jù)實(shí)施與上述旋轉(zhuǎn)偏離量對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)處理，由曝光頭3021曝光的曝光圖案 (例如直線L2。及由曝光頭3012曝光的曝光圖案(例如直線Lu)可為在 Y軸方向上相連。而且，上述旋轉(zhuǎn)偏離量只要可通過(guò)例如由曝光頭曝光頭 3021及曝光頭3012曝光如圖22所示的直線L^及直線L12，并利用規(guī)定測(cè) 量方式測(cè)量該曝光的直線L21和直線L12相對(duì)于X軸方向的角度取得即可。 此外，此處旋轉(zhuǎn)處理指旋轉(zhuǎn)表示曝光圖案的圖像數(shù)據(jù)，也可曝光通過(guò)控制 曝光頭中的各列(例如1列至1024列)的時(shí)刻而旋轉(zhuǎn)的曝光圖案。此外，不如上述地利用規(guī)定的測(cè)量方式實(shí)施測(cè)量角度，也可是例如， 如上所述地，使與曝光頭3021及曝光頭3012的基準(zhǔn)微反射鏡。1、 rl2對(duì)應(yīng) 的曝光點(diǎn)rp21、 rpl2位于基準(zhǔn)線RL上的曝光時(shí)刻下，曝光直線L21及直線L12，并且以在Y軸方向上不同的間距分別曝光多個(gè)與該直線L^及直 線L,2平行的直線，并基于該曝光圖案取得旋轉(zhuǎn)偏離量。具體地，例如，圖23所示，由曝光頭3021以45 u m間距曝光多個(gè)與直線L21平行的直線， 并利用曝光頭3012以46 u m間距曝光多個(gè)與直線L,2平行的直線，并求得 與利用曝光頭3021曝光的直線的右端的光點(diǎn)在￥軸方向上與具有位置一致 的左端的由曝光頭3012曝光的直線，并計(jì)數(shù)該直線是距離直線L^的第幾 號(hào)直線，例如，在如圖23所示為距離直線L,2的第三號(hào)直線的情況下，與 游標(biāo)卡尺的測(cè)量原理相同，測(cè)得直線L21的右端的光點(diǎn)偏離基準(zhǔn)線RL3 u m。并且，例如也可將上述偏離換算為以光點(diǎn)rp21為中心的直線I^的旋 轉(zhuǎn)角，并基于該旋轉(zhuǎn)角，如上述地在曝光圖像數(shù)據(jù)中實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理。此外，在上述的說(shuō)明中，以使由曝光頭3021及曝光頭3012的基準(zhǔn)微反 射鏡r21、 rl2曝光的曝光點(diǎn)rp21、 rpl2位于基準(zhǔn)線RL上地設(shè)定曝光時(shí)刻 后，求得由曝光頭3021曝光的直線L^及由曝光頭3012曝光的直線L,2相 對(duì)于X軸方向的旋轉(zhuǎn)偏離量，并基于該旋轉(zhuǎn)偏離量對(duì)曝光圖像數(shù)據(jù)實(shí)施旋 轉(zhuǎn)處理，但上述曝光時(shí)刻的設(shè)定與上述旋轉(zhuǎn)處理的順序也可顛倒。具體地， 在預(yù)先設(shè)定的曝光時(shí)刻下，如圖24所示，曝光直線I^及直線Lu，測(cè)量 該直線L^及直線Lu相對(duì)于X軸方向的旋轉(zhuǎn)偏離量，并根據(jù)該旋轉(zhuǎn)偏離 量對(duì)曝光圖像數(shù)據(jù)實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理后，再次如圖24B所示，利用曝光頭21 及曝光頭12曝光直線L21及直線L12，測(cè)量該曝光的直線L21及直線L12在 Y軸方向上相對(duì)于基準(zhǔn)線RL的偏離量，并根據(jù)該偏離量隨調(diào)整上述預(yù)先 設(shè)定的曝光時(shí)刻，由此，在基準(zhǔn)線RL上，直線Lu及直線L,2位于基準(zhǔn)線 RL上。此外，也可不進(jìn)行如上述地旋轉(zhuǎn)處理，僅調(diào)整曝光時(shí)刻，如圖25所 示地，使直線1^21的右端與直線1^2的左端在Y軸方向上一致。具體地，在預(yù)先設(shè)定的曝光時(shí)刻下，曝光直線I^和直線Li2，并以規(guī)定的測(cè)量方式測(cè)量該直線L21的右端的曝光點(diǎn)在Y軸方向的位置與直線L12的左端的光 點(diǎn)在Y軸方向上的位置之間的偏離量，基于該偏離量，調(diào)整曝光頭3021 與曝光頭3012的曝光時(shí)刻，以使直線L21的右端的曝光點(diǎn)在Y軸方向的位 置與直線L,2的左端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位置一致。