專利名稱：電子照相感光體、制法、使用其的成像法、裝置及處理盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子照相感光體和制備該感光體的方法，以及使用該感光體的成像方法、成像裝置和處理盒(process cartridge)。
背景技術(shù)：
近來，有機(jī)感光體(OPCs)由于其良好性能和優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)代替無機(jī)感光體廣泛地用于復(fù)印機(jī)、傳真、激光打印機(jī)和它們的組合裝置中。其良好的性能和優(yōu)點(diǎn)的具體例子包括(1)光學(xué)性質(zhì)，例如寬范圍的吸收光波長和大量吸收光；(2)電性質(zhì)，例如高靈敏度和穩(wěn)定的極化率；(3)材料選擇；(4)良好可制造性；(5)低成本；(6)無毒性，等等。
另一方面，近來隨著成像裝置越來越小，感光體的直徑也越來越小。另外，由于成像裝置以較高速度形成圖像并且無需保養(yǎng)，因而要求感光體具有高耐用性。在這方面，有機(jī)感光體一般具有由低分子量的電荷遷移材料和非活性的聚合物形成的柔軟表層，因此有機(jī)感光體一般具有當(dāng)在電子照相過程中重復(fù)使用時(shí)，與圖像顯影劑以及與清潔器易于產(chǎn)生磨耗的缺點(diǎn)。此外，由于要求高質(zhì)量的圖像，調(diào)色劑顆粒的粒徑越來越小，隨之，為提高除塵度，清理鏟(cleaning blade)必須具有更高的橡膠硬度和接觸壓力，其也加快了對(duì)感光體的磨耗。這種感光體的磨蝕損壞了其電性能，例如感光度和極化率，并且產(chǎn)生異常圖像，例如圖像密度劣化和背景結(jié)垢。當(dāng)感光體局部磨耗時(shí)，由于有缺陷的清潔，會(huì)產(chǎn)生具有黑色條紋的圖像。目前，由于這種磨耗和損害，需要更換感光體。
因此，必需減少有機(jī)感光體的磨損量以便獲得高耐用性。這是該領(lǐng)域中最迫切需要解決的問題。
用于改善感光體耐磨性的方法包括(1)日本公開專利56-48637，公開了在表層使用硬化的粘合劑的感光體；(2)日本公開專利64-1728，公開了使用電荷遷移聚合物材料的感光體；(3)日本公開專利4-281461，公開了表層中有分散的無機(jī)填料的感光體。(1)中使用硬化的粘合劑的感光體，其有助于提高剩余電位，且由于粘合劑與電荷遷移材料和雜質(zhì)(例如聚合引發(fā)劑和未反應(yīng)的殘基)的不良的溶解度，降低了圖像密度。(2)中使用電荷遷移聚合物材料的感光體以及(3)中的表層具有分散無機(jī)填料的感光體，二者在一定程度上具有耐磨性，但是都不能完全地令人滿意。此外，(3)中的表層有分散無機(jī)填料的感光體，其有助于提高剩余電位，且由于在無機(jī)填料表面上存在捕集，圖像密度降低。(1)到(3)中的任何一種感光體都不具有完全令人滿意的綜合耐用性，例如電耐用性和機(jī)械耐用性。
為改善(1)中感光體的耐磨性，日本專利3262488公開了一種含硬化聚氨酯丙烯酸酯的感光體。然而，盡管日本專利3262488公開了包含硬化聚氨酯丙烯酸酯的光敏層，但其僅僅公開了其中可以包括電荷遷移材料，而沒有公開其具體的實(shí)例。當(dāng)光敏層中僅僅包含低分子量電荷遷移材料時(shí)，低分子量電荷遷移材料與硬化聚氨酯丙烯酸酯不相溶，并且低分子量電荷遷移材料分離出來，這些會(huì)導(dǎo)致制得的感光體的機(jī)械強(qiáng)度劣化，例如裂化。此外，日本專利3262488公開了為改善溶解度而在光敏層中包含聚碳酸酯樹脂。然而，硬化聚氨酯丙烯酸酯含量的降低導(dǎo)致了感光體耐磨性的不夠。在表層中不包含電荷遷移材料的感光體對(duì)于輻射部件的電位劣化薄，從而具有較短壽命。此外，該感光體的充電電位對(duì)于環(huán)境有不良穩(wěn)定性。
作為上述技術(shù)替代的一種光敏層的耐磨技術(shù)，日本專利3194392公開了使用由具有碳-碳雙鍵的單體、具有碳-碳雙鍵的電荷遷移材料和粘合劑樹脂形成的涂布液制備電荷遷移層的方法。粘合劑樹脂包括含有碳-碳雙鍵、并能與電荷遷移材料反應(yīng)的粘合劑樹脂，以及既不含有碳-碳雙鍵也不與電荷遷移材料反應(yīng)的粘合劑樹脂。該感光體具有優(yōu)良的耐磨性和電性質(zhì)。然而，當(dāng)粘合劑樹脂不具有與電荷遷移材料(例如，丙烯酸類聚合物、苯乙烯聚合物、丙烯酸酯苯乙烯共聚物(acrylic styrene copolymer)、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂和環(huán)氧樹脂)的反應(yīng)性時(shí)，含有碳-碳雙鍵的單體和含有碳-碳雙鍵的電荷遷移材料間的鍵合量減少，導(dǎo)致光敏層交聯(lián)密度不夠。此外，由于粘合劑樹脂本身沒有韌性，從而得到的光敏層不具有令人滿意的耐磨性。
日本公開專利2000-66425，公開了一種包括硬化空穴(positive hole)遷移化合物的光敏層，該化合物在同一個(gè)分子中含有兩個(gè)或多個(gè)鏈聚合官能團(tuán)。然而，由于光敏層包含有含兩個(gè)或多個(gè)鏈聚合官能團(tuán)的松散的空穴遷移材料，硬化化合物會(huì)出現(xiàn)變形并且內(nèi)應(yīng)力增加，從而使表層變得粗糙并發(fā)生裂化，導(dǎo)致所得的感光體耐久性差。
日本公開專利2004-302450、2004-302451和2004-302452公開了一種交聯(lián)的電荷遷移層，在該電荷遷移層中將不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物硬化，該具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物改善了電荷遷移層的機(jī)械和電的耐久性并且防止了該層裂化。然而，當(dāng)制備交聯(lián)表層時(shí)，為了得到高耐磨性，把含有大量丙烯酸類官能團(tuán)的丙烯酸類單體硬化。由于硬化的丙烯酸類材料具有大的體積收縮，使得表層與下光敏層粘附性不足。當(dāng)此類感光體用于向其施加了很大機(jī)械應(yīng)力的成像裝置時(shí)，交聯(lián)表層和光敏層分離，導(dǎo)致無法長期保持足夠的耐磨性。
日本公開專利2001-183857和2001-183858公開了制備用于感光體的涂布液的制備方法，該涂布液包括具有電荷可遷移性的結(jié)構(gòu)單元，能夠在其交聯(lián)表層形成與有機(jī)聚硅氧烷樹脂結(jié)合的樹脂層。涂布液每單位重量含有許多聚合官能團(tuán)，并且可以形成更硬的交聯(lián)表層。然而，該硬化材料的體積收縮是如此顯著，以至于交聯(lián)表層與下層粘附較差。即，交聯(lián)表層易于和光敏層分離，導(dǎo)致無法保持長期足夠的耐磨性。此外，根據(jù)靜電穩(wěn)定性，該交聯(lián)表層不能增厚，從而導(dǎo)致不能獲得令人滿意的耐磨性。
由于這些原因，需要獲得一種具有優(yōu)良耐久性和穩(wěn)定電性質(zhì)的感光體，以及獲得長期的高質(zhì)量圖像。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有優(yōu)良耐久性和穩(wěn)定電性能的感光體，并且獲得長期的高質(zhì)量圖像。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供制備該感光體的方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供使用該感光體的成像方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供使用該感光體的成像裝置。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供使用該感光體的處理盒。
本發(fā)明的這些目的及其它目的，每一個(gè)分別都或共同地通過電子照相感光體的發(fā)明已經(jīng)得到了滿足，該電子照相感光體包括導(dǎo)電性的基材，和光敏層，該光敏層至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體，和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物；其中該光敏層所含自由基聚合官能團(tuán)的量為2.55×1021-7.50×1021/1g光敏層固體成分，并且光敏層的剝離強(qiáng)度按SAICAS方法測量時(shí)不少于0.1N/mm。
下面將通過闡述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案以及相應(yīng)的附圖來進(jìn)一步說明本發(fā)明的這些目的及其它目的、特性及優(yōu)點(diǎn)。


