專利名稱：檢查方法及采用該檢查方法的液晶顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及檢查方法及采用該方法的液晶顯示裝置的制造方法，特別涉及通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案時(shí)的接縫的檢查方法及采用該檢查方法的液晶顯示裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
一般，采用TFT(Thin Film Transistor)的液晶顯示裝置中，在一方襯底上設(shè)有利用照相制版形成的TFT。照相制版通過曝光裝置，將預(yù)定圖案形成于襯底上，但襯底較大時(shí)難以用一片掩模統(tǒng)一曝光。因此，隨著襯底的大型化，需要將襯底分多個(gè)區(qū)域，利用多個(gè)掩模進(jìn)行曝光并形成預(yù)定圖案。
但是，將襯底分多個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)，各區(qū)域上形成的圖案之間的接縫上會(huì)出現(xiàn)問題。即，根據(jù)曝光裝置的機(jī)械誤差或掩模本身的制造誤差，曝光時(shí)的照射期間圖案位置偏移方向不同，且有區(qū)域重疊部分圖案接縫上產(chǎn)生偏移的情況。
該接縫的偏移在襯底上形成TFT時(shí)使晶體管特性變化。另外，當(dāng)晶體管特性變化較大時(shí)，與正常晶體管特性的部分之差異變大，作為顯示不勻而被人們辨別。該顯示不勻也稱為照射不勻，有時(shí)成為不合格顯示屏。
為了減少由接縫的偏移導(dǎo)致的顯示不勻，在專利文獻(xiàn)1和專利文獻(xiàn)2中公開了利用人的視認(rèn)性的方案。在專利文獻(xiàn)1或?qū)＠墨I(xiàn)2中，設(shè)有曝光的一方區(qū)域與另一方區(qū)域重疊的重疊區(qū)域，在該重疊區(qū)域內(nèi)，任意設(shè)置對(duì)一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分和對(duì)另一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分。還有，對(duì)一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分在對(duì)另一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)成為非曝光部分。相反，對(duì)另一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分在對(duì)一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)成為非曝光部分。
在專利文獻(xiàn)1和專利文獻(xiàn)2中，通過在重疊區(qū)域內(nèi)任意混合對(duì)一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分與對(duì)另一方區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)曝光的部分，并不使一方區(qū)域與另一方區(qū)域以直線狀縫合，令人們難以分辨接縫偏移導(dǎo)致的顯示不勻。
專利文獻(xiàn)1日本特開2003-315831號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本再公表特許WO95/16276號(hào)發(fā)明內(nèi)容但是，即使使用專利文獻(xiàn)1或?qū)＠墨I(xiàn)2所示的方法，在襯底上形成的各層重疊精度更嚴(yán)格的場(chǎng)合，或因曝光裝置的機(jī)械誤差、掩模的制造誤差而存在顯示不勻?yàn)槿怂直娴膯栴}。
