專(zhuān)利名稱(chēng):圖形的不勻缺陷檢查方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及檢查影像裝置中圖形的不勻缺陷,或檢查用于制造影像裝置圖形的光掩膜中圖形不勻缺陷的圖形的不勻缺陷檢查方法和圖形的不勻缺陷檢查裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的攝像裝置和顯示裝置等影像裝置或是用于制造它們的光掩膜,作為在表面上形成的圖形的檢查項(xiàng)目有不勻缺陷檢查。不勻缺陷是在有規(guī)律排列的圖形上不經(jīng)意產(chǎn)生的具有不同規(guī)律性的錯(cuò)誤,是在制造工序中由某些原因而產(chǎn)生的。
若在攝像裝置或顯示裝置中存在有不勻缺陷,則有可能產(chǎn)生靈敏度不勻和顯示不勻而使裝置性能降低。即使是在制造攝像裝置或顯示裝置時(shí)使用的光掩膜,若在光掩膜圖形上產(chǎn)生不勻缺陷,由于該不勻缺陷被復(fù)制在影像裝置的圖形上,所以也有可能使影像裝置的性能降低。
現(xiàn)有上述這種影像裝置圖形或光掩膜圖形的不勻缺陷,由于通常是微小缺陷有規(guī)律地排列,在對(duì)各個(gè)圖形形狀的檢查中不能檢查出來(lái)的情況很多,但作為區(qū)域整體來(lái)看時(shí)其呈現(xiàn)與其他部分不同的狀態(tài)。因此,不勻缺陷檢查主要是實(shí)施目視的斜光檢查等的外觀檢查。
但該目視檢查有隨作業(yè)者不同而檢查結(jié)果產(chǎn)生偏差的問(wèn)題,因此有例如專(zhuān)利文獻(xiàn)1那樣的不勻缺陷檢查裝置的提案。該專(zhuān)利文獻(xiàn)1的不勻缺陷檢查裝置是對(duì)在表面上形成有圖形的基板進(jìn)行光照射,通過(guò)CCD線傳感器檢測(cè)來(lái)自圖形邊緣部的散射光來(lái)檢查不勻。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1特開(kāi)平10-300447號(hào)公報(bào)可是在不勻缺陷中例如由于其產(chǎn)生原因等而存在有形狀或規(guī)律性等不同的各種不勻缺陷。但在包含專(zhuān)利文獻(xiàn)1不勻缺陷檢查裝置的現(xiàn)有不勻缺陷檢查裝置中,有可能不能高靈敏度地分別檢查出這些需要檢查的多種不勻缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮了上述情況而開(kāi)發(fā)的,目的在于提供一種圖形的不勻缺陷檢查方法和圖形的不勻缺陷檢查裝置,其能高精度檢查在被檢查體表面所形成圖形上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
技術(shù)方案1所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查方法對(duì)表面具備有單位圖形有規(guī)律排列的重復(fù)圖形的被檢查體進(jìn)行光照射,接受來(lái)自該被檢查體的反射光或透射光并觀察該接受感光的感光數(shù)據(jù)來(lái)檢查所述重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,該圖形的不勻缺陷檢查方法的特征在于從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并使用該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷。
技術(shù)方案2所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查方法如技術(shù)方案1所述的發(fā)明,其特征在于選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高精度地進(jìn)行檢查的波段的光。
技術(shù)方案3所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查方法如技術(shù)方案1或2所述的發(fā)明,其特征在于所述被檢查體是影像裝置或是用于制造該影像裝置的光掩膜。
技術(shù)方案4所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置具有光源,其對(duì)表面具備有單位圖形有規(guī)律排列的重復(fù)圖形的被檢查體進(jìn)行光照射;感光器,其接受來(lái)自所述被檢查體的反射光或透射光并把它變?yōu)楦泄鈹?shù)據(jù),觀察該接受感光的感光數(shù)據(jù)來(lái)檢查所述重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,該圖形不勻缺陷檢查裝置的特征在于具有選擇抽取裝置,其從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并使用該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷。
