專利名稱：液晶顯示裝置用基板、液晶顯示裝置及其制造方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及信息設(shè)備顯示部所使用的液晶顯示裝置用基板及具有該基板的液晶顯示裝置及其制造方法和制造裝置。
背景技術(shù)：
作為開關(guān)元件在各個(gè)像素中具有薄膜晶體管(TFT；Thin FilmTransistor)的有源矩陣型液晶顯示裝置，作為平板顯示器的主流為人們所注目，并通過(guò)提高制造產(chǎn)量及減少不合格產(chǎn)品而獲得成本的降低。有源矩陣型彩色液晶顯示裝置是由TFT等形成的TFT基板、濾色器(CF；Color Filter)等形成的CF基板及密封在兩塊基板間的液晶構(gòu)成的。
液晶顯示裝置制造工序中的基板粘合工序是在TFT基板和CF基板中的任何一塊的外周涂敷并形成密封劑。接著，將兩塊基板重疊，并使用加壓—加熱裝置及真空加熱裝置等基板粘合裝置加壓、粘合，制成具有指定單元間隙的粘合基板各一塊。然后，在液晶注入工序中，利用真空注入法等在粘合基板的單元間隙間注入液晶，密封液晶注入口。
但是，近年伴隨著基板尺寸的大型化，用真空注入法很難形成高精度的單元間隙，并且產(chǎn)生了液晶注入所需時(shí)間長(zhǎng)的問(wèn)題。解決上述問(wèn)題的方法有滴下注入法(滴下粘合)。在滴下注入法中，將密封劑類似框狀地涂敷在一塊基板的外周，在框內(nèi)的基板面上滴下規(guī)定量的液晶，在真空中將兩塊基板粘合并進(jìn)行液晶封入。通過(guò)滴下注入法，基板的粘合和液晶的注入基本可以同時(shí)完成，大幅簡(jiǎn)化了制造工序。
對(duì)滴下注入法的液晶顯示板制造工序進(jìn)行簡(jiǎn)單的說(shuō)明。首先，在一塊基板面上的多個(gè)位置使用液晶滴下注入裝置滴下液晶。然后，將一塊基板與外周涂敷了密封劑的另一塊基板的位置對(duì)齊，并粘合兩塊基板，制成粘合基板。這一工序在真空中進(jìn)行。其次，將粘合基板返回空氣中，則粘合基板間的液晶因大氣壓而擴(kuò)射開。此后，通過(guò)使密封劑硬化，制成液晶顯示板。
在使用滴下注入法的液晶注入工序中，由于基板的粘合與液晶的注入同時(shí)進(jìn)行，因此未硬化的密封劑與液晶接觸。如果密封劑的未硬化的部分與液晶長(zhǎng)時(shí)間接觸，且以這種狀態(tài)暴露在高溫下，則液晶就會(huì)被污染。為此，在采用滴下注入法時(shí)，密封劑一般不使用熱硬化性樹脂，而使用通過(guò)紫外線(UV光)照射會(huì)迅速硬化的光硬化性樹脂。
但是，由于近年來(lái)液晶顯示板大型化，而尋求使顯示區(qū)域外側(cè)的框緣部寬度變窄的窄框緣化。圖11是表示現(xiàn)有液晶顯示裝置框緣部附近的結(jié)構(gòu)示例的概略截面圖。如圖11所示，液晶顯示裝置由TFT基板102和CF基板104及兩塊基板102、104間所密封的液晶114構(gòu)成。在液晶顯示裝置顯示區(qū)域A的外側(cè)的框緣部B的CF基板104一側(cè)，在玻璃基板107上形成遮擋光的遮光膜(BM)108。并且在框緣部B的TFT基板102一側(cè)，在玻璃基板106上形成捆綁多條存貯電容總線的共用存貯電容線等金屬布線110、111。
在圖11中，從與基板面垂直的方向看，密封劑(主密封main seal)112被涂敷在與BM108及金屬布線110、111重疊的位置上。但是，如果在這樣的位置上涂敷了密封劑112，則來(lái)自與基板面垂直方向的光被BM所遮擋，而無(wú)法照射到密封劑112上。此外，與單元間隙d比較，金屬布線111的寬度W極大，從相對(duì)于基板面傾斜的方向入射的光也由于BM108和金屬布線111間的多次反射而強(qiáng)度減弱，硬化所需強(qiáng)度的光不能照射到密封劑112上。為此，密封劑112產(chǎn)生了硬化不良的區(qū)域。因此，在采用滴下注入法制造的液晶顯示裝置中，有必要將密封劑112涂敷到BM108的外側(cè)(圖中右側(cè))。其中，與密封劑112的涂敷方向基本垂直形成的總線等，由于布線間隔相對(duì)布線寬度較寬，因此出現(xiàn)的問(wèn)題少。
