專利名稱：寬頻帶抗反射膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種寬頻帶抗反射膜，特別涉及下述寬頻帶抗反射膜，該寬頻帶抗反射膜成膜于光學(xué)元件的入射面、發(fā)射面上，并使入射光線的反射光量得到降低，該抗反射膜中的透射率特性能夠得到寬頻帶化，同時其透射率特性的偏移能夠得到降低。
背景技術(shù)：
在透鏡、棱鏡或者波長板等構(gòu)成光學(xué)相關(guān)器件的光學(xué)元件的入射面、發(fā)射面上，為了防止入射光線的光量衰減，在入射面、發(fā)射面上成膜有用于降低光線反射的抗反射膜(專利文獻(xiàn)1、2、3)。
圖5是表示現(xiàn)有的抗反射膜的結(jié)構(gòu)例的示意圖。圖5所示的現(xiàn)有的抗反射膜1被設(shè)計成在作為光學(xué)元件的基板2上層積有3層薄膜的結(jié)構(gòu)，從而使之在可見光頻帶具有期望的性能?？狗瓷淠?具有從基板2的表面開始順次層積有第一薄膜3、第二薄膜4和第三薄膜5的結(jié)構(gòu)。第一薄膜3由作為中間折射率物質(zhì)的Al2O3構(gòu)成，第二薄膜4由作為高折射率物質(zhì)的Merck公司制造的H4(La和TiO2的混合物)構(gòu)成，第三薄膜5由作為低折射率物質(zhì)的MgF2構(gòu)成。
另外，上述高折射率物質(zhì)是指折射率高于基板2的物質(zhì)，低折射率物質(zhì)是指折射率低于基板2的物質(zhì)，中間折射率物質(zhì)是指折射率處于高折射率物質(zhì)和低折射率物質(zhì)中間的物質(zhì)。
下面，就現(xiàn)有抗反射膜的具體的透射率特性數(shù)據(jù)加以說明。
圖6是表示現(xiàn)有抗反射膜的透射率特性的曲線圖，圖中的透射率特性表示的是包含背面反射的數(shù)值。圖中所示曲線中的細(xì)線表示通過模擬獲得的抗反射膜的透射率特性的設(shè)計值，粗線表示實(shí)際制造的現(xiàn)有的光學(xué)元件的抗反射膜的透射率特性的實(shí)測值。從圖中可知，對于各透射率特性來說，在入射光線的波長大致為從450nm到650nm的范圍內(nèi)，通過模擬獲得的透射率特性的數(shù)值、以及實(shí)測獲得的透射率特性的數(shù)值均滿足作為必要性能的透射率，該透射率在94.5％以上。
專利文獻(xiàn)1特開2000-199802公報專利文獻(xiàn)2特開2001-235602公報專利文獻(xiàn)3特開2002-311209公報可是，當(dāng)將現(xiàn)有抗反射膜成膜在用于可見光頻帶的光學(xué)元件等上時，在可見光頻帶附近的紫外頻帶和紅外頻帶的透射率降低，對光學(xué)元件的光學(xué)特性造成相當(dāng)大的不良影響，例如，如果在照相機(jī)等的光學(xué)器件上使用這種光學(xué)元件，則出現(xiàn)在色調(diào)上產(chǎn)生微小變化等的問題。
如上述圖6所示，根據(jù)現(xiàn)有的抗反射膜的透射率特性，波長為400nm時，透射率的設(shè)計值、實(shí)測值均低于94.5％，另一方面，波長為700nm時，透射率的實(shí)測值低于94.5％。
另外，對于成膜有現(xiàn)有抗反射膜的光學(xué)元件來說，其在進(jìn)行量產(chǎn)時會出現(xiàn)光學(xué)元件的透射光量的偏移，因此造成光學(xué)相關(guān)器件的光學(xué)特性會產(chǎn)生由各個光學(xué)元件所致的變化的問題。對于成膜有現(xiàn)有的抗反射膜的光學(xué)元件，對其在量產(chǎn)時的光學(xué)特性數(shù)據(jù)進(jìn)行調(diào)查，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在可見光頻帶中，最高透射率和最低透射率之間出現(xiàn)平均為0.66％左右的差值。
圖7是表示現(xiàn)有的抗反射膜的透射率特性的偏移的曲線圖。圖7所示曲線的透射率特性是量產(chǎn)時的光學(xué)元件的實(shí)測值，挑選透射率特性的偏移大的9個光學(xué)元件，將其透射率特性進(jìn)行重疊來顯示。另外，透射率特性是包含背面反射的數(shù)值。