技術(shù)方案5所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4所述的發(fā)明,其特征在于被所述選擇抽取裝置選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高精度地進(jìn)行檢查的波段的光。
技術(shù)方案6所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4或5所述的發(fā)明,其特征在于所述選擇抽取裝置是從光源照射的光中選擇抽取希望波段的光并把它向被檢查體引導(dǎo)的波長(zhǎng)濾波器。
技術(shù)方案7所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4或5所述的發(fā)明,其特征在于所述選擇抽取裝置是從被檢查體引導(dǎo)來(lái)的光中選擇抽取希望波段的光并把它向感光器引導(dǎo)的波長(zhǎng)濾波器。
技術(shù)方案8所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4或5所述的發(fā)明,其特征在于所述選擇抽取裝置是解析被感光器轉(zhuǎn)換的感光數(shù)據(jù),并從該感光數(shù)據(jù)中選擇抽取有關(guān)希望波段光的感光數(shù)據(jù)的解析裝置。
技術(shù)方案9所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4或5所述的發(fā)明,其特征在于所述選擇抽取裝置具備個(gè)別照射多個(gè)波段的光中的希望波段的光的多個(gè)單色光源,并能對(duì)這些單色光源的照射動(dòng)作進(jìn)行切換。
技術(shù)方案10所述發(fā)明的圖形的不勻缺陷檢查裝置如技術(shù)方案4到9任一項(xiàng)所述的發(fā)明,其特征在于所述被檢查體是影像裝置或是用于制造該影像裝置的光掩膜。
通過(guò)本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查方法和裝置,由于其從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并觀察該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷,所以通過(guò)對(duì)多種各個(gè)不勻缺陷使用不同波段的光,就能在把各個(gè)種類(lèi)的不勻缺陷明顯化時(shí)進(jìn)行觀察,所以能高精度檢查在重復(fù)圖形上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
通過(guò)本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查方法和裝置,由于被選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段的光,所以能以適合檢查該不勻缺陷的波段的光對(duì)不均勻缺陷進(jìn)行觀察檢測(cè),所以能對(duì)不勻缺陷進(jìn)行更高精度的檢查。
圖1是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中的第1實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖;圖2表示的是圖1光掩膜的重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,(A)和(B)是表示坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷的圖,(C)和(D)是表示尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷的圖;圖3是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中的第2實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖;圖4是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中的第3實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖;圖5是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中的第4實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖;圖6是表示實(shí)施例中使用紅光檢測(cè)的不勻缺陷檢測(cè)結(jié)果的曲線;圖7是表示實(shí)施例中使用綠光檢測(cè)的不勻缺陷檢測(cè)結(jié)果的曲線;圖8是表示實(shí)施例中使用藍(lán)光檢測(cè)的不勻缺陷檢測(cè)結(jié)果的曲線。
