專利名稱：投影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種投影裝置，特別是涉及一種具有微調(diào)結(jié)構(gòu)以調(diào)整投影 鏡頭及數(shù)字微鏡元件的平行度的投影裝置。
背景技術(shù)：
投影機(jī)的技術(shù)發(fā)展快速，除了商業(yè)用的投影機(jī)市場(chǎng)持續(xù)成長(zhǎng)，家庭娛 樂(lè)用的投影機(jī)市場(chǎng)亦高度成長(zhǎng)。投影機(jī) 一 般可區(qū)分為背投影式及前投影式投影機(jī)。以前投影式投影機(jī)的數(shù)字光學(xué)處理(digital light processing, DLP) 投影機(jī)為例，其主要包括投影鏡頭、光機(jī)(light engine)、數(shù)字徵鏡元件(digital micro-mirror device, DMD)。其中數(shù)字孩i鏡元件主要由多個(gè)鏡面元件組成， 投影機(jī)中的燈泡產(chǎn)生光線后，經(jīng)過(guò)數(shù)字微鏡元件反射到投影鏡頭，再由投 影鏡頭將影像投射出。數(shù)字光學(xué)處理投影機(jī)通過(guò)投影鏡頭成像。當(dāng)數(shù)字徵鏡元件與投影鏡頭 的相對(duì)距離改變時(shí)，則成像距離也隨之變動(dòng)。由于數(shù)字孩M竟元件是由多個(gè) 鏡面元件組成，每個(gè)鏡面元件對(duì)應(yīng)到影像中各個(gè)畫素。若是數(shù)字微鏡元件 上各個(gè)鏡面的位置與投影鏡頭之間的相對(duì)距離不為相同的值，各個(gè)畫素?zé)o 法同時(shí)成像在同一個(gè)平面上，此時(shí)聚焦的品質(zhì)將無(wú)法達(dá)到最佳化。因此投 影鏡頭以及數(shù)字微鏡元件之間的平行度也是影響投射畫面品質(zhì)關(guān)鍵因素。在制造過(guò)程中會(huì)影響投影鏡頭以及數(shù)字微鏡元件之間的平行度的因素 有很多。舉例來(lái)說(shuō)，數(shù)字微鏡元件有其本身鏡面元件的承靠面，因此數(shù)字 微鏡元件具有其本身的組裝公差。投影鏡頭具有其本身的承靠面，因此投 影鏡頭也具有其本身的組裝公差。同時(shí)，投影鏡頭以及數(shù)字微鏡元件裝設(shè) 在光機(jī)機(jī)殼上，在制造光機(jī)機(jī)殼時(shí)即存在其本身的零件公差。由于數(shù)字微 鏡元件以及投影鏡頭都為精密的光學(xué)元件，只要有一些的組裝誤差，都會(huì) 影響聚焦距離。因此前述的三項(xiàng)因素所累積的公差對(duì)于聚焦的品質(zhì)影響甚 巨。若是分別就機(jī)殼、投影鏡頭以及數(shù)字微鏡元件著手去改善其公差，所 花費(fèi)的成本非常高且不適于量產(chǎn)
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種投影裝置，此投影裝置具有一 微調(diào)結(jié)構(gòu)，用以調(diào)整投影鏡頭以及數(shù)字微鏡元件的平行度。以降低投影裝 置于組裝上的累積公差所造成的影響，由此改善投影裝置的聚焦的品質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的目的，提出一種投影裝置，包括一光機(jī)機(jī)殼、 一光學(xué)模 塊及一微調(diào)結(jié)構(gòu)。光學(xué)模塊系設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼之上。微調(diào)結(jié)構(gòu)包括一撓性 件及一鎖件。撓性件設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼以及光學(xué)模塊之間，并具有一高度。 鎖件耦接于撓性件上，用以連接光機(jī)機(jī)殼及光學(xué)模塊。其'中，當(dāng)調(diào)整鎖件， 使得光機(jī)機(jī)殼以及光學(xué)模塊的一距離改變，光機(jī)機(jī)殼及光學(xué)模塊同時(shí)壓縮 或釋放撓性件，使撓性件的高度改變。撓性件并用以保持調(diào)整鎖件后光機(jī) 機(jī)殼及光學(xué)模塊的距離。為讓本發(fā)明的上述目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下
圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的投影裝置的示意圖； 圖2為圖1投影裝置的部分分解圖； 圖3為圖1投影裝置的部分示意圖。 主要元件符號(hào)說(shuō)明1:投影裝置10:外殼20:光機(jī)機(jī)殼20A:第一鎖孔30:第一光學(xué)模塊40:第二光學(xué)模塊40A:第二鎖孔50:反射鏡片60:燈泡70:微調(diào)結(jié)構(gòu)80:撓性件 81:定位部 81A:通孔 82:第一轉(zhuǎn)折部 83:第二轉(zhuǎn)折部 90:鎖件 V:高度 d1:第一距離 d2:第二距離具體實(shí)施方式
請(qǐng)參照?qǐng)D1，其繪示的是依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的投影裝置的示意 圖。如圖1所示，投影裝置1包括外殼10、光機(jī)機(jī)殼20、第一光學(xué)模塊30、 第二光學(xué)模塊40、反射鏡片50、燈泡60以及微調(diào)結(jié)構(gòu)70。光機(jī)機(jī)殼20以 及燈泡60設(shè)置于外殼10內(nèi)。第一光學(xué)模塊30、第二光學(xué)模塊40、反射鏡 片50以及微調(diào)結(jié)構(gòu)70則設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼20上。其中，燈泡60用以產(chǎn)生 光線，使光線經(jīng)由反射鏡片50反射，再依序通過(guò)第一光學(xué)模塊30以及第 二光學(xué)模塊40，將影像由第二光學(xué)模塊40投射至屏幕上。微調(diào)機(jī)構(gòu)70設(shè) 置于光機(jī)機(jī)殼20上，用以調(diào)整第二光學(xué)模塊40與光機(jī)機(jī)殼20的距離，并 用以調(diào)整第一光學(xué)模塊30及第二光學(xué)模塊40之間的距離以及平行度。微 調(diào)機(jī)構(gòu)70包括至少一撓性件80以及至少一鎖件90。撓性件80設(shè)置于光機(jī) 機(jī)殼20以及第二光學(xué)模塊40之間，鎖件90耦接于撓性件80上。鎖件90 并用以連接第二光學(xué)模塊40以及光機(jī)機(jī)殼20。本實(shí)施例中，第 一光學(xué)模塊30例如是數(shù)字徵鏡元件(digital micro-mirror device, DMD),第二光學(xué)模塊40例如是投影鏡頭。燈泡60所產(chǎn)生的光線 是先經(jīng)由數(shù)字微鏡元件，再通過(guò)投影鏡頭將影像輸出。至于微調(diào)結(jié)構(gòu)70的 作用，以下將依序附圖詳細(xì)i'兌明。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D2，其繪示的是圖1投影裝置的部分分解圖。光機(jī)機(jī)殼 20包括至少一第一鎖孔20A，第二光學(xué)模塊40包括至少一第二鎖孔40A。 第 一鎖孔20A與第二鎖孔40A相對(duì)應(yīng)的分別設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼20以及第二光 學(xué)模塊40上。撓性件80具有定位部81、第一轉(zhuǎn)折部82及第二轉(zhuǎn)折部83。 定位部81具有通孔MA，同時(shí)對(duì)應(yīng)于第一鎖孔20A以及第二鎖孔40A。第
一轉(zhuǎn)折部82以及第二轉(zhuǎn)折部83分別設(shè)置于定位部81的二對(duì)側(cè)。第一轉(zhuǎn)折 部82以及第二轉(zhuǎn)折部83例如是二彎折片，具有撓性變形的性質(zhì)。當(dāng)施力 于撓性件80時(shí)，第一轉(zhuǎn)折部8:2以及第二轉(zhuǎn)折部83同時(shí)朝遠(yuǎn)離通孔81A的 方向移動(dòng)，使撓性件80的高度改變。當(dāng)釋放撓性件80后，撓性件80恢復(fù) 其原始的高度。鎖件90例如是螺絲，依序穿過(guò)第二鎖孔40A以及通孔81A， 再鎖入第一鎖孔20A中。組裝第二光學(xué)模塊40至光機(jī)機(jī)殼20時(shí)，先將撓性件80對(duì)應(yīng)于第一鎖 孔20A。接著，將第二光學(xué)模塊40抵靠在撓性件80上，并使第二鎖孔40A 對(duì)應(yīng)于通孔81A。然后，將鎖件90依序貫穿第二鎖孔40A以及通孔81A， 再鎖入第一鎖孔20A中。