此外，調(diào)整對(duì)于曝光頭3 022的曝光時(shí)刻，以使由曝光頭3022曝光的直線L22的左端的曝光點(diǎn)在Y軸方向的位置與直線Lu的右端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位置一 致。而且，如上述地，在連接基于各曝光頭的曝光圖案的情況下，期望在至少使一個(gè)曝光頭的、由其基準(zhǔn)微反射鏡產(chǎn)生的曝光點(diǎn)位于基準(zhǔn)線RL上 的時(shí)刻下，進(jìn)行曝光。圖25中，由曝光頭3021的基準(zhǔn)微反射鏡形成的曝 光點(diǎn)位于基準(zhǔn)線RL上。此外，也可不進(jìn)行如上述地曝光時(shí)刻的調(diào)整，僅進(jìn)行旋轉(zhuǎn)處理，如圖 26所示，使直線I^的右端與直線L,2的左端在Y軸方向上一致。具體地， 在預(yù)先設(shè)定的曝光時(shí)刻下曝光直線L2,和直線L12，并利用規(guī)定的測(cè)量方式 或如圖23所示的多個(gè)直線圖案等測(cè)量該直線L21的右端的曝光點(diǎn)在Y軸 方向上的位置與直線Lu的左端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位置之間的偏離 量，基于該偏離量，對(duì)表示直線Lu的曝光圖像數(shù)據(jù)實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理，并基 于該實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理后曝光圖像數(shù)據(jù)，由曝光頭3012曝光直線L12，以使直 線L21的右端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位置與直線L12的左端的曝光點(diǎn)在 Y軸方向上的位置一致。此外，只要對(duì)曝光頭3 022的曝光圖像實(shí)施旋轉(zhuǎn)處 理，以使由曝光頭3022曝光的直線L22的左端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位 置與直線L,2的右端的曝光點(diǎn)在Y軸方向上的位置一致即可。而且，如上 述地，在連接基于各曝光頭的曝光圖案的情況下，期望在至少使一個(gè)曝光 頭的、由其基準(zhǔn)微反射鏡產(chǎn)生的曝光點(diǎn)位于基準(zhǔn)線RL上的時(shí)刻下進(jìn)行曝 光。圖26中，由曝光頭302i的基準(zhǔn)微反射鏡形成的曝光點(diǎn)位于基準(zhǔn)線RL 上。此外，利用曝光頭規(guī)定的微反射鏡曝光沿掃描方向的掃描方向基準(zhǔn) 線，且按各曝光頭曝光規(guī)定方向的線，以該掃描方向的基準(zhǔn)線為基準(zhǔn)，以 使各曝光頭曝光的線的上述規(guī)定的方向正確一致地實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理，此處，在如上述地指定各曝光頭中使用的微反射鏡，并利用該微反射 鏡進(jìn)行曝光時(shí)，向各微反射鏡上分配曝光圖像數(shù)據(jù)，以使與期望的曝光圖 像數(shù)據(jù)相應(yīng)的曝光點(diǎn)曝光在期望的X軸方向的曝光位置。具體地，例如， 如圖27所示，向微反射鏡1分配曝光圖像數(shù)據(jù)，以使與曝光圖像數(shù)據(jù)1 相應(yīng)的曝光點(diǎn)1在X=0的位置處曝光。但是，即使如上述地分配曝光圖像數(shù)據(jù)，例如由于曝光頭中的光學(xué)系 得設(shè)置位置的偏離或特性等，實(shí)際上如圖27B所示，曝光點(diǎn)1不在X^0，而是X4的位置處曝光，對(duì)于其他的曝光點(diǎn)，如圖27B所示，也有在X 軸方向上存在偏離的情況，從而無(wú)法在感光材料12的期望的位置上曝光 期望的曝光圖案。