下面用附圖進(jìn)一步詳細(xì)說明本發(fā)明的各種目的、特性和相應(yīng)的優(yōu)點(diǎn)，使其能被更好地領(lǐng)會(huì)和理解。在本發(fā)明中，相同的附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)相同的部分，且其中圖1A和1B是說明本發(fā)明電子照相感光體的第一實(shí)施方案的橫截面的示意圖。
圖2A和2B是說明本發(fā)明電子照相感光體的第二實(shí)施方案的橫截面的示意圖。
圖3是說明本發(fā)明成像裝置的實(shí)施方案的示意圖。
圖4是說明本發(fā)明處理盒的實(shí)施方案的示意圖。
圖5是說明本發(fā)明電子照相感光體的第四實(shí)施方案的橫截面的示意圖。
圖6是說明本發(fā)明電子照相感光體的第五實(shí)施方案的橫截面的示意圖。
圖7是用于本發(fā)明實(shí)施例的鈦氧基酞菁晶體的X射線衍射譜。
圖8是實(shí)施例17中的電子照相感光體的截面掃描電子顯微鏡(SEM)照片；以及圖9是對(duì)比例13中的電子照相感光體的截面掃描電子顯微鏡(SEM)照片。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種具有優(yōu)良耐久性和穩(wěn)定電性能的感光體，以及獲得長期的高質(zhì)量圖像。
本發(fā)明的感光體包括表層中的三或多官能自由基聚合單體，該單體形成三維網(wǎng)絡(luò)，從而使表層成為十分堅(jiān)硬的交聯(lián)層，該交聯(lián)層具有高交聯(lián)密度和高耐磨性。而當(dāng)僅僅使用含有較少自由基聚合官能團(tuán)的單體時(shí)，其中的交聯(lián)鍵變得不良并且交聯(lián)表層不具有顯著的耐磨性。當(dāng)感光體中含有聚合物材料時(shí)，會(huì)損害三維網(wǎng)絡(luò)的形成，并且會(huì)降低其中的交聯(lián)，從而導(dǎo)致這種感光體與本發(fā)明中的感光體相比耐磨性較差。此外，由于聚合物材料與硬化材料相容性較差，該硬化材料是通過聚合物材料和自由基聚合組分(即，自由基聚合單體和具有電荷可遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物)反應(yīng)得到的，從而導(dǎo)致層的分離而產(chǎn)生局部的磨損和表面的損傷。本發(fā)明的交聯(lián)表層具有改善的耐久性，其包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物，這兩種組分在短時(shí)間內(nèi)同時(shí)硬化，以形成具有高硬度的交聯(lián)。此外，硬化速度的改善可形成光滑表層，并且它的優(yōu)良除塵度(cleanability)可以長期保持。此外，表層中可以形成具有較少變形的均勻的交聯(lián)膜。此外，由于含有具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物，該交聯(lián)層具有長期穩(wěn)定的電性能。當(dāng)交聯(lián)表層含有不具有官能團(tuán)的低分子量的電荷遷移材料時(shí)，該低分子量電荷遷移材料分離出來并形成云狀花紋(clouded)，并且交聯(lián)表層的機(jī)械強(qiáng)度劣化。當(dāng)交聯(lián)表層含有雙或多官能的電荷遷移化合物時(shí)，電荷遷移結(jié)構(gòu)是如此龐大以至于交聯(lián)表層中的內(nèi)應(yīng)力增高，從而導(dǎo)致表層經(jīng)常發(fā)生裂化和破損。此外，當(dāng)電荷遷移時(shí)，中間結(jié)構(gòu)(陽離子基團(tuán))不能穩(wěn)定地保持，由于俘獲電荷和剩余電位的增加，導(dǎo)致靈敏度(sensitivity)的劣化。這些電性能的劣化導(dǎo)致獲得的圖像密度的劣化以及文字圖像的變淺。因此，本發(fā)明提供了一種長時(shí)間不發(fā)生裂化的具有改善的耐磨性和穩(wěn)定電性能的感光體，以及獲得長期的高質(zhì)量圖像。
本發(fā)明的交聯(lián)表層具有較高的交聯(lián)密度，該表層包括含量為2.55×1021-7.50×1021/1g固體成分的自由基聚合官能團(tuán)。即，其中高度形成三維網(wǎng)絡(luò)，并且交聯(lián)表層具有顯著的高耐磨性、高硬度和彈性。
在1g固體成分中的自由基聚合官能團(tuán)的量可以由以下方法測定(1)重量/分子量＝mol；(2)mol×阿伏加德羅常數(shù)(6.02×1023mol-1)＝分子數(shù)量；(3)分子數(shù)量×每分子的官能團(tuán)數(shù)目＝官能團(tuán)的數(shù)目；以及(4)所有含有自由基聚合官能團(tuán)的材料中官能團(tuán)的總數(shù)除以固體成分的總重量，從而測定了在1g固體成分中自由基聚合官能團(tuán)的數(shù)目。
此外，本發(fā)明的交聯(lián)表層通過SAICAS方法測量得到的其剝離強(qiáng)度不少于0.1Nmm，其具有足夠的粘附性并且不與下層產(chǎn)生分離。
接下來將闡述本發(fā)明的交聯(lián)表層的涂布液。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體的具體例子包括具有三個(gè)或多個(gè)自由基聚合官能團(tuán)的自由基聚合單體，例如丙烯酰氧基和甲基丙烯酰氧基。
具有三個(gè)或多個(gè)丙烯酰氧基的化合物可以通過以下方法制備例如把具有三個(gè)或多個(gè)羥基的化合物與丙烯酸(鹽)、鹵化物丙烯酸酯(halide acrylate)或酯丙烯酸酯(ester acrylate)進(jìn)行酯化反應(yīng)或酯交換反應(yīng)?？梢园凑疹愃频姆椒ㄖ苽渚哂腥齻€(gè)或多個(gè)甲基丙烯酰氧基的化合物。具有三個(gè)或多個(gè)自由基聚合官能團(tuán)的單體中的自由基聚合官能團(tuán)可以相同或不同。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體的具體的例子包括下列材料，但是不僅限于此。
即，可使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、HPA-改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、EO-改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、PO-改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、己內(nèi)酯-改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、HPA-改性三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、三丙烯酸甘油酯、ECH-改性三丙烯酸甘油酯、EO-改性三丙烯酸甘油酯、PO-改性三丙烯酸甘油酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、己內(nèi)酯-改性二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五丙烯酸酯、烷基-改性二季戊四醇五丙烯酸酯、烷基-改性二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基-改性二季戊四醇三丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四丙烯酸酯(DTMPTA)、季戊四醇乙氧基四丙烯酸酯、2，2，5，5-四羥基甲基環(huán)戊酮四丙烯酸酯，等等。這些化合物能單獨(dú)或組合使用。這些改性單體具有較低的粘度使得其容易處理。
用于本發(fā)明的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體優(yōu)選其分子量與單體中的官能團(tuán)數(shù)量的比率(分子量/官能團(tuán)數(shù)量)不大于250。當(dāng)比率大于250時(shí)，得到的交聯(lián)表層柔軟并且其耐磨性略微地降低。因此，具有非常長的改性基團(tuán)的HPA-、EO-或PO-改性單體不優(yōu)選單獨(dú)使用。
交聯(lián)表層優(yōu)選含有20-80重量％的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體，更優(yōu)選30-70重量％。當(dāng)該單體的含量少于20重量％時(shí)，交聯(lián)表層的三維交聯(lián)鍵合密度不夠，并且其耐磨性與含傳統(tǒng)熱塑性樹脂的層相比并沒有顯著提高。當(dāng)該單體的含量大于80重量％時(shí)，電荷遷移化合物的含量降低并且得到的感光體的電性能降低。
用于本發(fā)明的具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物是具有空穴(positive hole)遷移結(jié)構(gòu)，例如三芳基胺、腙、二氫化吡唑和咔唑，或者電子遷移結(jié)構(gòu)，例如稠合多環(huán)醌、二苯酚合苯醌、氰基和具有硝基的吸電子芳環(huán)、以及自由基聚合官能團(tuán)的化合物?？梢允褂萌我蛔杂苫酆瞎倌軋F(tuán)，只要這些官能團(tuán)具有碳-碳雙鍵并且能夠進(jìn)行自由基聚合。自由基聚合官能團(tuán)的具體例子包括1-取代乙烯(1-substituted ethylene)官能團(tuán)，1，1-取代的乙烯(1，1-substituted ethylene)官能團(tuán)，等等。在這些自由基聚合官能團(tuán)中，有效地使用丙烯酰氧基和甲基丙烯酰氧基。此外，三芳基胺結(jié)構(gòu)可有效地用作電荷遷移結(jié)構(gòu)。
此外，當(dāng)化合物具有下式(1)或(2)時(shí)，電性能(例如靈敏度(sensitivity)和剩余電位)可以優(yōu)選得到保持。
其中，R1表示氫原子、鹵素原子、取代的或非取代的烷基、取代的或非取代的芳烷基、取代的或非取代的芳基、氰基、硝基、烷氧基、-COOR2(其中R2表示氫原子、鹵素原子、取代的或非取代的烷基、取代的或非取代的芳烷基、取代的或非取代的芳基、鹵化羰基)或CONR3R4(其中R3和R4獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、取代的或非取代的烷基、取代的或非取代的芳烷基、取代的或非取代的芳基)；Ar1和Ar2獨(dú)立地表示取代的或非取代的亞芳基；Ar3和Ar4獨(dú)立地表示取代的或非取代的芳基；X表示單鍵、取代的或非取代的亞烷基、取代的或非取代的環(huán)亞烷基、取代的或非取代的亞烷基醚(alkyleneether)基團(tuán)、氧原子、硫原子和亞乙烯基；
Z表示取代的或非取代的亞烷基、取代的或非取代的亞烷基醚基團(tuán)、亞烷氧基羰基(alkyleneoxycarbonyl)；m和n表示0和1-3的整數(shù)。
在式(1)和(2)里，R1的取代基團(tuán)中，烷基包括甲基、乙基、丙基、丁基，等等；芳基包括苯基、萘基(naphtyl)，等等；芳烷基包括芐基、苯乙基、萘基甲基，等等；以及烷氧基包括甲氧基、乙氧基、丙氧基，等等。這些可以由以下基團(tuán)取代烷基，如鹵素原子、硝基、氰基、甲基和乙基；烷氧基，如甲氧基和乙氧基；芳氧基基團(tuán)，如苯氧基基團(tuán)；芳基，如苯基和萘基；芳烷基，如芐基和苯乙基。
R1的取代基團(tuán)優(yōu)選是氫原子和甲基。
Ar3和Ar4獨(dú)立地表示取代的或非取代的芳基，其具體的例子包括稠合多環(huán)烴基團(tuán)、非-稠合環(huán)烴基團(tuán)和雜環(huán)基團(tuán)。
稠合多環(huán)烴基團(tuán)優(yōu)選是具有形成環(huán)的18或更少碳原子的基團(tuán)，例如芬太尼基團(tuán)、茚基、萘基、薁基(azulenyl)、庚搭烯基、亞聯(lián)苯基、As-苯并二茚基(indacenyl)、芴基、苊烯基、praadenyl、苊基、phenalenyl、菲甲苯基(phenantolyl)、蒽基、熒蒽基、醋菲烯基(acephenantolylenyl)、苯并苊烯基(aceanthrylenyl)、triphenylel、芘基、基(crycenyl)和萘并萘基(naphthacenyl)。
非-稠合環(huán)烴基團(tuán)和雜環(huán)基團(tuán)的具體的例子包括單環(huán)烴化合物的單價(jià)基團(tuán)，例如苯、二苯基醚、聚亞乙基二苯基醚、二苯基硫醚和二苯基砜；非-稠合的烴化合物的單價(jià)基團(tuán)，例如聯(lián)苯、聚苯、二苯烷烴、二苯烯烴、二苯炔、三苯基甲烷、二苯乙烯基苯、1，1-二苯環(huán)烷烴、聚苯基烷烴和聚苯基烯烴；以及環(huán)集合烴(ring gathering hydrocarbon)化合物，例如9，9-二苯芴。
雜環(huán)基團(tuán)的具體的例子包括一價(jià)基團(tuán)，例如咔唑、氧芴、硫芴、二唑和噻二唑。
Ar3和Ar4代表的取代的或非取代的芳基的具體的例子包括下列基團(tuán)(1)鹵素原子、氰基和硝基；(2)具有1-12個(gè)碳原子，優(yōu)選1-8個(gè)碳原子，更優(yōu)選1-4個(gè)碳原子的直鏈或支鏈烷基，并且這些烷基可以進(jìn)一步含有氟原子、羥基、氰基、具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基、苯基或鹵素原子、具有1-4個(gè)碳原子的烷基或由具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基取代的苯基。烷基具體的例子包括甲基、乙基、正丁基、異丙基、叔丁基、仲丁基(s-butyl)、正丙基、三氟甲基、2-羥乙基、2-乙氧基乙基、2-氰基乙基、2-甲氧基乙基(methocyethyl)、芐基、4-氯芐基、4-甲基芐基、4-苯基芐基等。
(3)烷氧基(-OR2)，其中R2表示(2)中限定的烷基。它的具體的例子包括甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、叔丁氧基、仲丁氧基(s-butoxy)、異丁氧基、2-羥基乙氧基、芐氧基、三氟甲氧基，等等。
(4)芳氧基基團(tuán)，并且該芳基的具體的例子包括苯基和萘基。這些芳基可以包括具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基、具有1-4個(gè)碳原子的烷基，或者鹵素原子作為取代基。芳氧基基團(tuán)的具體例子包括苯氧基、1-萘氧基、2-萘氧基、4-甲氧基苯氧基、4-甲基苯氧基，等等。
(5)烷基巰基或者芳基巰基，例如甲硫基、乙硫基、苯硫基和對(duì)-甲基苯硫基。
(6) 其中R10和R11獨(dú)立地表示氫原子、(2)中限定的烷基以及芳基，且芳基具體的例子包括苯基、聯(lián)苯基和萘基，這些基團(tuán)可以包括具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基、具有1-4個(gè)碳原子的烷基、或者鹵素原子作為取代基。此外，R10和R11可以一起形成環(huán)。具有該式的基團(tuán)的具體的例子包括氨基、二乙基氨基、N-甲基-N-苯基氨基、N，N-二苯基氨基、N-N-二(甲苯基)氨基、二芐基氨基、哌啶基、嗎啉基、吡咯烷基，等等。
(7)亞甲二氧基基團(tuán)、亞烷基二氧基基團(tuán)，例如亞甲基二硫基團(tuán)或者亞烷基二硫基團(tuán)。
(8)取代的或非取代的苯乙烯基，取代的或非取代的β-苯基苯乙烯基、二苯基氨基苯基、二甲苯基氨基苯基，等等。
Ar1和Ar2表示的亞芳基基團(tuán)是Ar3和Ar4表示的芳基的衍生二價(jià)基團(tuán)。
上述提到的X表示單鍵、取代的或非取代的亞烷基、取代的或非取代的環(huán)亞烷基、取代的或非取代的亞烷基醚基團(tuán)、氧原子、硫原子和亞乙烯基。
取代的或非取代的亞烷基是具有1-12個(gè)碳原子，優(yōu)選1-8個(gè)碳原子，更優(yōu)選1-4個(gè)碳原子的直鏈或支鏈亞烷基，并且這些亞烷基可以進(jìn)一步包括氟原子、羥基、氰基、具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基、苯基或鹵素原子、具有1-4個(gè)碳原子的烷基或者被具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基取代的苯基。亞烷基具體的例子包括亞甲基、亞乙基、正-亞丁基、異-亞丙基、叔-亞丁基、仲-亞丁基、正-亞丙基、三氟亞甲基、2-羥基亞乙基、2-乙氧基亞乙基、2-氰基亞乙基(cyanoethylene)、2-甲氧基亞乙基(methocyethylene)、苯亞甲基、苯亞乙基、4-氯苯亞乙基、4-甲基苯亞乙基、4-聯(lián)苯基亞乙基，等等。
取代的或非取代的環(huán)亞烷基是具有5-7個(gè)碳原子的環(huán)狀亞烷基，并且這些亞烷基可以包括氟原子、羥基、氰基、具有1-4個(gè)碳原子的烷氧基。它的具體的例子包括環(huán)次己基(cyclohexylidine)、亞環(huán)己基和3，3-二甲基環(huán)次己基，等等。
取代的或非取代的亞烷基醚基團(tuán)的具體例子包括乙烯氧基、丙烯氧基(propylene oxy)、乙二醇、丙二醇、二甘醇，四甘醇和三丙二醇。亞烷基醚基團(tuán)中的亞烷基可以包括如羥基、甲基和乙基的取代基。
亞乙烯基具有下列式 或 其中R12表示氫原子、烷基(與(2)中限定的相同)、芳基(與Ar3和Ar4表示的那些相同)；a表示1或2；b表示1、2或3。Z表示取代的或非取代的亞烷基、取代的或非取代的二價(jià)亞烷基醚基團(tuán)和二價(jià)亞烷氧基羰基。取代的或非取代的亞烷基的具體例子包括X表示的那些。取代的或非取代的二價(jià)亞烷基醚基團(tuán)的具體例子包括X表示的那些。二價(jià)亞烷氧基羰基的具體例子包括己內(nèi)酯-改性基團(tuán)。
此外，本發(fā)明中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物更優(yōu)選為具有下式(3)的化合物。
其中o、p、q獨(dú)立地表示0或1；R5表示氫原子或甲基；每一個(gè)R6和R7表示氫原子和具有1-6個(gè)碳原子的烷基及其它取代基，當(dāng)二者具有多個(gè)碳原子時(shí)，R6和R7可以彼此不同；s和t表示0或1-3的整數(shù)；Za表示單鍵、亞甲基、亞乙基，-CH2CH2O-、 或 具有式(3)的化合物，優(yōu)選是具有甲基或乙基作為R6和R7取代基的化合物。
用于本發(fā)明的、具有式(1)、(2)且特別是(3)的、具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物，因?yàn)樘继茧p鍵在向兩側(cè)打開時(shí)聚合，因此沒有形成鏈端結(jié)構(gòu)并且形成鏈型聚合物。在與具有三個(gè)或多個(gè)官能團(tuán)的自由基聚合單體聚合的交聯(lián)聚合物中，該化合物存在于主鏈中并且存在于主鏈間的交聯(lián)鏈中(交聯(lián)鏈包括在聚合物和另一個(gè)聚合物之間的分子間交聯(lián)鏈以及分子內(nèi)交聯(lián)鏈，其中，具有折疊主鏈的部分和來源于單體的另一部份進(jìn)行聚合，該單體在與主鏈上與其遠(yuǎn)離的位置相聚合)。即使當(dāng)化合物存在于主鏈或交聯(lián)鏈中時(shí)，鏈上懸著的三芳基胺結(jié)構(gòu)具有至少三個(gè)徑向地從氮原子定位的芳基，其不直接與鏈相鍵合，并且通過羰基或類似基團(tuán)進(jìn)行懸垂。三芳基胺結(jié)構(gòu)雖然龐大但是空間地且柔性地固定。三芳基胺結(jié)構(gòu)可以空間定位(spatially be located)，使得其在聚合物中適度地彼此相靠，并且在分子中具有較少的結(jié)構(gòu)變形。因此，認(rèn)為在電子照相感光體的表層中的具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物可具有分子內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，其中可以相對(duì)地防止電荷遷移路線的阻塞。
具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物的具體的例子包括具有下列式的化合物，但是不僅限于此。











此外，在本發(fā)明中，還優(yōu)選把具有下式(4)的特定的(甲基)丙烯酸酯化合物用作具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物B1-Ar5-CH＝CH-Ar6-B2…(4)其中Ar5表示由芳族烴骨架形成的取代的或非取代的一價(jià)基團(tuán)或二價(jià)基團(tuán)。由芳族烴骨架形成的一價(jià)基團(tuán)或二價(jià)基團(tuán)的具體的例子包括一價(jià)或二價(jià)基團(tuán)，例如苯、萘、菲、聯(lián)苯和1，2，3，4-四氫化萘。
芳族烴骨架的取代基的具體的例子包括具有1-12個(gè)碳原子的烷基、具有1-12個(gè)碳原子的烷氧基、芐基和鹵素原子。更進(jìn)一步，可以把鹵素原子或苯基作為取代基取代烷基和烷氧基。
Ar6表示由芳族烴骨架、或具有一個(gè)或多個(gè)叔氨基的雜環(huán)化合物骨架形成的一價(jià)基團(tuán)或二價(jià)基團(tuán)。含有叔氨基的芳族烴骨架具有下式(A)的結(jié)構(gòu)
其中R13和R14表示酰基、取代的或非取代的烷基、取代的或非取代的芳基、或者取代的或非取代的鏈烯基；Ar7表示芳基；w表示1-3的整數(shù)。
?；木唧w例子包括乙酰基、丙?；?、苯甲?；鹊?。取代的或非取代的烷基的具體例子包括具有1-12個(gè)碳原子的烷基。取代的或非取代的芳基的具體例子包括苯基、萘基、聯(lián)苯基、三聯(lián)苯基、芘基、芴基、9，9-二甲基-芴基、薁基、蒽基、三亞苯基、基、和具有下式的基團(tuán) 其中B表示-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-及下面的二價(jià)基團(tuán)；R21表示氫原子、具有1-12個(gè)碳原子的烷基、烷氧基、鹵素原子、上述取代的或非取代的芳基、氨基、硝基和氰基； 其中R22表示氫原子、具有1-12個(gè)碳原子的烷基、和上述取代的或非取代的芳基；i表示1-12的整數(shù)；j表示1-3的整數(shù)。
烷氧基的具體例子包括甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲-丁氧基、叔丁氧基、2-羥基乙氧基、2-氰基乙氧基、芐氧基、4-甲基芐氧基、三氟甲氧基，等等。
鹵素原子的具體例子包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。
氨基的具體例子包括二苯基氨基、二甲苯基氨基、二芐基氨基、4-甲基芐基，等等。
芳基的具體例子包括苯基、萘基、聯(lián)苯基、三聯(lián)苯基、芘基、芴基、9，9-二甲基-芴基、薁基、蒽基、三亞苯基、和基。
可以把具有1-12個(gè)碳原子的烷基、烷氧基和鹵素原子作為取代基取代Ar7、R13和R14。
具有一個(gè)或多個(gè)叔氨基的雜環(huán)化合物骨架的具體例子包括具有胺結(jié)構(gòu)的雜環(huán)化合物，例如吡咯、吡唑、咪唑、三唑、二唑、吲哚、異吲哚、二氫吲哚、苯并咪唑、苯并三唑、benzoisoxadine、咔唑和phenoxadine。這些基團(tuán)可以把具有1-12個(gè)碳原子的烷基、烷氧基和鹵素原子用作取代基。
至少B1或B2是氫原子，并且另一個(gè)是丙烯酰氧基；甲基丙烯酰氧基；乙烯基；具有丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或乙烯基的烷基；或具有丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或乙烯基的烷氧基。
具有式(4)的(甲基)丙烯酸酯化合物優(yōu)選為具有下式(5)的化合物 其中R8和R9表示取代的或非取代的烷基、取代的或非取代的烷氧基、和鹵素原子；Ar7和Ar8表示取代的或非取代的芳基或亞芳基、和取代的或非取代的芐基；B1-B4是與式(1)中B1和B2相同的基團(tuán)，并且僅存在其中一個(gè)；u表示0或1-5的整數(shù)；v表示0或1-4的整數(shù)。
具有式(5)的(甲基)丙烯酸酯化合物具有下列性能。(甲基)丙烯酸酯化合物是具有形成的(developed)均二苯代乙烯共軛結(jié)構(gòu)的叔胺化合物。此類具有形成的共軛結(jié)構(gòu)的電荷遷移化合物很好地改善了交聯(lián)層分界面處的電荷注入。此外，即使當(dāng)固定在交聯(lián)鍵之間時(shí)，分子間相互作用仍難以減弱并且具有優(yōu)良的電荷可遷移性。由于具有含量高的自由基聚合丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，當(dāng)自由基聚合時(shí)，酯(甲基)丙烯酸酯化合物很快地膠凝并且沒有產(chǎn)生過度的交聯(lián)變形。均二苯代乙烯共軛結(jié)構(gòu)的雙鍵部分地參與聚合，并且與丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基相比聚合較少，這導(dǎo)致了交聯(lián)反應(yīng)中的時(shí)差且應(yīng)變沒有最大化。此外，參與聚合的雙鍵可以增加每分子量的交聯(lián)反應(yīng)數(shù)目，導(dǎo)致較高的交聯(lián)密度。此外，雙鍵可以通過交聯(lián)條件來控制聚合，并且可以容易地形成最適合的交聯(lián)膜。此類反應(yīng)可以通過本發(fā)明的酯(甲基)丙烯酸酯化合物來實(shí)現(xiàn)，但是不能通過例如α-苯基均二苯代乙烯雙鍵來實(shí)現(xiàn)。
具有自由基聚合官能團(tuán)和式(4)，特別是式(5)的電荷遷移化合物，可以形成保持優(yōu)良的電性能而不產(chǎn)生裂化的高度交聯(lián)的膜，這可以防止顆粒材料(例如硅石)粘到感光體上，并且可減少有缺陷的白色斑點(diǎn)圖像。
具有自由基聚合官能團(tuán)和式(4)的電荷遷移化合物的具體例子包括具有下式I-XVII的化合物，但不限于此。