特別是，在襯底上圖案形成第一層的照相制版的第一工序中，襯底上絲毫沒有設(shè)置用以定位曝光的區(qū)域的基準(zhǔn)(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)。因此，根據(jù)在曝光的掩模上形成的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和支撐襯底的臺(tái)上的定位標(biāo)記的相對(duì)位置，進(jìn)行曝光的區(qū)域的定位。還有，在第二工序以后，可利用第一工序的圖案上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，進(jìn)行曝光的區(qū)域的定位。
因此，在第二工序以后，曝光的各區(qū)域的定位精度受第一工序的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之影響。就是說，若第一工序中定位精度較差，則圖案接縫的精度也變差，在采用專利文獻(xiàn)1或?qū)＠墨I(xiàn)2時(shí)也能分辨顯示不勻。
舉具體例，則通過照相制版的第一工序(以下簡(jiǎn)稱為第一工序)在襯底上形成柵極圖案，通過照相制版的第二工序(以下簡(jiǎn)稱為第二工程)形成硅的蝕刻圖案，且通過照相制版的第三工序(以下簡(jiǎn)稱為第三工序)分別形成源極圖案及漏極圖案。通過第一工序至第三工序，在襯底上形成晶體管。
第一工序中，如上述說明那樣襯底上不存在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，因此由曝光裝置的機(jī)械誤差或掩模的制造誤差等，有時(shí)圖案接縫的精度變差。若第一工序中形成的圖案接縫的精度較差，則會(huì)影響第二工序的圖案及第三工序的圖案，硅的蝕刻圖案與源極圖案或漏極圖案的端部重疊，該部位上容易發(fā)生漏電。
若使上述那樣的液晶顯示屏顯示，在圖案的接縫部分會(huì)發(fā)生漏電，使像素的充電特性產(chǎn)生偏差，會(huì)有引起稱為閃爍現(xiàn)象的顯示不良的情況。
另外，若存在多臺(tái)可形成第一工序的圖案的曝光裝置，由于曝光裝置間的機(jī)械誤差，即使在相同條件設(shè)定下進(jìn)行曝光，圖案的接縫精度在各曝光裝置間也不同。在形成第一工序的圖案的襯底上，形成第二工序的圖案時(shí)，若第一工序中的圖案的接縫精度在曝光裝置之間有偏差，則難以調(diào)整第二工序中的圖案的接縫精度。
具體地說，在形成第二工序的圖案時(shí)，需要確認(rèn)用哪個(gè)曝光裝置形成第一工序的圖案，并對(duì)照該確認(rèn)結(jié)果設(shè)定第二工序的曝光條件，因此存在生產(chǎn)性低的問題。
于是，本發(fā)明提供定量測(cè)量圖案的接縫精度，并可提高圖案接縫精度的檢查方法及采用該檢查方法的液晶顯示裝置的制造方法。
本發(fā)明的解決方法，是在通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案時(shí)，檢查不同曝光造成的圖案的接縫精度的檢查方法，包括以下步驟測(cè)量在多個(gè)區(qū)域中的第一區(qū)域與第二區(qū)域重疊的重疊區(qū)域中，有關(guān)第一區(qū)域的曝光的第一圖案要素和與第一圖案要素大致平行配置的有關(guān)第一區(qū)域的曝光的第二圖案要素的第一距離的步驟；測(cè)量在重疊區(qū)域中，與有關(guān)第二區(qū)域的曝光的第一圖案要素縫合的第三圖案要素和第二圖案要素的第二距離的步驟；以及求第一距離和第二距離的差值并將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟。
本發(fā)明記載的檢查方法具備求第一距離和第二距離的差值并將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟，因此具有可定量管理圖案的接縫精度，并可提高圖案的接縫精度的效果。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例1的曝光的區(qū)域的示圖。