表1所示為所挑選的9個光學(xué)元件的透射率特性的偏移的具體數(shù)值。該具體數(shù)值所表示的是在波長頻帶從420nm到680nm的范圍內(nèi)，透射率最大值減去透射率最小值所得的透射率頻帶偏差。如表中所示，透射率頻帶偏差的平均值為0.66％左右。
表1

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決上述問題而提出的，其目的是提供一種寬頻帶抗反射膜，所述寬頻帶抗反射膜在謀求抗反射膜的更寬頻帶化的同時，使得量產(chǎn)光學(xué)元件時抗反射膜的透射率特性的偏移得到降低。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜采用如下結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜成膜在光學(xué)元件的入射面或者發(fā)射面的至少一個面上，以降低入射或者發(fā)射光線的反射光量，所述寬頻帶抗反射膜的特征在于，其具有將7層薄膜層積而成的結(jié)構(gòu)。
另外，本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的特征在于，其為在上述光學(xué)元件的表面交替層積采用低折射率材料的薄膜和采用高折射率材料的薄膜而成的7層層積膜。
如此，所述寬頻帶抗反射膜通過以采用低折射率材料的薄膜和采用高折射率材料的薄膜交替地層積7層而形成，能夠使該抗反射膜得到寬頻帶化，同時使該抗反射膜的透射率特性的偏移得到降低。因此，若將這種寬頻帶抗反射膜例如成膜于構(gòu)成照相機(jī)等光學(xué)器件的光學(xué)元件上，則能夠謀求對微小色調(diào)變化的改善。進(jìn)而，由于寬頻帶抗反射膜使得在可見光頻帶附近的紫外頻帶和紅外頻帶的透射率的下降得到降低，因而能夠獲得防止反光的效果，同時也可以防止由來自于抗反射膜的多次反射所致的反射重影的發(fā)生。
另外，由于寬頻帶抗反射膜降低了透射率特性的偏移，因而在將成膜有這種寬頻帶抗反射膜的光學(xué)元件用于光學(xué)相關(guān)器件時，光學(xué)相關(guān)器件的光學(xué)特性穩(wěn)定，能夠使光學(xué)相關(guān)器件的性能得到提高。
另外本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的特征在于，其具有在上述光學(xué)元件的表面順次層積下述第一～第七薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述第一～第七薄膜為以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第一薄膜、以H4(La和TiO2的混合物)為材料的膜厚約為6.5nm的第二薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為122.5nm的第三薄膜、以H4為材料的膜厚約為13.0nm的第四薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第五薄膜、以H4為材料的膜厚約為130.0nm的第六薄膜、以及以MgF2為材料的膜厚約為84.8nm的第七薄膜。
另外，本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的特征在于，其具有在光學(xué)元件的表面順次層積下述第一～第七薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述第一～第七薄膜為以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第一薄膜、以O(shè)H5(ZrO2和TiO2的混合物)為材料的膜厚約為6.3nm的第二薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為122.5nm的第三薄膜、以O(shè)H5為材料的膜厚約為12.6nm的第四薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第五薄膜、以O(shè)H5為材料的膜厚約為125.6nm的第六薄膜、以及以MgF2為材料的膜厚約為84.8nm的第七薄膜。