附圖標(biāo)記說(shuō)明10.不勻缺陷檢查裝置(圖形的不勻缺陷檢查裝置)12.光源13.感光部14.波長(zhǎng)濾波器(選擇抽取裝置)20.不勻缺陷檢查裝置(圖形的不勻缺陷檢查裝置)21.波長(zhǎng)濾波器(選擇抽取裝置)30.不勻缺陷檢查裝置(圖形的不勻缺陷檢查裝置)31.解析裝置(選擇抽取裝置)40.不勻缺陷檢查裝置(圖形的不勻缺陷檢查裝置)41、42.單色光源43.選擇抽取機(jī)構(gòu)(選擇抽取裝置)50.光掩膜(被檢查體)51.重復(fù)圖形53.單位圖形54.不勻缺陷區(qū)域具體實(shí)施方式
下面根據(jù)
實(shí)施本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。
第1實(shí)施方式(圖1、圖2)圖1是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中第1實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖。圖2表示的是圖1光掩膜的重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,(A)和(B)是表示坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷的圖,(C)和(D)是表示尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷的圖。
該圖1所示的不勻缺陷檢查裝置10,其是對(duì)在作為被檢查體的光掩膜50表面上形成的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的不勻缺陷進(jìn)行檢查的裝置,其具有載物臺(tái)11、光源12、感光部13和作為選擇抽取裝置的波長(zhǎng)濾波器14。所述光掩膜50在本實(shí)施方式中是影像裝置之一,例如是用于制造CCD感光部的曝光掩膜。
在此,作為所述影像裝置能舉出攝像裝置和顯示裝置。攝像裝置是以CCD、CMOS、VMIS等固體攝像裝置為代表的,顯示裝置是以液晶顯示裝置、等離子顯示裝置、EL顯示裝置、LED顯示裝置和DMD顯示裝置等為代表的。光掩膜50用于制造這些影像裝置的任一個(gè)。
所述光掩膜50是在玻璃基板等透明基板52上設(shè)置鉻膜等的遮光膜,并把該遮光膜以希望的重復(fù)圖形51部分地除去,所述重復(fù)圖形51是單位圖形53有規(guī)律地排列的結(jié)構(gòu)。
作為該光掩膜50的制造方法,首先是在透明基板52上形成遮光膜,并在該遮光膜上形成保護(hù)膜。然后向該保護(hù)膜照射繪圖機(jī)中的電子束或激光光束來(lái)實(shí)施繪圖,并把預(yù)定的圖形曝光。然后有選擇地除去繪圖部和非繪圖部而形成保護(hù)層圖形。然后把保護(hù)層圖形作為掩膜來(lái)對(duì)遮光膜進(jìn)行腐刻而在該遮光膜上形成重復(fù)圖形51,最后把殘存的保護(hù)層除去而制造光掩膜50。
在上述的制造工序中,利用電子束或激光光束的掃描而在保護(hù)層膜上直接實(shí)施繪圖時(shí),依賴(lài)于光束的掃描寬度或光束徑而在繪圖上產(chǎn)生連接點(diǎn),該連接點(diǎn)上有時(shí)按每個(gè)繪圖單位周期地產(chǎn)生繪圖不良的錯(cuò)誤,這就成為所述不勻缺陷產(chǎn)生的原因。
把該不勻缺陷的一例表示在圖2中。該圖2中以標(biāo)號(hào)54表示不勻缺陷區(qū)域。圖2(A)表示的是由于在光束繪圖的連接點(diǎn)處產(chǎn)生位置偏移而使重復(fù)圖形51中單位圖形53的間隔有一部分不同的不勻缺陷。圖2(B)同樣地,表示的是由于在光束繪圖的連接點(diǎn)處產(chǎn)生位置偏移而使重復(fù)圖形51中單位圖形53的位置相對(duì)于其他的單位圖形產(chǎn)生了偏移的不勻缺陷。把這些圖2(A)和圖2(B)所示的不勻缺陷叫做坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷。圖2(C)和圖2(D)是由于繪圖機(jī)的光束強(qiáng)度有偏差等而使重復(fù)圖形51的單位圖形53一部分變細(xì)或變粗的不勻缺陷,把這些不勻缺陷叫做尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷。
圖1所示不勻缺陷檢查裝置10中的所述載物臺(tái)11是放置光掩膜50的臺(tái)。所述光源12設(shè)置在載物臺(tái)11一側(cè)的上方,從斜上方把光向光掩膜50表面的重復(fù)圖形51進(jìn)行照射。本實(shí)施例中光源12照射如白色光等的在寬的范圍內(nèi)包含多個(gè)波長(zhǎng)的光,例如能使用碘鎢燈。
