專利名稱：曝光裝置及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將襯底曝光的曝光裝置及器件制造方法本申請(qǐng)基于2004年11月1日申請(qǐng)的日本專利特愿2004-318017號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，并在這里引用其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
在作為半導(dǎo)體器件或液晶顯示器等微型器件的制造工序之一的光刻工序中，使用將形成于掩模上的圖案向感光性襯底上投影曝光的曝光裝置。該曝光裝置具有支撐掩模的掩模載臺(tái)和支撐襯底的襯底載臺(tái)，一邊逐次移動(dòng)掩模載臺(tái)及襯底載臺(tái)，一邊借助投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模的圖案向襯底投影曝光。另外，在這種曝光裝置中，出于提高生產(chǎn)量等目的，還有在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)染邆淇上嗷オ?dú)立地移動(dòng)的兩個(gè)載臺(tái)的曝光裝置。在微型器件的制造中，為了實(shí)現(xiàn)器件的高密度化，要求在襯底上形成的圖案的微細(xì)化。為了應(yīng)對(duì)該要求，希望曝光裝置具有更高的析像度化。作為用于實(shí)現(xiàn)該高析像度化的途徑之一，提出過(guò)如下述專利文獻(xiàn)1中所公開的那樣的用液體來(lái)充滿投影光學(xué)系統(tǒng)與襯底之間而形成浸液區(qū)域，借助該浸液區(qū)域的液體進(jìn)行曝光處理的浸液曝光裝置。
專利文獻(xiàn)1國(guó)際公開第99/49504號(hào)小冊(cè)子在浸液曝光裝置中，例如在維護(hù)時(shí)等，有需要將浸液區(qū)域的液體全部回收的情況。這種情況下，當(dāng)液體未被完全回收而殘留時(shí)，殘留的液體就有可能向構(gòu)成曝光裝置的各種儀器內(nèi)飛散而對(duì)該儀器造成影響。另外，因殘留的液體的存在，有可能使曝光裝置所處的環(huán)境(濕度等)變動(dòng)，對(duì)曝光精度及計(jì)測(cè)精度造成影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這種情況而成的，其目的在于，提供一種可抑制液體的殘留而維持所需性能的曝光裝置及器件制造方法。
為了解決上述的課題，本發(fā)明采用了與實(shí)施方式中所示的圖1～圖15對(duì)應(yīng)的以下的構(gòu)成。
其中，在各要素中所附加的帶有括號(hào)的符號(hào)只不過(guò)是該要素的示例，并不是限定各要素的。
依照本發(fā)明的第一方式，提供一種曝光裝置(EX)，是通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)將襯底(P)曝光的曝光裝置，其具備第一載臺(tái)(ST1)，其在投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像面?zhèn)?，在與像面大致平行的二維平面內(nèi)(XY平面內(nèi))，可保持襯底(P)并移動(dòng)；第二載臺(tái)(ST2)，其在投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像面?zhèn)?，在與像面大致平行的二維平面內(nèi)(XY平面內(nèi))，可與第一載臺(tái)(ST1)獨(dú)立地移動(dòng)；浸液機(jī)構(gòu)(12等)，其在第一載臺(tái)(ST1)及第二載臺(tái)(ST2)的至少一個(gè)的載臺(tái)的上面(F1、F2)上形成液體(LQ)的浸液區(qū)域(LR)，其中，在第二載臺(tái)(ST2)的上面(F2)或其附近，設(shè)有可回收液體(LQ)的回收口(51)。
根據(jù)本發(fā)明的第一方式，由于在配置于投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)鹊牡诙d臺(tái)的上面或其附近，設(shè)置有回收液體的回收口，所以可以將液體良好地回收，可以抑制液體殘留的情況。
依照本發(fā)明的第二方式，提供一種使用上述方式的曝光裝置(EX)的器件制造方法。
根據(jù)本發(fā)明的第二方式，可以用維持了所需的性能的曝光裝置來(lái)制造器件。
根據(jù)本發(fā)明，可以抑制液體的殘留，精度良好地進(jìn)行曝光處理及計(jì)測(cè)處理。


圖1是表示第一實(shí)施方式涉及的曝光裝置的簡(jiǎn)要構(gòu)成圖。
圖2是襯底載臺(tái)的剖視圖。
圖3是襯底載臺(tái)的俯視圖。
圖4是計(jì)測(cè)載臺(tái)的剖視圖。
圖5是計(jì)測(cè)載臺(tái)的俯視圖。
圖6是從上方看到的襯底載臺(tái)及計(jì)測(cè)載臺(tái)的俯視圖。
圖7A是用于說(shuō)明襯底載臺(tái)及計(jì)測(cè)載臺(tái)的動(dòng)作的圖。
圖7B是用于說(shuō)明襯底載臺(tái)及計(jì)測(cè)載臺(tái)的動(dòng)作的圖。
圖8A是用于說(shuō)明襯底載臺(tái)及計(jì)測(cè)載臺(tái)的動(dòng)作的圖。
圖8B是用于說(shuō)明襯底載臺(tái)及計(jì)測(cè)載臺(tái)的動(dòng)作的圖。
圖9是用于說(shuō)明移動(dòng)浸液區(qū)域的狀態(tài)的圖。
圖10是用于說(shuō)明回收浸液區(qū)域的液體的狀態(tài)的圖。
圖11是表示第二實(shí)施方式涉及的曝光裝置的圖。
圖12是表示第三實(shí)施方式涉及的曝光裝置的圖。
圖13是表示第四實(shí)施方式涉及的曝光裝置的圖。
圖14是表示第五實(shí)施方式涉及的曝光裝置的圖。
圖15是表示微型器件的制造工序的一個(gè)例子的流程圖。
其中符號(hào)說(shuō)明如下1...浸液機(jī)構(gòu)，10...液體供給機(jī)構(gòu)，12...供給口，20...液體回收機(jī)構(gòu)，22...回收口，50...回收機(jī)構(gòu)，51...回收口，52...流路，53...真空系統(tǒng)，54...凹部，55...槽部，56...疏液性構(gòu)件，57...液體回收構(gòu)件，70...噴嘴構(gòu)件，CONT...控制裝置，EX...曝光裝置，F(xiàn)1...上面，F(xiàn)2...上面，H1...外伸部(凸部)，LQ...液體，LR...浸液區(qū)域，P...襯底，PH...襯底夾具，PH1...第一保持部，PH2...第二保持部，PL...投影光學(xué)系統(tǒng)，SD...驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，ST1...襯底載臺(tái)，ST2...計(jì)測(cè)載臺(tái)，T...平板構(gòu)件。
具體實(shí)施例方式
下面，在參照附圖的同時(shí)，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明并不限定于此。
<第一實(shí)施方式>
圖1是表示第一實(shí)施方式涉及的曝光裝置的簡(jiǎn)要構(gòu)成圖。圖1中，曝光裝置EX具備保持掩模M且可以移動(dòng)的掩模載臺(tái)MST；保持襯底P且可以移動(dòng)的襯底載臺(tái)ST1；搭載進(jìn)行有關(guān)曝光處理的計(jì)測(cè)的計(jì)測(cè)器且可以移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2；將由掩模載臺(tái)MST保持的掩模M用曝光用光EL照明的照明光學(xué)系統(tǒng)IL；將由曝光用光EL照明了的掩模M的圖案的像向由襯底載臺(tái)ST1保持的襯底P投影的投影光學(xué)系統(tǒng)PL；統(tǒng)一控制曝光裝置EX整體的動(dòng)作的控制裝置CONT。襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分別被可以移動(dòng)地支承于基座構(gòu)件BP上，且可以相互獨(dú)立地移動(dòng)。在襯底載臺(tái)ST1的下面U1上，設(shè)有用于將襯底載臺(tái)ST1非接觸地支承在基座構(gòu)件BP的上面BT上的氣體軸承141。同樣地，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的下面U2上，也設(shè)有用于將計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2非接觸地支承在基座構(gòu)件BP的上面BT上的氣體軸承142。襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分別在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)?，在與該像面大致平行的二維平面內(nèi)(XY平面內(nèi))，可以相互獨(dú)立地移動(dòng)。
本實(shí)施方式的曝光裝置EX是為了實(shí)質(zhì)上縮短曝光波長(zhǎng)而提高析像度，并且實(shí)質(zhì)上增大焦點(diǎn)深度，而適用了浸液法的曝光裝置，該裝置具備用于在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)刃纬梢后wLQ的浸液區(qū)域LR的浸液機(jī)構(gòu)1。浸液機(jī)構(gòu)1具備噴嘴構(gòu)件70，其設(shè)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)雀浇?，且具有供給液體LQ的供給口12及回收液體LQ的回收口22；液體供給機(jī)構(gòu)10，其經(jīng)由設(shè)于噴嘴構(gòu)件70上的供給口12向投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)裙┙o液體LQ；液體回收機(jī)構(gòu)20，其經(jīng)由設(shè)于噴嘴構(gòu)件70上的回收口22回收投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)鹊囊后wLQ。噴嘴構(gòu)件70以包圍投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)惹岸瞬康姆绞叫纬蔀榄h(huán)狀。浸液機(jī)構(gòu)1至少在將掩模M的圖案像向襯底P上投影的期間，利用由液體供給機(jī)構(gòu)10供給的液體LQ，在包括投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域AR的襯底P上的一部分，局部地形成大于投影區(qū)域AR且小于襯底P的液體LQ的浸液區(qū)域LR。具體來(lái)說(shuō)，曝光裝置EX采用將與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面最近的第一光學(xué)元件LS1的下面LSA、和配置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)壬系囊r底P上面的一部分之間的光路空間用液體LQ來(lái)充滿的局部浸液方式，且將經(jīng)由形成浸液區(qū)域LR的液體LQ和投影光學(xué)系統(tǒng)PL并穿過(guò)了掩模M的曝光用光EL向襯底P照射，由此將掩模M的圖案向襯底P上投影曝光。
另外，浸液機(jī)構(gòu)1不僅可以在襯底P的上面，而且可以在襯底載臺(tái)ST1的上面F1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2的至少一個(gè)上局部地形成液體LQ的浸液區(qū)域LR。此外，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上，設(shè)有可以將浸液區(qū)域LR的液體LQ的至少一部分回收的回收口51。
而且，浸液機(jī)構(gòu)1并不限于本實(shí)施方式中所示的浸液機(jī)構(gòu)，可以采用各種方式。例如，可以采用美國(guó)專利公開第2004/0160582號(hào)公報(bào)中所示的那樣的浸液機(jī)構(gòu)。
本實(shí)施方式中，以作為曝光裝置EX使用如下的掃描型曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)裝置)的情況為例進(jìn)行說(shuō)明，即一邊將掩模M和襯底P沿掃描方向相互不同的方式(相反方向)同步移動(dòng)，一邊將形成于掩模M上的圖案的像向襯底P投影。在以下的說(shuō)明中，將在水平面內(nèi)掩模M與襯底P的同步移動(dòng)方向(掃描方向)設(shè)為X軸方向，將在水平面內(nèi)與X軸方向正交的方向設(shè)為Y軸方向(非掃描方向)，將與X軸及Y軸方向垂直且與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX一致的方向設(shè)為Z軸方向。另外，將繞X軸、Y軸及Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別設(shè)為θX、θY及θZ方向。而且，這里所說(shuō)的“襯底”包括在半導(dǎo)體晶片等基材上涂布了感光材料(抗蝕劑)的襯底，“掩?！卑ㄐ纬闪讼蛞r底上縮小投影的器件圖案的母版。
襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分別可以利用包括線性電動(dòng)機(jī)等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD的驅(qū)動(dòng)而移動(dòng)?？刂蒲b置CONT通過(guò)控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD，可以在包括投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方的規(guī)定區(qū)域內(nèi)，一邊維持襯底載臺(tái)ST1的上面F1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2靠近或接觸的規(guī)定狀態(tài)，一邊將這些襯底載臺(tái)ST1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2在XY平面內(nèi)一起移動(dòng)?？刂蒲b置CONT通過(guò)將襯底載臺(tái)ST1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2一起移動(dòng)，可以在襯底載臺(tái)ST1的上面F1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2當(dāng)中的至少一個(gè)與投影光學(xué)系統(tǒng)PL之間保持有液體LQ的狀態(tài)下，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間移動(dòng)浸液區(qū)域LR。
另外，在襯底載臺(tái)ST1的+Y側(cè)，設(shè)有朝向計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2突出的凸部(外伸部)H1，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的-Y側(cè)，設(shè)有與外伸部H1對(duì)應(yīng)的凹部54。而且，在襯底載臺(tái)ST1的-Y側(cè)，也設(shè)有外伸部H1。此外，襯底載臺(tái)ST1的上面當(dāng)中的+Y側(cè)的區(qū)域與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面當(dāng)中的-Y側(cè)的區(qū)域靠近或接觸。本實(shí)施方式中，由于在襯底載臺(tái)ST1的+Y側(cè)設(shè)有外伸部H1，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的-Y側(cè)設(shè)有凹部54，所以襯底載臺(tái)ST1的上面的外伸部H1附近的區(qū)域與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面的凹部54附近的區(qū)域就相互靠近或接觸。此外，回收口51設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的與襯底載臺(tái)ST1的上面靠近或接觸的區(qū)域的附近，具體來(lái)說(shuō)，設(shè)于凹部54的內(nèi)側(cè)。
這里，所謂襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2“靠近的狀態(tài)”是指，在將浸液區(qū)域LR在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間移動(dòng)時(shí)，以不會(huì)使液體LQ從襯底載臺(tái)ST1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2之間漏出的程度靠近的狀態(tài)，兩載臺(tái)ST1、ST2的間隔的容許值根據(jù)兩載臺(tái)的材質(zhì)及表面處理、或者液體LQ的種類等而不同。
照明光學(xué)系統(tǒng)IL具有曝光用光源、將從曝光用光源中射出的光束的照度均勻化的光學(xué)積分器、將來(lái)自光學(xué)積分器的曝光用光EL聚光的聚光透鏡、中繼透鏡系統(tǒng)及、以及設(shè)定曝光用光EL對(duì)掩模M上的照明區(qū)域的視場(chǎng)光闌等。掩模M上的規(guī)定的照明區(qū)域由照明光學(xué)系統(tǒng)IL以均勻的照度分布的曝光用光EL來(lái)照明。作為從照明光學(xué)系統(tǒng)IL中射出的曝光用光EL，例如可以使用從水銀燈中射出的輝線(g線、h線、i線)及KrF受激準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)等深紫外光(DUV光)；ArF受激準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)及F2激光(波長(zhǎng)157nm)等真空紫外光(VUV光)等。
本實(shí)施方式中使用ArF受激準(zhǔn)分子激光。
本實(shí)施方式中，作為液體LQ使用純水。純水不僅可以使ArF受激準(zhǔn)分子激光穿透，例如也可以使從水銀燈中射出的輝線(g線、h線、i線)及KrF受激準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)等深紫外光(DUV光)穿透。
掩模載臺(tái)MST可以將掩模M保持而移動(dòng)。掩模載臺(tái)MST利用真空吸附(或靜電吸附)來(lái)保持掩模M。掩模載臺(tái)MST利用由控制裝置CONT控制的包括線性電動(dòng)機(jī)等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)MD的驅(qū)動(dòng)，在保持了掩模M的狀態(tài)下，可以在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX垂直的平面內(nèi)，即在XY平面內(nèi)進(jìn)行二維移動(dòng)，以及沿θZ方向進(jìn)行微小旋轉(zhuǎn)。在掩模載臺(tái)MST上設(shè)有移動(dòng)鏡31。另外，在與移動(dòng)鏡31相對(duì)置的位置上設(shè)有激光干涉儀32。掩模載臺(tái)MST上的掩模M的二維方向的位置及θZ方向的旋轉(zhuǎn)角(根據(jù)情況的不同，也包括θX、θY方向的旋轉(zhuǎn)角)由激光干涉儀32實(shí)時(shí)地計(jì)測(cè)。激光干涉儀32的計(jì)測(cè)結(jié)果被輸出到控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT基于激光干涉儀32的計(jì)測(cè)結(jié)果來(lái)驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)MD，進(jìn)行由掩模載臺(tái)MST保持著的掩模M的位置控制。
投影光學(xué)系統(tǒng)PL是以規(guī)定的投影倍率β將掩模M的圖案的像向襯底P投影的系統(tǒng)，其包括多個(gè)光學(xué)元件，且這些光學(xué)元件由鏡筒PK保持。在本實(shí)施方式中，投影光學(xué)系統(tǒng)PL是投影倍率β例如為1/4、1/5、或1/8的縮小系統(tǒng)。而且，投影光學(xué)系統(tǒng)PL也可以是等倍率系統(tǒng)及放大系統(tǒng)中的任意一種。另外，投影光學(xué)系統(tǒng)PL也可以是不包括反射光學(xué)元件的折射系統(tǒng)、不包括折射光學(xué)元件的反射系統(tǒng)、包括反射光學(xué)元件和折射光學(xué)元件的反射折射系統(tǒng)的任意一種。另外，構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的多個(gè)光學(xué)元件當(dāng)中的與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面最近的第一光學(xué)元件LS1從鏡筒PK露出。
襯底載臺(tái)ST1具有保持襯底P的襯底夾具PH、和由該襯底夾具PH保持的平板構(gòu)件T，且可以將該襯底夾具PH在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)纫苿?dòng)。襯底夾具PH例如利用真空吸附等來(lái)將襯底P保持。襯底載臺(tái)ST1利用由控制裝置CONT控制的包括線性電動(dòng)機(jī)等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD的驅(qū)動(dòng)，在將襯底P借助襯底夾具PH保持的狀態(tài)下，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)?，可以在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面大致平行的XY平面內(nèi)進(jìn)行二維移動(dòng)，以及沿θZ方向進(jìn)行微小旋轉(zhuǎn)。另外，襯底載臺(tái)ST1也可以沿Z軸方向、θX方向θY方向移動(dòng)。從而，由襯底載臺(tái)ST1保持的襯底P的上面可以沿X軸、Y軸、Z軸、θX、θY及θZ方向的6個(gè)自由度的方向移動(dòng)。在襯底載臺(tái)ST1的側(cè)面上設(shè)有移動(dòng)鏡33。另外，在與移動(dòng)鏡33相對(duì)置的位置上設(shè)有激光干涉儀34。襯底載臺(tái)ST1上的襯底P的二維方向的位置、及旋轉(zhuǎn)角由激光干涉儀34實(shí)時(shí)地計(jì)測(cè)。另外，曝光裝置EX具備例如特開平8-37149號(hào)公報(bào)中所示的檢測(cè)由襯底載臺(tái)ST1支承的襯底P的上面的面位置信息的斜入射方式的聚焦/調(diào)平檢測(cè)系統(tǒng)(未圖示)。聚焦/調(diào)平檢測(cè)系統(tǒng)檢測(cè)出襯底P上面的面位置信息(Z軸方向的位置信息、及襯底P的θX及θY方向的傾斜信息)。而且，聚焦/調(diào)平檢測(cè)系統(tǒng)也可以采用使用了靜電電容型傳感器的方式的系統(tǒng)。激光干涉儀34的計(jì)測(cè)結(jié)果被輸出到控制裝置CONT。聚焦/調(diào)平檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)結(jié)果也被輸出到控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT基于聚焦/調(diào)平檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD，且控制襯底P的聚焦位置(Z位置)及傾斜角(θX、θY)，而使襯底P的上面與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面一致，并且基于激光干涉儀34的計(jì)測(cè)結(jié)果，進(jìn)行襯底P的X軸方向、Y軸方向及θZ方向上的位置控制。
計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2搭載進(jìn)行有關(guān)曝光處理的計(jì)測(cè)的各種計(jì)測(cè)器(包括計(jì)測(cè)用構(gòu)件)并可以在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)纫苿?dòng)。作為該計(jì)測(cè)器，可以舉出例如JP特開平5-21314號(hào)公報(bào)等中所示的形成有多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記板；例如JP特開昭57-117238號(hào)公報(bào)中所示的用于計(jì)測(cè)照度不均的、或JP特開2001-267239號(hào)公報(bào)中所示的計(jì)測(cè)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的曝光用光EL的穿透率的變動(dòng)量的不均傳感器；JP特開2002-14005號(hào)公報(bào)中所示的空間像計(jì)測(cè)傳感器；及JP特開平11-16816號(hào)公報(bào)中所示的照射量傳感器(照度傳感器)。計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2與襯底載臺(tái)ST1的上面F1相同，成為平坦面(平坦部)。