用于本發(fā)明的具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物對(duì)賦予交聯(lián)表層電荷可遷移性是不可缺少的，并且其優(yōu)選含量為20-80重量％，更優(yōu)選30-70重量％，以總重量計(jì)。當(dāng)含量小于20重量％時(shí)，交聯(lián)表層不能保持電荷可遷移性，制得的感光體的靈敏度降低，并且在重復(fù)使用中感光體的剩余電位增高。當(dāng)含量大于80重量％時(shí)，不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的單體的含量降低，并且交聯(lián)密度降低，從而制得的感光體不具有高耐磨性。雖然用量取決于需要的耐磨性和電性能，但是考慮到二者的平衡，具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物的含量最優(yōu)選30-70重量％。
本發(fā)明的交聯(lián)表層具有不少于0.1N/mm的剝離強(qiáng)度。剝離強(qiáng)度是通在超低的速度下，采用具有60℃的刀角度、20℃的前角和10°的磨削退刀槽角度(grinding undercut angle)的單晶金剛石切割刀片，來切割和剝離表面的方法來測量的。具體地說，測量施加于切割刀片的橫向力、垂直力和垂直位移，并且剝離強(qiáng)度由施加于切割刀片寬度上的橫向力來決定。在恒溫恒濕狀態(tài)下測量剝離強(qiáng)度。在本發(fā)明中，剝離強(qiáng)度是在22℃和55％Rh下測量的。
在本發(fā)明中，使用DAIPLA WINTES有限公司的SAICAS DN-20，其切割刀片為0.5mm寬。這里可以使用任何具有類似的功效的裝置。在本發(fā)明中，本發(fā)明的感光體可在鋁圓筒(cylinder)上適當(dāng)?shù)厍懈?。剝離強(qiáng)度不少于0.1N/mm的交聯(lián)表層具有與下層足夠的粘附性而不產(chǎn)生剝離。
為了改善交聯(lián)表層的粘附性，在本發(fā)明中優(yōu)選使用飽和蒸氣壓力不大于100mmHg/25℃的溶劑。當(dāng)對(duì)交聯(lián)表層進(jìn)行涂覆時(shí)，此類溶劑降低除去溶劑(de-solvent)量和下層的表面溶脹或略微地溶解。因此，可以推測具有連續(xù)性的區(qū)域是靠近表層和下層的分界面形成的，其沒有快的物理變化。因此，交聯(lián)表層具有足夠的粘附性。此外，在本發(fā)明中，交聯(lián)表層中略微存在的溶劑促進(jìn)其中的自由基反應(yīng)，從而改善交聯(lián)表層的均勻硬度。飽和蒸氣壓力不大于100mmHg/25℃的溶劑不會(huì)在交聯(lián)表層中局部性地累積內(nèi)應(yīng)力，并且形成均勻的而且沒有變形的交聯(lián)表層。依據(jù)形成交聯(lián)表層時(shí)交聯(lián)表層中的剩余溶劑量，更優(yōu)選飽和蒸氣壓力不大于50mmHg/25℃的溶劑，進(jìn)一步優(yōu)選飽和蒸氣壓力不大于20mmHg/25℃的溶劑。
因?yàn)槟茉诮宦?lián)表層和下層之間形成優(yōu)良的分界面，優(yōu)選沸點(diǎn)為60-150℃的溶劑，這會(huì)使交聯(lián)表層產(chǎn)生足夠的粘附性。考慮到除去溶劑的過程，例如通過加熱干燥，更優(yōu)選沸點(diǎn)為100-130℃的溶劑。此外，因?yàn)榕c下層主要成分-聚碳酸酯具有較高的親合性，優(yōu)選溶度參數(shù)為8.5-11.0的溶劑，更優(yōu)選溶度參數(shù)為9.0-9.7的溶劑，從而使交聯(lián)表層產(chǎn)生足夠的粘附性。
溶劑具體例子包括烴類，例如庚烷、辛烷、三甲基戊烷、異辛烷、壬烷、2，2，5-三甲基己烷、癸烷、苯、甲苯、二甲苯、乙苯、異丙基苯、苯乙烯、乙基環(huán)己酮、和環(huán)己酮；醇類，例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、異丁醇、叔-丁醇、1-戊醇(penatnol)、2-戊醇、3-戊醇、2-甲基-1-丁醇、叔-戊醇、3-甲基-1-丁醇、3-甲基-2-丁醇、新戊醇、1-己醇、2-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、2-乙基-1-丁醇、3-庚醇、烯丙醇、炔丙醇(propalgyl alcohol)、芐醇、環(huán)己醇、1，2-乙二醇(ethanodiol)、和1，2-丙二醇；酚類，例如苯酚和甲酚；醚類，例如二丙基醚、二異丙基醚、二丁基醚、丁基乙烯基醚、芐基乙醚、二烷、茴香醚、苯乙醚、和1，2-環(huán)氧丁烷；縮醛類，例如乙縮醛、1，2-二甲氧基乙烷、和1，2-二乙氧基乙烷；酮類，例如甲基乙基酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、二異丁基酮、氧化甲基(methyloxide)、環(huán)己酮、甲基環(huán)己酮、4-甲基-2-戊酮、乙酰丙酮、和丙酮基丙酮；酯類，例如醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙酸丁酯、醋酸戊酯，醋酸3-甲氧基丁酯、碳酸二乙酯、和醋酸2-甲氧基乙酯；鹵素，例如氯苯；硫化合物，例如四氫噻吩；具有多個(gè)官能團(tuán)的化合物，例如2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、糠醇、四氫糠醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、雙丙酮醇、糠醛、醋酸2-甲氧基乙酯、醋酸2-乙氧基乙酯、丙二醇丙醚、和丙二醇-1-單甲基醚-2-醋酸酯；等等。在這些溶劑之中，根據(jù)粘附性，優(yōu)選使用乙酸丁酯、氯苯、乙酰丙酮、二甲苯、醋酸2-甲氧基乙酯、丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯、和環(huán)己酮。這些溶劑可以單獨(dú)使用或者組合使用。
溶劑的稀釋率根據(jù)組分的溶解度、涂敷方法和層的厚度來隨意決定。然而，為了在交聯(lián)表層形成時(shí)保持交聯(lián)表層中剩余溶劑的量以及賦予交聯(lián)表層足夠的粘附性，涂布液的固體含量優(yōu)選不大于25重量％，更優(yōu)選3-15重量％。
本發(fā)明的交聯(lián)表層是通過制備溶液(涂布液)、涂覆、干燥溶液、以及聚合和硬化(交聯(lián))該溶液來形成的，該涂布液至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物。除此之外，涂布液可以包括單官能的和雙官能的自由基聚合單體、官能單體和自由基聚合低聚物，以在涂覆時(shí)控制表層的粘度、降低表層應(yīng)力、賦予其低的表面自由能以及降低表層的摩擦系數(shù)?？梢允褂靡阎淖杂苫酆蠁误w和低聚物。
單官能的自由基單體的具體例子包括丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸2-羥基乙基酯、丙烯酸2-羥基丙基酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸2-乙基己基卡必醇酯、丙烯酸3-甲氧基丁酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸甲氧基三甘醇酯、丙烯酸苯氧基四甘醇酯、丙烯酸十六酯、丙烯酸異硬脂基酯、丙烯酸硬脂基酯、苯乙烯單體，等等。
雙官能自由基單體的具體例子包括丙烯酸1，3-丁二醇酯、二丙烯酸1，4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸1，4-丁二醇酯、二丙烯酸1，6-己二醇酯、二甲基丙烯酸1，6-己二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、EO-改性雙酚A二丙烯酸酯、EO-改性雙酚F二丙烯酸酯，等等。
官能單體的具體例子包括丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸2-全氟辛基乙基酯、甲基丙烯酸2-全氟辛基乙基酯、丙烯酸2-全氟異壬基乙基酯，等等，其中，氟原子可以被取代；具有聚硅氧烷基團(tuán)的乙烯基單體，其中該聚硅氧烷基團(tuán)具有20-70個(gè)硅氧烷重復(fù)單元(在日本專利公開5-60503和6-45770中公開)，例如丙烯?；鄱谆柩跬橐一?、甲基丙烯?；鄱谆柩跬橐一?、丙烯?；鄱谆柩跬楸?、丙烯?；鄱谆柩跬槎』投；鄱谆柩跬槎一?；丙烯酸酯；和甲基丙烯酸酯。
自由基聚合低聚物的具體例子包括環(huán)氧丙烯酸酯低聚物、聚氨酯丙烯酸酯低聚物和聚醚丙烯酸酯低聚物(polyetseracrylate oligomers)。
然而，當(dāng)交聯(lián)表層含有大量自由基聚合單體和具有一或兩個(gè)官能團(tuán)的自由基聚合低聚物時(shí)，交聯(lián)表層的三維交聯(lián)鍵合密度基本上降低(deteriorate)，導(dǎo)致交聯(lián)表層的耐磨性劣化。因此，本發(fā)明的表層中含有的單體和低聚物的量優(yōu)選不大于50重量份，更優(yōu)選不大于30重量份，以100重量份具有三或多官能的自由基聚合單體計(jì)。
本發(fā)明的交聯(lián)表層是通過制備溶液(涂布液)、涂覆、干燥溶液、以及聚合和硬化(交聯(lián))該溶液來形成的。該涂布液至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物。涂布液可以任選(optionally)采用聚合引發(fā)劑(例如熱聚合引發(fā)劑和光聚合引發(fā)劑)來使交聯(lián)反應(yīng)有效地進(jìn)行。
熱聚合引發(fā)劑的具體例子包括過氧化物引發(fā)劑，例如2，5-二甲基己烷-2，5-二過氧化物(dihydrooxide)、過氧化二異丙苯、過氧化苯甲酰、過氧化叔-丁基異丙苯、2，5-二甲基-2，5-二(過氧化苯甲酰)己炔-3、過氧化二-叔丁基(butylbeloxide)、叔丁基氫過氧化物(t-butylhydrobeloxide)、枯烯氫過氧化物(cumenehydobeloxide)和過氧化月桂酰；以及偶氮引發(fā)劑，例如偶氮二異丁腈、偶氮二環(huán)己烷腈(azobiscyclohexanecarbonitrile)、偶氮二異甲基丁酸酯、偶氮二異丁基鹽酸脒和4，4’-偶氮雙-4-氰戊酸。
光聚合引發(fā)劑的具體例子包括丙酮或縮酮光聚合引發(fā)劑，例如二乙氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基(molpholinophenyl))丁酮-1，2-羥基-2-甲基-1-苯丙烷-1-酮和1-苯基-1，2-丙二酮(propanedion)-2-(鄰-乙氧基羰基)肟；安息香醚光聚合引發(fā)劑，例如安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丁基醚和安息香異丙基醚；二苯甲酮光聚合引發(fā)劑，例如二苯甲酮、4-羥基二苯甲酮、鄰-苯甲酰甲基苯甲酸酯、2-苯甲酰萘、4-苯甲酰聯(lián)苯(benzoylviphenyl)、4-苯甲酰苯基醚、丙烯酸酯化二苯甲酮和1，4-苯甲酰苯(benzoylbenzene)；噻噸酮光聚合引發(fā)劑，例如2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2，4-二甲基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、和2，4-二氯噻噸酮；和其它光聚合引發(fā)劑，例如乙基蒽醌、2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基乙氧基氧化膦、雙(2，4，6-三甲基苯甲?；?苯基氧化膦、雙(2，4-二甲氧基苯甲?；?-2，4，4-三甲基戊基氧化膦、甲基苯基乙醛酸酯(methylphenylglyoxyester)、9，10-菲、吖啶化合物、三嗪化合物、和咪唑化合物。此外，可以單獨(dú)使用具有光聚合作用的材料，或?qū)⑵渑c上述光聚合引發(fā)劑組合使用。具有光聚合作用的材料的具體例子包括三乙醇胺、甲基二乙醇胺、4-二甲基氨基乙基苯甲酸酯、4-二甲基氨基異戊基苯甲酸酯、乙基(2-二甲基氨基)苯甲酸酯、和4，4-二甲基氨基二苯甲酮。
這些聚合引發(fā)劑能單獨(dú)或組合使用。本發(fā)明的交聯(lián)表層優(yōu)選含有0.5-40重量份的聚合引發(fā)劑，更優(yōu)選1-20重量份，以100重量份自由基聚合化合物計(jì)。
此外，涂布液可以任選地包括各種添加劑，例如增塑劑(為減少表層應(yīng)力和改善粘附性)、流平劑和沒有自由基反應(yīng)性的低分子量電荷遷移材料。可以使用已知的添加劑。增塑劑的具體例子包括用于一般樹脂的增塑劑，例如酞酸二丁酯和酞酸二辛酯。增塑劑的含量優(yōu)選不大于20重量％，更優(yōu)選不大于10重量％，以涂布液的固體成分的總重量計(jì)。流平劑的具體例子包括硅油，例如二甲基硅油和甲基苯基硅油；以及在側(cè)鏈中含有全氟化烷基的聚合物和低聚物。流平劑的含量優(yōu)選不大于3重量％。
交聯(lián)表層可以通過浸漬涂布、噴涂、涂邊(bead coating)、環(huán)狀涂覆法等等方法來涂覆。由于噴涂方法能夠在形成交聯(lián)表層時(shí)控制交聯(lián)表層中剩余溶劑的量，因此優(yōu)選使用。
在本發(fā)明中，在把涂布液涂覆以形成層后，對(duì)該層施加外部能量以硬化該層而形成交聯(lián)表層。外部能量包括加熱、光和輻射。使用空氣、氣體(如氮?dú)?、蒸汽、各種各樣的加熱介質(zhì)、紅外線或電磁波，從涂層側(cè)或從基材處向交聯(lián)表層施加熱能。加熱溫度優(yōu)選100-170℃。當(dāng)加熱溫度低于100℃時(shí)，反應(yīng)速度慢并且反應(yīng)進(jìn)行不完全。當(dāng)反應(yīng)溫度高于170℃時(shí)，反應(yīng)進(jìn)行不均勻并且在交聯(lián)表層會(huì)發(fā)生大的變形。為了均勻地進(jìn)行硬化反應(yīng)，在小于100℃的相對(duì)低溫下加熱后，反應(yīng)在不低于100℃下有效地完成。光能的具體例子包括紫外線輻射體，例如高壓水銀燈、具有紫外光發(fā)射波長的金屬鹵化物燈；以及適合于自由基聚合化合物和光聚合引發(fā)劑吸收的波長的可見光源。輻射光的量優(yōu)選50-1,000毫瓦/cm2。當(dāng)輻射光強(qiáng)度小于50mW/cm2時(shí)，硬化反應(yīng)耗時(shí)。當(dāng)大于1,000毫瓦/cm2時(shí)，反應(yīng)進(jìn)行不均勻并且交聯(lián)表層表面具有大的粗糙度。輻射能包括使用電子束的輻射能。在這些能量中，由于光和熱能的反應(yīng)速度易于控制和裝置簡單，因此使用它們更為有效。
由于本發(fā)明的交聯(lián)表層具有不同的厚度，厚度由使用交聯(lián)表層的感光體的層結(jié)構(gòu)來決定，因此將根據(jù)下面層狀結(jié)構(gòu)的解釋來解釋交聯(lián)表層的厚度。
接下來將參照附圖闡述用于本發(fā)明的電子照相感光體。
圖1A和1B是本發(fā)明的電子照相感光體的各層的實(shí)施方案的橫剖面圖，其為由具有電荷產(chǎn)生功能和電荷遷移功能并覆蓋導(dǎo)電性基材(31)的光敏層(33)形成的單層感光體。在圖1A中，光敏層是完全交聯(lián)的并且硬化形成交聯(lián)表層。在圖1B中，交聯(lián)表層(32)形成在光敏層(33)表面上。
圖2A和2B是本發(fā)明的電子照相感光體的各層的其它實(shí)施方案的橫剖面圖，其為由具有電荷產(chǎn)生功能的電荷產(chǎn)生層(35)和具有電荷遷移功能的電荷遷移層(37)形成的多層感光體，并且電荷產(chǎn)生層和電荷遷移層覆蓋在導(dǎo)電性基材(31)上。在圖2A中，電荷遷移層(37)是完全交聯(lián)的并且硬化形成交聯(lián)表層。在圖2B中，交聯(lián)表層(32)是在電荷遷移層(37)的表面上形成的。
用作導(dǎo)電性基材(31)的適合的材料包括體積電阻不大于1010Ω·cm的材料。此類材料的具體例子包括塑料圓筒、塑料膜或紙質(zhì)片材，在這些材料的表面上沉積或?yàn)R射金屬(例如鋁、鎳、鉻、鎳鉻合金、銅、金、銀、鉑等等)或者金屬氧化物(例如氧化錫、氧化銦等等)。此外，金屬(例如鋁、鋁合金、鎳和不銹鋼)的板材、以及金屬圓筒也可以用作基材，把金屬(例如上述的金屬)經(jīng)過如沖擊擠拉或者直接擠拉的方法進(jìn)行制管，然后通過切割、細(xì)致整理、拋光等處理方法來處理管的表面，從而制得金屬圓筒。此外，金屬(例如鎳和不銹鋼)的環(huán)形帶也可以用作基材(31)，其在日本公開專利52-36016中已經(jīng)公開。
此外，還可以把其中在上述載體上涂覆了含有粘合劑樹脂和導(dǎo)電性粉末的涂布液的基材用作基材(31)。