但是，如果將密封劑112涂敷到BM108的外側(cè)，則會(huì)產(chǎn)生框緣區(qū)域B的寬度變大了的問(wèn)題。例如如果可以將密封劑112重疊涂敷在BM108上，那么就可以使框緣區(qū)域B的寬度基本上與BM108的寬度一致，而在上述方法中，框緣區(qū)域B的寬度增大了涂敷密封劑112的寬度。
而且，如果為了縮短照射時(shí)間而將極強(qiáng)的UV光照射到密封劑112上，則其泄漏的光會(huì)入射到液晶114，產(chǎn)生液晶114被污染的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種制造工序簡(jiǎn)單且可以使框緣變窄的液晶顯示裝置用基板及具有該基板的液晶顯示裝置及其制造方法和制造裝置。
上述目的通過(guò)具有以下特征的液晶顯示裝置實(shí)現(xiàn)，其特征在于，具有相對(duì)配置的兩塊基板；密封在所述兩塊基板間的液晶；在一塊所述基板的外周形成的遮擋光的遮光膜；以所述遮光膜劃定的顯示區(qū)域；金屬層，在另一塊所述基板的所述外周的所述液晶一側(cè)形成，并且寬度在0.1mm以下；光硬化性密封劑，從與基板面垂直的方向看，該光硬化性密封劑以與所述遮光膜重疊的方式涂敷在所述外周，并具有與所述金屬層重疊的被光照射區(qū)域。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明第1實(shí)施方式的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖2是表示根據(jù)本發(fā)明第1實(shí)施方式的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖3是表示根據(jù)本發(fā)明第1實(shí)施方式的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖4是表示根據(jù)本發(fā)明第1實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖5是表示根據(jù)本發(fā)明第2實(shí)施方式的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖6是表示根據(jù)本發(fā)明第3實(shí)施方式的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖7是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第4實(shí)施方式的液晶顯示裝置制造工序的圖。
圖8是表示根據(jù)本發(fā)明第4實(shí)施方式的液晶顯示裝置用基板結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖9是表示根據(jù)本發(fā)明第5實(shí)施方式的液晶顯示裝置用基板結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖10是表示根據(jù)本發(fā)明第5實(shí)施方式的液晶顯示裝置用基板結(jié)構(gòu)的變形例的截面圖。
圖11是表示現(xiàn)有的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示例的截面圖。
具體實(shí)施例方式用圖1至圖4對(duì)本發(fā)明的第1實(shí)施方式的液晶顯示裝置及其制造裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖1表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)。液晶顯示裝置具有將TFT等形成的TFT基板2與CF等形成的CF基板4相對(duì)粘合，將液晶密封在兩塊基板2、4間的構(gòu)造。在TFT基板2上，柵極總線、存貯電容總線及漏極總線通過(guò)絕緣膜被交叉形成。