所述感光部13設(shè)置在載物臺(tái)11的另一側(cè)上方,接受從光掩膜50的重復(fù)圖形51反射的反射光,特別是接受被重復(fù)圖形51的邊緣部散射的散射光,并把它轉(zhuǎn)換成感光數(shù)據(jù),例如該感光部13能使用CCD線傳感器或CCD面?zhèn)鞲衅鞯葦z像傳感器。在通過(guò)感光部13轉(zhuǎn)換的感光數(shù)據(jù)中,若光掩膜50的重復(fù)圖形51產(chǎn)生不勻缺陷,則產(chǎn)生感光數(shù)據(jù)的規(guī)律性紊亂。因此,通過(guò)觀察該感光數(shù)據(jù)就能檢查出不勻缺陷。
所述波長(zhǎng)濾波器14從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光。即該波長(zhǎng)濾波器14準(zhǔn)備有多個(gè)能對(duì)多個(gè)波段的光進(jìn)行個(gè)別抽取的一個(gè)波長(zhǎng)濾波器,或能僅抽取特定波段的光的一個(gè)波長(zhǎng)濾波器。通過(guò)該波長(zhǎng)濾波器14,從光源12照射的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并把各波段的光個(gè)別地向光掩膜50的重復(fù)圖形51照射。
各個(gè)被該波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的多個(gè)波段的光,被光掩膜50的重復(fù)圖形51反射(散射)并經(jīng)過(guò)感光部13而轉(zhuǎn)換成感光數(shù)據(jù)。通過(guò)觀察這些感光數(shù)據(jù)就能觀察到在不同波段的光下所述重復(fù)圖形51的不勻缺陷。
但如前所述,光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的不勻缺陷是由重復(fù)圖形51的制造工序等引起的且存在有多種。這些各種的不勻缺陷在不勻缺陷檢查裝置10中,隨觀察光的波段不同而能見(jiàn)度不同,每個(gè)不勻缺陷種類(lèi)存在有能高靈敏度觀察或檢測(cè)的波段的光。因此,由波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段的光,例如是藍(lán)光(440~500nm附近的光)、綠光(500~570nm附近的光)和紅光(620~700nm附近的光),或也可以是激光那樣的單色光。即藍(lán)光能高靈敏度檢測(cè)圖2(A)和圖2(B)所示的坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷,綠光能高靈敏度檢測(cè)圖2(C)和圖2(D)所示的尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷。這樣就能使用適合不勻缺陷種類(lèi)的波段的光來(lái)高靈敏度地檢測(cè)該不勻缺陷。
下面說(shuō)明使用不勻缺陷檢查裝置10來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51的不勻缺陷的檢查方法。
波長(zhǎng)濾波器14從光源12照射的多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光。例如,波長(zhǎng)濾波器14從光源12照射的光中個(gè)別選擇抽取了藍(lán)光和綠光。
被該波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的多個(gè)希望波段的光,分別被光掩膜50中的重復(fù)圖形51反射,特別是被重復(fù)圖形51的邊緣部散射的散射光被感光部13接受而轉(zhuǎn)換成感光數(shù)據(jù)。觀察這些感光數(shù)據(jù)來(lái)檢查在重復(fù)圖形51上存在的不勻缺陷。
在重復(fù)圖形51上存在有圖2(A)和圖2(B)所示的坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷時(shí),使用由波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的藍(lán)光進(jìn)行觀察時(shí)比使用由該波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的綠光進(jìn)行觀察時(shí)能顯著地高靈敏度觀察到該不勻缺陷。因此使用該藍(lán)光能高精度檢測(cè)坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷。