導(dǎo)電性粉末的具體例子包括炭黑、乙炔黑、金屬(例如鋁、鎳、鐵、鎳鉻合金、銅、鋅、銀等等)的粉末、和金屬氧化物(例如導(dǎo)電性的氧化錫、ITO等等)。粘合劑樹脂的具體例子包括已知的熱塑性樹脂、熱固性樹脂和光交聯(lián)樹脂，例如聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚酯、聚氯乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚偏二氯乙烯、聚芳酯、苯氧基樹脂、聚碳酸酯、乙酸纖維素樹脂、乙基纖維素樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯基甲苯、聚-N-乙烯基咔唑、丙烯酸類樹脂、有機(jī)硅樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、醇酸樹脂等等。導(dǎo)電性層可以通過涂覆涂布液、干燥該涂覆的液體而形成，在涂布液中，導(dǎo)電性粉末和粘合劑樹脂分散在溶劑中，溶劑如四氫呋喃、二氯甲烷、甲基乙基酮、甲苯等等。
此外，還可優(yōu)選用作基材(31)的是這樣的基材，其中，以導(dǎo)電性材料，在使用由樹脂(如聚氯乙烯、聚丙烯、聚酯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯、氯化橡膠和TEFLON(注冊商標(biāo)))的組合制成的可熱縮的樹脂管的圓筒形基材的表面上形成導(dǎo)電樹脂膜。
接下來將闡述光敏層。光敏層可以是單層或者多層。多層光敏層是由具有電荷產(chǎn)生功能的電荷產(chǎn)生層和具有電荷遷移功能的電荷遷移層形成的。單層光敏層同時(shí)具有電荷產(chǎn)生功能和電荷遷移功能。
在下文中，將分別闡述多層光敏層和單層光敏層。
電荷產(chǎn)生層(CGL)(35)主要由電荷產(chǎn)生材料形成，并且任選地含有粘合劑樹脂。適合的電荷產(chǎn)生材料包括無機(jī)材料和有機(jī)材料。
無機(jī)電荷產(chǎn)生材料的具體例子包括結(jié)晶硒、無定形硒、硒-碲合金、硒-碲-鹵素合金、和硒-砷合金。
有機(jī)電荷產(chǎn)生材料的具體例子包括已知的材料，例如酞菁顏料(如金屬酞菁和不含金屬的酞菁)、薁(azulenium)顏料、方形酸次甲基顏料、具有咔唑骨架的偶氮顏料、具有三苯胺骨架的偶氮顏料、具有二苯胺骨架的偶氮顏料、具有硫芴骨架的偶氮顏料、具有芴酮骨架的偶氮顏料、具有二唑骨架的偶氮顏料、具有雙均二苯代乙烯骨架的偶氮顏料、具有二苯乙烯基二唑骨架的偶氮顏料、具有二苯乙烯基咔唑骨架的偶氮顏料、二萘嵌苯顏料、蒽醌顏料、多環(huán)醌顏料、醌亞胺顏料、二苯甲烷顏料、三苯基甲烷顏料、苯醌顏料、萘醌顏料、花青顏料、甲亞胺顏料、靛類顏料、二苯并咪唑顏料等等。
在這些顏料中，有效地使用酞菁顏料，特別是當(dāng)以Cu-Kα射線照射時(shí)，在X射線衍射譜中在9.6±0.2°、24.0±0.2°和27.2±0.2°下存在布拉格(2θ)主峰的晶形鈦氧基酞菁。
這些電荷產(chǎn)生材料能單獨(dú)或組合使用。
任選地用于CGL(35)的粘合劑樹脂的具體例子包括聚酰胺樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚酮樹脂、聚碳酸酯樹脂、有機(jī)硅樹脂、丙烯酸類樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯基酮樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚-N-乙烯基咔唑樹脂、聚丙烯酰胺樹脂，等等。這些樹脂能單獨(dú)或組合使用。此外，除上述粘合劑樹脂外，還可以把電荷遷移聚合物材料用作CGL中的粘合劑樹脂。它的具體例子包括具有芳基胺骨架、聯(lián)苯胺骨架、腙骨架、咔唑骨架、均二苯代乙烯骨架、二氫化吡唑骨架的聚合物材料，如聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚醚樹脂、聚硅氧烷樹脂、和丙烯酸類樹脂，等等；和具有聚硅烷骨架的聚合物材料。
前者聚合物材料的具體例子包括下列日本公開專利中公開的電荷遷移聚合物材料01-001728、01-009964、01-013061、01-019049、01-241559、04-011627、04-175337、04-183719、04-225014、04-230767、04-320420、05-232727、05-310904、06-234838、06-234839、06-234840、06-234839、06-234840、06-234841、06-236051、06-295077、07-056374、08-176293、08-208820、08-211640、08-253568、08-269183、09-062019、09-043883、09-71642、09-87376、09-104746、09-110974、09-110976、09-157378、09-221544、09-227669、09-235367、09-241369、09-268226、09-272735、09-302084、09-302085、09-328539，等等。
后者聚合物材料的具體例子包括在日本公開專利63-285552、05-19497、05-70595、10-73944等等中公開的聚亞甲硅基聚合物。
CGL(35)還可以包括低分子量電荷遷移材料。
低分子量電荷遷移材料包括空穴遷移材料和電子遷移材料。
電子遷移材料的具體例子包括電子接受材料，如四氯苯醌(chloranil)、四溴代苯醌、四氰乙烯、四氰基醌二甲烷(tetracyanoquinodimethane)、2，4，7-三硝基-9-芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮、2，4，5，7-四硝基-氧雜蒽酮、2，4，8-三硝基噻噸酮、2，6，8-三硝基-4H-茚并[1，2-b]噻吩-4-酮、1，3，7-三硝基苯并噻吩-5，5-二氧化物、二苯酚合苯醌衍生物，等等。這些電子遷移材料能單獨(dú)或組合使用。
空穴(positive hole)遷移材料的具體例子包括供電子材料，例如唑衍生物、二唑衍生物、咪唑衍生物、單芳基胺衍生物、二芳基胺衍生物、三芳基胺衍生物、均二苯代乙烯衍生物、α-苯基均二苯代乙烯衍生物、聯(lián)苯胺衍生物、二芳基甲烷衍生物、三芳基甲烷衍生物、9-苯乙烯基蒽衍生物、二氫化吡唑衍生物、二乙烯基苯衍生物、腙衍生物、茚衍生物、丁二烯衍生物、芘衍生物、雙均二苯代乙烯衍生物、烯胺衍生物、和其它已知的材料。這些空穴遷移材料能單獨(dú)或組合使用。
用于形成電荷產(chǎn)生層(35)的適合的方法大致分為真空薄膜成型方法和溶劑分散鑄造法。
前者真空薄膜成型方法的具體例子包括真空蒸發(fā)法、輝光放電分解法、離子電鍍法、濺射法、反應(yīng)濺射法、CVD(化學(xué)蒸汽沉積)法，等等。上述無機(jī)和有機(jī)材料層可以通過這些方法形成。
形成電荷產(chǎn)生層的鑄造方法一般包括下列步驟(1)通過以下制備涂布液將溶劑，例如四氫呋喃、二烷、二氧戊環(huán)、甲苯、二氯甲烷、一氯苯、二氯乙烷、環(huán)己酮、環(huán)戊酮、茴香醚、二甲苯、甲基乙基酮、丙酮、乙酸乙酯、醋酸丁酯等，與上述無機(jī)或者有機(jī)電荷產(chǎn)生材料中的一種或多種任選地與粘合劑樹脂和流平劑混合，流平劑如二甲基硅油和甲基苯基硅油，然后使用球磨機(jī)、磨碎機(jī)、砂磨機(jī)、珠磨機(jī)(beads mill)等分散這些材料，制備得到CGL涂布液；(2)通過如浸漬涂布、噴涂、涂邊和環(huán)狀涂覆方法，把CGL涂布液涂覆到基材上，如果必要時(shí)可以稀釋涂布液；并且(3)干燥涂覆的液體以形成CGL。
CGL的厚度優(yōu)選是約0.01-約5μm，更優(yōu)選約0.05-約2μm。
電荷遷移層(CTL)(37)是具有電荷可遷移性的層，并且本發(fā)明的交聯(lián)表層(32)可有效地用作CTL。如上所述，當(dāng)交聯(lián)表層(32)是整個(gè)CTL(37)時(shí)，在把本發(fā)明的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的含有三或多官能團(tuán)的自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物的涂布液(以下稱為自由基聚合組合物)涂覆在CGL(35)上之后，任選地干燥以在CGL上形成涂覆層，并且對(duì)其施加外部能量以硬化涂覆層而形成交聯(lián)表層。
交聯(lián)表層的厚度優(yōu)選10-30μm，更優(yōu)選10-25μm。當(dāng)厚度小于10μm時(shí)，不能保持足夠的充電電位(charged potential)。當(dāng)厚度大于30μm時(shí)，硬化時(shí)交聯(lián)表層的體積收縮易于產(chǎn)生交聯(lián)表層與下層的分離。
如圖2B所示，當(dāng)交聯(lián)表層在CTL(37)表面上形成時(shí)，CTL(37)是通過用涂布液涂覆CGL(35)以形成涂覆層，接著干燥該涂覆層而形成的，在涂布液中，具有電荷可遷移性的電荷遷移材料和粘合劑樹脂分散在合適的溶劑中。交聯(lián)表層是通過用涂布液涂覆CGL以在CGL上形成涂布層，接著用外部能量交聯(lián)和硬化該涂布層而制得的，該涂布液包括上述本發(fā)明的自由基聚合組合物。
電荷遷移材料的具體例子包括用于CGL(35)的電子遷移材料、空穴遷移材料和電荷遷移聚合物材料。特別是，當(dāng)CGL上涂覆表層時(shí)，電荷遷移聚合物材料有效地用于降低下層的溶解。
CTL優(yōu)選含有20-300重量份的電荷遷移材料，更優(yōu)選40-150重量份，以100重量份粘合劑樹脂計(jì)。然而，電荷遷移聚合物材料能單獨(dú)使用，或者與粘合劑樹脂組合使用。
粘合劑樹脂的具體例子包括熱塑性樹脂或者熱固性樹脂，例如聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚芳酯樹脂、苯氧基樹脂、聚碳酸酯樹脂、乙酸纖維素樹脂、乙基纖維素樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯甲苯樹脂、聚-N-乙烯基咔唑樹脂、丙烯酸類樹脂、有機(jī)硅樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、和醇酸樹脂。
如圖2B所示，用來涂覆CTL(37)的溶劑的具體例子包括用來涂覆CGL的溶劑，并且特別優(yōu)選使用對(duì)電荷遷移材料和粘合劑樹脂溶解優(yōu)良的溶劑。這些溶劑可以單獨(dú)或者組合使用。CTL可以通過與涂覆CGL(35)相同的涂覆方法來制備。
如圖2B所示，CTL(37)可以任選地包括增塑劑和流平劑。
增塑劑的具體例子包括用于一般的樹脂的增塑劑，例如酞酸二丁酯和酞酸二辛酯。增塑劑的含量優(yōu)選0-30重量份，以100重量份粘合劑樹脂計(jì)。
流平劑的具體例子包括硅油，例如二甲基硅油和甲基苯基硅油；在側(cè)鏈中含有全氟化烷基的聚合物或低聚物。流平劑的含量優(yōu)選0-1重量份，以100重量份粘合劑樹脂計(jì)。
如圖2B所示，CTL(37)的厚度優(yōu)選5-40μm，更優(yōu)選10-30μm。
當(dāng)圖2B所示的交聯(lián)表層(32)覆蓋在CTL(37)上時(shí)，如上述制備交聯(lián)表層的方法，把包括本發(fā)明的自由基聚合組合物的涂布液涂覆在CTL上，然后任選地干燥以形成CTL上的涂覆層，然后對(duì)其施加外部能量以硬化涂覆層，從而在CTL上形成交聯(lián)表層。交聯(lián)表層的厚度優(yōu)選1-20μm，更優(yōu)選2-10μm。當(dāng)厚度小于1μm時(shí)，交聯(lián)表層厚度的不均勻會(huì)導(dǎo)致其不均勻的耐久性。當(dāng)厚度大于20μm時(shí)，CTL(37)和交聯(lián)表層(32)的總厚度非常大以至于電荷分散，導(dǎo)致制得的感光體的圖像可再現(xiàn)性劣化。此外，本發(fā)明的交聯(lián)表層相對(duì)于按照涂覆、干燥和輻射(交聯(lián))的順序制備而言，更優(yōu)選按照涂覆、輻射(交聯(lián))和干燥的順序來制備。這部分地是由于當(dāng)干燥發(fā)生在輻射(交聯(lián))之前時(shí)，溶劑減少并且粘度增高，從而阻礙了交聯(lián)反應(yīng)，且部分地是由于當(dāng)干燥時(shí)聚合引發(fā)劑可能升華了。
如圖1A所示，單層光敏層具有電荷產(chǎn)生功能和電荷遷移功能，并且本發(fā)明的具有電荷遷移結(jié)構(gòu)并含有具有電荷產(chǎn)生功能的電荷產(chǎn)生材料的交聯(lián)表層可以有效地用作單層光敏層。如在制備CGL(35)的鑄造方法中提到的，電荷產(chǎn)生材料分散在含有自由基聚合組合物的涂布液中，然后把涂布液涂覆在導(dǎo)電性的基材上，然后任選地干燥，從而在基材上形成涂覆層，然后以外部能量，使硬化反應(yīng)在涂覆層中進(jìn)行以形成交聯(lián)表層?？梢灶A(yù)先把電荷產(chǎn)生材料分散在溶劑中來制備分散體，然后把該分散體添加到用于形成交聯(lián)表層的涂布液中。交聯(lián)表層的厚度優(yōu)選10-30μm，更優(yōu)選10-25μm。當(dāng)厚度小于10μm時(shí)，不能保持足夠的充電電位。當(dāng)厚度大于30μm時(shí)，硬化時(shí)交聯(lián)表層的體積收縮，易于導(dǎo)致交聯(lián)表層與底涂層分離。
如圖1B所示，當(dāng)交聯(lián)表層覆蓋到單層光敏層(33)上時(shí)，如在制備交聯(lián)表層的方法中所述的，把含有本發(fā)明自由基聚合組合物和粘合劑樹脂的涂布液涂覆到光敏層上，然后任選地干燥，從而在光敏層上形成涂布層，然后對(duì)其施加外部能量來硬化涂布層，從而在光敏層上形成交聯(lián)表層。交聯(lián)表層的厚度優(yōu)選1-20μm，更優(yōu)選2-10μm。當(dāng)厚度小于1μm時(shí)，交聯(lián)表層厚度的不均勻會(huì)導(dǎo)致其不均勻的耐久性。
單層光敏層所含電荷產(chǎn)生材料的量優(yōu)選1-30重量％，所含粘合劑樹脂的量優(yōu)選20-80重量％且所含電荷遷移材料的量優(yōu)選10-70重量份，以單層光敏層的總重量計(jì)。
本發(fā)明的感光體，當(dāng)交聯(lián)表層覆蓋在光敏層上時(shí)，在交聯(lián)表層和光敏層之間可以存在中間層。中間層可防止下光敏層的組分混入交聯(lián)表層，從而避免硬化反應(yīng)的抑制以及交聯(lián)表層的凹凸不平。此外，中間層可以改善交聯(lián)表層與光敏層之間的粘附性。
中間層以樹脂作為主要成分。樹脂的具體例子包括聚酰胺、醇溶尼龍、水溶性的聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇，等等。中間層可以通過上述已知的涂覆方法中的一種來制備。中間層的厚度優(yōu)選0.05-2μm。
本發(fā)明的感光體可以在基材(31)和光敏層之間存在底涂層。底涂層以樹脂作為主要成分。因?yàn)橐话阃ㄟ^對(duì)含有有機(jī)溶劑的液體進(jìn)行涂覆，從而在底涂層上形成光敏層，底涂層中的樹脂優(yōu)選對(duì)于一般有機(jī)溶劑具有優(yōu)良的耐受性。此類樹脂的具體例子包括水溶性樹脂，例如聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、和聚丙烯酸鈉鹽；醇溶樹脂，例如尼龍共聚物和甲氧基甲基化尼龍樹脂；和能夠形成三維網(wǎng)絡(luò)的熱固性樹脂，例如聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、醇酸-三聚氰胺樹脂、環(huán)氧樹脂等等。底涂層可以包括金屬氧化物的細(xì)粉末，例如氧化鈦、硅石、礬土、氧化鋯、氧化錫、和氧化銦，以防止在記錄的圖像中出現(xiàn)波紋并且降低感光體的剩余電位。
底涂層還可以通過使用適合的溶劑和適合的涂敷法涂覆涂布液來形成，合適的溶劑和涂覆方法可以采用與上述形成光敏層中所用的類似的溶劑和方法。底涂層可以使用硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑或鉻偶聯(lián)劑來形成。此外，優(yōu)選用作底涂層的還包括由陽極氧化法形成的氧化鋁層，和由真空蒸發(fā)法形成的有機(jī)化合物(例如聚對(duì)亞二甲苯基(聚對(duì)苯二甲撐))層或無機(jī)化合物(如SiO、SnO2、TiO2、ITO或CeO2)層。除這些材料之外，可以使用已知的材料。底涂層的厚度優(yōu)選是0-5μm。
在本發(fā)明中，每一層(即交聯(lián)表層、電荷產(chǎn)生層、電荷遷移層、底涂層和中間層)都可以使用抗氧化劑，從而可以達(dá)到改善耐環(huán)境條件的穩(wěn)定性，即避免了光敏性的降低和剩余電位的增加。
每一層所含抗氧化劑的量優(yōu)選0.01-10重量％，以每一層的總重量計(jì)。
用于本發(fā)明的抗氧化劑的具體例子包括下列化合物。
(1)酚類化合物2，6-二-叔丁基-對(duì)甲酚、丁基化羥基茴香醚、2，6-二-叔丁基-4-乙基苯酚、正十八烷基-3-(4′-羥基-3′，5′-二-叔丁基苯酚)、2，2′-亞甲基-雙-(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亞甲基-雙-(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4′-硫代雙-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-亞丁基二-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，1，3-三-(2-甲基-4-羥基-5-叔丁基苯基)丁烷、1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二-叔丁基-4-羥基芐基)苯、四-[亞甲基-3-(3′，5′-二-叔丁基-4′-羥苯基)丙酸酯]甲烷、雙[3，3′-雙(4′-羥基-3’-叔丁基苯基)丁酸]乙二醇酯、生育酚(tocophenol)化合物，等等。