圖2是表示本發(fā)明實(shí)施例1的液晶顯示裝置的平面圖。
圖3是表示本發(fā)明實(shí)施例1的將柵極布線及電容布線圖案形成的襯底的平面圖。
圖4是表示本發(fā)明實(shí)施例1的重疊區(qū)域上的接縫的平面圖。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例1的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖6是說明本發(fā)明實(shí)施例1的液晶顯示裝置中效果的平面圖。
圖7是說明本發(fā)明實(shí)施例1的液晶顯示裝置中效果的平面圖。
圖8是表示本發(fā)明實(shí)施例2的液晶顯示裝置中使用的掩模的平面圖。
圖9是表示本發(fā)明實(shí)施例2的液晶顯示裝置的測(cè)量圖案的平面圖。
圖10是說明本發(fā)明實(shí)施例2的液晶顯示裝置的測(cè)量圖案的平面圖。
圖11是表示本發(fā)明實(shí)施例2的另一液晶顯示裝置的測(cè)量圖案的平面圖。
圖12是表示本發(fā)明實(shí)施例2的另一液晶顯示裝置中使用的掩模的平面圖。
(符號(hào)說明)1、2、21、22、23、24 區(qū)域，3、25 重疊區(qū)域，4 柵極布線，5 電容布線，6 硅層，7 源極布線，8 漏電極，9 接縫，10、11 距離，12 像素部，13 非圖案部分，14、15、26、27 測(cè)量圖案，16、17 距離。
具體實(shí)施例方式
(實(shí)施例1)通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案的場(chǎng)合，特別是，在本實(shí)施例中，如圖1(a)所示設(shè)有兩個(gè)區(qū)域，按每個(gè)區(qū)域利用掩模進(jìn)行曝光，在襯底上形成一個(gè)圖案。圖1(a)中示出左側(cè)用細(xì)線表示的區(qū)域1和右側(cè)用粗線表示的區(qū)域2。在襯底上將區(qū)域1及區(qū)域2曝光時(shí)，并非簡(jiǎn)單并列區(qū)域1、2地曝光，而是如圖1(b)所示設(shè)有區(qū)域1和區(qū)域2重疊的重疊區(qū)域3地曝光。還有，從區(qū)域1開始曝光還是從區(qū)域2開始曝光均可。另外，重疊區(qū)域3是未圖示的區(qū)域1曝光時(shí)曝光而區(qū)域2曝光時(shí)不曝光的區(qū)域和區(qū)域2曝光時(shí)曝光而區(qū)域1曝光時(shí)不曝光的區(qū)域混合的區(qū)域。
在圖2示出如圖1(b)那樣分兩個(gè)區(qū)域1、2曝光并形成的圖案。圖2中示意表示除重疊區(qū)域3以外的區(qū)域1、除重疊區(qū)域3以外的區(qū)域2及重疊區(qū)域3上分別形成的柵極布線4、電容布線5、硅層6、源極布線7及漏電極8的預(yù)定圖案。這些圖案如在解決發(fā)明的課題中說明的那樣，在照相制版的各工序中圖案形成。具體地說，在照相制版的第一工序中形成柵極布線4和電容布線5的圖案，在照相制版的第二工序中形成硅層6的圖案，在照相制版的第三工序中形成源極布線7及漏電極8的圖案。
另外，如在背景技術(shù)中說明的那樣，對(duì)重疊區(qū)域3中的圖案的接縫精度而言照相制版第一工序的圖案重要。因此，本實(shí)施例中，就定量檢查第一工序的圖案中的接縫精度的檢查方法進(jìn)行說明。因此，圖3示出在第一工序中僅形成柵極布線4及電容布線5的圖案的時(shí)刻的襯底。
在圖3所示的重疊區(qū)域3中，設(shè)有虛線內(nèi)側(cè)的區(qū)域3A和虛線外側(cè)的區(qū)域3B。區(qū)域3A是區(qū)域1曝光時(shí)曝光的區(qū)域，區(qū)域3B是區(qū)域2曝光時(shí)曝光的區(qū)域。還有，區(qū)域1曝光時(shí)曝光的區(qū)域3A是在區(qū)域2曝光時(shí)的非曝光部分，區(qū)域2曝光時(shí)曝光的區(qū)域3B是在區(qū)域1曝光時(shí)的非曝光部分。