因此，例如，如圖27C所示，也可通過(guò)在X軸方向上移動(dòng)曝光圖像 數(shù)據(jù)，并分配給各微反射鏡，從而各曝光點(diǎn)的圖像在期望的位置上曝光。 而且，圖27C中，未表示分配曝光圖像數(shù)據(jù)1的微反射鏡，但例如在微反 射鏡1為曝光規(guī)定的曝光頭的最端側(cè)的光點(diǎn)的微反射鏡的情況下，曝光圖 像數(shù)據(jù)1可分配給相鄰的曝光頭的微反射鏡。此外，作為將沿X軸方向移 動(dòng)的曝光圖像數(shù)據(jù)分配給各微反射鏡的方法，可在對(duì)曝光圖像自身實(shí)施作 為圖像處理的移動(dòng)處理后，將該移動(dòng)處理后的曝光圖像數(shù)據(jù)分配給各微反 射鏡，或移動(dòng)設(shè)定讀出存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的曝光圖像數(shù)據(jù)時(shí)的地址，從而從 存儲(chǔ)器中讀出與移動(dòng)后的地址對(duì)應(yīng)的曝光圖像數(shù)據(jù)，并分配給各微反射 鏡。此外，如上述地向各微反射鏡分配沿X軸方向移動(dòng)后的曝光圖像數(shù)據(jù) 時(shí)，對(duì)于該移動(dòng)量例如通過(guò)圖21中說(shuō)明地，曝光直線L2p并利用規(guī)定的 測(cè)量方式，測(cè)量由基準(zhǔn)微反射鏡r21曝光的曝光點(diǎn)rp21的X軸方向的偏 離量，基于該偏離量，對(duì)曝光圖像數(shù)據(jù)實(shí)施移動(dòng)處理，或加減計(jì)算從存儲(chǔ) 器中讀出的地址。此處，在向各曝光頭的微反射鏡分配曝光圖像數(shù)據(jù)時(shí)，例如，如圖28A 所示，在X軸方向的0 9范圍內(nèi)曝光微反射鏡1~10的曝光點(diǎn)的前提下， 向各微反射鏡分配曝光圖像數(shù)據(jù)，但例如在曝光頭中的光學(xué)系的倍率小于 設(shè)計(jì)值的情況下，如圖28B所示，以微反射鏡1 12的曝光點(diǎn)曝光X軸方 向的0 9范圍。在此種情況下，在如上述的前提下，如果分配曝光圖像數(shù) 據(jù)，則如圖28B所示，曝光圖案比期望的曝光圖案縮小，曝光圖案發(fā)生歪 曲，并且在曝光頭間曝光圖案未合適地連接。而且，圖28B的微反射鏡 11、 12中，分配給相鄰的曝光頭的微反射鏡的曝光圖像數(shù)據(jù)被分配。因此，根據(jù)如上述的曝光頭的光學(xué)系的倍率的偏離量，例如，如圖28 所示，可通過(guò)插補(bǔ)曝光圖像數(shù)據(jù)，在X軸方向的0 9的范圍內(nèi)曝光期望的 曝光圖案。而且，圖28C以箭頭表示的曝光圖像數(shù)據(jù)為被插補(bǔ)后的曝光圖 像數(shù)據(jù)。此外，在上述的說(shuō)明中，說(shuō)明了曝光頭的光學(xué)系的倍率小于設(shè)計(jì)值的 情況的處理，但相反，在曝光頭的光學(xué)系的倍率大于設(shè)計(jì)值的情況下，間 隔剔除與其倍率偏移量對(duì)應(yīng)的數(shù)的曝光圖像數(shù)據(jù)，并向各微反射鏡分配。此處，對(duì)于測(cè)量如上述的曝光頭的光學(xué)系的倍率偏離量的方法以下進(jìn) 行說(shuō)明?，F(xiàn)在對(duì)測(cè)量曝光頭3021的倍率偏離量的方法進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)于其他的曝 光頭使用同樣的方法也能夠測(cè)量每個(gè)曝光頭的倍率偏離量。首先，利用曝光頭3012的基準(zhǔn)微反射鏡1"12，曝光如圖29的下段表示 的沿Y軸方向延伸的第一基準(zhǔn)線X12 (0)，并且利用曝光頭3012以相對(duì) 于第一基準(zhǔn)線X,2 (0)在X軸方向上46um的間距曝光多個(gè)沿Y軸方向 延伸的直線(以下稱為第一刻度圖案。)。另一方面，利用對(duì)與曝光頭3012 的基準(zhǔn)微反射鏡r12對(duì)應(yīng)的曝光點(diǎn)rpl2在X軸方向上相同位置的曝光點(diǎn) 進(jìn)行曝光的曝光頭3021的微反射鏡，曝光如圖29的上段所示的沿Y軸方 向延伸的第二基準(zhǔn)線X^ (0)，并且利用曝光頭3021以相對(duì)于上述第二基 準(zhǔn)線X^ (0)、例如在X軸方向45um間距，曝光多個(gè)沿Y軸方向延伸 的直線(以下稱為第二刻度圖案。)