本實(shí)施方式中，與進(jìn)行經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL和液體LQ并用曝光用光EL將襯底P曝光的浸液曝光的做法對(duì)應(yīng)地，在使用曝光用光EL的計(jì)測(cè)中所用的上述的不均傳感器、空間像計(jì)測(cè)傳感器、照度量傳感器等中，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL及液體LQ來(lái)接收曝光用光EL。而且，各傳感器例如既可以將光學(xué)系統(tǒng)的一部分搭載于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上，也可以將傳感器整體配置于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上。
計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2利用由控制裝置CONT控制的包括線性電動(dòng)機(jī)等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD的驅(qū)動(dòng)，在搭載了計(jì)測(cè)器的狀態(tài)下，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)?，可以在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面大致平行的XY平面內(nèi)進(jìn)行二維移動(dòng)，以及沿θZ方向進(jìn)行微小旋轉(zhuǎn)。另外，計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2也可以沿Z軸方向、θX方向θY方向移動(dòng)。即，計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2也與襯底載臺(tái)ST1相同，可以沿X軸、Y軸、Z軸、θX、θY及θZ方向的6個(gè)自由度的方向移動(dòng)。在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的側(cè)面上設(shè)有移動(dòng)鏡37。另外，在與移動(dòng)鏡37相對(duì)置的位置上設(shè)有激光干涉儀38。計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的二維方向的位置及旋轉(zhuǎn)角由激光干涉儀38實(shí)時(shí)地計(jì)測(cè)。
在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端附近，設(shè)有檢測(cè)出襯底P上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和基準(zhǔn)標(biāo)記板上的基準(zhǔn)標(biāo)記的離軸方式的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG。本實(shí)施方式的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG中，例如采用如特開平4-65603號(hào)公報(bào)中所示的如下的FIA(Field Image Alignment)方式，即將不使襯底P上的感光材料感光的寬頻的檢測(cè)用光束向?qū)ο髽?biāo)記照射，且使用攝像元件(CCD等)來(lái)攝像由來(lái)自該對(duì)象標(biāo)記的反射光而成像于受光面上的對(duì)象標(biāo)記的像和未圖示的指標(biāo)(設(shè)于對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG內(nèi)的指標(biāo)板上的指標(biāo)圖案)的像，并對(duì)這些攝像信號(hào)進(jìn)行圖像處理，由此計(jì)測(cè)標(biāo)記的位置。
另外，在掩模載臺(tái)MST的附近，沿Y軸方向隔開規(guī)定距離來(lái)設(shè)有一對(duì)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAa、RAb，其由用于經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL同時(shí)觀察掩模M上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)標(biāo)記板上的基準(zhǔn)標(biāo)記的使用了曝光波長(zhǎng)的光的TTR方式的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)構(gòu)成。本實(shí)施方式的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中，采用例如JP特開平7-176468號(hào)公報(bào)中所示的VRA(Visual Reticle Alignment)方式，該方式中，向標(biāo)記照射光，且對(duì)由CCD照相機(jī)等攝像了的標(biāo)記的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行圖像處理，而檢測(cè)出標(biāo)記位置。
下面，對(duì)浸液機(jī)構(gòu)1的液體供給機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20進(jìn)行說(shuō)明。液體供給機(jī)構(gòu)10是用于將液體LQ向投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)裙┙o的機(jī)構(gòu)，且具備可以送出液體LQ的液體供給部11、和將其一端與液體供給部11連接的供給管13。供給管13的另一端與噴嘴構(gòu)件70連接。在噴嘴構(gòu)件70的內(nèi)部，形成有將供給管13的另一端與供給口12連接的內(nèi)部流路(供給流路)。液體供給部11具備收容液體LQ的罐、加壓泵、及去除液體LQ中的異物的過(guò)濾器單元等。液體供給部11的液體供給動(dòng)作由控制裝置CONT控制。而且，曝光裝置EX的液體供給機(jī)構(gòu)10不需要具備罐、加壓泵、過(guò)濾器單元等的全部，其至少一部分部件也可以用設(shè)置有曝光裝置EX的工廠等的設(shè)備來(lái)代替。
液體回收機(jī)構(gòu)20是用于將投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)鹊囊后wLQ回收的機(jī)構(gòu)，且具備可以回收液體LQ的液體回收部21、和將其一端與液體回收部21連接的回收管23?；厥展?3的另一端與噴嘴構(gòu)件70連接。在噴嘴構(gòu)件70的內(nèi)部，形成有將回收管23的另一端與回收口22連接的內(nèi)部流路(回收流路)。液體回收部21例如具備真空泵等真空系統(tǒng)(抽吸裝置)、將所回收的液體LQ和氣體分離的氣液分離器、以及收容所回收的液體LQ的罐等。而且，曝光裝置EX的液體回收機(jī)構(gòu)20不需要具備罐、真空系統(tǒng)、氣液分離器等的全部，其至少一部分部件也可以用設(shè)置有曝光裝置EX的工廠等的設(shè)備來(lái)代替。
供給液體LQ的供給口12及回收液體LQ的回收口22形成于噴嘴構(gòu)件70的下面70A。噴嘴構(gòu)件70的下面70A設(shè)于與襯底P的上面及載臺(tái)ST1、ST2的上面F1、F2相對(duì)置的位置。噴嘴構(gòu)件70是以將第一光學(xué)元件LS1的側(cè)面包圍的方式設(shè)置的環(huán)狀構(gòu)件，供給口12在噴嘴構(gòu)件70的下面70A以包圍投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一光學(xué)元件LS1(投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX)的方式設(shè)置有多個(gè)。另外，回收口22在噴嘴構(gòu)件70的下面70A設(shè)置于相對(duì)第一光學(xué)元件LS1比供給口12更偏向外側(cè)處，并以包圍第一光學(xué)元件LS1及供給口12的方式被設(shè)置。
此外，控制裝置CONT通過(guò)使用液體供給機(jī)構(gòu)10向襯底P上供給規(guī)定量的液體LQ，并且使用液體回收機(jī)構(gòu)20回收規(guī)定量的襯底P上的液體LQ，而在襯底P上局部地形成液體LQ的浸液區(qū)域LR。在形成液體LQ的浸液區(qū)域LR之時(shí)，控制裝置CONT分別驅(qū)動(dòng)液體供給部11及液體回收部21。當(dāng)借助控制裝置CONT的控制從液體供給部11中送出液體LQ時(shí)，從該液體供給部11中送出的液體LQ在流過(guò)了供給管13后，經(jīng)由噴嘴構(gòu)件70的供給流路，從供給口12向投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)裙┙o。另外，當(dāng)借助控制裝置CONT來(lái)驅(qū)動(dòng)液體回收部21時(shí)，則投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)鹊囊后wLQ經(jīng)由回收口22流入到噴嘴構(gòu)件70的回收流路，在流過(guò)了回收管23后，由液體回收部21回收。
下面，參照?qǐng)D2及圖3，對(duì)襯底載臺(tái)ST1(襯底夾具PH)進(jìn)行說(shuō)明。
圖2是將襯底P及平板構(gòu)件T吸附保持的狀態(tài)的襯底夾具PH的側(cè)面剖視圖，圖3是從上方看到的襯底載臺(tái)ST1的俯視圖。
圖2中，襯底夾具PH具備基材PHB；形成于基材PHB上且將襯底P吸附保持的第一保持部PH1；形成于基材PHB上，且在由第一保持部PH1保持的襯底P的周圍將形成與襯底P的上面Pa大致齊平面的上面Ta的平板構(gòu)件T可拆裝地保持的第二保持部PH2。平板構(gòu)件T是與基材PHB分開的構(gòu)件，且相對(duì)襯底夾具PH的基材PHB可拆裝(更換)地被設(shè)置。另外，如圖3所示，平板構(gòu)件T是近似環(huán)狀構(gòu)件，且在其中央部，形成有可配置襯底P的近似圓形的孔部TH。此外，由第二保持部PH2保持的平板構(gòu)件T以包圍由第一保持部PH1保持的襯底P的周圍的方式被配置。本實(shí)施方式中，將在基材PHB上吸附保持了平板構(gòu)件T的狀態(tài)稱作襯底載臺(tái)ST1。
平板構(gòu)件T對(duì)于液體LQ具有疏液性。平板構(gòu)件T例如由聚四氟乙烯(特富龍(注冊(cè)商標(biāo)))等氟類樹脂及丙烯酸類樹脂等具有疏液性的材料形成。而且，也可以將平板構(gòu)件T由金屬等形成，且在其表面覆蓋氟類樹脂等疏液性材料。
圖2中，平板構(gòu)件T的上面Ta及下面Tb分別形成為平坦面(平坦部)。另外，平板構(gòu)件T與襯底P為大致相同的厚度。這樣，由第二保持部PH2保持的平板構(gòu)件T的上面(平坦面)Ta、與由第一保持部PH1保持的襯底P的上面Pa就變?yōu)榇笾慢R平面。即，由第二保持部PH2保持的平板構(gòu)件T在由第一保持部PH1保持的襯底P的周圍，形成與該襯底P的上面Pa大致齊平面的平坦面Ta。本實(shí)施方式中，襯底載臺(tái)ST1的上面包括在保持了襯底P時(shí)所保持的襯底P的上面Pa，而形成為大致在全部區(qū)域中成為平坦面(全平面)。
平板構(gòu)件T的外形形成為俯視呈矩形形狀，且比基材PHB的外形更大地形成。即，由第二保持部PH2保持的平板構(gòu)件T的周緣部成為比基材PHB的側(cè)面更向外側(cè)突出的外伸部(凸部)H1。外伸部H1當(dāng)中的+Y側(cè)的區(qū)域形成朝向計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2突出的凸部。本實(shí)施方式中，包括外伸部H1的上面的平板構(gòu)件T的上面Ta形成襯底載臺(tái)ST1的上面F1。此外，襯底載臺(tái)ST1的上面F1當(dāng)中的+Y側(cè)的區(qū)域，即+Y側(cè)的外伸部H1的上面F1(Ta)，與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2當(dāng)中的-Y側(cè)的區(qū)域靠近或接觸。
本實(shí)施方式中，移動(dòng)鏡33設(shè)于外伸部H1的下側(cè)的區(qū)域。這樣，即使液體LQ從上面F1(Ta)中流出，也可以利用外伸部H1防止液體LQ附著于移動(dòng)鏡33上的情況。
如圖2及圖3所示，襯底夾具PH的第一保持部PH1具備形成于基材PHB上的凸?fàn)畹牡谝恢С胁?6；將第一支承部46的周圍包圍地形成于基材PHB上的環(huán)狀的第一周壁部42。第一支承部46是支承襯底P的下面Pb的部分，且在第一周壁部42的內(nèi)側(cè)同樣地形成有多個(gè)。本實(shí)施方式中，第一支承部46包括多個(gè)支承銷。第一周壁部42與襯底P的形狀相應(yīng)地形成為俯視呈近似圓環(huán)狀，該第一周壁部42的上面42A與襯底P的下面Pb的周緣區(qū)域(邊緣區(qū)域)相對(duì)置地形成。在由第一保持部PH1保持的襯底P的下面Pb側(cè)，形成由基材PHB、第一周壁部42和襯底P的下面Pb包圍的第一空間131。