因此，在圖3所示的重疊區(qū)域3中，存在經(jīng)區(qū)域1的曝光圖案形成的柵極布線4及電容布線5和經(jīng)區(qū)域2的曝光圖案形成的柵極布線4及電容布線5縫合的部分。該縫合的部分(接縫9)如圖3所示，圖案成為以三角狀向內(nèi)側(cè)進(jìn)入的形狀。因此，可通過利用顯微鏡等觀察來確認(rèn)接縫9。還有，接縫9的狀態(tài)還有圖案不成為三角狀向內(nèi)側(cè)進(jìn)入的形狀，而產(chǎn)生段差的形狀的場(chǎng)合。
圖4(a)示出放大重疊區(qū)域3內(nèi)的圖。圖4(a)中示出照相制版的第一工序中圖案形成的柵極布線4及電容布線5，但從虛線下側(cè)的區(qū)域(以下簡(jiǎn)稱為區(qū)域3A)是區(qū)域1曝光時(shí)曝光的區(qū)域3A，且為區(qū)域2曝光時(shí)的非曝光部分。另一方面，從虛線上側(cè)的區(qū)域(以下簡(jiǎn)稱為區(qū)域3B)是區(qū)域2曝光時(shí)曝光的區(qū)域3B，且為區(qū)域1曝光時(shí)的非曝光部分。
就是說，經(jīng)區(qū)域1的曝光圖案形成柵極布線4的虛線左側(cè)部分和電容布線5，經(jīng)區(qū)域2的曝光圖案形成柵極布線4的虛線右側(cè)部分。還有，本發(fā)明并不限于上述場(chǎng)合，可為經(jīng)區(qū)域1的曝光圖案形成柵極布線4的虛線右側(cè)部分，經(jīng)區(qū)域2的曝光圖案形成柵極布線4的虛線左側(cè)部分和電容布線5的結(jié)構(gòu)。
接著，本實(shí)施例中，柵極布線4與電容布線5的距離以柵極布線4的接縫9(區(qū)域3A和區(qū)域3B的邊界)為邊界在兩側(cè)測(cè)量。就是說，如圖4(a)所示，分別測(cè)量相對(duì)電容布線5的到區(qū)域3A的柵極布線4為止的距離10和相對(duì)電容布線5的到區(qū)域3B的柵極布線4為止的距離11。這里，測(cè)量的柵極布線4與電容布線5的距離是指從柵極布線4到與柵極布線4大致平行設(shè)置的電容布線5部分為止的最短距離。
然后，通過算出測(cè)量的距離10與距離11的差值，可將圖案(柵極布線4)的接縫9的精度定量化。這是由于所測(cè)量的距離10是基于在區(qū)域3A內(nèi)同時(shí)圖案形成的柵極布線4及電容布線5來測(cè)量的距離，而所測(cè)量的距離11是基于在區(qū)域3B內(nèi)圖案形成的柵極布線4和區(qū)域3A內(nèi)圖案形成的電容布線5來測(cè)量的距離，通過求兩者之差值，可將接縫9的精度定量化。
在圖4(a)所示的例中，距離10與距離11幾乎沒有差距，如圖4(b)所示，柵極布線4的接縫9成為段差的形狀時(shí)，距離10與距離11的差值較大。圖4(b)中示出距離10相對(duì)距離11較大的例，但根據(jù)接縫9的狀態(tài)也有相反的情況。
如圖4(b)那樣距離10和距離11的差值較大，該差值在預(yù)定值以上時(shí)進(jìn)行曝光裝置的校正。這里，預(yù)定值由設(shè)計(jì)或過去生產(chǎn)數(shù)據(jù)等求出的目標(biāo)值，若為該目標(biāo)值以上，則發(fā)生顯示不勻等不良的可能性高。
圖5是表示將第一層圖案形成在襯底上的照相制版的第一工序中使用的液晶顯示裝置的制造方法的流程圖。首先，在步驟S1中，基于所設(shè)定的曝光條件進(jìn)行圖案化。在步驟S2中，對(duì)于在步驟S1中圖案化的圖案(圖4(a)(b)的例中，柵極布線4及電容布線5)，使用上述描述的檢查方法將接縫的精度定量化并測(cè)量。具體地說，在圖4(a)(b)的例中，測(cè)量重疊區(qū)域3中區(qū)域1曝光時(shí)形成的柵極布線4和與柵極布線4大致平行配置的電容布線5的距離10，區(qū)域2曝光時(shí)形成區(qū)域3B，測(cè)量與區(qū)域3A的柵極布線4縫合的柵極布線4和電容布線5的距離11，并測(cè)量距離10與距離11的差值，將接縫9的精度定量化。還有，具有測(cè)量的差值較小的接縫9的精度較高，測(cè)量的差值較大的接縫精度較低的關(guān)系。