。此處，例如曝光頭3021的光學(xué)系的倍率偏移量為0的情況下，上述 第一基準(zhǔn)線X12 (0)的X軸方向的位置與上述第二基準(zhǔn)線X21 (0)的X 軸方向的位置一致，但當(dāng)存在曝光頭3021的光學(xué)系的倍率偏移量的情況下， 他們不一致。并且，在最接近第二基準(zhǔn)線乂21 (0)處，測(cè)量第一刻度圖案 與第二刻度圖案一致的直線。在圖29中，第一刻度圖案的直線X,2 (2) 在最靠近第二基準(zhǔn)線X2, (0)處，與第二刻度圖案的直線一致。從而可知， 與游標(biāo)卡尺原理相同地，利用曝光頭3021曝光的曝光點(diǎn)的位置向X軸右方 向偏離2um。該偏離量為倍率偏離量。從而，可間隔剔除與在X軸方向上2 u的范圍內(nèi)曝光的曝光點(diǎn)的數(shù)對(duì) 應(yīng)的曝光圖像數(shù)據(jù)。此外，在X軸方向上，在存在與上述相反方向的偏離 量的情況下，插補(bǔ)曝光圖像數(shù)據(jù)。另外，在有關(guān)上述實(shí)施例和變形例的曝光裝置中，進(jìn)而，優(yōu)選設(shè)置變 換圖像數(shù)據(jù)的機(jī)構(gòu)，使得圖像數(shù)據(jù)表示的二維圖案的規(guī)定部分的尺寸與通 過(guò)將所選擇的微型反射鏡作為正式曝光中實(shí)際使用的器件而能夠?qū)崿F(xiàn)的對(duì)應(yīng)部分的尺寸一致。通過(guò)這樣變換圖像數(shù)據(jù)，能夠在曝光面上形成所期 望的二維圖案那樣的高精細(xì)的圖案。另外，在有關(guān)上述實(shí)施方式及變形例的曝光裝置中，雖然將來(lái)自光源 的光按每個(gè)像素調(diào)制的DMD用作像素陣列，但并不限定于此，也可以使用DMD以外的液晶陣列等的光調(diào)制元件、或者光源陣列(如LD陣列， 有機(jī)EL陣列等)。另外，在有關(guān)上述實(shí)施方式及變形例的曝光裝置的動(dòng)作方式中，也可 以是始終一邊移動(dòng)曝光頭一邊進(jìn)行連續(xù)曝光，也可以一邊階段性移動(dòng)曝光 頭， 一邊在各移動(dòng)目的地的位置使曝光頭靜止而進(jìn)行曝光動(dòng)作的方式。另外，頭間連接區(qū)域中使用像素的選擇，如上述圖13的例子所示， 可以僅在與頭間連接區(qū)域相關(guān)的兩個(gè)曝光頭中的一個(gè)曝光頭中，不使用若 干像素的方式，也可以是雙方的曝光頭分擔(dān)不使用像素的方式。另外，本發(fā)明不限于曝光裝置和曝光方法，只要是用多個(gè)描繪頭，通 過(guò)N (N是l以上的自然數(shù))重描繪對(duì)描繪面描繪，在描繪面上形成圖像 數(shù)據(jù)表示的二維圖案的描繪裝置和描繪方法，可以在任何裝置及方法中適 用。作為一例，可以舉出諸如噴墨打印機(jī)以及以噴墨方式的打印方法。也 就是說(shuō)， 一般在噴墨打印機(jī)的噴墨記錄頭上，例如在與記錄介質(zhì)(記錄紙 和OHP片等)相面對(duì)的噴嘴面上，形成噴吐墨滴的噴嘴，在噴墨打印機(jī) 內(nèi)，將多個(gè)該噴嘴配置成格子狀，讓噴頭本身相對(duì)于掃描方向傾斜，通過(guò) N描繪可記錄圖像。在采用這樣的二維分布的噴墨打印機(jī)中，即使描繪頭 間的相對(duì)位置和角度偏離理想的狀態(tài)，通過(guò)適用本發(fā)明，由于能夠?qū)⑦@樣 錯(cuò)位的影響抑制為最小限數(shù)量的噴嘴作為實(shí)際使用的噴嘴指定，因而能夠 減輕記錄圖像的頭間連接區(qū)域中產(chǎn)生的分辨度和濃度的不均。以上，詳細(xì)說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施方式及變形例，這些實(shí)施方式及變形 例只不過(guò)是例示，顯然本發(fā)明的技術(shù)范圍只能夠由權(quán)利要求書所限定。
權(quán)利要求