此時(shí)先利用鎖件90將第二光學(xué)模塊40預(yù)鎖至光 機(jī)機(jī)殼20上。在實(shí)質(zhì)的設(shè)計(jì)上，第二鎖孔40A的孔徑以及通孔81A的孔徑 約略大于鎖件90的軸徑，使鎖件90可輕易的穿過(guò)第二鎖孔40A以及通孔 81A而不影響組裝。本實(shí)施例的微調(diào)結(jié)構(gòu)70也可包括多個(gè)撓性件80以及多個(gè)鎖件90，本 實(shí)施例中是以三撓性件80以及三鎖件90做說(shuō)明。如圖2所示，本實(shí)施例 是以光機(jī)機(jī)殼20包括三個(gè)第一鎖孔20A，第二光學(xué)模塊40包括三個(gè)第二 鎖孔40A做說(shuō)明。由于微調(diào)結(jié)構(gòu)具有三撓性件80以及三鎖件90,使第二光學(xué)模塊40的 組裝平面相對(duì)于光機(jī)機(jī)殼20為一可調(diào)整的平面。因此，除了可調(diào)整第二光 學(xué)模塊40與光機(jī)機(jī)殼20的距離，同時(shí)也可調(diào)整第一光學(xué)模塊30的組裝平 面以及第二光學(xué)模塊40的組裝平面的平行度。請(qǐng)參照?qǐng)D3,其繪示的是圖1投影裝置的部分示意圖。如圖3所示，當(dāng) 第二光學(xué)模塊40預(yù)鎖至光機(jī)機(jī)殼20后，鎖件90具有一鎖入深度。由于撓 性件80具有彈性，因此通過(guò)調(diào)整鎖件90的鎖入深度便可改變第二光學(xué)模 塊40以及光機(jī)機(jī)殼20的距離。例如先調(diào)整鎖件90，此時(shí)具有彈性的撓性 件80的高度V可隨之改變，以形成第二光學(xué)模塊40上相對(duì)應(yīng)于鎖件卯的 位置與第一光學(xué)模塊30之間的第一距離d!。接著，調(diào)整鎖件91，使得第二 光學(xué)模塊40上相對(duì)應(yīng)于鎖件91的位置與第 一光學(xué)模塊30之間形成第二距 離d2。依此類推，最后調(diào)整鎖件92的鎖入深度。在本實(shí)施例中，光機(jī)機(jī)殼 20上設(shè)置三個(gè)撓性件80以供調(diào)整，第二光學(xué)模塊40可朝任意方向偏轉(zhuǎn)， 而可輕易地調(diào)整而與第一光學(xué)模塊30形成平行的關(guān)系。此外，撓性件80 于調(diào)整的過(guò)程中，其二側(cè)分別.板靠于光機(jī)機(jī)殼20以及第二光學(xué)模塊40上，用以保持光機(jī)機(jī)殼20與第二光學(xué)模塊40的距離。設(shè)計(jì)上，撓性件80的高度V不大于第二光學(xué)模塊40，例如投影鏡頭 的焦距f。使得第一光學(xué)模塊30例如一數(shù)字微鏡元件，與第二光學(xué)模塊40 例如是投影鏡頭的距離介于一倍焦距f以及二倍焦距2f之間。微調(diào)結(jié)構(gòu)除了可設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼20上以調(diào)整第二光學(xué)模塊40與光機(jī) 機(jī)殼20的距離，同樣的，也可用以調(diào)整第一光學(xué)模塊30與光機(jī)機(jī)殼20的 距離。亦即將微調(diào)結(jié)構(gòu)設(shè)置于第一光學(xué)模塊30與光機(jī)機(jī)殼20側(cè)，使撓性 件80設(shè)置于第一光學(xué)模塊30與光機(jī)機(jī)殼20之間，再調(diào)整鎖件90的鎖入 深度。由于投影裝置是由燈泡發(fā)光，燈泡的發(fā)光功率強(qiáng)，使投影裝置內(nèi)部溫 度非常的高。因此微調(diào)裝置的撓性件較佳為一金屬?gòu)椘?，使其在結(jié)構(gòu)上具 有撓性特質(zhì)，同時(shí)可抵抗高溫而不受到熱損害。本發(fā)明上述實(shí)施例所揭露的投影裝置，利用在光學(xué)裝置與光機(jī)機(jī)殼之 間設(shè)置撓性件，并搭配鎖件，例如螺絲去結(jié)合光學(xué)模塊以及光機(jī)機(jī)殼。通 過(guò)調(diào)整鎖件于光機(jī)機(jī)殼上的鎖入深度以控制光學(xué)模塊與光機(jī)機(jī)殼的距離， 并可調(diào)整二個(gè)不同的光學(xué)模塊，例如投影裝置以及數(shù)字微鏡元件的平行度。 