在重復(fù)圖形51上存在有圖2(C)和圖2(D)所示的尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷時(shí),使用由波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的綠光進(jìn)行觀察時(shí)比使用由該波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的藍(lán)光進(jìn)行觀察時(shí)能顯著地高靈敏度觀察到該不勻缺陷。因此使用該綠光能高精度檢測(cè)尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷。
從以上結(jié)構(gòu)通過(guò)所述實(shí)施方式有以下的效果(1)和(2)。
(1)波長(zhǎng)濾波器14從光源12照射的多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,感光部13把該選擇抽取的波段的光轉(zhuǎn)換成感光數(shù)據(jù),通過(guò)個(gè)別觀察該感光數(shù)據(jù)來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51上的不勻缺陷,因此通過(guò)對(duì)多種的各個(gè)不勻缺陷使用不同波段的光,就能在把各個(gè)種類(lèi)的不勻缺陷明顯化時(shí)進(jìn)行觀察,所以能高精度檢測(cè)在光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
例如如上所述,通過(guò)使用由波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的藍(lán)光和綠光這兩種不同波段的光來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51上的不勻缺陷,就能分別高精度地檢測(cè)出坐標(biāo)位置變動(dòng)系和尺寸變動(dòng)系這樣不同種類(lèi)的不勻缺陷。
(2)由于被波長(zhǎng)濾波器14選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段的光(例如對(duì)于坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷是藍(lán)光、對(duì)于尺寸變動(dòng)系統(tǒng)的不勻缺陷是綠光),所以能對(duì)不勻缺陷以適合檢查該不勻缺陷的波段的光進(jìn)行觀察檢測(cè),所以能更高精度地檢查不勻缺陷。
第2實(shí)施方式(圖3)圖3是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置中第2實(shí)施方式的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。在該第2實(shí)施方式中,與所述第1實(shí)施方式同樣的部分上付有同樣的標(biāo)號(hào)從而省略了說(shuō)明。
該第2實(shí)施方式的不勻缺陷檢查裝置20中,具有代替第1實(shí)施方式中的從光源12照射的光中選擇抽取希望波段光的波長(zhǎng)濾波器14而作為選擇抽取裝置的與波長(zhǎng)濾波器14結(jié)構(gòu)相同的波長(zhǎng)濾波器21,該波長(zhǎng)濾波器21從被光掩膜50的重復(fù)圖形51散射的散射光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并向感光部13引導(dǎo)。
在該不勻缺陷檢查裝置20中,由波長(zhǎng)濾波器21也從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,這樣能使用不同波段的光來(lái)檢查重復(fù)圖形51的不勻缺陷,所以與所述第1實(shí)施方式的效果(1)同樣地能高精度檢測(cè)在光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
例如,通過(guò)使用由波長(zhǎng)濾波器21選擇抽取的藍(lán)光和綠光這兩種不同波段的光來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51上的不勻缺陷,就能分別高精度地檢測(cè)出坐標(biāo)位置變動(dòng)系和尺寸變動(dòng)系這樣不同種類(lèi)的不勻缺陷。
且在該不勻缺陷檢查裝置20中由被波長(zhǎng)濾波器21選擇抽取的希望波段的光也是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段的光(例如對(duì)于坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷是藍(lán)光、對(duì)于尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷是綠光),所以與所述第1實(shí)施方式的效果(2)同樣地能對(duì)不勻缺陷以適合檢查該不勻缺陷的波段的光進(jìn)行觀察檢測(cè),所以能更高精度地檢查不勻缺陷。