在TFT基板2上設(shè)有封裝了驅(qū)動(dòng)多條柵極總線的驅(qū)動(dòng)器IC的柵極總線驅(qū)動(dòng)電路80、和封裝了驅(qū)動(dòng)多條漏極總線的驅(qū)動(dòng)器IC的漏極總線驅(qū)動(dòng)電路81。驅(qū)動(dòng)電路80、81，基于控制電路82輸出的指定信號(hào)，將掃描信號(hào)及數(shù)據(jù)信號(hào)輸出到指定的柵極總線或漏極總線。在與TFT基板2的元件形成面相反的一側(cè)的基板面上配置偏振板83，在偏振板83的與TFT基板2相反的一面上安裝背照明單元85。另外，與CF基板4的CF形成面相反的一面上安裝與偏振板83配置成正交尼科爾棱鏡的偏振板84。
圖2表示由TFT基板2一側(cè)看到的根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置框緣部附近的結(jié)構(gòu)。圖3是沿圖2的A-A線截?cái)嗟囊壕э@示裝置框緣部附近的概略截面圖。如圖2及圖3所示，液晶顯示裝置的TFT基板2和CF基板4通過(guò)在基板2、4的其中一塊的外周涂敷的光硬化性密封劑16被粘合。
在CF基板4一側(cè)，在透明的玻璃基板7上形成遮擋光的BM8。而在TFT基板2一側(cè)，在透明的玻璃基板6上形成例如捆綁多條存貯電容總線(無(wú)圖示)的共用存貯電容總線等金屬布線10、11、12。金屬布線10、11、12與密封劑16的涂敷方向平行地形成。金屬布線10的寬度W1、金屬布線11的寬度W2及金屬布線12的寬度W3全部在0.1mm以下。
試驗(yàn)證明，如果金屬布線10、11、12的寬度在0.1mm以下，則可以將BM8與金屬布線10、11、12之間多次反射的光照射到密封劑16與該金屬布線10、11、12相重疊的區(qū)域。
如后面所詳細(xì)論述的那樣，根據(jù)本結(jié)構(gòu)，通過(guò)從相對(duì)基板面傾斜的方向入射的光線a、b在玻璃基板6背面及金屬布線10、11、12上的反射，光硬化所需強(qiáng)度的光可以照射到密封劑16的整個(gè)區(qū)域。此后，將光硬化所需強(qiáng)度的光能夠照射到的密封劑區(qū)域稱為被光照射區(qū)域。在本實(shí)施方式中，如上述及圖3所示，被光照射區(qū)域40為密封劑16的全部區(qū)域。
下面對(duì)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，分別以各自的工序分別制造TFT基板2和CF基板4。然后，例如在TFT基板2表面的多個(gè)位置滴下規(guī)定量的液晶，在CF基板4外周涂敷密封劑16。之后，使用基板粘合裝置在真空中將兩塊基板2、4位置對(duì)齊并粘合，制成粘合基板。此后，將粘合基板返回空氣中，則粘合基板間的液晶因大氣壓而擴(kuò)射開。
然后，使用UV光照射裝置將UV光照射到密封劑16上。如圖3所示，從相對(duì)基板面傾斜的方向入射到玻璃基板7的光線a、b透過(guò)玻璃基板7入射到玻璃基板6。光線a、b在玻璃基板6背面(圖中下方)或與玻璃基板6背面相接觸的照射臺(tái)(在圖3未表示)表面被反射，入射到密封劑16。此后，光線a、b在金屬布線10、11、12的表面再次被反射，也入射到密封劑16中與金屬布線10、11、12重疊所形成的區(qū)域。據(jù)此，UV光可以照射密封劑16的全部區(qū)域，密封劑16迅速硬化。經(jīng)過(guò)以上工序，就制成了液晶顯示裝置。
然后，用圖4對(duì)根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖4表示根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造所使用的UV光照射裝置20的概略結(jié)構(gòu)。如圖4所示，UV光照射裝置20具有照射臺(tái)22，其放置了采用滴下注入法注入液晶14并在外周涂敷了光硬化性密封劑16的粘合基板30。在照射臺(tái)22上方，配置著照射UV光的UV光源24。并且，為了使光沿相對(duì)于粘合基板30表面傾斜的方向入射，在照射臺(tái)22側(cè)面配置了反射來(lái)自UV光源24的UV光的反射鏡26。例如反射鏡26被分別設(shè)置在照射臺(tái)22的四面。