圖1是表示本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。
圖2是表示本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的第二實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。
圖3是表示寬頻帶抗反射膜的透射率特性的曲線圖。
圖4是表示寬頻帶抗反射膜的透射率特性的偏移的曲線圖。
圖5是表示現(xiàn)有的抗反射膜的結(jié)構(gòu)例的示意圖。
圖6是表示現(xiàn)有的抗反射膜的透射率特性的曲線圖。
圖7是表示現(xiàn)有的抗反射膜的透射率特性的偏移的曲線圖。
符號說明1抗反射膜、2基板、3第一薄膜、4第二薄膜、5第三薄膜、6寬頻帶抗反射膜、7基板、8第一薄膜、9第二薄膜、10第三薄膜、11第四薄膜、12第五薄膜、13第六薄膜、14第七薄膜、15寬頻帶抗反射膜、16基板、17第一薄膜、18第二薄膜、19第三薄膜、20第四薄膜、21第五薄膜、22第六薄膜、23第七薄膜具體實(shí)施方式
以下，根據(jù)圖示的實(shí)施方式詳細(xì)說明本發(fā)明。
在本發(fā)明中，作為將抗反射膜寬頻帶化的方法，采用了將層積在光學(xué)元件表面的構(gòu)成抗反射膜的薄膜的層數(shù)增加，同時選擇最佳的薄膜材料、設(shè)定最佳的薄膜厚度這一方法。通過增加層積的薄膜的層數(shù)，使抗反射膜同時具有透射率特性得到寬頻帶化和透射率特性的偏移得到降低的特性。另外，如果層數(shù)增加過多，則造成抗反射膜量產(chǎn)效率差、光學(xué)元件的成本高，因此，取得抗反射膜的透射率特性和所層積的薄膜的層數(shù)之間的平衡是有必要的。在本發(fā)明中，通過使用設(shè)計值的模擬和試制進(jìn)行研究，由此將抗反射膜的最佳的薄膜層數(shù)定為7層。因此，本發(fā)明的抗反射膜具有下述特征其使用7層薄膜以謀求寬頻帶化，同時使得量產(chǎn)時抗反射膜的透射光量的偏移得到降低。
圖1是表示本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示，第一實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜6被設(shè)計成層積有7層薄膜的結(jié)構(gòu)，從而使之在可見光頻帶以及可見光頻帶附近的紫外頻帶和紅外頻帶都保持期望的性能。其中寬頻帶抗反射膜6具有在作為光學(xué)元件的基板7的入射面、發(fā)射面上、即在基板7的表面上順次層積下述薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述薄膜為第一薄膜8、第二薄膜9、第三薄膜10、第四薄膜11、第五薄膜12、第六薄膜13、以及第七薄膜14。
另外，作為構(gòu)成寬頻帶抗反射膜6的第一薄膜8的薄膜材料，是采用對基板7的附著性強(qiáng)(特別是對玻璃基板的相容性好)的MgF2進(jìn)行成膜的。進(jìn)而，接著，對于寬頻帶抗反射膜6中的第二薄膜9到第七薄膜14，是從第一薄膜8的表面開始順次以采用高折射率材料的薄膜和采用低折射率材料的薄膜交替地層積6層而進(jìn)行成膜的。
在第一實(shí)施方式中，作為薄膜的高折射率材料使用了折射率為2.00左右的H4(La和TiO2的混合物)，作為薄膜的低折射率材料使用了折射率為1.38左右的MgF2。因此，第二薄膜9的材料是H4，第三薄膜10的材料是MgF2，第四薄膜11的材料是H4，第五薄膜12的材料是MgF2，第六薄膜13的材料是H4，第七薄膜14的材料是MgF2。
下面，針對構(gòu)成寬頻帶抗反射膜6的7層薄膜，分別列出求得最佳膜厚的計算式，并對具體的膜厚數(shù)值加以說明。
首先，若以dm(m＝1、2、3、4、5、6、7，表示薄膜的層位置)表示各層的物理膜厚，以n表示薄膜材料的折射率，以λ表示可見光的中心波長(520nm)，則式(1)dm＝λ/(4×n)成立。