在第一周壁部42的內(nèi)側(cè)的基材PHB上形成有第一抽吸口41。第一抽吸口41是用于吸附保持襯底P的部分，其在第一周壁部42的內(nèi)側(cè)分別設(shè)于基材PHB的上面當(dāng)中的第一支承部46以外的多個(gè)規(guī)定位置上。本實(shí)施方式中，第一抽吸口41在第一周壁部42的內(nèi)側(cè)同樣地配置有多個(gè)。各個(gè)第一抽吸口41經(jīng)由流路45與第一真空系統(tǒng)40連接。第一真空系統(tǒng)40是用于將由基材PHB、第一周壁部42和襯底P的下面Pb包圍的第一空間131設(shè)為負(fù)壓的系統(tǒng)，其包括真空泵。如上所述，第一支承部46包括支承銷，本實(shí)施方式中的第一保持部PH1構(gòu)成所謂銷夾頭(pin chuck)機(jī)構(gòu)的一部分。第一周壁部42作為將包括第一支承部46的第一空間131的外側(cè)包圍的外壁部發(fā)揮作用，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)第一真空系統(tǒng)40，來(lái)抽吸由基材PHB、第一周壁部42和襯底P包圍的第一空間131內(nèi)部的氣體(空氣)而將該第一空間131設(shè)為負(fù)壓，由此將襯底P吸附保持于第一支承部46上。
襯底夾具PH的第二保持部PH2具備以包圍第一保持部PH1的第一周壁部42的方式形成于基材PHB上的近似圓環(huán)狀的第二周壁部62；設(shè)于第二周壁部62的外側(cè)，且以包圍第二周壁部62的方式形成于基材PHB上的環(huán)狀的第三周壁部63；形成于第二周壁部62和第三周壁部63之間的基材PHB上的凸?fàn)畹牡诙С胁?6。第二支承部66是支承平板構(gòu)件T的下面Tb的部分，且在第二周壁部62和第三周壁部63之間同樣地形成有多個(gè)。本實(shí)施方式中，第二支承部66也與第一支承部46相同，包括多個(gè)支承銷。第二周壁部62相對(duì)第一空間131設(shè)于第一周壁部42的外側(cè)，第三周壁部63設(shè)于第二周壁部62的更靠外側(cè)。另外，第二周壁部62與平板構(gòu)件T的孔部TH的形狀相應(yīng)地形成為俯視呈近似圓環(huán)狀。第三周壁部63在比平板構(gòu)件T的外側(cè)的邊緣部更靠?jī)?nèi)側(cè)處，形成為俯視呈近似矩形。第二周壁部62的上面62A形成為與平板構(gòu)件T的下面Tb當(dāng)中的孔部TH附近的內(nèi)緣區(qū)域(內(nèi)側(cè)的邊緣區(qū)域)相對(duì)置。第三周壁部63的上面63A形成為與平板構(gòu)件T的下面Tb當(dāng)中的比外緣區(qū)域(外側(cè)的邊緣區(qū)域)略微靠?jī)?nèi)側(cè)的區(qū)域相對(duì)置。在由第二保持部PH2保持的平板構(gòu)件T的下面Tb側(cè)，形成由基材PHB、和第二、第三周壁部62、63以及平板構(gòu)件T的下面Tb包圍的第二空間132。
在第二周壁部62和第三周壁部63之間的基材PHB上形成有第二抽吸口61。第二抽吸口61是用于吸附保持平板構(gòu)件T的部分，且在第二周壁部62和第三周壁部63之間，分別設(shè)于基材PHB的上面當(dāng)中的第二支承部62以外的多個(gè)規(guī)定位置上。本實(shí)施方式中，第二抽吸口61在第二周壁部62和第三周壁部63之間相同地配置有多個(gè)。
各個(gè)第二抽吸口61經(jīng)由流路65與第二真空系統(tǒng)60連接。第二真空系統(tǒng)60是用于將由基材PHB、和第二、第三周壁部62、63以及平板構(gòu)件T的下面Tb包圍的第二空間132設(shè)為負(fù)壓的系統(tǒng)，且包括真空泵。如上所述，第二支承部66包括支承銷，本實(shí)施方式中的第二保持部PH2也與第一保持部PH1相同，構(gòu)成所謂銷夾頭機(jī)構(gòu)的一部分。第二、第三周壁部62、63作為將包括第二支承部66的第二空間132的外側(cè)包圍的外壁部發(fā)揮作用，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)第二真空系統(tǒng)60，來(lái)抽吸由基材PHB、和第二、第三周壁部62、63以及平板構(gòu)件T包圍的第二空間132內(nèi)部的氣體(空氣)而將該第二空間132設(shè)為負(fù)壓，由此將平板構(gòu)件T吸附保持于第二支承部66上。
而且，本實(shí)施方式中，雖然在襯底P的吸附保持中采用了銷夾頭機(jī)構(gòu)，但是也可以采用其它夾頭機(jī)構(gòu)。同樣地，雖然在平板構(gòu)件T的吸附保持中采用了銷夾頭機(jī)構(gòu)，但是也可以采用其它夾頭機(jī)構(gòu)。另外，本實(shí)施方式中，雖然在襯底P及平板構(gòu)件T的吸附保持中采用了真空吸附機(jī)構(gòu)，但是也可以將至少一個(gè)使用靜電吸附機(jī)構(gòu)等其它機(jī)構(gòu)來(lái)保持。
用于將第一空間131設(shè)為負(fù)壓的第一真空系統(tǒng)40、與用于將第二空間132設(shè)為負(fù)壓的第二真空系統(tǒng)60相互獨(dú)立?？刂蒲b置CONT可以單獨(dú)地控制第一真空系統(tǒng)40及第二真空系統(tǒng)60各自的動(dòng)作，且可以分別獨(dú)立地進(jìn)行利用第一真空系統(tǒng)40的對(duì)第一空間131的抽吸動(dòng)作、和利用第二真空系統(tǒng)60的對(duì)第二空間132的抽吸動(dòng)作。另外，控制裝置CONT可以分別控制第一真空系統(tǒng)40和第二真空系統(tǒng)60，且使第一空間131的壓力和第二空間132的壓力相互不同。
如圖2及圖3所示，在由第一保持部PH1保持的襯底P的外側(cè)的邊緣部、和設(shè)于該襯底P的周圍的平板構(gòu)件T的內(nèi)側(cè)(孔部TH側(cè))的邊緣部之間，形成有0.1～1.0mm左右的間隙A。本實(shí)施方式中，間隙A為0.3mm左右。另外，如圖3所示，在本實(shí)施方式中的襯底P上，形成有作為用于對(duì)位的缺口部的凹口部NT。與襯底P的外形(凹口部NT的形狀)相應(yīng)地設(shè)定平板構(gòu)件T的形狀，從而將凹口部NT中的襯底P和平板構(gòu)件T之間的間隙也被設(shè)定為0.1～1.0mm左右。具體來(lái)說(shuō)，在平板構(gòu)件T上，與襯底P的凹口部NT的形狀對(duì)應(yīng)地設(shè)置朝向孔部TH的內(nèi)側(cè)突出的突起部150。這樣，在包括凹口部NT的襯底P的邊緣部的整個(gè)區(qū)域和平板構(gòu)件T之間，可以確保0.1～1.0mm左右的間隙A。另外，在第二保持部PH2的第二周壁部62及其上面62A上，形成有與平板構(gòu)件T的突起部150的形狀相應(yīng)的凸部62N。另外，在第一保持部PH1的第一周壁部42及其上面42A上，形成有與第二周壁部62的凸部62N及襯底P的凹口部NT的形狀相應(yīng)的凹部42N。第一周壁部42的凹部42N設(shè)于與第二周壁部62的凸部62N相對(duì)置的位置上，在凹部42N與凸部62N之間形成有規(guī)定的間隙。
而且，這里雖然作為襯底P的缺口部以凹口部NT為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是在沒有缺口部的情況下，或在作為缺口部在襯底P上形成有定向平面部(orientation flat)的情況下，只要將平板構(gòu)件T、第一周壁部42及第二周壁部62分別設(shè)為與襯底P的外形相應(yīng)的形狀，且在襯底P與其周圍的平板構(gòu)件T之間確保規(guī)定的間隙A即可。
下面，參照?qǐng)D4及圖5，對(duì)計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2進(jìn)行說(shuō)明。如上所述，計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2是搭載了進(jìn)行有關(guān)曝光處理的計(jì)測(cè)的計(jì)測(cè)器的載臺(tái)，上面F2成為平坦面。圖5中，作為計(jì)測(cè)器(計(jì)測(cè)用構(gòu)件)的一個(gè)例子，示意性地示出了形成有多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記板FM、不均傳感器300、空間像計(jì)測(cè)傳感器400。
計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2具備可以回收液體LQ的回收機(jī)構(gòu)50。回收機(jī)構(gòu)50具有設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上，且可回收液體LQ的回收口51；與該回收口51連接的流路52，其中，流路52與真空系統(tǒng)53連接。而且，在回收口51與真空系統(tǒng)53之間的流路52的途中，設(shè)有將所回收的液體LQ和氣體分離的氣液分離器(未圖示)?；厥諜C(jī)構(gòu)50通過(guò)驅(qū)動(dòng)真空系統(tǒng)53，可以經(jīng)由回收口51將液體LQ回收。由回收口51回收的液體LQ在流過(guò)了流路52后，被收容于未圖示的罐中。
計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2具有與襯底載臺(tái)ST1的外伸部H1對(duì)應(yīng)的凹部54。凹部54形成于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面當(dāng)中的與襯底載臺(tái)ST1靠近或接觸的區(qū)域(-Y側(cè)的區(qū)域)，且將計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2的-Y側(cè)的一部分切掉而形成。另外，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的凹部54的內(nèi)側(cè)，形成有沿X軸方向延伸的槽部55?；厥湛?1設(shè)在形成于凹部54中的槽部55的內(nèi)側(cè)。如圖5所示，回收口51俯視呈近似圓形，且在槽部55的底面55B上，沿X軸方向并列設(shè)置有多個(gè)。此外，這些多個(gè)回收口51分別經(jīng)由流路52與真空系統(tǒng)53連接。這里，槽部55的底面55B是朝向+Z側(cè)的平面。
凹部54(槽部55)形成于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面當(dāng)中的與襯底載臺(tái)ST1靠近或接觸的區(qū)域(-Y側(cè)的區(qū)域)，因此形成于該凹部54(槽部55)的內(nèi)側(cè)的回收口51設(shè)于與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的襯底載臺(tái)ST1靠近或接觸的區(qū)域的附近。
計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2當(dāng)中的與襯底載臺(tái)ST1(平板構(gòu)件T)的外伸部H1靠近或接觸的區(qū)域，由疏液性構(gòu)件56形成。疏液性構(gòu)件56例如由聚四氟乙烯(特富龍(注冊(cè)商標(biāo)))等氟類樹脂或丙烯酸類樹脂等對(duì)液體LQ具有疏液性的材料形成。另外，疏液性構(gòu)件56也形成有朝向凹部54的內(nèi)側(cè)的-Y側(cè)的壁面。疏液性構(gòu)件56可相對(duì)計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2進(jìn)行拆裝(更換)。
圖6是從上方看到的襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的圖。圖6中，用于驅(qū)動(dòng)襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD具備線性電動(dòng)機(jī)80、81、82、83、84、85。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD具備沿Y軸方向延伸的一對(duì)Y軸線性導(dǎo)軌91、93。各個(gè)Y軸線性導(dǎo)軌91、93沿X軸方向隔開規(guī)定間隔來(lái)配置。各個(gè)Y軸線性導(dǎo)軌91、93例如由內(nèi)置有永久磁鐵組的磁鐵單元構(gòu)成，該永久磁鐵組由沿著Y軸方向以規(guī)定間隔交錯(cuò)地配置的N極磁鐵及S極磁鐵的多個(gè)組構(gòu)成。在一個(gè)Y軸線性導(dǎo)軌91上，以非接觸狀態(tài)可沿Y軸方向移動(dòng)地支承有兩個(gè)滑塊90、94。同樣地，在另一個(gè)Y軸線性導(dǎo)軌93上，以非接觸狀態(tài)可沿Y軸方向移動(dòng)地支承有兩個(gè)滑塊92、95。各個(gè)滑塊90、92、94、95例如由分別沿Y軸以規(guī)定間隔配置的內(nèi)置有電樞線圈的線圈單元構(gòu)成。即，本實(shí)施方式中，利用由線圈單元構(gòu)成的滑塊90、94和由磁鐵單元構(gòu)成的Y軸線性導(dǎo)軌91，來(lái)構(gòu)成可動(dòng)線圈型的各個(gè)Y軸線性電動(dòng)機(jī)82、84。同樣地，利用滑塊92、95和Y軸線性導(dǎo)軌93，來(lái)構(gòu)成可動(dòng)線圈型的各個(gè)Y軸線性電動(dòng)機(jī)83、85。