第3實(shí)施方式(圖4)圖4是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置第3實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖。該第3實(shí)施例中與所述第1實(shí)施方式同樣的部分上付有同樣的標(biāo)號(hào)從而省略了說(shuō)明。
該第3實(shí)施方式的不勻缺陷檢查裝置30沒(méi)使用第1和第2實(shí)施方式那樣的波長(zhǎng)濾波器14和波長(zhǎng)濾波器21,而是將解析裝置作為選擇抽取裝置,該解析裝置對(duì)由感光部13感光并轉(zhuǎn)換的感光數(shù)據(jù)進(jìn)行解析,并從該解析了的感光數(shù)據(jù)中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)有關(guān)希望波段光的感光數(shù)據(jù)。該解析裝置例如對(duì)由感光部13感光并轉(zhuǎn)換了的光源12的白色光的感光數(shù)據(jù)進(jìn)行解析,并個(gè)別地選擇抽取一個(gè)或多個(gè)有關(guān)藍(lán)光的感光數(shù)據(jù)、有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù)和有關(guān)紅光的感光數(shù)據(jù)。
在該不勻缺陷檢查裝置30中,由解析裝置31也從有關(guān)多個(gè)波段光的感光數(shù)據(jù)中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)有關(guān)希望波段光的感光數(shù)據(jù),這樣能使用有關(guān)不同波段光的感光數(shù)據(jù)(例如有關(guān)藍(lán)光的感光數(shù)據(jù)、有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù))來(lái)檢查重復(fù)圖形51的不勻缺陷,所以與所述第1實(shí)施方式的效果(1)同樣地能高精度檢測(cè)在光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
例如,通過(guò)使用由解析裝置31選擇抽取的有關(guān)藍(lán)光和綠光這兩種不同波段光的感光數(shù)據(jù)來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51上的不勻缺陷,就能分別高精度地檢測(cè)出坐標(biāo)位置變動(dòng)系和尺寸變動(dòng)系這樣不同種類(lèi)的不勻缺陷。
且在該不勻缺陷檢查裝置30中由解析裝置31選擇抽取的有關(guān)希望波段光的感光數(shù)據(jù)也是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段光的感光數(shù)據(jù)(例如對(duì)于坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷是有關(guān)藍(lán)光的感光數(shù)據(jù)、對(duì)于尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷是有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù)),所以與所述第1實(shí)施方式的效果(2)同樣地能對(duì)不勻缺陷以適合檢查該不勻缺陷的波段的光進(jìn)行觀察檢測(cè),所以能更高精度地檢查不勻缺陷進(jìn)行。
第4實(shí)施方式(圖5)圖5是表示本發(fā)明圖形的不勻缺陷檢查裝置第4實(shí)施方式概略結(jié)構(gòu)的立體圖。該第4實(shí)施方式中與所述第1實(shí)施方式同樣的部分上付有同樣的標(biāo)號(hào)從而省略了說(shuō)明。
該第4實(shí)施方式的不勻缺陷檢查裝置40替代第1和第2實(shí)施方式那樣的波長(zhǎng)濾波器14和波長(zhǎng)濾波器21的是作為選擇抽取裝置的選擇抽取機(jī)構(gòu)43,該選擇抽取機(jī)構(gòu)43具備分別個(gè)別照射多個(gè)波段的光的中的希望波段的光的多個(gè)單色光源41、42、...,并能把這些單色光源41、42、...的照射動(dòng)作進(jìn)行切換。例如分別是單色光源41照射藍(lán)光、單色光源42照射綠光。這些單色光源41、42、...也可是照射激光那樣的單色光的光源。