(2)對(duì)苯二胺化合物N-苯基-N’-異丙基-對(duì)苯二胺、N，N’-二-仲丁基-對(duì)苯二胺、N-苯基-N-仲丁基-對(duì)苯二胺、N，N’-二-異丙基-對(duì)苯二胺、N，N’-二甲基-N，N’-二-叔丁基-對(duì)苯二胺，等等。
(3)氫醌化合物2，5-二-叔-辛基氫醌、2，6-雙十二烷基氫醌、2-十二烷基氫醌、2-十二烷基-5-氯氫醌、2-叔-辛基-5-甲基氫醌、2-(2-十八碳烯基(octadecenyl))-5-甲基氫醌，等等。
(4)有機(jī)含硫化合物雙月桂基-3，3’-硫代二丙酸酯、二硬脂基-3，3’-硫代二丙酸酯、雙十四烷基-3，3’-硫代二丙酸酯，等等。
(5)有機(jī)含磷化合物三苯基膦、三(壬基苯基)膦、三(二壬基苯基)膦、三甲苯基膦、三(2，4-二丁基苯氧基)膦，等等。
這些化合物已知可作為橡膠、塑料、脂肪等的抗氧化劑，并且它的市售產(chǎn)品可以容易地獲得。
在如圖2所示的層組合物中，在交聯(lián)表層和光敏層之間可以形成粘合層。
因?yàn)榉乐贡韺拥姆蛛x和磨損以及改善表層的耐久性，粘合層優(yōu)選包括粘度在25℃下為1-20mPa·s、并且不具備電荷遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物。
在其間沒有形成用于改善粘附性的方式時(shí)，當(dāng)表層中三維網(wǎng)絡(luò)形成時(shí)表層收縮并且具有十分大的內(nèi)應(yīng)力。因此，當(dāng)表層發(fā)生內(nèi)部磨耗時(shí)，表層發(fā)生裂化并從光敏層分離，從而導(dǎo)致表層迅速磨損。粘合層改善了在表層和光敏層之間的粘附性，由于表層的高度硬化，粘附性降低。通過以下步驟形成粘合層把包括用于上述光敏層的粘合劑樹脂、不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體、25℃下粘度為1-20mPa·s且不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物、和任選地具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物的涂布液涂覆到光敏層上；涂覆表層涂布液；用光能硬化這些涂布液。
用于制備涂布液的溶劑的具體例子包括醇類，例如甲醇、乙醇、丙醇、和丁醇；酮類，例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、和環(huán)己酮；酯類，例如乙酸乙酯和醋酸丁酯；醚類，例如四氫呋喃、二烷和丙基醚；鹵素，例如二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷、和氯苯；芳族化合物，例如苯、甲苯、和二甲苯；以及溶纖劑，例如甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、和乙酸溶纖劑。這些溶劑能單獨(dú)或組合使用。
本發(fā)明粘合層的使表層和光敏層結(jié)合的原理沒有完全清楚，但是一般認(rèn)為如下。
本發(fā)明的粘合層是由包括低粘度且無電荷遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物的涂布液制得的。即，具有低粘度的自由基聚合化合物是一種溶劑，并且當(dāng)粘附于CTL的表面時(shí)，自由基聚合化合物在CTL中遷移同時(shí)溶解CTL。同時(shí)，表層包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體，以具有耐磨性。三或多官能自由基聚合單體具有高粘度并且不充分地滲透CTL。然而，當(dāng)與遷移到CTL中的粘合層交聯(lián)時(shí)，獲得了CTL的粘結(jié)效果，并且認(rèn)為表層穩(wěn)固地與CTL粘合。
當(dāng)自由基聚合化合物的粘度在25℃下小于1mpa·s時(shí)，化合物的流動(dòng)性很高以至于無法均勻地形成粘合層，從而導(dǎo)致粘附性不一致。當(dāng)粘度大于20mPa·s時(shí)，自由基聚合化合物無法在CTL中遷移，從而導(dǎo)致粘合強(qiáng)度不夠。
自由基聚合化合物優(yōu)選雙官能的。當(dāng)化合物是單官能的時(shí)，鍵接點(diǎn)(bonding site)是如此少以至于粘附能力不夠。當(dāng)化合物是三或多官能的時(shí)，粘度太高以至于該自由基聚合化合物無法充分地滲透CTL，從而導(dǎo)致粘附性不夠。
粘度在25℃下為1-20mPa·s的無電荷遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物的具體例子包括二丙烯酸1，6-己二醇酯、2-(2-乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸十三烷基(tridecyl)酯、丙烯酸1，3-丁二醇酯、丙烯酸1，4-丁二醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯(propoxylated neopentylglycoldiacrylate)、乙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸月桂基酯、甲基丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲基丙烯酸十三烷基酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸四甘醇酯、甲基丙烯酸1，4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸二甘醇酯、二甲基丙烯酸1，6-己二醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、二甲基丙烯酸1，3-丁二醇酯，等等。這些化合物能單獨(dú)或組合使用。
粘合層包括具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物的量優(yōu)選為20-80重量％，更優(yōu)選30-70重量％，以具有電荷可遷移性的化合物計(jì)。當(dāng)該化合物含量小于20重量％時(shí)，粘合層不能保持電荷可遷移性，由于重復(fù)使用從而導(dǎo)致靈敏度和電性能的劣化，例如制得的感光體剩余電位增加。當(dāng)化合物的含量大于80重量％時(shí)，不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的自由基聚合化合物減少，從而導(dǎo)致粘合強(qiáng)度的劣化。
當(dāng)形成(交聯(lián))粘合層時(shí)，可以任選地把用于表層的聚合引發(fā)劑用于粘合層，同樣可有效進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)。聚合引發(fā)劑能單獨(dú)或組合使用。引發(fā)劑的含量優(yōu)選為0.5-40重量份，更優(yōu)選1-20重量份，以100重量份自由基聚合化合物計(jì)。
粘合層優(yōu)選位于在表層和光敏層之間而沒有分界面。正如實(shí)施例中記載的感光體的SEM(掃描電子顯微鏡)截面照片所示，包括在各層內(nèi)的粘合劑樹脂互相非均勻地溶解，并且不能清楚地鑒別層中的分界面。
圖5是說明本發(fā)明電子照相感光體的第四實(shí)施方案的橫截面的示意圖，其為單層感光體，包括基材231，和在基材231上的具有電荷產(chǎn)生性和電荷可遷移性的光敏層233。238表示粘合層，239表示表層。
圖6是說明本發(fā)明電子照相感光體的第五實(shí)施方案的橫截面的示意圖，其為多層感光體，包括在基材231上的可產(chǎn)生電荷的CGL235和電荷可遷移的CTL237。238表示粘合層，239表示表層。
粘合層優(yōu)選至少包括粘合劑樹脂和不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體。此外，還可以使用具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的或雙官能的自由基聚合化合物。
粘合劑樹脂的具體例子包括熱塑性樹脂或者熱固性樹脂，例如聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚芳酯樹脂、苯氧基樹脂、聚碳酸酯樹脂、乙酸纖維素樹脂、乙基纖維素樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯甲苯樹脂、聚-N-乙烯基咔唑樹脂、丙烯酸類樹脂、有機(jī)硅樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、和醇酸樹脂。這些樹脂能單獨(dú)或組合使用。在這些樹脂中，根據(jù)與光敏層中粘合劑樹脂的相容性，優(yōu)選使用與光敏層中粘合劑樹脂相同的粘合劑樹脂。特別地，優(yōu)選使用聚碳酸酯樹脂。
在粘合層中，粘合劑樹脂與自由基聚合化合物的混合比(粘合劑樹脂/自由基聚合化合物)優(yōu)選為90/10-10/90，更優(yōu)選70/30-30/70。當(dāng)粘合劑樹脂的混合比過高時(shí)，粘合劑樹脂遷移進(jìn)入表層且表層的硬度下降，從而導(dǎo)致表層磨損更快。當(dāng)粘合樹脂的混合比過低時(shí)，表層易于和粘合層分離。
粘合層通過浸漬涂布法、噴涂法、輥涂法、環(huán)狀涂覆法、噴嘴涂敷法、絲網(wǎng)印刷法等等方法來形成。根據(jù)形成的穩(wěn)定性和質(zhì)量，優(yōu)選使用噴涂法和環(huán)狀涂敷法。
粘合層的厚度優(yōu)選0.05-5μm，更優(yōu)選0.1-3μm。當(dāng)厚度小于0.05μm時(shí)，表層可能和光敏層分離。當(dāng)厚度大于5μm時(shí)，在輻射后感光體的表面電位增高，從而導(dǎo)致圖像密度的劣化。
接下來將詳細(xì)說明本發(fā)明的成像方法和成像裝置，參見附圖。
本發(fā)明的成像方法和成像裝置包括具有低表面能的、平滑的遷移交聯(lián)表層的感光體，其中對(duì)感光體充電和用成像光輻射，從而在感光體上形成靜電潛像；靜電潛像顯影從而形成調(diào)色劑圖像；把該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到圖像載體(轉(zhuǎn)印片材(transfer sheet))上并定影在其上面；清潔感光體的表面。
方法并不僅限于此類方法，如直接把靜電潛像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印片材上以及在其上使靜電潛像顯影。
圖3表示本發(fā)明的成像裝置實(shí)施方案的部分截面示意圖。把充電器(3)用來對(duì)感光體(1)均勻充電。充電器的具體例子包括已知的充電器，例如電暈裝置、scorotron裝置、固態(tài)充電器、針形電極裝置、滾筒充電裝置以及導(dǎo)電刷裝置。
本發(fā)明中可以使用接觸或非接觸充電器。接觸充電器包括充電輥、充電刷、充電的刀片(charging blade)等等，其直接接觸感光體。非接觸充電器包括，例如位于靠近感光體位置的充電輥，二者間的間隔不大于200μm。當(dāng)間隔太長時(shí)，感光體無法穩(wěn)定地充電。當(dāng)間隔太短時(shí)，充電元件，例如充電輥，會(huì)被殘留在感光體上的調(diào)色劑污染。因此，間隔的長度優(yōu)選10-200μm，更優(yōu)選10-100μm。
其次，把成像輻射體(5)用來在感光體(1)上形成靜電潛像。適合的光源包括一般的光發(fā)射體，例如熒光燈、鎢絲燈、鹵素?zé)?、水銀燈、鈉燈、發(fā)光二極管(LEDs)、激光二極管(LDs)、使用電致發(fā)光(EL)的光源，等等。此外，為獲得具有理想波長范圍的光，可以使用濾波器，例如銳截止濾波器、帶通濾波器、近紅外截止濾波器(near-infrared cutting filter)、二向性濾波器、干涉濾波器和色溫轉(zhuǎn)換濾波器。
接下來，使用顯影單元(6)把靜電潛像顯影于感光體(1)上。顯影方法包括使用干調(diào)色劑的單組分顯影方法和雙組分顯影方法；和使用濕調(diào)色劑的濕式顯影方法。當(dāng)帶正電荷的或帶負(fù)電荷的感光體暴露于成像光時(shí)，在感光體上形成帶正或負(fù)電荷的靜電潛像。當(dāng)用帶負(fù)電荷的調(diào)色劑將帶正電荷的潛像顯影時(shí)，可以獲得正像。相反，當(dāng)用帶正電荷的調(diào)色劑把帶正電荷的潛像顯影時(shí)，可以獲得負(fù)像。
接下來，使用轉(zhuǎn)印充電器(10)把顯像在感光體上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印片材(9)上。可以用預(yù)轉(zhuǎn)印充電器(7)來更好地進(jìn)行轉(zhuǎn)印。適合的轉(zhuǎn)印器包括轉(zhuǎn)印充電器、使用偏置輥的靜電轉(zhuǎn)印器、膠粘轉(zhuǎn)印器、使用壓力的機(jī)械轉(zhuǎn)印器和磁性轉(zhuǎn)印器。上述充電器能被用作靜電轉(zhuǎn)印器。
接下來，使用分離充電器(11)和分離鎬(pick)(12)把轉(zhuǎn)印片材(9)與感光體(1)分離開。其它分離方式包括靜電吸收感應(yīng)分離器、側(cè)邊帶式分離器、夾頂傳送帶(tip grip conveyor)、彎曲分離器等等。上述充電器也能用作分離充電器(11)。
接下來，用毛刷(14)和清理鏟(cleaning blade)(15)除去轉(zhuǎn)印后殘留在感光體上的調(diào)色劑。用預(yù)清理充電器(13)進(jìn)行清潔更為有效。其它清潔器包括網(wǎng)狀清潔器、磁刷清潔器等等，并且這些清潔器可以單獨(dú)或者組合使用。
接下來，任選地使用放電器來除去感光體上的潛像。放電器包括放電燈(2)和放電器，并且可以分別地使用上述光源和充電器。
其它的最初的讀數(shù)過程(original reading process)、供紙過程、定影過程、出紙過程等等可以采用已知的方式。
上述成像單元可以固定到復(fù)印機(jī)、傳真機(jī)或印刷機(jī)中。然而，成像單元可以作為處理盒可拆卸地置于其中。圖4表示本發(fā)明用作成像裝置的處理盒的實(shí)施方案的橫截面示意圖。
處理盒是一種成像單元(或裝置)，其包括感光體(101)，和充電器(102)、圖像顯影器(104)、轉(zhuǎn)印器(106)、清潔器(107)和放電器(未示出)的至少一種。
當(dāng)感光體(101)以箭頭標(biāo)明的方向旋轉(zhuǎn)時(shí)，用充電器(102)把感光體(101)充電，然后用輻照器(103)照射感光體從而形成與成像光有關(guān)的靜電潛像。用帶有調(diào)色劑的圖像顯影器(104)把靜電潛像顯影，從而形成調(diào)色劑圖像，然后用轉(zhuǎn)印器(106)把調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到待印出的轉(zhuǎn)印片材(105)上，從而實(shí)現(xiàn)復(fù)制。接下來，在調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印后，用清潔器(107)把感光體表面清理，再用放電器(未示出)放電，并且這些過程可以重復(fù)進(jìn)行。
通過上面的說明可清楚地知道，本發(fā)明的電子照相感光體可以廣泛地用于電子照相法應(yīng)用領(lǐng)域，例如激光束印刷機(jī)、CRT印刷機(jī)、LED印刷機(jī)、液晶印刷機(jī)和激光雕刻。
以上描述了本發(fā)明的總體情況，下面通過具體實(shí)施例來進(jìn)一步解釋本發(fā)明，這些具體實(shí)施例僅用來說明本發(fā)明而不僅限于此。在下面實(shí)施例的描述中，除非另作說明，數(shù)字表示重量份比。
實(shí)施例<具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物的合成實(shí)施例>
本發(fā)明的具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的化合物通過，例如日本專利3164426中公開的方法來合成。下面的方法是它的實(shí)施例中的一個(gè)。
(1)合成具有下式B的羥基取代的三芳基胺化合物把113.85g(0.3mol)的具有式A的甲氧基取代的三芳基胺化合物、138g(0.92mol)的碘化鈉和240ml環(huán)丁砜混合，從而制得混合物。把混合物在氮?dú)饬髦屑訜岬?0℃。
用1小時(shí)把99g(0.91mol)的三甲基氯硅烷滴入混合物中，并且把混合物在60℃下攪拌4小時(shí)。向混合物中添加約1.5L的甲苯，然后把混合物冷卻至室溫，然后反復(fù)用水和碳酸鈉水溶液清洗混合物。然后，把溶劑從混合物中除去并且使用以硅膠作為吸收介質(zhì)和以甲苯及乙酸乙酯(20∶1)作為顯影溶劑的柱色譜法提純。向這樣制備的淺黃色的黃色油(buff yellow oil)中加入環(huán)己烷，以使晶體分離出來。從而制得88.1g(產(chǎn)率為80.4％)的白色晶體，其具有下式B且熔點(diǎn)為64.0-66.0℃。