在UV光照射裝置20中，可以通過(guò)反射鏡26將不能照射到粘合基板30的UV光反射到粘合基板30方向。因此，提高了UV光的利用率。并且，由于入射到粘合基板30的UV光的入射角變大，UV光的基板面方向的分量增加，因此UV光的反射次數(shù)減少。
照射臺(tái)22在表面(照射面)例如具有光反射率高的金屬層及白色板。由此，可以將來(lái)自UV光源24的光高效地照射到密封劑16上。照射臺(tái)22也可以在表面具有將光散射反射的散射片。
如此，根據(jù)本實(shí)施方式，即使將光硬化性密封劑16重疊涂敷在BM8上，也可以使密封劑16硬化。因此，即使采用滴下注入法制造也可以制成框緣窄的液晶顯示裝置。
下面，用圖5對(duì)根據(jù)本發(fā)明的第2實(shí)施方式的液晶顯示裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖5表示本實(shí)施方式的液晶顯示裝置框緣部附近的概略截面結(jié)構(gòu)。如圖5所示，在TFT基板2的玻璃基板6上，與密封劑16的涂敷方向基本平行地形成金屬布線41、42。在外側(cè)形成的金屬布線41的寬度大于0.1mm，在內(nèi)側(cè)形成的金屬布線42的寬度在0.1mm以下。
如第1實(shí)施方式所說(shuō)明的，如果金屬布線的寬度在0.1mm以下，那么可以將在BM與金屬布線間多次反射的光照射到與該金屬布線重疊的密封劑區(qū)域。一方面，如果金屬布線的寬度超過(guò)0.1mm，則有可能造成硬化所需的光不能照射到該金屬布線上的密封劑區(qū)域。因此，在根據(jù)本實(shí)施方式的密封劑16中，被光照射區(qū)域40位于液晶14一側(cè)的端部。
下面，對(duì)根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。與第1實(shí)施方式相同，在UV光照射裝置20的照射臺(tái)22上放置粘合基板30，照射UV光。如圖5所示，從相對(duì)于基板傾斜的方向入射到玻璃基板7的光線c、d透過(guò)玻璃基板7入射到玻璃基板6。光線c在玻璃基板6背面或照射臺(tái)22表面被反射，入射到密封劑16的被光照射區(qū)域40。而光線d在玻璃基板6背面或照射臺(tái)22表面被反射，在金屬布線41的背面進(jìn)一步被反射。光線d在玻璃基板6背面或照射臺(tái)22表面再次被反射，入射密封劑16的被光照射區(qū)域40。光線d在BM8和金屬布線42上又被反射，也入射到密封劑16的被光照射區(qū)域40中與金屬布線42重疊所形成的區(qū)域。
玻璃基板6的厚度與單元間隙相比極厚。累此，UV光到達(dá)密封劑16的被光照射區(qū)域40的反射次數(shù)較少，UV光強(qiáng)度的衰減小。由此，硬化所需強(qiáng)度的UV光可以照射到密封劑16的被光照射區(qū)域40的全部，密封劑16的被光照射區(qū)域40迅速硬化。因此，不產(chǎn)生液晶污染。
其中，由于與金屬布線41重疊所形成的區(qū)域的密封劑16基本沒(méi)有硬化，所以出現(xiàn)了兩塊基板2、4間的連接強(qiáng)度不夠的情況。在這種情況下，可以預(yù)先混入熱硬化性密封劑，進(jìn)行例如加熱粘合基板30，使未硬化的密封劑16硬化的2次硬化。
而且，如果被光照射區(qū)域40的寬度極窄，則在液晶一側(cè)會(huì)發(fā)生光泄漏造成液晶污染。因此，被光照射區(qū)域40的寬度要根據(jù)材料特性值及制造工序等諸多條件的相關(guān)關(guān)系來(lái)決定。