該不勻缺陷檢查裝置40中,由選擇抽取機(jī)構(gòu)43的單色光源41、42、...也個(gè)別照射多個(gè)波段的光中的希望波段的光,并能切換這些照射動(dòng)作,這樣能使用單色光源41、42、...照射的不同波段的光來(lái)檢測(cè)重復(fù)圖形51的不勻缺陷,所以與所述第1實(shí)施方式的效果(1)同樣地能高精度檢測(cè)在光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。
例如,通過(guò)使用由選擇抽取機(jī)構(gòu)43選擇抽取的藍(lán)光和綠光這兩種不同波段的光來(lái)檢測(cè)光掩膜50中重復(fù)圖形51上的不勻缺陷,就能分別高精度地檢測(cè)出坐標(biāo)位置變動(dòng)系和尺寸變動(dòng)系這樣不同種類(lèi)的不勻缺陷。
且該不勻缺陷檢查裝置40中由選擇抽取機(jī)構(gòu)43中的單色光源41、42、...個(gè)別進(jìn)行照射的希望波段的光,也是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高靈敏度地進(jìn)行檢查的波段的光(例如對(duì)于坐標(biāo)位置變動(dòng)系的不勻缺陷是藍(lán)光、對(duì)于尺寸變動(dòng)系的不勻缺陷是綠光),所以與所述第1實(shí)施方式的效果(2)同樣地能對(duì)不勻缺陷以適合檢查該不勻缺陷的波段的光進(jìn)行觀察檢測(cè),所以能更高精度地檢查不勻缺陷。
實(shí)施例下面通過(guò)實(shí)施例具體說(shuō)明本發(fā)明。本實(shí)施例中被檢查體是形成CCD感光部時(shí)作為曝光掩膜使用的光掩膜,在該光掩膜上形成有與所述感光部對(duì)應(yīng)的由鉻系遮光膜圖形構(gòu)成的重復(fù)圖形。對(duì)該光掩膜上形成的重復(fù)圖形,使用第3實(shí)施方式的不勻缺陷檢查裝置30(圖4)來(lái)檢查不勻缺陷。
圖6~圖8是表示光掩膜的一部分區(qū)域的使用由不勻缺陷檢查裝置30的解析裝置31解析的各個(gè)有關(guān)紅光的感光數(shù)據(jù)、有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù)和有關(guān)藍(lán)光的感光數(shù)據(jù)檢查的不勻缺陷的檢查結(jié)果的曲線。在此,橫軸表示光掩膜上預(yù)定方向的距離,縱軸表示不勻缺陷的濃度。該縱軸的-5~5的數(shù)值表示對(duì)于不勻缺陷的濃度任意分配的預(yù)定的水平。
本實(shí)施例對(duì)于光掩膜的重復(fù)圖形的不勻缺陷檢查中,如圖6所示在使用有關(guān)紅光的感光數(shù)據(jù)時(shí)不能檢查出不勻缺陷。但如圖7、圖8所示在使用有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù)或有關(guān)藍(lán)光的感光數(shù)據(jù)時(shí)能檢查出不勻缺陷。特別是在使用有關(guān)綠光的感光數(shù)據(jù)的情況下(圖7)能高靈敏度地檢查出不勻缺陷。因此,該光掩膜的重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷被認(rèn)為是尺寸變動(dòng)系統(tǒng)的不勻缺陷。
上述實(shí)施例中使用了第3實(shí)施方式的不勻缺陷檢查裝置30,但不局限于此。即使用由第1實(shí)施方式中的不勻缺陷檢查裝置10的波長(zhǎng)濾波器14、第2實(shí)施方式中不勻缺陷檢查裝置20的波長(zhǎng)濾波器21或第4實(shí)施方式中的不勻缺陷檢查裝置40的選擇抽取機(jī)構(gòu)43分別選擇抽取的紅光、綠光或藍(lán)光,利用各自的不勻缺陷檢查裝置檢測(cè)所述光掩膜上重復(fù)圖形中的不勻缺陷的情況下,也能得到與所述實(shí)施例同樣的結(jié)果。
以上根據(jù)所述實(shí)施方式和所述實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明,但本發(fā)明并不局限于此。
例如講述了所述感光部13接受光掩膜50中重復(fù)圖形51的邊緣部散射的光,但其也可以接受在該光掩膜50的重復(fù)圖形51之間透射的透射光,特別是接受該透射光中被光掩膜50的邊緣部衍射的衍射光。
上述實(shí)施例方式中敘述了被檢查體是光掩膜50,不勻缺陷檢查裝置10、20、30、40檢查用于制造影像裝置的所述光掩膜50的重復(fù)圖形51上產(chǎn)生的不勻缺陷,但該被檢查體也可以是攝像裝置或顯示裝置等的影像裝置。在這種情況下,不勻缺陷檢查裝置10、20、30、40則也可以分別檢查形成攝像裝置中的攝像面的像素圖形(具體說(shuō)就是形成CCD或CMOS等感光部的重復(fù)圖形)上產(chǎn)生的不勻缺陷、形成顯示裝置顯示面的像素圖形(具體說(shuō)就是液晶顯示屏的薄膜晶體管或相對(duì)基板、濾色片等等的重復(fù)圖形)上產(chǎn)生的不勻缺陷。