元素分析值(％)

(2)三芳基氨基取代的丙烯酸酯化合物(表1中的化合物54)把(1)中制備的82.9g(0.227mol)的具有式B的羥基取代的三芳基胺化合物溶解于400ml四氫呋喃中，從而制得混合物。接著在氮?dú)饬髦邪褮溲趸c水溶液(由12.4gNaOH和100ml水制得)滴入混合物中。把混合物冷卻至5℃，并且在40分鐘內(nèi)把25.2g(0.272mol)氯化丙烯酸酯(chloride acrylate)滴入其中。然后在5℃下把混合物攪拌3小時(shí)。把混合物放進(jìn)水中并且用甲苯萃取。用水和碳酸鈉水溶液重復(fù)地清洗萃取的液體。然后，把溶劑從萃取的液體中除去并且通過以硅膠作為吸收介質(zhì)和甲苯作為顯影溶劑的柱色譜法提純。向這樣制備的無色油中加入正己烷，以使晶體分離出來。從而制得80.73g(產(chǎn)率為84.8％)的化合物54的白色晶體，其熔點(diǎn)為117.5-119.0℃。
元素分析值(％)

(3)丙烯酸酯化合物的合成實(shí)施例(i)制備二乙基2-羥基苯甲基膦酸酯把38.4g的2-羥基苯甲醇(來自TOKYO KASEI KOGYO公司)和80ml鄰二甲苯放進(jìn)反應(yīng)釜中，該反應(yīng)釜具有攪拌器、溫度計(jì)和滴液漏斗。在氮?dú)饬髦?，?0℃下把62.8g亞磷酸三乙酯慢慢地滴入其中，并且反應(yīng)在相同的溫度下又進(jìn)行了1小時(shí)。然后，通過減壓蒸餾把產(chǎn)生的乙醇、鄰二甲苯和未反應(yīng)的亞磷酸三乙酯從反應(yīng)中除去，從而制得產(chǎn)率為90％的66g的2-二乙基羥基苯甲基膦酸酯，其沸點(diǎn)為120.0℃/1.5毫米汞柱。
(ii)制備2-羥基-4’-(二-對(duì)-甲苯基氨基)均二苯代乙烯把14.8g叔-丁氧基鉀(kalium-tert-butoxide)和50ml四氫呋喃放進(jìn)反應(yīng)釜，該反應(yīng)釜具有攪拌器、溫度計(jì)和滴液漏斗。在氮?dú)庵?，在室溫下把通過將9.90g二乙基2-羥基苯甲基膦酸酯和5.44g的4-(二-對(duì)-甲苯基氨基)苯甲醛溶于四氫呋喃中而獲得的溶液緩慢地滴入反應(yīng)釜中，反應(yīng)在相同的溫度下又進(jìn)行了2小時(shí)。然后，把水加入反應(yīng)釜中，同時(shí)用水冷卻反應(yīng)產(chǎn)物；接著加入具有標(biāo)準(zhǔn)濃度2的鹽酸溶液，從而酸化該反應(yīng)產(chǎn)物；接著用蒸發(fā)器除去四氫呋喃，從而萃取出含有甲苯的粗產(chǎn)物。依次用水、碳酸氫鈉溶液和飽和鹽水清洗甲苯相，接著加入硫酸鎂從而使甲苯相脫水。在過濾后，除去甲苯從而制備油性粗產(chǎn)物，接著把油性粗產(chǎn)物進(jìn)一步以硅膠進(jìn)行柱-提純，從而在己烷中結(jié)晶得到5.09g的2-羥基-4′-(二-對(duì)-甲苯基氨基)均二苯代乙烯，其產(chǎn)率為72％、沸點(diǎn)為136.0-138.0℃。
(iii)制備4′-(二-對(duì)-甲苯基氨基)均二苯代乙烯-2-基丙烯酸酯(ylacrylate)把14.9g的2-羥基-4’-(二-對(duì)-甲苯基氨基)均二苯代乙烯、100ml四氫呋喃和濃度為12％的21.5g碳酸氫鈉溶液放進(jìn)反應(yīng)釜，反應(yīng)釜具有攪拌器、溫度計(jì)和滴液漏斗。在氮?dú)饬髦?，?℃下30分鐘內(nèi)把5.17g氯化丙烯酸酯滴入其中，并且反應(yīng)在相同的溫度下又進(jìn)行了3小時(shí)。把反應(yīng)液體放入水中，用甲苯萃取、冷凝并以硅膠進(jìn)行柱-提純，從而制得粗產(chǎn)物。將粗產(chǎn)物用乙醇再結(jié)晶，從而制得13.5g黃色針狀結(jié)晶4′-(二-對(duì)-甲苯基氨基)均二苯代乙烯-2-基丙烯酸酯(示例性化合物2)，其產(chǎn)率為79.8％，沸點(diǎn)為104.1-105.2℃。它的元素分析如下。
元素分析值(％)