構(gòu)成Y軸線性電動(dòng)機(jī)82、83的滑塊90、92，分別固定于沿X軸方向延伸的X軸線性導(dǎo)軌87的長(zhǎng)邊方向的一個(gè)端部及另一個(gè)端部上。另外，構(gòu)成Y軸線性電動(dòng)機(jī)84、85的滑塊94、95分別固定于沿X軸方向延伸的X軸線性導(dǎo)軌89的長(zhǎng)邊方向的一個(gè)端部及另一個(gè)端部上。從而，X軸線性導(dǎo)軌87可以利用Y軸線性電動(dòng)機(jī)82、83沿Y軸方向移動(dòng)，X軸線性導(dǎo)軌89可以利用Y軸線性電動(dòng)機(jī)84、85沿Y軸方向移動(dòng)。
各X軸線性導(dǎo)軌87、89例如由沿X軸方向以規(guī)定間隔配置的內(nèi)置有電樞線圈的線圈單元構(gòu)成。X軸線性導(dǎo)軌89以插入到形成于襯底載臺(tái)ST1上的開口部中的狀態(tài)被設(shè)置。在該襯底載臺(tái)ST1的開口部的內(nèi)部，例如設(shè)有具有永久磁鐵組的磁鐵單元88，該永久磁鐵組由沿X軸方向以規(guī)定間隔且交錯(cuò)地配置的N極磁鐵及S極磁鐵的多個(gè)組構(gòu)成。利用該磁鐵單元88和X軸線性導(dǎo)軌89，構(gòu)成將襯底載臺(tái)ST1沿X軸方向驅(qū)動(dòng)的動(dòng)磁鐵型的X軸線性電動(dòng)機(jī)81。同樣地，X軸線性導(dǎo)軌87以插入到形成于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上的開口部中的狀態(tài)被設(shè)置。在該計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的開口部中，設(shè)有磁鐵單元86。利用該磁鐵單元86和X軸線性導(dǎo)軌87，構(gòu)成將計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2沿X軸方向驅(qū)動(dòng)的動(dòng)磁鐵型的X軸線性電動(dòng)機(jī)80。
此外，通過(guò)使一對(duì)Y軸線性電動(dòng)機(jī)84、85(或82、83)各自所產(chǎn)生的推力略有不同，可以實(shí)現(xiàn)襯底載臺(tái)ST1(或計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2)的θZ方向的控制。另外，圖中雖然將襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2各自作為單一的載臺(tái)來(lái)表示，但是實(shí)際上具備由Y軸線性電動(dòng)機(jī)分別驅(qū)動(dòng)的XY載臺(tái)；借助Z調(diào)平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(例如音圈電動(dòng)機(jī)等)搭載于該XY載臺(tái)的上部，且相對(duì)于XY載臺(tái)沿Z軸方向及θX、θY方向相對(duì)微小驅(qū)動(dòng)的Z傾斜載臺(tái)。此外，保持襯底P的襯底夾具PH(參照?qǐng)D1)由Z傾斜載臺(tái)支承。
以下，參照?qǐng)D6～圖8B，對(duì)使用了襯底載臺(tái)ST1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的并行處理動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
如圖6所示，在進(jìn)行襯底P的浸液曝光時(shí)，控制裝置CONT使計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2在不與襯底載臺(tái)ST1沖突的規(guī)定的待機(jī)位置上待機(jī)。此后，控制裝置CONT在將襯底載臺(tái)ST1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分離的狀態(tài)下，進(jìn)行對(duì)支承于襯底載臺(tái)ST1上的襯底P的步進(jìn)掃描方式的浸液曝光。在進(jìn)行襯底P的浸液曝光時(shí)，控制裝置CONT使用浸液機(jī)構(gòu)1，而在襯底載臺(tái)ST1上形成液體LQ的浸液區(qū)域LR。
控制裝置CONT在結(jié)束了對(duì)襯底載臺(tái)ST1上的襯底P的浸液曝光后，使用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD來(lái)移動(dòng)襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的至少一個(gè)，如圖7A所示，使計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2與襯底載臺(tái)ST1的上面F1接觸(或靠近)。更具體來(lái)說(shuō)，使襯底載臺(tái)ST1的上面F1(平板構(gòu)件T)的+Y側(cè)的直線邊緣、與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2(疏液性構(gòu)件56)的-Y側(cè)的直線邊緣接觸(或靠近)。
然后，控制裝置CONT一邊維持襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的Y軸方向的相對(duì)位置關(guān)系，一邊使用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD來(lái)將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2沿-Y方向同時(shí)移動(dòng)。即，控制裝置CONT一邊維持使襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2接觸(或靠近)的規(guī)定狀態(tài)，一邊在包括投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方的位置的規(guī)定區(qū)域內(nèi)，沿-Y方向一起移動(dòng)。
控制裝置CONT通過(guò)將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2一起移動(dòng)，而將保持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一光學(xué)元件LS1和襯底P之間的液體LQ從襯底載臺(tái)ST1的上面F1向計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2移動(dòng)。形成于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一光學(xué)元件LS1與襯底P之間的液體LQ的浸液區(qū)域LR，伴隨著襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的向-Y方向的移動(dòng)，而以襯底P上面、襯底載臺(tái)ST1的上面F1、計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2的順序依次移動(dòng)。此外，液體LQ的浸液區(qū)域LR在從襯底載臺(tái)ST1的上面F1向計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2移動(dòng)的途中，如圖7B所示，橫跨襯底載臺(tái)ST1的上面F1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2。
當(dāng)從圖7B的狀態(tài)開始，襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2進(jìn)一步一起沿-Y方向移動(dòng)規(guī)定距離時(shí)，則如圖8A所示，成為在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第一光學(xué)元件LS1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2之間保持了液體LQ的狀態(tài)。即，液體LQ的浸液區(qū)域LR配置于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2。
其次，控制裝置CONT使用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD來(lái)將襯底載臺(tái)ST1移動(dòng)到規(guī)定的襯底更換位置，并且進(jìn)行襯底P的更換。另外，與之并行地，根據(jù)需要來(lái)執(zhí)行使用了計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的規(guī)定的計(jì)測(cè)處理。作為該計(jì)測(cè)，將對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG的基線計(jì)測(cè)作為一個(gè)例子舉出。具體來(lái)說(shuō)，控制裝置CONT中，使用上述的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)RAa、RAb同時(shí)檢測(cè)出設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上的基準(zhǔn)標(biāo)記板FM上的一對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記和與之對(duì)應(yīng)的掩模M上的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，且檢測(cè)出第一基準(zhǔn)標(biāo)記和與之對(duì)應(yīng)的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系。與此同時(shí)，控制裝置CONT通過(guò)用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG檢測(cè)出基準(zhǔn)標(biāo)記板FM上的第二基準(zhǔn)標(biāo)記，而檢測(cè)出對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG的檢測(cè)基準(zhǔn)位置與第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系。此外，控制裝置CONT基于上述第一基準(zhǔn)標(biāo)記和與之對(duì)應(yīng)的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG的檢測(cè)基準(zhǔn)位置與第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系、和已知的第一基準(zhǔn)標(biāo)記與第二基準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系，來(lái)求得投影光學(xué)系統(tǒng)PL對(duì)掩模圖案的投影中心與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG的檢測(cè)基準(zhǔn)位置的距離(位置關(guān)系)，即，求得對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG的基線信息。圖8B中，示出了此時(shí)的狀態(tài)。
而且，掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)第一基準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)、及對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG對(duì)第二基準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)不一定需要同時(shí)執(zhí)行，也可以以時(shí)間序列來(lái)執(zhí)行，第一基準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)時(shí)的計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的位置與第二基準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)時(shí)的計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的位置也可以不同。