在步驟S3中，判定步驟S2中測(cè)量的差值(具體為距離10與距離11的差值)是否在預(yù)定值以上。在步驟S3中，測(cè)量的差值(接縫的精度值)在預(yù)定值以上時(shí)進(jìn)入步驟S4，測(cè)量的差值小于預(yù)定值時(shí)進(jìn)入步驟S5。
步驟S4中，使測(cè)量的差值小于預(yù)定值地校正曝光裝置的曝光條件。作為校正的該曝光條件，例如有調(diào)整曝光的區(qū)域1及區(qū)域2的位置等。另一方面，測(cè)量的差值小于預(yù)定值時(shí)，在步驟S5中生產(chǎn)即開始照相制版的第一工序。
如上所述，本實(shí)施例的檢查方法通過測(cè)量接縫9兩側(cè)的圖案之間距離10、11取得差值，可將接縫的精度定量化。另外，通過將接縫的精度定量化，可管理接縫的精度，并可提高接縫的精度。
另外，本實(shí)施例的液晶顯示裝置的制造方法利用將接縫精度定量化的檢查方法校正生產(chǎn)準(zhǔn)備階段的曝光裝置，因此可提高接縫精度，并可減小因接縫精度差而產(chǎn)生的顯示不良(例如，照射不勻等)。具體地說，在照相制版的第一工序中，如圖4(b)那樣接縫精度較低時(shí)，其后，即使進(jìn)行第二工序及第三工序也如圖7所示接縫精度受第一工序的精度影響。因此，如圖7所示，存在硅層6端部與柵極布線4端部重疊，并發(fā)生顯示不良的場(chǎng)合。但是，在本實(shí)施例中，進(jìn)行上述的曝光裝置的校正，因此在照相制版的第一工序中如圖4(a)那樣接縫的精度變高，其后，即使進(jìn)行第二工序及第三工序也如圖6所示接縫的精度變高，因此可減少顯示不良。
(實(shí)施例2)本實(shí)施例中，示出與實(shí)施例1所示的檢查方法不同的另一檢查方法。另外，本實(shí)施例中，也將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案。因此，如圖1(a)所示那樣分區(qū)域1及區(qū)域2而在襯底上圖案形成預(yù)定圖案。但是，區(qū)域1及區(qū)域2并非在該區(qū)域內(nèi)全部形成圖案，而是只在區(qū)域的一部分(以下也稱為像素部)形成圖案，其以外成為不形成圖案的非圖案形成部分。還有，像素部構(gòu)成襯底上形成的預(yù)定圖案之一部分。
具體地說，圖8示出用于區(qū)域1及區(qū)域2的掩模。圖8所示的掩模在中央部設(shè)有使像素部12曝光的掩模圖案。然后，圖8所示的掩模中，在非圖案形成部分13的像素部12旁邊設(shè)有測(cè)量圖案14、15。
圖8中，設(shè)于區(qū)域1下側(cè)的測(cè)量圖案14，外側(cè)為較大的四邊形的測(cè)量圖案14a、內(nèi)側(cè)為較小的四邊形的測(cè)量圖案14b。另外，設(shè)于區(qū)域2上側(cè)的測(cè)量圖案15，外側(cè)為較小的四邊形的測(cè)量圖案15a、內(nèi)側(cè)為較大的四邊形的測(cè)量圖案15b。用該測(cè)量圖案14a、15b曝光，從而能夠在襯底上形成四邊形的圖案。另一方面，通過用測(cè)量圖案14b、15a曝光，能夠在襯底上形成抽出四邊形的圖案。
還有，在圖8中，區(qū)域1上側(cè)及區(qū)域2下側(cè)也設(shè)有測(cè)量圖案14、15，這在區(qū)域1的更上側(cè)或區(qū)域2的更下側(cè)重疊其它區(qū)域的場(chǎng)合使用。
如此，使用圖8所示的兩片掩模，通過在襯底上曝光圖案，測(cè)量圖案14、15在襯底上圖案形成。圖9是測(cè)量圖案14、15圖案形成的襯底的概略圖。圖9中區(qū)域1和區(qū)域2形成重疊區(qū)域3，在該重疊區(qū)域3內(nèi)測(cè)量圖案14和測(cè)量圖案15重疊。具體地說，在四邊形的測(cè)量圖案14a上形成抽取測(cè)量圖案15a的圖案，在四邊形的測(cè)量圖案15b上形成抽取測(cè)量圖案14b的圖案。