而撓性件同時(shí)抵住光學(xué)模塊以及光機(jī)機(jī)殼，以保持光學(xué)模塊以及光機(jī)機(jī)殼 于調(diào)整后的距離。此撓性結(jié)構(gòu)的構(gòu)造簡(jiǎn)單，只需在安裝光學(xué)模塊時(shí)加裝至 投影裝置上，即可作微調(diào)校正的動(dòng)作。綜上所述，雖然結(jié)合以上一較佳實(shí)施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用 以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明 的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng) 以附上的權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種投影裝置，包括一光機(jī)機(jī)殼；一光學(xué)模塊，設(shè)置于該光機(jī)機(jī)殼之上；以及一微調(diào)結(jié)構(gòu)，包括一撓性件，設(shè)置于該光機(jī)機(jī)殼以及該光學(xué)模塊之間，該撓性件具有一高度；以及一鎖件，耦接于該撓性件上，用以連接該光機(jī)機(jī)殼及該光學(xué)模塊；其中，當(dāng)調(diào)整該鎖件，使得該光機(jī)機(jī)殼以及該光學(xué)模塊的一距離改變，該光機(jī)機(jī)殼及該光學(xué)模塊同時(shí)壓縮或釋放該撓性件，使該撓性件的該高度改變，該撓性件并用以保持調(diào)整該鎖件后的該距離。
2. 如權(quán)利要求1所迷的投影裝置，其中該光學(xué)模塊為一投影鏡頭，該 投影裝置更包括一數(shù)字孩l鏡元件(digital micro-mirror device, DMD)，相對(duì)于該投影鏡 頭設(shè)置于該光機(jī)機(jī)殼上。
3. 如權(quán)利要求2所述的投影裝置，其中該撓性件的該高度不大于該投 影鏡頭的 一 焦距，使得該投影鏡頭及該數(shù)字微鏡元件的距離介于 一倍該焦 3巨至二4咅該焦距之間。
4. 如權(quán)利要求2所述的投影裝置，其中該微調(diào)結(jié)構(gòu)包括多個(gè)撓性件及 多個(gè)鎖件。
5. 如權(quán)利要求4所述的投影裝置，其中該微調(diào)結(jié)構(gòu)包括至少三撓性件 及三鎖件，用以調(diào)整該投影鏡頭及該數(shù)字徵鏡元件的平行度。
6. 如權(quán)利要求1所述的投影裝置，其中該光機(jī)機(jī)殼包括一第一鎖孔， 該光學(xué)模塊包括一第二鎖孔，該撓性件更包括一定位部，具有一通孔，對(duì)應(yīng)于該第一鎖孔及該第二鎖孔，該鎖件貫 穿該第二鎖孔及該通孔并鎖入該第一鎖孔；以及一第 一轉(zhuǎn)折部及一 第二轉(zhuǎn)折部，分別設(shè)置于該定位部的二對(duì)側(cè)。
7. 如權(quán)利要求6所述的投影裝置，其中該第一轉(zhuǎn)折部及該第二轉(zhuǎn)折部為彎折片。
8. 如權(quán)利要求l所述的投影裝置，其中該撓性件為一金屬?gòu)椘?br>
9. 如權(quán)利要求l所述的投影裝置，其中該鎖件為一螺絲。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種投影裝置，包括一光機(jī)機(jī)殼、一光學(xué)模塊及一微調(diào)結(jié)構(gòu)。光學(xué)模塊設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼之上。微調(diào)結(jié)構(gòu)包括一撓性件及一鎖件。撓性件設(shè)置于光機(jī)機(jī)殼以及光學(xué)模塊之間，并具有一高度。鎖件耦接于撓性件上，用以連接光機(jī)機(jī)殼及光學(xué)模塊。其中，當(dāng)調(diào)整鎖件，使得光機(jī)機(jī)殼以及光學(xué)模塊的一距離改變，光機(jī)機(jī)殼及光學(xué)模塊同時(shí)壓縮或釋放撓性件，使撓性件的高度改變，撓性件并用以保持調(diào)整鎖件后的距離。
文檔編號(hào)G03B21/14GK101162358SQ20061014239
公開(kāi)日2008年4月16日 申請(qǐng)日期2006年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月11日
發(fā)明者郭建峰 申請(qǐng)人:明基電通股份有限公司