其次，按如下所示將上述物理膜厚乘以規(guī)定的系數(shù)來設(shè)定各層的膜厚，從而獲得期望的光學(xué)特性。
第一薄膜8的膜厚＝0.4×d1第二薄膜9的膜厚＝0.1×d2第三薄膜10的膜厚＝1.3×d3第四薄膜11的膜厚＝0.2×d4第五薄膜12的膜厚＝0.4×d5第六薄膜13的膜厚＝2.0×d6第七薄膜14的膜厚＝0.9×d7因此，使用上述式(1)通過如下的計算可以求得各薄膜的膜厚。另外，作為薄膜的低折射率材料的MgF2的折射率為1.38，作為薄膜的高折射率材料的H4的折射率為2.00。
第一薄膜8的膜厚＝0.4×d1＝0.4×λ/(4×n)＝0.4×520/(4×1.38)37.7(nm)第二薄膜9的膜厚＝0.1×d2＝0.1×λ/(4×n)＝0.1×520/(4×2.00)＝6.5(nm)第三薄膜10的膜厚＝1.3×d3＝1.3×λ/(4×n)＝1.3×520/(4×1.38)122.5(nm)
第四薄膜11的膜厚＝0.2×d4＝0.2×λ/(4×n)＝0.2×520/(4×2.00)＝13.0(nm)第五薄膜12的膜厚＝0.4×d5＝0.4×λ/(4×n)＝0.4×520/(4×1.38)37.7(nm)第六薄膜13的膜厚＝2.0×d6＝2.0×λ/(4×n)＝2.0×520/(4×2.00)＝130.0(nm)第七薄膜14的膜厚＝0.9×d7＝0.9×λ/(4×n)＝0.9×520/(4×1.38)84.8(nm)將上述說明的寬頻帶抗反射膜6的薄膜結(jié)構(gòu)中的薄膜的層數(shù)、各薄膜的材料以及各薄膜的膜厚一并列于表中。下述表2是表示第一實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜的結(jié)構(gòu)的圖表。如表2所示，寬頻帶抗反射膜6是將規(guī)定材料的薄膜以規(guī)定的膜厚進(jìn)行7層成膜而構(gòu)成的。
表2

下面就本發(fā)明的第二實(shí)施方式加以說明。第二實(shí)施方式的特征在于，在與第一實(shí)施方式相同的薄膜結(jié)構(gòu)中，作為高折射率材料使用了CanonOptron Inc.公司制造的OH5(ZrO2和TiO2的混合物)。
圖2是表示本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的第二實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。如圖2所示，第二實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜15被設(shè)計成層積有7層薄膜的結(jié)構(gòu)，從而使之在可見光頻帶以及可見光頻帶附近的紫外頻帶和紅外頻帶都保持期望的性能。其中，寬頻帶抗反射膜15具有在作為光學(xué)元件的基板16的入射面、發(fā)射面上、從基板16的表面開始順次層積下述薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述薄膜為第一薄膜17、第二薄膜18、第三薄膜19、第四薄膜20、第五薄膜21、第六薄膜22、以及第七薄膜23。
另外，在構(gòu)成寬頻帶抗反射膜15的薄膜中，作為第一薄膜17的薄膜材料，是采用對基板16的附著性強(qiáng)(特別是對玻璃基板的相容性好)的已知的MgF2進(jìn)行成膜的。進(jìn)而，接著，對于寬頻帶抗反射膜15中的第二薄膜18到第七薄膜23，是從第一薄膜17的表面開始順次以采用高折射率材料的薄膜和采用低折射率材料的薄膜交替地層積6層而進(jìn)行成膜的。
在第二實(shí)施方式中，作為薄膜的高折射率材料使用了折射率為2.07左右的OH5，作為薄膜的低折射率材料使用了折射率為1.38左右的MgF2。因此，第二薄膜18的材料是OH5，第三薄膜19的材料是MgF2，第四薄膜20的材料是OH5，第五薄膜21的材料是MgF2，第六薄膜22的材料是OH5，第七薄膜23的材料是MgF2。
下面，針對構(gòu)成寬頻帶抗反射膜15的7層薄膜，分別列出求得其膜厚的計算式，并對具體的膜厚數(shù)值加以說明。
首先，與第一實(shí)施方式相同，若以dm(m＝1、2、3、4、5、6、7，表示薄膜的層位置)表示各層的物理膜厚，以n表示薄膜材料的折射率，以λ表示可見光的中心波長(520nm)，則式(2)dm＝λ/(4×n)成立。