權(quán)利要求
1.一種圖形的不勻缺陷檢查方法,其對(duì)表面具備單位圖形有規(guī)律排列的重復(fù)圖形的被檢查體進(jìn)行光照射,接受來(lái)自該被檢查體的反射光或透射光并觀察該感光的感光數(shù)據(jù)來(lái)檢查所述重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,其特征在于從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段的光,并使用該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷。
2.如權(quán)利要求1所述的圖形的不勻缺陷檢查方法,其特征在于,選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高精度地進(jìn)行檢查的波段的光。
3.如權(quán)利要求1或2所述的圖形的不勻缺陷檢查方法,其特征在于,所述被檢查體是影像裝置或是用于制造該影像裝置的光掩膜。
4.一種圖形的不勻缺陷檢查裝置,其具有光源,其對(duì)表面具備有單位圖形有規(guī)律排列的重復(fù)圖形的被檢查體進(jìn)行光照射;感光器,其接受來(lái)自所述被檢查體的反射光或透射光并把它作為感光數(shù)據(jù),觀察該感光的感光數(shù)據(jù)來(lái)檢查所述重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,其特征在于具有從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段光的選擇抽取裝置,并使用該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷。
5.如權(quán)利要求4所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,被所述選擇抽取裝置選擇抽取的希望波段的光是能對(duì)需要檢查種類(lèi)的不勻缺陷高精度地進(jìn)行檢查的波段的光。
6.如權(quán)利要求4或5所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,所述選擇抽取裝置是從光源照射的光中選擇抽取希望波段的光并把它向被檢查體引導(dǎo)的波長(zhǎng)濾波器。
7.如權(quán)利要求4或5所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,所述選擇抽取裝置是從被檢查體引導(dǎo)來(lái)的光中選擇抽取希望波段的光并把它向感光器引導(dǎo)的波長(zhǎng)濾波器。
8.如權(quán)利要求4或5所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,所述選擇抽取裝置是解析被感光器轉(zhuǎn)換的感光數(shù)據(jù),并從該感光數(shù)據(jù)中選擇抽取有關(guān)希望波段光的感光數(shù)據(jù)的解析裝置。
9.如權(quán)利要求4或5所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,所述選擇抽取裝置具備個(gè)別照射多個(gè)波段的光中的希望波段的光的多個(gè)單色光源,并能把這些單色光源的照射動(dòng)作進(jìn)行切換。
10.如權(quán)利要求4到9任一項(xiàng)所述的圖形的不勻缺陷檢查裝置,其特征在于,所述被檢查體是影像裝置或是用于制造該影像裝置的光掩膜。
全文摘要
一種圖形的不勻缺陷檢查方法和裝置,其能高精度檢查在被檢查體表面所形成圖形上產(chǎn)生的多種不勻缺陷。不勻缺陷檢查裝置(10)具有光源(12),其對(duì)表面具備有單位圖形(53)有規(guī)律排列的重復(fù)圖形(51)的光掩膜(50)進(jìn)行光照射;感光部(13),其接受來(lái)自所述光掩膜的散射光并把它轉(zhuǎn)換成感光數(shù)據(jù),本方法和裝置觀察該感光數(shù)據(jù)并檢查所述重復(fù)圖形上產(chǎn)生的不勻缺陷,其特征在于具有從多個(gè)波段的光中選擇抽取一個(gè)或多個(gè)希望波段光的波長(zhǎng)濾波器(14),并使用該選擇抽取的波段的光來(lái)檢查所述重復(fù)圖形的不勻缺陷。
文檔編號(hào)G03F1/00GK1879005SQ200480033048
公開(kāi)日2006年12月13日 申請(qǐng)日期2004年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月20日
發(fā)明者田中淳一, 山口升 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社