實(shí)施例1把依照下列配方的底涂層涂布液、電荷產(chǎn)生涂布液和電荷遷移涂布液依次涂覆在鋁圓筒上并干燥，該鋁圓筒的直徑為30mm，從而在其上形成厚度為3.5μm的底涂層、厚度為0.2μm的CGL、厚度為23μm的CTL。
底涂層涂布液醇酸樹脂6(BEKKOZOL 1307-60-EL，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)三聚氰胺樹脂4(SUPER BEKKAMIN G-821-60，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)二氧化鈦粉末40甲基乙基酮 50CGL涂布液聚乙烯醇縮丁醛 0.5(XYHL，來自Union Carbide公司)環(huán)己酮 200甲基乙基酮 80具有下式(I)的雙偶氮顏料 2.5 CTL涂布液雙酚Z聚碳酸酯 10(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)四氫呋喃100濃度1％的硅油的四氫呋喃溶液 0.2(KF50-100CS，來自Shin-Etsu Chemical Industry Co.，Ltd.)具有下式(II)的電荷遷移材料 7
采用噴涂方法，在CTL上進(jìn)一步涂覆依照下列配方的交聯(lián)表層涂布液。
交聯(lián)表層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體10分子量為296的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物10分子量為445并且有一個(gè)官能團(tuán)的丙烯酸酯三芳基胺化合物XII光聚合引發(fā)劑 11-羥基-環(huán)己基-苯基-酮，分子量為204并且不含官能團(tuán)(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)乙酸丁酯 120沸點(diǎn)為126℃、飽和蒸氣壓力為13毫米汞柱/25℃三羥甲基丙烷三丙烯酸酯和丙烯酸酯三芳基胺化合物XII都具有自由基聚合官能團(tuán)。其丙烯酸基團(tuán)(acrylic group)的數(shù)目如下。
(1)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的丙烯酸基團(tuán)的數(shù)目為10×6.02×1023×3/296＝6.10×1022(2)丙烯酸酯三芳基胺化合物XII的丙烯酸基團(tuán)的數(shù)目為10×6.02×1023/445＝1.35×1022(3)丙烯酸基團(tuán)的總數(shù)除以固體成分的總重量，得到在1g固體成分中的自由基聚合官能團(tuán)的數(shù)目(6.10×1022+1.35×1022)/(10+10+1)＝3.55×1021用紫外燈系統(tǒng)照射涂布層30秒，該系統(tǒng)具有來自FUSION的H燈泡(Hbulb)、燈泡功率為200W/cm、輻射強(qiáng)度為450mW/cm2，然后在130℃下進(jìn)一步干燥30分鐘，從而形成厚度為5.0μm的交聯(lián)表層。從而，制得電子照相感光體。
實(shí)施例2除把交聯(lián)表層涂布液中120份乙酸丁酯替換成30份乙酸丁酯和90份四氫呋喃以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例3除把乙酸丁酯替換成沸點(diǎn)為156℃、飽和蒸氣壓力為3.95毫米汞柱/25℃的環(huán)己酮以外，重復(fù)實(shí)施例2中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例4除把乙酸丁酯替換成沸點(diǎn)為82℃、飽和蒸氣壓力為32.4毫米汞柱/25℃的2-丙醇以外，重復(fù)實(shí)施例2中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例5除把乙酸丁酯替換成溶度參數(shù)為8.8的二甲苯以外，重復(fù)實(shí)施例2中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例6除把乙酸丁酯替換成溶度參數(shù)為9.9的二烷以外，重復(fù)實(shí)施例2中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例7除把乙酸丁酯替換成溶度參數(shù)為9.5的氯苯以外，重復(fù)實(shí)施例2中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例8除把交聯(lián)表層涂布液中120份乙酸丁酯替換成63份的環(huán)己酮外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例9除把交聯(lián)表層涂布液中120份乙酸丁酯替換成399份乙酸丁酯外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例10除把交聯(lián)表層涂布液中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成分子量為431并具有一個(gè)官能團(tuán)的丙烯酸酯三芳基胺化合物VII以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例11除把交聯(lián)表層涂布液中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成分子量為828并具有一個(gè)官能團(tuán)的丙烯酸酯三芳基胺化合物XV以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例12除把交聯(lián)表層涂布液中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成分子量為419并具有一個(gè)官能團(tuán)的三芳基胺示例性化合物54以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例13除把交聯(lián)表層涂布液中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成分子量為371并具有一個(gè)官能團(tuán)的三芳基胺示例性化合物16以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例14
除把交聯(lián)表層涂布液中具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成分子量為419并具有一個(gè)官能團(tuán)的三芳基胺示例性化合物24以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例15除把交聯(lián)表層涂布液中10份的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體KAYARAD TMPTA(三羥甲基丙烷三丙烯酸酯)替換成5份KAYARAD TMPTA和5份KAYARAD DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)以外，重復(fù)實(shí)施例2制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中KAYARAD DPHA的平均分子量為536、具有5.5個(gè)官能團(tuán)并具有下式 其中a是5且b是1，或者a是6且b是0。
實(shí)施例16除把交聯(lián)表層涂布液中10份的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體KAYARAD TMPTA(三羥甲基丙烷三丙烯酸酯)替換成5份KAYARAD TMPTA和5份KAYARAD DPCA-120(二季戊四醇六丙烯酸酯，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)以外，重復(fù)實(shí)施例12制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中KAYARAD DPCA-120的平均分子量為1,948并具有6個(gè)官能團(tuán)。
對(duì)比例1除把交聯(lián)表層涂布液中的三或多官能的自由基聚合單體替換成KAYARAD FM-280(PO-改性丙烯酸丙三醇酯，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)以外，重復(fù)實(shí)施例1中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中KAYARAD FM-280的平均分子量為463并具有3個(gè)官能團(tuán)，其中在1g固體成分中的丙烯酸基團(tuán)的數(shù)目，即自由基聚合官能團(tuán)的數(shù)目，小于2.5×1021。
對(duì)比例2除把交聯(lián)表層涂布液中的三或多官能的自由基聚合單體替換成雙官能的二丙烯酸1，6-己二醇酯以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中不使用三或多官能的自由基聚合單體，其中二丙烯酸1，6-己二醇酯的分子量為226，來自Wako Pure Chemical Industries，Ltd。
對(duì)比例3除了不含具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物、并且把交聯(lián)表層涂布液中的10份三或多官能的自由基聚合單體替換成20份雙官能的聚乙二醇二丙烯酸酯以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中不使用具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物，聚乙二醇二丙烯酸酯的分子量為308、來自Shin-nakamura ChemicalCorporation。
對(duì)比例4除了不含具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物、并且把交聯(lián)表層涂布液中的10份三或多官能的自由基聚合單體替換成20份雙官能的二丙烯酸新戊二醇酯以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體，其中不使用具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物，二丙烯酸新戊二醇酯的分子量為212、來自Shin-nakamura ChemicalCorporation。
對(duì)比例5除了不含有三或多官能的自由基聚合單體，并且把10份具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物替換成20份以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
對(duì)比例6除了不含具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物，并且把10份三或多官能的自由基聚合單體替換成20份以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
對(duì)比例7除把具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物替換成下列材料以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
其中不使用具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物。
對(duì)比例8除把具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物替換成下列非-自由基聚合材料以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
對(duì)比例9除了不形成交聯(lián)表層，并且把CTL的厚度改變?yōu)?7μm以外，重復(fù)實(shí)施例1中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
對(duì)比例10除按照日本公開專利2004-302451中實(shí)施例4的方法形成厚度為5μm的交聯(lián)表層以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的方法來制備電子照相感光體，其中單體滿足要求，但是不滿足本發(fā)明的剝離強(qiáng)度。
對(duì)比例11除按照日本公開專利2004-302452中實(shí)施例9的方法形成厚度為5μm的交聯(lián)表層以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的方法來制備電子照相感光體，其中單體滿足要求，但是不滿足本發(fā)明的剝離強(qiáng)度。
對(duì)比例12除按照日本公開專利2001-183858中實(shí)施例1的方法形成厚度為5μm的交聯(lián)表層以外，重復(fù)實(shí)施例1制備電子照相感光體的方法來制備電子照相感光體，其不滿足要求的1g固體成分中自由基聚合官能團(tuán)的數(shù)目和本發(fā)明的剝離強(qiáng)度。
在實(shí)施例和對(duì)比例中制備的感光體的評(píng)價(jià)試驗(yàn)方法如下。
<剝離強(qiáng)度試驗(yàn)>
以水平切割速度0.1μm/秒和垂直切割速度0.01μm/秒來使用SAICASDN-20(來自DAIPLA WINTES公司)，其切割刀片寬度為0.5mm。切削深度大于交聯(lián)表層的厚度。剝離強(qiáng)度由切削深度的水平負(fù)載除以切割刀片寬度來測定。
<可硬化性試驗(yàn)>
交聯(lián)表層的可硬化性是通過它在有機(jī)溶劑中的溶解度來評(píng)價(jià)的。把一滴四氫呋喃滴到感光體上，然后視覺上觀察在自然干燥后表面輪廓的改變。當(dāng)硬化不足時(shí)，表面部分溶解，并且具有環(huán)形凹面和凸面或云狀花紋(cloud)。
<耐久性試驗(yàn)>
把感光體的交聯(lián)表層用表面粗糙度為0.3μm的包裝膜(來自Sumitomo3M公司)在任意位置處磨損3.5μm深和10cm軸向?qū)?。把感光體安裝在處理盒中，并且把處理盒安裝在改進(jìn)的成像器(imagio)MF2200中(來自Ricoh公司)，MF2200使用波長為655nm的激光二極管(LD)作為成像光源、具有1.5倍接觸壓力的清理鏟。把感光體的暗區(qū)(不摩擦)電位設(shè)定為700(-V)，產(chǎn)生30,000張A4圖像，從而，每產(chǎn)生10,000張圖像，測量磨損部分的厚度并且評(píng)價(jià)圖像質(zhì)量。測量初始的暗區(qū)的電位和照射部分的電位，以及它們在生產(chǎn)了30,000張圖像之后的電位。通過渦流膜厚度測量儀(來自Fischer Instruments K.K)來測定感光體的厚度。
<抗裂試驗(yàn)>
把指狀潤滑脂(finger grease)附著到感光體表面，將其于50℃、正常壓力下放置3天，然后觀察它的表面。
表4顯示了實(shí)施例1-16和對(duì)比例1-12制備的感光體的剝離強(qiáng)度和可硬化性試驗(yàn)結(jié)果。
表4

在實(shí)施例1-16中制備的本發(fā)明感光體，其在交聯(lián)表層中含有2.55×1021或更多自由基聚合官能團(tuán)/1g固體成分，并且同時(shí)剝離強(qiáng)度不少于0.1N/mm。即，可認(rèn)為交聯(lián)表層具有密實(shí)的三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)并且與下光敏層(lowerphotosensitive layer)具有優(yōu)良的粘附性。實(shí)施例中制備的所有感光體都具有優(yōu)良的可硬化性。在實(shí)施例2-4中，當(dāng)把具有較小飽和蒸氣壓力或較高的沸點(diǎn)的溶劑用于交聯(lián)表層時(shí)，交聯(lián)表層的剝離強(qiáng)度變大。在實(shí)施例5-7中，當(dāng)溶劑具有8.5-11.0的溶度參數(shù)，且優(yōu)選9.0-9.7時(shí)，剝離強(qiáng)度變大。此外，在實(shí)施例1、8和9中，當(dāng)交聯(lián)表層涂布液的固體成分濃度較少時(shí)，剝離強(qiáng)度變大。在實(shí)施例15和16中，即使當(dāng)把具有5個(gè)或多個(gè)官能團(tuán)的多官能單體硬化時(shí)，交聯(lián)表層具有足夠的剝離強(qiáng)度。
同時(shí)，對(duì)比例2中的交聯(lián)表層中包括雙官能單體的感光體，對(duì)比例5中的交聯(lián)表層中僅含具有自由基聚合基團(tuán)的電荷遷移化合物的感光體，對(duì)比例8中的在交聯(lián)表層中包括低分子量電荷遷移材料的感光體，和對(duì)比例9中不具有交聯(lián)表層的感光體都可溶于有機(jī)溶劑。對(duì)比例2、5和8的交聯(lián)表層沒有充分地硬化。對(duì)比例1中的感光體在交聯(lián)表層中具有比2.50×1021/1g固體成分少的自由基聚合官能團(tuán)，和對(duì)比例6、7和10-12中的感光體雖然具有足夠的自由基聚合官能團(tuán)但卻具有小的剝離強(qiáng)度，且認(rèn)為它們的表層與下光敏層不具有足夠的粘附性。對(duì)比例3和4中的感光體具有足夠的自由基聚合官能團(tuán)、優(yōu)良的剝離強(qiáng)度和可硬化性。然而，由于含有太多雙官能單體，它們的照射部分最初具有高表面電位并且圖像密度劣化，如表5所示。
表5顯示了實(shí)施例1-16和對(duì)比例1、3、4、6、7、9、10-12制備的感光體的耐久性試驗(yàn)結(jié)果。
表5


實(shí)施例1-16制備的感光體受磨損較少并且它們的磨損量穩(wěn)定。此外，其照射部分的表面電位在生產(chǎn)30,000張圖像前后發(fā)生的改變較少。在本發(fā)明中，交聯(lián)表層和下光敏層之間的分界面也保持高的耐久性。對(duì)比例1中的具有少的自由基聚合官能團(tuán)的感光體不具有足夠的耐磨性。在具有小的剝離強(qiáng)度的對(duì)比例6、7、10-12中，由于交聯(lián)表層厚度為5μm，在交聯(lián)表層不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的對(duì)比例6的照射部分和對(duì)比例12最初具有高電位。此外，對(duì)比例12具有大的磨損量，認(rèn)為它的交聯(lián)表層不具有足夠的粘附性。具有小的剝離強(qiáng)度的對(duì)比例7、10和11的交聯(lián)表層厚度很快地減少。在交聯(lián)表層中不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的對(duì)比例3和4的照射部分最初具有很高的電位。對(duì)比例9證明，本發(fā)明的交聯(lián)表層賦予電子照相感光體高的耐磨性和穩(wěn)定的電性能。
表6顯示了實(shí)施例1-16制備得的感光體的抗裂試驗(yàn)結(jié)果。
表6

本發(fā)明的感光體沒有發(fā)生裂化，這證明其交聯(lián)表層均勻地含有具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的化合物。
(合成實(shí)施例1)把292g的1，3-二亞氨基異二氫吲哚和2,000ml的環(huán)丁砜混合，然后在氮?dú)饬髦邪?04g四丁氧基鈦(titaniumtetrabutoxide)滴入混合物中。把混合物逐漸地加熱直到混合物溫度達(dá)到180℃，并攪拌5小時(shí)，同時(shí)把反應(yīng)溫度保持在170-180℃。在混合物冷卻后，把沉淀析出物(粉末)過濾，然后用氯仿清洗直到粉末變成藍(lán)色。下一步，把粉末用甲醇清洗幾次，然后再用溫度為80℃的熱水清洗幾次，從而制得粗鈦氧基酞菁顏料。把粗鈦氧基酞菁顏料混入濃磺酸中，濃磺酸的量為粗鈦氧基酞菁顏料量的20倍，然后攪拌，從而把顏料溶解到濃磺酸中；然后一邊攪拌一邊把混合物滴入冰水中，冰水的量為混合物量的100倍；然后把沉淀析出的(precipitated)晶體過濾。接下來，把晶體用水反復(fù)清洗直到清洗后的水變成中性，從而制得鈦氧基酞菁顏料的濕濾餅。把濕濾餅充分地用離子交換水清洗，直到清洗后的離子交換水中沒有發(fā)現(xiàn)xx離子。
把20g濕濾餅放入200g的1，2-二氯乙烷中，然后將混合物攪拌4小時(shí)。在把1，000g的甲醇放入混合物且把混合物攪拌1小時(shí)后，過濾并干燥混合物，從而制得鈦氧基酞菁顏料粉末。
在下列條件下測量鈦氧基酞菁粉末的X射線衍射譜，發(fā)現(xiàn)在用Cu-Kα射線照射時(shí)，鈦氧基酞菁粉末在X射線衍射譜中，至少具有在9.6±0.2°、24.0±0.2°和27.2±0.2°的布拉格(2θ)主峰，如圖7所示。
X射線管Cu電壓40千伏電流20mA掃描速率1°/分鐘掃描范圍3-40°時(shí)間常數(shù)2秒實(shí)施例17把依照下列配方的底涂層涂布液、電荷產(chǎn)生涂布液和電荷遷移涂布液依次涂覆在鋁圓筒上并干燥，該鋁圓筒的直徑為30mm，從而形成厚度為3.5μm的底涂層、厚度為0.3μm的CGL、厚度為23μm的CTL。
采用噴涂方法，在CTL上進(jìn)一步涂覆依照下列配方的粘合層涂布液和表層涂布液。
用金屬鹵化物燈以160W/cm、120mm輻射距離和500mW/cm2輻射強(qiáng)度下照射涂覆的粘合層涂布液和表層涂布液120秒，從而使其硬化，然后在130℃下干燥20分鐘，從而制得本發(fā)明的電子照相感光體，其粘合層厚度為0.5μm、表層厚度為4μm。圖8顯示了感光體的截面掃描電子顯微鏡照片。
底涂層涂布液醇酸樹脂6
(BEKKOZOL 1307-60-EL，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)三聚氰胺樹脂4(SUPER BEKKAMIN G-821-60，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)二氧化鈦粉末40甲基乙基酮 50CGL涂布液聚乙烯醇縮丁醛 0.5(XYHL，來自Union Carbide公司)環(huán)己酮 200甲基乙基酮 80具有下式(I)的雙偶氮顏料 2.5 CTL涂布液雙酚Z聚碳酸酯 10(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)四氫呋喃100濃度1％的硅油的四氫呋喃溶液 1(KF50-100CS，來自Shin-Etsu Chemical Industry Co.，Ltd.)具有下式(II)的電荷遷移材料 7
粘合層涂布液聚芳酯(Polyarylate)1(U-POLYMER U-100，來自Unitika公司)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體 9分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.51-羥基-環(huán)己基-苯基-酮，分子量為204并且不含官能團(tuán)(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400表層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體 10分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 10(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 11-羥基-環(huán)己基-苯基-酮，分子量為204并且不含官能團(tuán)(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 100
實(shí)施例18除把該粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例17中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
聚芳酯3(U-POLYMER U-100，來自Unitika公司)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體7分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例19除把該粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例17中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
聚芳酯5(U-POLYMER U-100，來自Unitika公司)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體5分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400
實(shí)施例20除把該粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例17中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
聚芳酯7(U-POLYMER U-100，來自Unitika公司)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體3分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.51-羥基-環(huán)己基-苯基-酮，分子量為204并且不含官能團(tuán)(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例21除把該粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例17中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
聚芳酯9(U-POLYMER U-100，來自Unitika公司)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體1分子量為296、99個(gè)官能團(tuán)的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例22
把依照下列配方的底涂層涂布液、電荷產(chǎn)生涂布液和電荷遷移涂布液依次涂覆在鋁圓筒上并干燥，該鋁圓筒的直徑為30mm，從而在其上形成厚度為1.5μm的底涂層、厚度為0.3μm的CGL、厚度為23μm的CTL。
采用噴涂方法，在CTL上進(jìn)一步涂覆依照下列配方的粘合層涂布液和表層涂布液。
用金屬鹵化物燈以160W/cm、120mm輻射距離和500mW/cm2輻射強(qiáng)度下照射涂覆的粘合層涂布液和表層涂布液120秒，從而使其硬化，然后在130℃下干燥20分鐘，從而制得本發(fā)明的電子照相感光體，其粘合層厚度為0.03μm、表層厚度為4μm。
底涂層涂布液氧化鈦 40醇溶尼龍32甲醇400異丙醇 160CGL涂布液在合成實(shí)施例1中合成的鈦氧基酞菁粉末4聚乙烯醇縮丁醛 2甲基乙基酮 150CTL涂布液雙酚Z聚碳酸酯 10(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)四氫呋喃 100濃度為1％的硅油的四氫呋喃溶液 1(KF50-100CS，來自Shin-Etsu Chemical Industry Co.，Ltd.)具有下式(II)的電荷遷移材料 7
粘合層涂布液雙酚Z聚碳酸酯5(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)不具有電子遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體 5分子量為536、5.5個(gè)官能團(tuán)并且分子量/官能團(tuán)為97的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400表層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體 10分子量為536、5.5個(gè)官能團(tuán)并且分子量/官能團(tuán)為97的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 10(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 1分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮
(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃100實(shí)施例23除把粘合層厚度改變?yōu)?.06μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例24除把粘合層厚度改變?yōu)?.09μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例25除把粘合層厚度改變?yōu)?.12μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例26除把粘合層厚度改變?yōu)?.2μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例27除把粘合層厚度改變?yōu)?.5μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例28除把粘合層厚度改變?yōu)?.8μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例29除把粘合層厚度改變?yōu)?.2μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例30除把粘合層厚度改變?yōu)?μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例31除把粘合層厚度改變?yōu)?μm以外，重復(fù)實(shí)施例22中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例32除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例19中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
雙酚Z聚碳酸酯5(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體 5分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400對(duì)比例13除不涂覆粘合層涂布液以外，重復(fù)實(shí)施例17中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
圖9顯示了感光體的截面掃描電子顯微鏡照片。在圖9中，由于沒有粘合層，可以清楚地區(qū)分CTL和表層。在圖8中，粘合層存在于CTL和表層之間，而沒有分界面。
把實(shí)施例17-32和對(duì)比例13制備得到的感光體安裝在成像器(imagio)Neo270中，其使用波長為655nm的激光二極管作為成像光輻照器，并且在-700V的初始電位下在A4尺寸的來自NBS Ricoh公司的My Paper上產(chǎn)生100,000張S3圖表圖像。評(píng)價(jià)磨損性能、內(nèi)電位和圖像質(zhì)量。表7-9顯示了這些結(jié)果。
表7