下面，用圖6對(duì)根據(jù)本發(fā)明的第3實(shí)施方式的液晶顯示裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖6表示根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的框緣部附近的概略截面結(jié)構(gòu)。如圖6所示，在TFT基板2的玻璃基板6上，從密封劑16的液晶14一側(cè)的端部到顯示區(qū)域的外側(cè)的范圍中，例如形成由柵極總線形成層及漏極總線形成層等金屬層構(gòu)成的遮光層50。為了防止因透過(guò)密封劑16的UV光入射到液晶14造成液晶14污染而設(shè)置遮光層50。與基板面垂直地進(jìn)行觀察，遮光層50具有重疊寬度在0.1mm以下的與密封劑16重疊的重疊領(lǐng)域44。
如圖6所示，從相對(duì)基板面傾斜的方向入射到玻璃基板7的光線e、f透過(guò)玻璃基板7入射到玻璃基板6。光線e在基板6背面或照射臺(tái)22表面被反射，在BM8的表面再次被反射。光線e在玻璃基板6背面或照射臺(tái)22表面又再次被反射，向框緣部的液晶14照射，在遮光層50被反射。如此，遮光層50使UV光的反射次數(shù)增加，盡可能地使UV光的強(qiáng)度減弱。
入射到玻璃基板6的光線f，在玻璃基板6的背面或者照射臺(tái)22表面被反射，在金屬布線41的背面再次被反射。光線f在玻璃基板6的背面或者照射臺(tái)22表面再次被反射，在BM8的表面被反射。然后，在遮光層50表面和BM8表面之間多次反射，強(qiáng)度減弱。因此，在UV光入射到液晶4時(shí)，強(qiáng)度已經(jīng)足夠低了。
根據(jù)本實(shí)施方式，高強(qiáng)度的UV光不會(huì)入射液晶14，因此液晶14不會(huì)被污染。因此，可以獲得顯示質(zhì)量良好的液晶顯示裝置。
下面，用圖7及圖8對(duì)根據(jù)第4實(shí)施方式的液晶顯示裝置用基板及具有該基板的液晶顯示裝置進(jìn)行說(shuō)明。首先，對(duì)作為本實(shí)施方式的前提的液晶顯示裝置的制造工序進(jìn)行說(shuō)明。圖7是說(shuō)明根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造工序的圖，表示采用形成多面(例如采用4面)的粘合基板68。粘合基板68由例如將滴下液晶14的TFT基板2和在各液晶顯示板70外周涂敷了密封劑16的CF基板4粘合而構(gòu)成。并且，在粘合基板68的例如四角，將定位用密封劑60涂敷成例如直徑為1～2mm的圓形。
使用基板粘合裝置以指定的粘合精度將TFT基板2和CF基板4的位置對(duì)齊，之后將UV光局部地照射到定位用密封劑60上，使其硬化。使定位用密封劑60硬化，并達(dá)到在從基板粘合裝置搬送到UV光照射裝置期間兩塊基板2、4間不發(fā)生錯(cuò)位的強(qiáng)度。但是，在此時(shí)由于單元間隙的精度及液晶14擴(kuò)散都不充分，如果將密封劑(主密封)16也硬化，則會(huì)變?yōu)椴缓细癞a(chǎn)品。
圖8是表示根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置用基板的概略構(gòu)成的截面圖。如圖8所示，CF基板4在涂敷定位用密封劑60的定位用密封劑涂敷區(qū)域附近，具有例如由金屬層構(gòu)成的遮光層62。遮光層62遮擋光，使UV光源24照射到定位用密封劑60的UV光的漏光不能照射到密封劑16。
其中，在液晶顯示裝置完成工序中，可以定位用密封劑60及遮光層62切除并廢棄。
根據(jù)本實(shí)施方式，使定位用密封劑60硬化時(shí)密封劑16沒(méi)有硬化，因此液晶顯示裝置的不合格產(chǎn)品會(huì)減少。