本實(shí)施例中，這樣將測(cè)量圖案14與測(cè)量圖案15重疊形成，測(cè)量相對(duì)測(cè)量圖案14的測(cè)量圖案15位置，從而將接縫精度定量化。具體地說，圖10(a)表示設(shè)于像素部12兩側(cè)的測(cè)量圖案14b及測(cè)量圖案15b的放大圖。圖10(a)中，從測(cè)量圖案14b端邊開始到測(cè)量圖案15b端邊為止的左右方向距離16用細(xì)線箭頭表示，從測(cè)量圖案14b端邊開始測(cè)量圖案15b端邊為止的上下方向距離17用粗線箭頭表示。
圖10(a)中，像素部12兩側(cè)的距離16、17彼此相等，因此定量得知接縫精度高的情況。另一方面，如圖10(b)所示，像素部12兩側(cè)的距離16、17相互不同時(shí)，定量得知接縫精度低的情況。具體定量化方法，例如考慮求出從像素部12左側(cè)中的測(cè)量圖案14b上端邊開始到測(cè)量圖案15b上端邊為止的距離17與從像素部12右側(cè)中的測(cè)量圖案14b上端邊開始到測(cè)量圖案15b上端邊為止的距離17之差值的方法。這樣將接縫精度定量化的檢查方法也可適用圖5所示的流程圖。就是說，取代圖5所示的步驟S2的檢查方法，可采用本實(shí)施例的檢查方法。
接著，圖11表示將襯底分四個(gè)區(qū)域，且在各區(qū)域采用不同掩模形成預(yù)定圖案時(shí)的概略圖。圖11中形成區(qū)域21、22、23、24分別相互重疊的重疊區(qū)域25。另外，圖11中在各區(qū)域的像素部12附近形成測(cè)量圖案26、27。
圖12中示出在襯底上曝光如圖11那樣的圖案的掩模。圖12所示的區(qū)域21的掩模，在像素部12上側(cè)及左側(cè)旁邊設(shè)有形成測(cè)量圖案26的掩模圖案。通過將該掩模圖案曝光，可在襯底上形成較大四邊形的測(cè)量圖案26。圖12所示的區(qū)域22的掩模，在像素部12上側(cè)及右側(cè)旁邊設(shè)有形成測(cè)量圖案27的掩模圖案。通過將該掩模圖案曝光，可在襯底上形成抽取較小四邊形的圖案(測(cè)量圖案)27。
圖樣，圖12所示的區(qū)域23的掩模，在像素部12下側(cè)及左側(cè)旁邊設(shè)有形成測(cè)量圖案27的掩模圖案。圖12所示的區(qū)域24的掩模，在像素部12下側(cè)及右側(cè)旁邊設(shè)有形成測(cè)量圖案26的掩模圖案。
然后，利用圖12所示的四個(gè)掩模，在襯底上將圖案曝光。作為圖案形成的結(jié)果得到圖11的圖案，如圖10(a)(b)所示那樣測(cè)量相對(duì)測(cè)量圖案26的測(cè)量圖案27的位置。從而，可將接縫精度定量化。該方法可適用圖5所示的流程圖，從而能夠提高接縫精度。
還有，如圖11所示分四個(gè)區(qū)域分別曝光時(shí)，由于一個(gè)區(qū)域的兩個(gè)邊與其它區(qū)域重疊的關(guān)系，不能將測(cè)量圖26、27配置在像素部12的一個(gè)對(duì)角線上。若在像素部12四角設(shè)置測(cè)量圖案26、27，則測(cè)量圖案26、27在相鄰的區(qū)域內(nèi)被圖案化。
但是，將測(cè)量圖案26、27只配置在像素部12的一個(gè)對(duì)角線上時(shí)，與在像素部12四角設(shè)置測(cè)量圖案26、27的場(chǎng)合相比，得到的有關(guān)接縫精度的信息較少，因此不能進(jìn)行充分的校正。在這種情況下，分析像素部12內(nèi)的圖案，并預(yù)先除去各區(qū)域的旋轉(zhuǎn)分量后，適用上述的方法即可。
如上所述，本實(shí)施例的檢查方法中，在預(yù)定圖案的一部分(像素部12)旁邊設(shè)有測(cè)量圖案14、15、26、27，并通過測(cè)量相對(duì)測(cè)量圖案14、26的測(cè)量圖案15、27的位置，可將接縫精度定量化，并可管理接縫精度，并可提高接縫精度。
權(quán)利要求