1、一種描繪方法，其使描繪頭相對(duì)于描繪面沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)地移動(dòng)，與該移動(dòng)對(duì)應(yīng)地在所述描繪面上依次形成所述描繪點(diǎn)，從而在所述描繪面上描繪圖像，所述描繪頭具有描繪元件二維狀配置的描繪點(diǎn)形成部，所述描繪元件基于表示所述圖像的圖像數(shù)據(jù)在描繪面上形成描繪點(diǎn)，其中，利用與所述掃描方向交叉的方向上排列的多個(gè)所述描繪頭進(jìn)行所述描繪，所述描繪方法的特征在于，使用在每個(gè)描繪頭上預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)描繪元件，在所述描繪面上形成所述每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)，并且控制基于所述各描繪頭的描繪時(shí)刻，以使所述每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)在所述掃描方向上的規(guī)定的位置處排列。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪方法，其特征在于， 利用所述各描繪頭在所述描繪面形成的各部分圖像的所述交叉方向的任一側(cè)的端部上形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的描繪方法，其特征在于， 對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使由相互鄰接的所述描繪頭中的一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的端 部連接由另一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的未形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的在所 述交叉方向上的端部。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的描繪方法，其特征在于，作為所述修正，實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的描繪方法，其特征在于， 對(duì)輸入到所述各描繪頭的圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用所述基準(zhǔn)描繪元件形成的描繪點(diǎn)的圖像構(gòu)成為描繪在與所述掃描方向交叉的方向上的 規(guī)定位置的圖像。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的描繪方法，其特征在于， 對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用相互鄰接的所述描繪頭在所述描繪面上形成的各部分圖像在與所述掃描方向交叉的方向上連接。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的描繪方法，其特征在于，作為使在所述交叉方向上連接而實(shí)施的修正，實(shí)施插補(bǔ)或間隔剔除處理。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的描繪方法，其特征在于， N重(N為2以上的自然數(shù))描繪所述描繪面。
9. 一種描繪裝置，其使描繪頭相對(duì)于描繪面沿規(guī)定的掃描方向相對(duì) 地移動(dòng)，并且與該移動(dòng)對(duì)應(yīng)地在所述描繪面上依次形成所述描繪點(diǎn)，從而 在所述描繪面上描繪圖像，所述描繪頭具有描繪元件二維狀配置的描繪點(diǎn) 形成部，所述描繪元件基于表示所述圖像的圖像數(shù)據(jù)在描繪面上形成描繪 點(diǎn)，其中，多個(gè)所述描繪頭在與所述掃描方向交叉的方向上排列，所述描繪裝置的特征在于，所述多個(gè)描繪頭使用在該每個(gè)描繪頭上預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)描繪元件，在 所述描繪面上形成基準(zhǔn)點(diǎn)，且具備描繪頭控制部，其控制基于所述各描繪頭的描繪時(shí)刻，以使所述 每個(gè)描繪頭的基準(zhǔn)點(diǎn)在所述掃描方向上的規(guī)定的位置處排列。