下面，用圖9及圖10對(duì)根據(jù)本發(fā)明的第5實(shí)施方式的液晶顯示裝置及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。圖9是表示根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置框緣部附近的結(jié)構(gòu)示意截面圖。如圖9所示，在CF基板4的玻璃基板7板外側(cè)(圖中上方)的表面，作為變更光的光路的光路變更部，例如形成壓紋狀的細(xì)微凹凸72。凹凸72至少要在BM8的外側(cè)區(qū)域形成。而且，凹凸72要在照射UV光使密封劑16硬化并制成粘合基板的工序前形成。
其次，對(duì)根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，以指定的工序制造TFT基板2和CF基板4。然后，在CF基板4的BM8形成面的背面至少在BM8的外側(cè)，例如實(shí)施形成壓紋狀的細(xì)微凹凸72的光路變更處理。接著，例如在TFT基板2表面的多個(gè)位置滴下規(guī)定量的液晶14，在CF基板4外周涂敷密封劑16。而后，使用基板粘合劑裝置在真空中將兩塊基板2、4的位置對(duì)齊并粘合，制成粘合基板。此后，將粘合基板返回空氣中，則粘合基板間的液晶14因大氣壓而擴(kuò)射開。其中，也可以在下面所述的照射UV光使密封劑16硬化工序之前，例如在玻璃基板7上形成CF前或粘合基板制成后，形成凹凸72。
然后，使用UV光照射裝置將UV光照射到密封劑16上。如圖9所示，由與形成凹凸72前的基板面(以下簡(jiǎn)稱為[基板面])相對(duì)比較垂直的方向入射到玻璃基板7的光線g、h，入射到凹凸72的一個(gè)斜面。入射到使玻璃基板7外側(cè)(圖中右側(cè))變低的傾斜斜面的光線g發(fā)生折射，變?yōu)楣饩€g’。同樣，入射到使玻璃基板7外側(cè)變低的傾斜斜面的光線h發(fā)生折射，變?yōu)楣鈎’。光線g’相對(duì)光線g，光路被變更到密封劑16一側(cè)。光線h’相對(duì)光線h，光路被變更到密封劑16一側(cè)。光線g’、h’具有方向被變更為與基板面更平行的光路。
光線g’、h’透過(guò)玻璃基板7入射到玻璃基板6。光線g’、h’在玻璃基板6的背面(面板外側(cè)表面)或與基板6背面相接觸的照射臺(tái)(圖9未圖示)表面被反射，入射到密封劑16。此后，光線g’、h’在金屬布線10、11、12表面再次被反射，入射密封劑16中與金屬布線10、11、12重疊所形成的區(qū)域。由此，UV光可以照射到密封劑16的全部區(qū)域，密封劑16迅速硬化。然后，可以將基板2、4的密封劑16的外側(cè)斷開、廢棄。經(jīng)過(guò)以上工序，完成根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置。
在本例中將凹凸72做成壓紋狀，但是也可以形成將入射到玻璃基板7的光的光路變更到密封劑16一側(cè)的棱鏡狀的凹凸72。而且除此以外，如果通過(guò)使入射的光散射或折射，能夠至少將一部分光的光路變更到密封劑16一側(cè)，則以其他形狀形成凹凸72也可以。并且，在本例中在CF基板4的板外側(cè)表面上形成凹凸72，但是，也可以在TFT基板2的板外側(cè)表面(圖中下方)形成凹凸72。
而且，如果是不會(huì)使顯示質(zhì)量降低程度的細(xì)微，那么在顯示領(lǐng)域形成凹凸72也可以。如果在CF基板4的面板外側(cè)表面的全部顯示區(qū)域形成細(xì)微的凹凸72，那么它會(huì)成為表面防止反射用的漫射片的替代品，于是會(huì)產(chǎn)生不需要在玻璃基板7表面粘貼漫射片的效果。
根據(jù)本實(shí)施方式，可以將來(lái)自與基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光的光路變更到密封劑16一側(cè)。一般使用UV光照射裝置照射光時(shí)，因?yàn)閺呐c基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光的光量多，所以可以將更多光量的光照射到密封劑16上。因而，即使將光硬化性的密封劑16重疊地涂敷在BM8上，也可以使密封劑16更迅速地硬化。因此，在采用滴下注入法制造時(shí)，也可以實(shí)現(xiàn)液晶顯示裝置窄框緣化。