其次，按如下所示將上述物理膜厚乘以規(guī)定的系數(shù)來設(shè)定各層的膜厚，從而獲得期望的光學(xué)特性。
第一薄膜17的膜厚＝0.4×d1第二薄膜18的膜厚＝0.1×d2第三薄膜19的膜厚＝1.3×d3第四薄膜20的膜厚＝0.2×d4第五薄膜21的膜厚＝0.4×d5第六薄膜22的膜厚＝2.0×d6第七薄膜23的膜厚＝0.9×d7因此，使用上述公式(2)通過如下的計算可以獲得各薄膜的膜厚。另外，作為薄膜的低折射率材料的MgF2的折射率為1.38，作為薄膜的高折射率材料的OH5的折射率為2.07。
第一薄膜17的膜厚＝0.4×d1＝0.4×λ/(4×n)＝0.4×520/(4×1.38)37.7(nm)第二薄膜18的膜厚＝0.1×d2＝0.1×λ/(4×n)＝0.1×520/(4×2.07)6.3(nm)第三薄膜19的膜厚＝1.3×d3＝1.3×λ/(4×n)＝1.3×520/(4×1.38)122.5(nm)第四薄膜20的膜厚＝0.2×d4＝0.2×λ/(4×n)＝0.2×520/(4×2.07)12.6(nm)第五薄膜21的膜厚＝0.4×d5＝0.4×λ/(4×n)＝0.4×520/(4×1.38)37.7(nm)第六薄膜22的膜厚＝2.0×d6＝2.0×λ/(4×n)＝2.0×520/(4×2.07)125.6(nm)第七薄膜23的膜厚＝0.9×d7＝0.9×λ/(4×n)＝0.9×520/(4×1.38)84.8(nm)將上述說明的寬頻帶抗反射膜15的薄膜結(jié)構(gòu)中的薄膜的層數(shù)、各薄膜的材料以及各薄膜的膜厚一并列于表中。表3是表示第二實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜的結(jié)構(gòu)的圖表。如表3所示，寬頻帶抗反射膜15是將規(guī)定材料的薄膜以規(guī)定的膜厚進(jìn)行7層成膜而構(gòu)成的。
表3

下面就本實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜的具體透射率特性的數(shù)值加以說明。以下所示的透射率特性的曲線圖以及表格對于作為代表例的上述第一實(shí)施方式的寬頻帶抗反射膜的特性進(jìn)行了描述。另外，在第二實(shí)施方式中說明的寬頻帶抗反射膜的透射率特性也具有相同的性能。
圖3是表示寬頻帶抗反射膜的透射率特性的曲線圖。圖3所示曲線圖的透射率特性是包含背面反射的數(shù)值，其中低折射率材料使用MgF2、高折射率材料使用H4。另外，圖中所示曲線中的細(xì)線表示通過模擬獲得的寬頻帶抗反射膜的透射率特性的設(shè)計值，粗線表示實(shí)際制造的光學(xué)元件的寬頻帶抗反射膜的透射率特性的實(shí)測值。從圖中可知，在滿足可見光頻帶的入射光線的波長從400nm到700nm的范圍內(nèi)，通過模擬獲得的透射率特性的數(shù)值以及實(shí)測獲得的透射率特性的數(shù)值均滿足作為必要性能的透射率，該透射率在94.5％以上。因此，本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜與現(xiàn)有的抗反射膜相比，其透射率特性能得到了寬頻帶化，同時在可見光頻帶附近的紫外頻帶和紅外頻帶其透射率的下降也能夠得到降低。
另外，通過模擬獲得的數(shù)值和實(shí)測獲得的數(shù)值的透射率的差值，是通過模擬獲得的數(shù)值中不包含氣相沉積物質(zhì)分散值的差值。
圖4是表示寬頻帶抗反射膜的透射率特性的偏移的曲線圖。該圖4所示的透射率特性是包含背面反射的數(shù)值，其中低折射率材料使用MgF2、高折射率材料使用H4。另外，該透射率特性是實(shí)際制造的光學(xué)元件的實(shí)測值，挑選透射率特性的偏移大的9個光學(xué)元件，將其透射率特性進(jìn)行重疊來表示。