此后，在上述的兩載臺(tái)ST1、ST2上的處理結(jié)束后，控制裝置CONT例如使計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2與襯底載臺(tái)ST1的上面F1接觸(或靠近)，且在維持了其相對(duì)位置關(guān)系的狀態(tài)下，在XY平面內(nèi)移動(dòng)，并對(duì)更換后的襯底P進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)處理。具體來(lái)說(shuō)，控制裝置CONT利用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALG進(jìn)行更換后的襯底P上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)，并決定設(shè)于襯底P上的多個(gè)拍攝區(qū)域各自的位置座標(biāo)(排列座標(biāo))。
其后，控制裝置CONT與先前動(dòng)作相反地，一邊維持襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的Y軸方向的相對(duì)位置關(guān)系，一邊將兩載臺(tái)ST1、ST2沿+Y方向一起移動(dòng)，而在將襯底載臺(tái)ST1(襯底P)向投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下方移動(dòng)后，使計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2退避到規(guī)定的位置。這樣，浸液區(qū)域LR配置于襯底載臺(tái)ST1的上面F1。在將液體LQ的浸液區(qū)域LR從計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2向襯底載臺(tái)ST1的上面F1移動(dòng)時(shí)，浸液區(qū)域LR也橫跨襯底載臺(tái)ST1的上面F1和計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2。
其后，控制裝置CONT對(duì)襯底P執(zhí)行步進(jìn)掃描方式的浸液曝光動(dòng)作，且向襯底P上的多個(gè)拍攝區(qū)域各個(gè)上依次轉(zhuǎn)印掩模M的圖案。而且，襯底P上的各拍攝區(qū)域的與掩模M的對(duì)位是基于由上述的襯底對(duì)準(zhǔn)處理的結(jié)果得到的襯底P上的多個(gè)拍攝區(qū)域的位置座標(biāo)、和之前不久計(jì)測(cè)的基線信息來(lái)進(jìn)行的。
而且，對(duì)準(zhǔn)處理既可以在襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分離的狀態(tài)下執(zhí)行，也可以在襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2分離的狀態(tài)下執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)處理的一部分的處理，而將剩下的處理在襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2接觸(或靠近)的狀態(tài)下執(zhí)行。另外，作為計(jì)測(cè)動(dòng)作，并不限于上述的基線計(jì)測(cè)，也可以使用計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2，例如與襯底更換并行地進(jìn)行照度計(jì)測(cè)、照度不均計(jì)測(cè)、空間像計(jì)測(cè)等，并基于其計(jì)測(cè)結(jié)果，例如進(jìn)行投影光學(xué)系統(tǒng)PL的校準(zhǔn)處理等，將其反映到其后進(jìn)行的襯底P的曝光中。
本實(shí)施方式中，由于在一個(gè)襯底P的曝光結(jié)束后，可以不經(jīng)過(guò)液體LQ的全部回收、再次的供給這樣的工序，而開始下一個(gè)襯底P的曝光，所以可以實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)量的提高。另外，由于在襯底載臺(tái)ST1的襯底更換動(dòng)作中，可以用計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2執(zhí)行各種計(jì)測(cè)動(dòng)作，且將其計(jì)測(cè)結(jié)果反映到其后進(jìn)行的襯底P的曝光動(dòng)作中，所以不會(huì)導(dǎo)致伴隨著計(jì)測(cè)動(dòng)作的生產(chǎn)量的降低，可以執(zhí)行高精度的曝光動(dòng)作。另外，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)龋偸谴嬖谟幸后wLQ，因此可以有效地防止產(chǎn)生液體LQ的附著痕跡(所謂的水印)的情況。
圖9是表示一邊維持襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2靠近(或接觸)的第一狀態(tài)，一邊將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2一起移動(dòng)的狀態(tài)的圖。在襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2處于圖9所示的狀態(tài)(第一狀態(tài))時(shí)，襯底載臺(tái)ST1的外伸部H1配置在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的凹部54上。這樣，在第一狀態(tài)下，設(shè)于凹部54的內(nèi)側(cè)的回收口51變?yōu)楸煌馍觳縃1填塞的狀態(tài)。另外，襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2相互靠近(或接觸)的區(qū)域附近分別由平板構(gòu)件T及疏液性構(gòu)件56形成，且具有疏液性。從而，即使在襯底載臺(tái)ST1(平板構(gòu)件T)的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2(疏液性構(gòu)件56)的上面F2之間的間隙G1上配置有浸液區(qū)域LR的液體LQ的情況下，也可以利用液體LQ的表面張力，抑制液體LQ經(jīng)由間隙G1而漏出的不良狀況的發(fā)生。而且，由于平板構(gòu)件T或疏液性構(gòu)件56可更換地被設(shè)置，所以可以根據(jù)所使用的液體LQ的種類(物性)，來(lái)將由具有最佳的物性的材料制成的平板構(gòu)件T及疏液性構(gòu)件56設(shè)于載臺(tái)ST1、ST2上，以使液體LQ不會(huì)從間隙G1中漏出。另外，在各構(gòu)件的疏液性能惡化的情況下也可以更換。
另外，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2靠近(或接觸)的規(guī)定狀態(tài)下，襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2基本上變?yōu)辇R平面，因此可以在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間良好地移動(dòng)液體LQ的浸液區(qū)域LR。
此后，控制裝置CONT通過(guò)在將回收口51用外伸部H1填塞了的狀態(tài)下，將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2一起移動(dòng)，而在襯底載臺(tái)ST1的上面F1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2的至少一個(gè)與投影光學(xué)系統(tǒng)PL之間保持有液體LQ的狀態(tài)下，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F1之間進(jìn)行浸液區(qū)域LR的移動(dòng)。
另外，在第一狀態(tài)下移動(dòng)浸液區(qū)域LR時(shí)，即使在液體LQ從間隙G1中漏出的情況下，由于在間隙G1的下側(cè)設(shè)有槽部55，所以漏出的液體LQ被槽部55捕獲。從而，可以防止液體LQ向載臺(tái)ST1、ST2的外側(cè)及基座構(gòu)件BP上流出的不良狀況的發(fā)生。另外，由于在槽部55的內(nèi)側(cè)設(shè)有回收機(jī)構(gòu)50的回收口51，所以可以將從間隙G1中漏出的液體LQ經(jīng)由回收口51回收。
圖10是表示經(jīng)由回收口51將液體LQ回收的狀態(tài)(第二狀態(tài))的圖。例如在進(jìn)行曝光裝置EX的維護(hù)時(shí)等，將浸液區(qū)域LR的液體LQ全部回收的情況下，控制裝置CONT將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的相對(duì)位置關(guān)系設(shè)為如圖10所示的與第一狀態(tài)不同的第二狀態(tài)。即，控制裝置CONT控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD的驅(qū)動(dòng)，而在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間，形成間隙G2，并使槽部55及設(shè)于其內(nèi)側(cè)的回收口51露出。此時(shí)，外伸部H1(平板構(gòu)件T)的下面Tb的一部分被配置成與作為計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的凹部54的一部分的區(qū)域的槽部55的上方的上面58重合。在平板構(gòu)件T的下面Tb與上面58之間形成規(guī)定的間隙G3。此后，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間形成間隙G2而使回收口51露出的第二狀態(tài)下，一邊將襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2一起移動(dòng)，一邊利用計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的回收口51進(jìn)行液體LQ的回收。通過(guò)移動(dòng)襯底載臺(tái)ST1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2，且在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下方配置間隙G2，而使得保持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL之下的液體LQ因重力的作用，經(jīng)由間隙G2流入到槽部55，并經(jīng)由回收口51回收。另外，在形成間隙G2而將液體LQ回收時(shí)，利用形成于平板構(gòu)件T的下面Tb與上面58之間的規(guī)定的間隙G3，借助液體LQ的表面張力，來(lái)抑制從間隙G2流入的液體LQ經(jīng)由間隙G3而流出的情況。而且，圖10的狀態(tài)下，可以在使襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2停止的狀態(tài)下，進(jìn)行利用回收機(jī)構(gòu)50的對(duì)液體LQ的回收。
另外，控制裝置CONT并行地進(jìn)行利用設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上的回收口51的對(duì)液體LQ的回收動(dòng)作、和利用浸液機(jī)構(gòu)1的噴嘴構(gòu)件70的回收口22的回收動(dòng)作。例如，在浸液區(qū)域LR位于襯底載臺(tái)ST1的上面F1或計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2時(shí)，控制裝置CONT一邊進(jìn)行利用噴嘴構(gòu)件70的回收口22的對(duì)液體LQ的回收，一邊使用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)SD來(lái)移動(dòng)載臺(tái)ST1、ST2，由此將浸液區(qū)域LR移動(dòng)至間隙G2。此后，在浸液區(qū)域LR的液體LQ開始向槽部55中流入時(shí)(或者在流入前，或者從開始流入起經(jīng)過(guò)規(guī)定時(shí)間后)，控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)回收機(jī)構(gòu)50，且開始進(jìn)行利用設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上的回收口51的對(duì)液體LQ的回收動(dòng)作。此時(shí)，繼續(xù)進(jìn)行利用浸液機(jī)構(gòu)1的噴嘴構(gòu)件70的回收口22的液體回收動(dòng)作。浸液機(jī)構(gòu)1的回收口22從計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上方起進(jìn)行液體LQ的回收。浸液區(qū)域LR的液體LQ因重力的作用而流入到槽部55，并經(jīng)由計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的回收口51被回收，且經(jīng)由設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上方的浸液機(jī)構(gòu)1的回收口22被回收。