下面，對(duì)根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置及其制造方法的變形例進(jìn)行說(shuō)明。圖10表示本變形例的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)。如圖10所示，作為變更光的光路的光路變更部，是光學(xué)薄膜的漫射片74被粘貼在CF基板4的玻璃基板7的板外側(cè)(圖中上方的)的表面。漫射片74至少要粘貼在BM8的外側(cè)區(qū)域。并且，漫射片74在照射UV光使密封劑16硬化并制成粘合基板的工序前被粘貼。
其次，對(duì)根據(jù)變形例的液晶顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，以指定的工序制造TFT基板2和CF基板4。然后，在CF基板4的BM8形成面的背面一側(cè)的幾乎全部面上(至少在BM8的外側(cè))，實(shí)施粘貼一般在粘合基板制成后被粘貼的漫射片74的光路變更處理。接著，例如在TFT基板2表面的多個(gè)位置滴下規(guī)定量的液晶14，在CF基板4外周涂敷密封劑16。然后，使用基板粘合劑裝置在真空中將兩塊基板2、4的位置對(duì)齊并粘合，制成粘合基板。此后，將粘合基板返回空氣中，則粘合基板間的液晶14因大氣壓而擴(kuò)射開。其中，也可以在照射UV光使密封劑16硬化工序之前，例如在玻璃基板7上形成CF前、粘合基板制成后粘貼漫射片74。
然后，使用UV光照射裝置將UV光照射到密封劑16上。如圖10所示，由與基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光線i、j，入射到漫射片74。光i在漫射片74被漫射，一部分作為光線k透過(guò)。光線j在漫射片74被漫射，一部分作為光線l透過(guò)。光線k相對(duì)光線i，光路被變更到密封劑16一側(cè)，光線l相對(duì)光線j，光路被變更到密封劑16一側(cè)。光線k、l具有方向被變更為與基板更平行的光路。
光線k、l透過(guò)玻璃基板7入射到玻璃基板6。光線k、l在玻璃基板6的背面(面板外側(cè)表面)或與基板6背面相接觸的照射臺(tái)(圖10未圖示)表面被反射，入射到密封劑16。此后，光線k、l在金屬布線10、11、12表面再次被反射，入射到密封劑16中與金屬布線10、11、12重疊所形成的區(qū)域。由此，UV光被照射到密封劑16的全部區(qū)域，密封劑16迅速硬化。此后，從基板2、4的密封劑16將外側(cè)斷開廢棄即可。經(jīng)過(guò)以上工序，就完成了本實(shí)施方式的液晶顯示裝置。
在本例中，在CF基板4的面板外側(cè)表面粘貼光路變更部漫射片74，但是，也可以在TFT基板2的面板外側(cè)表面粘貼漫射片74。而且，在本例中，作為光學(xué)薄膜粘貼了漫射片74，但是，也可以粘貼如棱鏡片等至少可以將一部分光的光路變更到密封劑16一側(cè)的其他光學(xué)薄膜?；蛘叽嫘纬晒饴纷兏康墓饴纷兏刻幚恚鳛槭谷肷涔獾耐干涔饴屎腿肷涞讲ＡЩ?里的光的光量增加的入射光增加部，實(shí)施將防止反射(AR)薄膜等光學(xué)薄膜粘貼到CF基板4的面板外側(cè)表面的入射光增加處理也可以。進(jìn)而，也可以重疊粘貼多個(gè)這種光學(xué)薄膜。而且，光學(xué)薄膜也可以具有作為偏振板的功能。
在本例中，將漫射片74等光學(xué)薄膜粘貼在包含顯示區(qū)域的幾乎全部面上，但是，也可以僅粘貼在BM8的外側(cè)的區(qū)域。在這種情況下，粘合基板制成后將其他光學(xué)薄膜粘貼在顯示區(qū)域及其周圍的工序成為必要。
根據(jù)本變形例，不需要在TFT基板2或CF基板4的面板外側(cè)表面形成凹凸72的工序，因此可以簡(jiǎn)化液晶顯示裝置的制造工序。
本發(fā)明不僅限于上述實(shí)施方式，可以進(jìn)行各種變形。