表4所示為挑選出的9個光學(xué)元件的透射率特性的偏移的具體數(shù)值。該具體數(shù)值所表示的是在波長頻帶從420nm到680nm的范圍內(nèi)，透射率最大值減去透射率最小值所得的透射率頻帶偏差。如表中所示，透射率頻帶偏差的平均值是0.31％左右。而現(xiàn)有的光學(xué)元件中，透射率最大值減去透射率最小值的透射率頻帶偏差的平均值是0.66％左右，由此可知，對于成膜有本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的光學(xué)元件來說，其透射率特性的偏移得到了大幅度的降低。
表4

如上所述，對于成膜有本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜的光學(xué)元件來說，其在可見光頻帶內(nèi)的透射率特性的波長依賴性和偏移得到了降低，因此將這種光學(xué)元件用于光學(xué)相關(guān)器件時，在謀求提高光學(xué)相關(guān)器件的性能上能發(fā)揮出較大的效果。
權(quán)利要求
1.一種寬頻帶抗反射膜，所述寬頻帶抗反射膜成膜在光學(xué)元件的入射面或者發(fā)射面的至少一個面上，以降低入射或者發(fā)射光線的反射光量，所述寬頻帶抗反射膜的特征在于，其具有將7層薄膜層積而成的結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寬頻帶抗反射膜，其特征在于，所述寬頻帶抗反射膜是在所述光學(xué)元件的表面交替層積采用低折射率材料的薄膜和采用高折射率材料的薄膜而成的7層層積膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的寬頻帶抗反射膜，其特征在于，所述寬頻帶抗反射膜具有在所述光學(xué)元件的表面順次層積下述第一～第七薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述第一～第七薄膜為以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第一薄膜、以H4為材料的膜厚約為6.5nm的第二薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為122.5nm的第三薄膜、以H4為材料的膜厚約為13.0nm的第四薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第五薄膜、以H4為材料的膜厚約為130.0nm的第六薄膜、以及以MgF2為材料的膜厚約為84.8nm的第七薄膜；所述薄膜的材料中，所述H4為La和TiO2的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的寬頻帶抗反射膜，其特征在于，所述寬頻帶抗反射膜具有在光學(xué)元件的表面順次層積下述第一～第七薄膜而成的結(jié)構(gòu)，所述第一～第七薄膜為以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第一薄膜、以O(shè)H5為材料的膜厚約為6.3nm的第二薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為122.5nm的第三薄膜、以O(shè)H5為材料的膜厚約為12.6nm的第四薄膜、以MgF2為材料的膜厚約為37.7nm的第五薄膜、以O(shè)H5為材料的膜厚約為125.6nm的第六薄膜、以及以MgF2為材料的膜厚約為84.8nm的第七薄膜；所述薄膜的材料中，所述OH5為ZrO2和TiO2的混合物。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種寬頻帶抗反射膜，所述寬頻帶抗反射膜謀求抗反射膜的寬頻帶化，同時在量產(chǎn)光學(xué)元件時使得抗反射膜的透射率特性的偏移得到降低。本發(fā)明的寬頻帶抗反射膜6具有在基板7上層積有7層薄膜的結(jié)構(gòu)。作為構(gòu)成薄膜的薄膜材料，采用對基板7的附著性強(qiáng)的已知的MgF
文檔編號G02B1/11GK1991410SQ200610169979
公開日2007年7月4日 申請日期2006年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月26日
發(fā)明者山口晃司 申請人:愛普生拓優(yōu)科夢株式會社