如上說(shuō)明所示，利用設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上的回收口51可以良好地回收液體LQ。通過(guò)在配置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)鹊挠?jì)測(cè)載臺(tái)ST2上設(shè)置回收口51，可以利用重力的作用，迅速且良好地回收液體LQ。另外，由于在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上設(shè)置有回收口51，所以在將液體LQ回收時(shí)可以抑制對(duì)襯底載臺(tái)ST1造成的影響。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間移動(dòng)浸液區(qū)域LR的狀態(tài)、與使用回收口51將液體LQ回收的狀態(tài)之間的切換，不僅可以改變襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的相對(duì)位置關(guān)系，而且可以用簡(jiǎn)單的構(gòu)成在防止液體LQ的漏出的同時(shí)，將其迅速地回收。
<第二實(shí)施方式>
下面，參照?qǐng)D11，對(duì)第二實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。以下的說(shuō)明中，對(duì)于與上述的實(shí)施方式相同或等同的構(gòu)成部分，使用相同的符號(hào)，將其說(shuō)明簡(jiǎn)化或省略。
第二實(shí)施方式的特征性的部分在于，在槽部55的內(nèi)側(cè)配置有液體回收構(gòu)件57。液體回收構(gòu)件57配置于回收口51之上。液體回收構(gòu)件57由例如陶瓷制的多孔性構(gòu)件、由合成樹脂制成的海綿狀構(gòu)件構(gòu)成。如這樣，通過(guò)配置液體回收構(gòu)件57，可以良好地保持液體LQ。另外，在槽部55中配置有液體回收構(gòu)件57的情況下，也可以省略包括回收口51的回收機(jī)構(gòu)50。即使省略回收機(jī)構(gòu)50，由于液體LQ被液體回收構(gòu)件57保持，所以也可以防止液體LQ向基座構(gòu)件BP等上流出的不良狀況。另外，通過(guò)將液體回收構(gòu)件57設(shè)為可以更換的，可以將保持有液體LQ的液體回收構(gòu)件57及污染了的回收構(gòu)件57更換為新的構(gòu)件。
<第三實(shí)施方式>
下面，參照?qǐng)D12，對(duì)第三實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。第三實(shí)施方式的特征性的部分在于，回收口51設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2。即，本實(shí)施方式中，回收口51未形成于凹部54的內(nèi)側(cè)。而且，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面當(dāng)中的-Y側(cè)的區(qū)域中，形成有與襯底載臺(tái)ST1的外伸部H1對(duì)應(yīng)的凹部54。而且，在第三實(shí)施方式中，也可以將回收口51沿X方向設(shè)置多個(gè)。
在將液體LQ回收時(shí)，控制裝置CONT將浸液區(qū)域LR配置于計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2，且經(jīng)由形成于其上面F2上的回收口51將液體LQ回收。本實(shí)施方式中，由于回收口51與液體LQ直接接觸，所以可以將液體LQ良好地回收。而且，在第三實(shí)施方式中，也可以省略襯底載臺(tái)ST1的外伸部(凸部)H1及計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的凹部54。
<第四實(shí)施方式>
下面，參照?qǐng)D13，對(duì)第四實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。第四實(shí)施方式的特征性的部分在于，從襯底載臺(tái)ST1朝向計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2突出的凸部H1’設(shè)于襯底載臺(tái)ST1的側(cè)面當(dāng)中的Z軸方向上的大致中央部分。即，本實(shí)施方式中，凸部H1’不形成襯底載臺(tái)ST1的上面F1。另外，在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上，形成有與凸部H1’對(duì)應(yīng)的凹部54’。
<第五實(shí)施方式>
圖14是表示第五實(shí)施方式的圖。如圖14所示，也可以在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的側(cè)面當(dāng)中的Z軸方向上的大致中央部分設(shè)置凸部H1’，并且在襯底載臺(tái)ST1上設(shè)置凹部54’。此外，也可以在凸部H1’上形成槽部55，在該槽部55的內(nèi)側(cè)設(shè)置回收口51。另外，本實(shí)施方式中，在襯底載臺(tái)ST1的上面F1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的上面F2之間移動(dòng)浸液區(qū)域LR時(shí)，只要使襯底載臺(tái)ST1與計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2靠近而在凹部54’的內(nèi)側(cè)配置凸部H1’即可。
而且，在上述的第二～第五實(shí)施方式中，在將液體LQ全部回收的情況下，可以并用浸液機(jī)構(gòu)1的回收口22。
另外，在上述的第一及第二實(shí)施方式中，雖然計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的槽部55從計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的X軸方向的一端到另一端為止連續(xù)地形成，但是既可以僅設(shè)于X軸方向上的一部分，也可以斷續(xù)地形成。
另外，在上述的第一及第五實(shí)施方式中，雖然回收口51配置于槽部55的底面，但是也可以在底面上不形成回收口，而將具有成為回收口的微小孔的至少一條細(xì)管道配置于槽部55內(nèi)。該情況下，細(xì)管道本身成為流路52的一部分。
另外，在上述的第一、第二、第五實(shí)施方式中，雖然槽部55的底面為平面，但是也可以相對(duì)于XY平面傾斜。該情況下，只要在該傾斜了的底面的下方附近配置至少一個(gè)回收口51即可。另外，通過(guò)將該傾斜了的底面的表面設(shè)為疏液性，可以更為可靠地回收槽部55內(nèi)的液體。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2的回收口的數(shù)目及配置可以適當(dāng)?shù)刈兏?br> 另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，也可以將回收口51沿Z軸方向移動(dòng)。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，回收口51可以由親液性的材料(例如鈦等金屬)形成。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，在沿著X軸方向設(shè)置有多個(gè)回收口51的情況下，在形成有多個(gè)回收口51的槽部55的底面及載臺(tái)上面F2上，也可以將相鄰的回收口連結(jié)地形成親液性的細(xì)槽(例如寬度為0.5mm左右)。該情況下，可以利用毛細(xì)管現(xiàn)象將液體收集于該細(xì)槽內(nèi)，而從回收口51中有效地回收液體。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，在將投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)鹊墓饴房臻g的液體從回收口51(槽部55)回收時(shí)，通過(guò)移動(dòng)回收口51(槽部55)，可以更為可靠地進(jìn)行液體的回收。例如，可以在將計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2(襯底載臺(tái)ST1)沿+Y方向和-Y方向交替地移動(dòng)的同時(shí)，從回收口51(槽部55)中進(jìn)行液體的回收。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，雖然襯底載臺(tái)ST1的平板構(gòu)件T可拆裝地構(gòu)成，但是不一定需要可以拆裝，也可以與基材PHB一體地形成。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，雖然在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上設(shè)置回收口51，但是也可以不是在計(jì)測(cè)載臺(tái)ST2上設(shè)置，而是在襯底載臺(tái)ST1上設(shè)置回收口，還可以在兩個(gè)載臺(tái)上分別設(shè)置回收口。
另外，在上述的第一～第五實(shí)施方式中，優(yōu)選在液體回收機(jī)構(gòu)20的回收口22與真空系統(tǒng)(吸氣系統(tǒng))之間的回收管23的途中、及在回收口51與真空系統(tǒng)(吸氣系統(tǒng))53之間的流路52的途中，設(shè)有具有規(guī)定的容積的緩沖空間。通過(guò)設(shè)置這種緩沖空間，即使因停電等而停止了利用真空系統(tǒng)的吸氣(排氣)動(dòng)作，也由于該緩沖空間變?yōu)樨?fù)壓，所以可以將回收管23內(nèi)及槽部55(流路52)內(nèi)的液體的抽吸(回收)持續(xù)規(guī)定時(shí)間。
另外，上述的各實(shí)施方式也可以適用于例如在JP特開平10-163009號(hào)公報(bào)、JP特開平10-214783號(hào)公報(bào)、JP特表2000-505958號(hào)公報(bào)等中所示的、具有將襯底P保持而可以移動(dòng)的多個(gè)(例如兩個(gè))襯底載臺(tái)的所謂多載臺(tái)型的曝光裝置中。
如上所述，本實(shí)施方式中的液體LQ為純水。純水的優(yōu)點(diǎn)在于，在半導(dǎo)體制造工廠等中可以很容易地大量獲得，并且對(duì)襯底P上的光刻膠及光學(xué)元件(透鏡)等沒有不良影響。另外，由于純水對(duì)環(huán)境沒有不良影響，并且雜質(zhì)的含量極低，所以還可以期待清洗設(shè)于襯底P的表面及投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端面上的光學(xué)元件的表面的作用。而且，在由工廠等供給的純水的純度很低的情況下，也可以使曝光裝置具備超純水制造器。
此外，純水(水)對(duì)波長(zhǎng)為193nm左右的曝光用光EL的折射率n可以說(shuō)基本上為1.44左右，在作為曝光用光EL的光源使用了ArF受激準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)的情況下，在襯底P上可以被短波長(zhǎng)化為1/n，即約為134nm而獲得高析像度。另外，由于焦點(diǎn)深度與空氣中相比被放大為大約n倍，即大約1.44倍左右，所以在只要可以確保與空氣中使用的情況相同程度的焦點(diǎn)深度即可的情況下，可以進(jìn)一步增加投影光學(xué)系統(tǒng)PL的數(shù)值孔徑，從此點(diǎn)來(lái)看析像度也會(huì)提高。
上述的實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，雖然將前端的光學(xué)元件的像面?zhèn)鹊墓饴房臻g用液體充滿，但是也可以如國(guó)際公開第2004/019128號(hào)小冊(cè)子中所示的那樣，采用將前端的光學(xué)元件的掩模側(cè)的光路空間也用液體充滿的投影光學(xué)系統(tǒng)。