1.一種檢查方法，在通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案時(shí)，檢查不同曝光造成的圖案的接縫精度，包括以下步驟測(cè)量在所述多個(gè)區(qū)域中的第一區(qū)域與第二區(qū)域重疊的重疊區(qū)域中，有關(guān)所述第一區(qū)域的曝光的第一圖案要素和與所述第一圖案要素大致平行配置的有關(guān)所述第一區(qū)域的曝光的第二圖案要素的第一距離的步驟；測(cè)量在所述重疊區(qū)域中，與有關(guān)所述第二區(qū)域的曝光的所述第一圖案要素縫合的第三圖案要素和所述第二圖案要素的第二距離的步驟；以及求所述第一距離和所述第二距離的差值并將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟。
2.一種檢查方法，在通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案時(shí)，檢查不同曝光造成的圖案的接縫精度，包括以下步驟在所述多個(gè)區(qū)域中的第一區(qū)域與第二區(qū)域重疊的重疊區(qū)域，所述預(yù)定圖案外設(shè)置有關(guān)所述第一區(qū)域的曝光的第一測(cè)量圖案的步驟；在所述重疊區(qū)域，所述預(yù)定圖案外設(shè)置有關(guān)所述第二區(qū)域的曝光的第二測(cè)量圖案的步驟；以及通過測(cè)量所述第二測(cè)量圖案相對(duì)所述第一測(cè)量圖案的位置，將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟。
3.一種液晶顯示裝置的制造方法，包含通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案的工序，其中包括以下步驟(a)對(duì)于襯底上的第一層形成所述預(yù)定圖案的步驟；(b)利用權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的檢查方法，將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟；(c)判定測(cè)量的所述接縫精度值是否在預(yù)定值以上的步驟；(d)若在所述步驟(c)中判定所述接縫精度值在預(yù)定值以上，則校正所述第一區(qū)域及所述第二區(qū)域的曝光位置，并對(duì)新的所述襯底進(jìn)行所述步驟(a)、(b)的步驟；以及(e)若在所述步驟(c)中所述接縫精度值小于預(yù)定值，則基于設(shè)定的條件開始生產(chǎn)的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供定量測(cè)量圖案的接縫精度，并可提高圖案接縫精度的檢查方法及采用該檢查方法的液晶顯示裝置的制造方法。本發(fā)明的、在通過將襯底分多個(gè)區(qū)域后分別曝光來形成預(yù)定圖案時(shí)，檢查不同曝光造成的圖案的接縫精度的檢查方法，包括以下步驟測(cè)量在多個(gè)區(qū)域中的第一區(qū)域與第二區(qū)域重疊的重疊區(qū)域中，有關(guān)第一區(qū)域的曝光的第一圖案要素和與第一圖案要素大致平行配置的有關(guān)第一區(qū)域的曝光的第二圖案要素的第一距離的步驟；測(cè)量在重疊區(qū)域中，與有關(guān)第二區(qū)域的曝光的第一圖案要素縫合的第三圖案要素和第二圖案要素的第二距離的步驟；以及求第一距離和第二距離的差值并將接縫精度定量化并測(cè)量的步驟。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1873538SQ20061007927
公開日2006年12月6日 申請(qǐng)日期2006年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月1日
發(fā)明者山下敏廣 申請(qǐng)人:三菱電機(jī)株式會(huì)社