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的描繪裝置，其特征在于， 所述各描繪頭是利用該各描繪頭在所述描繪面形成的各部分圖像的所述交叉方向的任一側(cè)的端部上形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的描繪裝置，其特征在于，具備 掃描方向修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使由相互鄰接的所述描繪頭中的一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的 形成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的端部連接由另一個(gè)所述描繪頭形成的部分圖像的未形 成所述基準(zhǔn)點(diǎn)的且在所述交叉方向上的端部。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的描繪裝置，其特征在于， 所述掃描方向修正機(jī)構(gòu)對(duì)輸入到各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施旋轉(zhuǎn)處理。
13. 根據(jù)權(quán)利要求9~12中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其特征在于，還具備描繪點(diǎn)位置修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修正，以使利用所述基準(zhǔn)像素形成的描繪點(diǎn)的圖像構(gòu)成為描繪在與所述掃描 方向交叉的方向上的規(guī)定位置的圖像。
14. 根據(jù)權(quán)利要求9~13中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其特征在于，具備交叉方向修正機(jī)構(gòu)，其對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施修 正，以使利用相互鄰接的所述描繪頭在所述描繪面上形成的各部分圖像在 與所述掃描方向交叉的方向上連接。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的描繪裝置，其特征在于， 所述交叉方向修正機(jī)構(gòu)對(duì)輸入到所述各描繪頭的部分圖像數(shù)據(jù)實(shí)施插補(bǔ)或間隔剔除處理。
16. 根據(jù)權(quán)利要求9 15中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其特征在于， N重(N為2以上的自然數(shù))描繪所述描繪面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種曝光方法及裝置，使多個(gè)曝光頭相對(duì)于曝光面沿規(guī)定的掃描方向相對(duì)地移動(dòng)，從而在曝光面上曝光圖像，其曝光合適的圖像而不產(chǎn)生每個(gè)曝光頭的圖像的偏離。使用在各曝光頭30₂₁、30₁₂上預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)微反射鏡r₂₁、r₁₂，在曝光面上形成各曝光頭30₂₁、30₁₂的基準(zhǔn)點(diǎn)rp21、rp₁₂，并且控制基于各曝光頭20₂₁、30₁₂的曝光時(shí)刻，以使每個(gè)曝光頭30₁₂、30₁₂的基準(zhǔn)點(diǎn)rp₂₁、rp₁₂排列在基準(zhǔn)線RL上。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101218542SQ200680019409
公開(kāi)日2008年7月9日 申請(qǐng)日期2006年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月31日
發(fā)明者古和田一輝, 福井隆史, 角克人, 鈴木一誠(chéng) 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社