而且，雖然本實(shí)施方式的液體LQ為水，但是也可以是水以外的液體，例如當(dāng)曝光用光EL的光源為F2激光器時(shí)，由于該F2激光不會(huì)穿透水，所以作為液體LQ也可以是能夠穿透F2激光的例如過(guò)氟化聚醚(PFPE)及氟類油等氟類流體。該情況下，在與液體LQ接觸的部分上，通過(guò)用例如含有氟的極性小的分子構(gòu)造的物質(zhì)形成薄膜來(lái)進(jìn)行親液化處理。另外，作為液體LQ，除此以外，也可以使用具有對(duì)曝光用光EL的穿透性且折射率盡可能高、對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL及襯底P表面上所涂布的光刻膠來(lái)說(shuō)穩(wěn)定的液體(例如雪松油cedar oil)。該情況下，表面處理也是與所用的液體LQ的極性相應(yīng)地進(jìn)行。
而且，作為上述各實(shí)施方式的襯底P，不僅可以適用半導(dǎo)體器件制造用的半導(dǎo)體晶片，而且可以適用顯示器用的玻璃襯底、薄膜磁頭用的陶瓷晶片、或者曝光裝置中所用的掩?；蚰赴娴脑?合成石英、硅晶片)等。
作為曝光裝置EX，除了將掩模M與襯底P同步移動(dòng)而將掩模M的圖案掃描曝光的步進(jìn)掃描方式的掃描型曝光裝置(步進(jìn)掃描裝置)以外，還可以適用于在使掩模M和襯底P靜止的狀態(tài)下將掩模M的圖案成批曝光，而將襯底P依次步進(jìn)移動(dòng)的分步重復(fù)方式的投影曝光裝置(步進(jìn)裝置)中。
另外，作為曝光裝置EX，也可以適用于在使第一圖案和襯底P大致上靜止的狀態(tài)下，使用投影光學(xué)系統(tǒng)(例如為1/8縮小倍率且不包含反射元件的折射型投影光學(xué)系統(tǒng))將第一圖案的縮小像向襯底P上成批曝光的方式的曝光裝置中。該情況下，也可以適用于如下的縫合(stitch)方式的成批曝光裝置中，即在其之后，在使第二圖案與襯底P大致上靜止的狀態(tài)下，使用該投影光學(xué)系統(tǒng)將第二圖案的縮小像與第一圖案部分地重合地向襯底P上成批曝光。另外，作為縫合方式的曝光裝置，也可以適用于在襯底P上至少將兩個(gè)圖案部分地重合地轉(zhuǎn)印，將襯底P依次移動(dòng)的分步縫合方式的曝光裝置中。
作為曝光裝置EX的種類，并不限于在襯底P上將半導(dǎo)體元件圖案曝光的半導(dǎo)體元件制造用的曝光裝置，也可以廣泛地適用于液晶顯示元件制造用或顯示器制造用的曝光裝置、及用于制造薄膜磁頭、攝像元件(CCD)或母版或掩模等的曝光裝置等中。
本申請(qǐng)實(shí)施方式的曝光裝置EX是通過(guò)保持規(guī)定的機(jī)械精度、電氣精度、光學(xué)精度地將包括本申請(qǐng)權(quán)利要求書中所舉出的各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)組裝而制造的。為了確保這些精度，在該組裝的前后，可以對(duì)各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)光學(xué)精度的調(diào)整，對(duì)各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)機(jī)械精度的調(diào)整，對(duì)各種電氣系統(tǒng)進(jìn)行用于實(shí)現(xiàn)電氣精度的調(diào)整。由各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝工序包含各種子系統(tǒng)相互的機(jī)械的連接、電路的配線連接、氣壓回路的配管連接等。在該由各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝工序之前，當(dāng)然還有各子系統(tǒng)各自的組裝工序。當(dāng)各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝工序結(jié)束后，即進(jìn)行綜合調(diào)整，確保作為曝光裝置整體的各種精度。而且，曝光裝置的制造最好在控制了溫度及清潔度的無(wú)塵室中進(jìn)行。
半導(dǎo)體器件等微型器件如圖15所示，是經(jīng)過(guò)進(jìn)行微型器件的功能/性能設(shè)計(jì)的步驟201、制作基于該設(shè)計(jì)步驟的掩模(母版)的步驟202、制造作為器件的基材的襯底的步驟203、包括利用上述的實(shí)施方式的曝光裝置EX將掩模的圖案在襯底上曝光的處理的襯底處理步驟204、器件組裝步驟(包括沖裁工序、焊接工序、封裝工序)205、檢測(cè)步驟206等而制造的。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將襯底曝光，該曝光裝置的特征是，具備第一載臺(tái)，其在上述投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)龋谂c上述像面大致平行的二維平面內(nèi)，可保持上述襯底并移動(dòng)；第二載臺(tái)，其在上述投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)?，在與上述像面大致平行的二維平面內(nèi)，可與上述第一載臺(tái)獨(dú)立地移動(dòng)；浸液機(jī)構(gòu)，其在上述第一載臺(tái)及第二載臺(tái)的至少一個(gè)的載臺(tái)的上面形成液體的浸液區(qū)域，在上述第二載臺(tái)的上面或其附近，設(shè)有可回收上述液體的回收口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征是，具備驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)在包括上述投影光學(xué)系統(tǒng)的正下方的位置的規(guī)定區(qū)域內(nèi)，一邊維持上述第一載臺(tái)的上面與上述第二載臺(tái)的上面靠近或接觸的規(guī)定狀態(tài)，一邊將上述第一載臺(tái)和上述第二載臺(tái)一起移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征是，在上述規(guī)定狀態(tài)下，上述第一載臺(tái)的上面與上述第二載臺(tái)的上面基本上呈齊平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置，其特征是，上述回收口設(shè)于上述第二載臺(tái)的上面當(dāng)中的與上述第一載臺(tái)的上面靠近或接觸的區(qū)域的附近。
5.根據(jù)權(quán)利要求2～4中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，在上述規(guī)定狀態(tài)下，上述第一載臺(tái)及第二載臺(tái)的至少一個(gè)當(dāng)中的、上述第一載臺(tái)的上面與上述第二載臺(tái)的上面相互靠近或接觸的區(qū)域的附近具有疏液性。
6.根據(jù)權(quán)利要求2～5中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述第一載臺(tái)具有朝向上述第二載臺(tái)突出的凸部，上述第二載臺(tái)具有與上述凸部對(duì)應(yīng)的凹部，在上述第一載臺(tái)與上述第二載臺(tái)處于上述規(guī)定狀態(tài)時(shí)，上述凸部配置于上述凹部中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其特征是，上述凸部形成上述第一載臺(tái)的上面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征是，在上述凹部的內(nèi)側(cè)設(shè)有上述回收口。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征是，上述規(guī)定狀態(tài)包括第一狀態(tài)和第二狀態(tài)，在上述第一狀態(tài)下，將上述回收口用上述凸部填塞，且在上述第一載臺(tái)的上面與上述第二載臺(tái)的上面之間進(jìn)行上述浸液區(qū)域的移動(dòng)，在上述第一載臺(tái)與上述第二載臺(tái)處于第二狀態(tài)時(shí)，用上述回收口進(jìn)行液體的回收。
10.根據(jù)權(quán)利要求2～8中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述規(guī)定狀態(tài)包括第一狀態(tài)和第二狀態(tài)，在上述第一狀態(tài)下，通過(guò)將上述第一載臺(tái)與上述第二載臺(tái)一起移動(dòng)，而在上述第一載臺(tái)及第二載臺(tái)的至少一個(gè)的上面與上述投影光學(xué)系統(tǒng)之間保持了液體的狀態(tài)下，在上述第一載臺(tái)的上面與上述第二載臺(tái)的上面之間進(jìn)行浸液區(qū)域的移動(dòng)，在上述第二狀態(tài)下，用上述第二載臺(tái)的回收口進(jìn)行液體的回收。
11.根據(jù)權(quán)利要求2～8中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，在上述規(guī)定狀態(tài)下，一邊將上述第一載臺(tái)與上述第二載臺(tái)一起移動(dòng)，一邊用上述第二載臺(tái)的回收口進(jìn)行液體的回收。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述第一載臺(tái)具備保持上述襯底的第一保持部；在由上述第一保持部保持的上述襯底的周圍，將形成與上述襯底上面大致齊平面的上面的平板構(gòu)件可拆裝地保持的第二保持部，上述平板構(gòu)件形成上述第一載臺(tái)的上面。
13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述回收口設(shè)于形成在上述第二載臺(tái)上的槽部的內(nèi)側(cè)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1～13中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，具有經(jīng)由流路與上述回收口連接的真空系統(tǒng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1～14中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，在上述回收口中配置有液體吸收構(gòu)件。
16.根據(jù)權(quán)利要求1～15中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述第二載臺(tái)搭載有進(jìn)行有關(guān)曝光處理的計(jì)測(cè)的計(jì)測(cè)器。
17.根據(jù)權(quán)利要求1～16中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，并行地進(jìn)行利用設(shè)于上述第二載臺(tái)上的回收口的對(duì)液體的回收動(dòng)作、和利用上述浸液機(jī)構(gòu)的回收口的液體回收動(dòng)作的至少一部分。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光裝置，其特征是，上述浸液機(jī)構(gòu)的回收口從上述第二載臺(tái)的上方進(jìn)行上述液體的回收。
19.根據(jù)權(quán)利要求1～18中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征是，上述浸液機(jī)構(gòu)在上述襯底上的一部分形成浸液區(qū)域，經(jīng)由形成上述浸液區(qū)域的液體和上述投影光學(xué)系統(tǒng)向上述襯底上照射曝光用光，從而將上述襯底曝光。
20.一種器件制造方法，其特征是，使用權(quán)利要求1～19中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可以抑制液體的殘留的曝光裝置。曝光裝置(EX)具備可保持襯底(P)并移動(dòng)的襯底載臺(tái)(ST1)；可與襯底載臺(tái)(ST1)獨(dú)立地移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)(ST2)；在襯底載臺(tái)(ST1)及計(jì)測(cè)載臺(tái)(ST2)的至少一個(gè)的載臺(tái)的上面形成液體(LQ)的浸液區(qū)域(LR)的浸液機(jī)構(gòu)(12等)。在計(jì)測(cè)載臺(tái)(ST2)的上面，設(shè)有可回收液體(LR)的回收口(51)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101048854SQ20058003718
公開日2007年10月3日 申請(qǐng)日期2005年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月1日
發(fā)明者藤原朋春, 柴崎祐一 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康