例如，上述第1、第2及第5實(shí)施方式中，例舉了采用滴下注入法注入液晶的液晶顯示裝置，但是，本發(fā)明不僅限于此，也可應(yīng)用于采用真空注入法注入液晶的液晶顯示裝置。
此外，上述實(shí)施方式中，從CF基板4一側(cè)照射UV光，但是，本發(fā)明不僅限于此。例如，在TFT基板2一側(cè)形成了濾色器的CF-on-TFT結(jié)構(gòu)時(shí)，也可以從TFT基板2一側(cè)照射UV光。并且，如果使用遮擋顯示區(qū)域的掩模，也可以從沒(méi)有形成CF的TFT基板2一側(cè)照射UV光。
此外，上述實(shí)施方式中，以透過(guò)型液晶顯示裝置為例，但是，本發(fā)明不僅限于此，也可應(yīng)用于反射型或半透過(guò)型等其他的液晶顯示裝置。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以實(shí)現(xiàn)制造工序的簡(jiǎn)單化和可以實(shí)現(xiàn)窄框緣的液晶顯示裝置用基板及具有該基板的液晶顯示裝置及其制造方法及制造裝置。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示裝置用基板，其特征在于，具有遮光膜，其形成在透明的基板上；密封劑涂敷區(qū)域，其配置在所述遮光膜上，在與相對(duì)配置的相對(duì)基板粘合時(shí)，涂敷密封劑；定位用密封劑涂敷區(qū)域，在粘合相對(duì)配置的基板時(shí)，涂敷定位用密封劑；遮光層，配置在所述定位用密封劑涂敷區(qū)域的周圍以遮擋光，使得照射到所述定位用密封劑上的光不照射到所述密封劑上。
2.一種液晶顯示裝置，其特征在于在具有相對(duì)配置的兩塊基板和被密封在所述兩塊基板間的液晶的液晶顯示裝置中，所述兩塊基板的一塊使用權(quán)利要求12所述的液晶顯示裝置用基板。
3.一種液晶顯示裝置的制造裝置，其特征在于，具有照射臺(tái)，其放置通過(guò)光硬化性密封劑使兩塊基板粘合的粘合基板；光源，其將光照射到所述粘合基板上使所述密封劑硬化；反射鏡，其使所述光反射，以使所述光沿相對(duì)所述粘合基板的表面傾斜的方向入射。
4.一種液晶顯示裝置的制造裝置，其特征在于，具有照射臺(tái)，在照射面上放置通過(guò)光硬化性密封劑使兩塊基板粘合的粘合基板，并且所述照射面上具有光反射率高的金屬層、白色板或散射片中的任何一種；光源，其將光照射到所述粘合基板上使所述密封劑硬化。
5.一種液晶顯示裝置的制造方法，具有第一工序，將光硬化性密封劑涂敷到一對(duì)基板的一塊的外周；第二工序，通過(guò)所述密封劑使所述一對(duì)基板粘合而制成粘合基板；第三工序，照射光使所述密封劑硬化，其特征在于在所述第三工序之前，還有以下工序在所述粘合基板表面或背面至少其中之一的所述密封劑涂敷區(qū)域的外側(cè)，實(shí)施使入射到所述基板的光的光路變更到所述密封劑一側(cè)的光路變更處理，或?qū)嵤┦谷肷涞剿龌宓墓庠黾拥娜肷涔庠黾犹幚怼?br> 全文摘要
本發(fā)明提供一種液晶顯示裝置用基板及具有該基板的液晶顯示裝置及其制造方法和制造裝置，目的是簡(jiǎn)化制造工序并且實(shí)現(xiàn)窄框緣。該液晶顯示裝置具有相對(duì)配置的TFT基板2和CF基板4；密封在兩塊基板2、4間的液晶14；CF基板4外周所形成的遮光膜8；遮光膜8所劃定的顯示區(qū)域；TFT基板2外周的液晶14一側(cè)所形成的寬度為0.1mm以下的金屬層10、11、12；從與基板面垂直的方向看，與遮光膜8重疊地被涂敷在外周，并具有與金屬層10、11、12重疊的被照射光區(qū)域40的光硬化性密封劑16。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1619370SQ200410103609
公開日2005年5月25日 申請(qǐng)日期2003年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月27日
發(fā)明者鈴木英彥, 村田聰 申請(qǐng)人:富士通顯示技術(shù)株式會(huì)社