表8

表9

◎很好○良好△局部性產(chǎn)生條紋圖像×均勻地產(chǎn)生條紋圖像在實(shí)施例17-32中制備的感光體具有優(yōu)良的耐磨性并且即使在產(chǎn)生100,000張圖像后產(chǎn)生優(yōu)質(zhì)的圖像(quality image)。然而，在對(duì)比例13中制備的感光體很快地被磨耗，并且在產(chǎn)生50,000張圖像后產(chǎn)生均勻地帶有條紋圖像的圖像。
實(shí)施例33把依照下列配方的底涂層涂布液、電荷產(chǎn)生涂布液和電荷遷移涂布液依次涂覆在鋁圓筒上并干燥，該鋁圓筒的直徑為30mm，從而在其上形成厚度為3.5μm的底涂層、厚度為0.3μm的CGL、厚度為23μm的CTL。
采用噴涂方法，在CTL上進(jìn)一步涂覆依照下列配方的粘合層涂布液和表層涂布液。
用金屬鹵化物燈以160W/cm、120mm輻射距離和500mW/cm2輻射強(qiáng)度下照射涂覆的粘合層涂布液和表層涂布液120秒，從而使其硬化，然后在130℃下干燥20分鐘，從而制得本發(fā)明的電子照相感光體，其粘合層厚度為0.5μm、表層厚度為4μm。
底涂層涂布液醇酸樹脂6(BEKKOZOL 1307-60-EL，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)三聚氰胺樹脂4(SUPER BEKKAMIN G-821-60，來自Dainippon Ink & Chemicals，Inc.)二氧化鈦粉末40甲基乙基酮 50CGL涂布液聚乙烯醇縮丁醛 0.5(XYHL，來自Union Carbide公司)環(huán)己酮 200甲基乙基酮 80具有下式(I)的雙偶氮顏料 2.5
CTL涂布液雙酚Z聚碳酸酯10(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)四氫呋喃 100濃度為1％的硅油的四氫呋喃溶液1(KF50-100CS，來自Shin-Etsu Chemical Industry Co.，Ltd.)具有下式(II)的電荷遷移材料 7 粘合層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體 5在25℃下粘度為8mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二丙烯酸1，4-丁二醇酯(SR213，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物 5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400
表層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體10分子量為296、分子量/官能團(tuán)為99的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD TMPTA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物10(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 1分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 100實(shí)施例34除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為12mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二丙烯酸二甘醇酯(SR230，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例35除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為20mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二丙烯酸四甘醇酯(SR268，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)
具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例36除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為15mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二丙烯酸三甘醇酯(SR272，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例37除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為15mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的丙氧基化二丙烯酸新戊二醇酯(Propoxylated neopentylglycoldiacrylate)(SR268，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮
(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例38除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為0.81mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的丙烯酸正丁酯(來自TOKYO KASEI KOGYO公司)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例39除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為24mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的丙烯酸正丁酯(SR560，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物54)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400對(duì)比例14除不涂覆粘合層涂布液以外，重復(fù)實(shí)施例33中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
把實(shí)施例33-39和對(duì)比例14制備得到的感光體安裝在成像器(imagio)Neo270中，其使用波長為655nm的激光二極管作為成像光輻照器，并且在-700V的初始電位下在A4尺寸的來自NBS Ricoh公司的My Paper上產(chǎn)生100,000張S3圖表圖像。評(píng)價(jià)磨損性能、內(nèi)電位并且圖像質(zhì)量。結(jié)果示于表10-12中。
表10

表11

表12

◎很好○良好△局部性產(chǎn)生條紋圖像×均勻地產(chǎn)生條紋圖像實(shí)施例40把依照下列配方的底涂層涂布液、電荷產(chǎn)生涂布液和電荷遷移涂布液依次涂覆在鋁圓筒上并干燥，該鋁圓筒的直徑為30mm，從而在其上形成厚度為1.0μm的底涂層、厚度為0.3μm的CGL、厚度為23μm的CTL。
采用噴涂方法，在CTL上進(jìn)一步涂覆依照下列配方的粘合層涂布液和表層涂布液。
用金屬鹵化物燈以160W/cm、120mm輻射距離和500mW/cm2輻射強(qiáng)度下照射涂覆的粘合層涂布液和表層涂布液120秒，從而使其硬化，然后在130℃下干燥20分鐘，從而制得本發(fā)明的電子照相感光體，其粘合層厚度為0.03μm、表層厚度為4μm。
底涂層涂布液氧化鈦 40醇溶尼龍32甲醇400異丙醇 160CGL涂布液在合成實(shí)施例1中合成的鈦氧基酞菁粉末4聚乙烯醇縮丁醛 2(S-LEC BM-S，來自Sekisui CHEMICALS Co.，LTD.)甲基乙基酮 150CTL涂布液雙酚Z聚碳酸酯 10(Panlite TS-2050，來自TEIJIN CHEMICALS LTD.)四氫呋喃 100濃度為1％的硅油的四氫呋喃溶液 1(KF50-100CS，來自Shin-Etsu Chemical Industry Co.，Ltd.)具有下式(II)的電荷遷移材料 7
粘合層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為7mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二甲基丙烯酸1，4-丁二醇酯(SR214，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400表層涂布液不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能的自由基聚合單體10分子量為536、5.5個(gè)官能團(tuán)并且分子量/官能團(tuán)為97的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物10(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 1分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 100
實(shí)施例41除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為8mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二甲基丙烯酸二甘醇酯(SR231E，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例42除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為14mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二甲基丙烯酸四甘醇酯(SR209，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例43除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為11mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二甲基丙烯酸三甘醇酯(SR205，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例44除把粘合層替換成具有下列配方的粘合層以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的雙或多官能的自由基聚合單體5在25℃下粘度為8mPA·s的具有2個(gè)官能團(tuán)的二甲基丙烯酸新戊二醇酯(SR248，來自NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能的自由基聚合化合物5(示例性化合物105)光聚合引發(fā)劑 0.5分子量為204并且不含官能團(tuán)的1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(IRGACURE 184，來自CIBA SPECIALTY CHEMICALS)四氫呋喃 400實(shí)施例45除把粘合層厚度改變?yōu)?.05μm以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
實(shí)施例46
除把粘合層厚度改變?yōu)?μm以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
對(duì)比例15除不涂覆粘合層涂布液以外，重復(fù)實(shí)施例40中制備電子照相感光體的步驟來制備電子照相感光體。
把實(shí)施例40-46和對(duì)比例15制備得到的感光體安裝在成像器(imagio)Neo270中，其使用波長為655nm的激光二極管作為成像光輻照器，并且在-700V初始電位下在A4尺寸的來自NBS Ricoh公司的My Paper上產(chǎn)生100,000張S3圖表圖像。評(píng)價(jià)磨損性能、內(nèi)電位和圖像質(zhì)量。結(jié)果示于表13-15中。
表13

表14

表15

◎很好○良好△局部性產(chǎn)生條紋圖像×均勻地產(chǎn)生條紋圖像在實(shí)施例33-46中制備的感光體具有優(yōu)良的耐磨性并且在產(chǎn)生100,000張圖像后產(chǎn)生優(yōu)質(zhì)的圖像(quality image)。然而，在對(duì)比例14和15中制備的感光體很快地被磨耗，并且在產(chǎn)生50,000張圖像后產(chǎn)生均勻地帶有條紋圖像的圖像。
本申請(qǐng)要求日本專利申請(qǐng)2005-205998、2005-198071和2005-198531的優(yōu)先權(quán)，并且含有與這些日本專利申請(qǐng)有關(guān)的主題，這些日本專利申請(qǐng)分別在2005年7月14日、2005年7月6日和2005年7月7日提交，其全部內(nèi)容在此作為參考文獻(xiàn)引入。
現(xiàn)已對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了充分描述，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以顯見，不超出在此闡述的本發(fā)明的精神和范圍，可對(duì)本發(fā)明作出很多改變和改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種電子照相感光體，包括導(dǎo)電性基材，和光敏層，該光敏層至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體，和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物；其中該光敏層所含自由基聚合官能團(tuán)的量為在1g光敏層固體成分中有2.55×1021-7.50×1021，并且當(dāng)用SAICAS方法測量時(shí)光敏層的剝離強(qiáng)度不少于0.1N/mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中該電荷遷移結(jié)構(gòu)是選自三芳基胺結(jié)構(gòu)、腙結(jié)構(gòu)、二氫化吡唑結(jié)構(gòu)和咔唑結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光體，其中該電荷遷移結(jié)構(gòu)是三芳基胺結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體具有選自丙烯酰氧基和甲基丙烯酰氧基的三個(gè)或多個(gè)官能團(tuán)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，進(jìn)一步包括表層；和位于光敏層和表層之間的粘合層，其中該表層至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體，和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子照相感光體，其中存在該粘合層且沒有分界面。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的電子照相感光體，其中該粘合層至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體和粘合劑樹脂。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子照相感光體，其中該不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體的粘度在25℃下為1-20mPa·s。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的電子照相感光體，其中該不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體可以是雙官能的。
10.根據(jù)權(quán)利要求5-9中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該粘合層進(jìn)一步包括具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求5-10中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該光敏層還包括該粘合劑樹脂。
12.根據(jù)權(quán)利要求5-11中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該粘合劑樹脂至少包括聚碳酸酯樹脂。
13.根據(jù)權(quán)利要求5-12中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該粘合層包括含量為10-90重量％的不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物、以及粘合劑樹脂，以粘合層總重量計(jì)。
14.根據(jù)權(quán)利要求5-13中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該粘合層的厚度為0.05-5μm。
15.根據(jù)權(quán)利要求5-14中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該粘合層的厚度為0.1-5μm。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-15中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該光敏層進(jìn)一步包括鈦氧基酞菁作為電荷產(chǎn)生材料。
17.根據(jù)權(quán)利要求1-16中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該鈦氧基酞菁包括具有包括多個(gè)衍射峰的Cu-KαX射線衍射譜的晶形，且其中在9.6°、24.0°和27.2°的布拉格(2θ)角度觀察到主峰，且這些角度可以在±0.2°的范圍內(nèi)改變。
18.根據(jù)權(quán)利要求1-17中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該光敏層是單層光敏層。
19.根據(jù)權(quán)利要求1-18中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中該光敏層是多層光敏層，進(jìn)一步包括電荷產(chǎn)生層；和覆蓋在該電荷產(chǎn)生層上的電荷遷移層。
20.一種制備權(quán)利要求1-19中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體的方法，包括至少將該不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體、該具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物溶解在溶劑中，從而制得涂布液，該溶劑具有不高于100毫米汞柱/25℃的飽和蒸氣壓力；把該涂布液涂覆到該電子照相感光體表面上；并且聚合該涂布液，從而在該電子照相感光體上形成最外層。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中該溶劑的沸點(diǎn)為60-150℃。
22.根據(jù)權(quán)利要求20或21的方法，其中該溶劑的溶度參數(shù)為8.5-11.0。
23.根據(jù)權(quán)利要求20-22中任一項(xiàng)所述的方法，其中該溶劑選自乙酸丁酯和環(huán)己酮。
24.根據(jù)權(quán)利要求20-23中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括在該最外層上涂覆粘合層涂布液；在該粘合層上涂覆表層涂布液；并且聚合該涂布液，從而形成該粘合層和表層。
25.一種成像方法，包括對(duì)權(quán)利要求1-19中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體進(jìn)行充電；照射該電子照相感光體，從而在該電子照相感光體上形成靜電潛像；用調(diào)色劑顯影該靜電潛像，從而在該電子照相感光體上形成調(diào)色劑圖像；以及把該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到接收材料上。
26.一種電子照相成像裝置，包括權(quán)利要求1-19中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體；構(gòu)置以對(duì)該電子照相感光體充電的充電器；構(gòu)置以用光照射該電子照相感光體的輻照器，以在該感光體上形成靜電潛像；構(gòu)置以用調(diào)色劑顯影該靜電潛像的圖像顯影器，以在該電子照相感光體上形成調(diào)色劑圖像；以及構(gòu)置以把該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到接收材料上的轉(zhuǎn)印器。
27.一種可從成像裝置中拆卸的處理盒，包括權(quán)利要求1-19中任一項(xiàng)所述的該電子照相感光體；以及充電器、圖像顯影器、轉(zhuǎn)印器、清潔器和放電器中的至少一種。
全文摘要
電子照相感光體，至少包括導(dǎo)電性基材和光敏層，該光敏層至少包括不具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的三或多官能自由基聚合單體和具有電荷遷移結(jié)構(gòu)的單官能自由基聚合化合物，其中光敏層所含自由基聚合官能團(tuán)的量為2.55×10
文檔編號(hào)G03G15/00GK1912751SQ200610105428
公開日2007年2月14日 申請(qǐng)日期2006年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月6日
發(fā)明者梁川宜輝, 河崎佳明, 鈴木哲郎 申請(qǐng)人:株式會(huì)社理光