專利名稱：液晶配向桿清潔設(shè)備及其清潔方法
(1)技術(shù)領(lǐng)域隨著數(shù)字網(wǎng)絡(luò)科技的發(fā)展，已逐漸地影響二十一世紀(jì)人類的工作與生活。液晶屏幕(LCD)已廣泛地應(yīng)用在日常生活中的各個層面中，其LCD面板產(chǎn)業(yè)除了原本以筆記本電腦(Note Book)作為核心應(yīng)用外，更朝向包括液晶電腦屏幕、可攜式消費(fèi)型影音產(chǎn)品、移動電話及液晶電視機(jī)等信息家電的市場應(yīng)用全力發(fā)展。
(2)背景技術(shù)LCD屏幕的畫質(zhì)雖然已與發(fā)展完整的冷陰極管(CRT)屏幕很接近，但仍有視角、對比、顯示均勻性等幾個問題要加以改善；而應(yīng)用在LCD電視等高密度、高精細(xì)化、大尺寸產(chǎn)品的開發(fā)上，更有響應(yīng)速度、色再現(xiàn)性等問題要克服。而在液晶面板中有關(guān)液晶配向的控制技術(shù)、配向膜的評估技術(shù)研究，直接地與上述的問題息息相關(guān)。所以配向膜的制造控制技術(shù)有其相當(dāng)?shù)闹匾浴?br> 配向膜在液晶顯示器中的地位非常重要，而生產(chǎn)制造配向膜其中一種技術(shù)，即是利用配向桿對配向膜的高分子表面施壓以進(jìn)行接觸式的順向機(jī)械式摩擦行為，摩擦高分子表面所供的能量使高分子主鏈因延伸而順向排列，達(dá)到液晶配向排列的方法。
在操作配向桿的過程中，黏附于桿體表面的配向部(以布毛或絨布等材質(zhì)制成)必須維持其表面的清潔程度，若有殘留顆粒等物體附著于配向部表面，在進(jìn)行配向膜制作工序時，可能會因殘留顆粒造成配向桿表面的突起，而使配向膜的高分子表面排列不平均，繼而將使分布于配向膜高分子表面上的液晶分子呈現(xiàn)不規(guī)則的表列，而影響到液晶顯示器的品質(zhì)。所以必須時常維持配向桿表面的清潔狀態(tài)，使之不會因殘留顆粒的附著，而造成配向膜制作的良率下降。
如圖1所示，為維持配向桿10表面(即配向部101表面)的清潔，已有技術(shù)是利用真空清潔器13的吸力，將附著于配向桿10表面的殘留顆粒吸走，使殘留顆粒不會影響到配向膜制作工序，而降低配向膜制作的良率。
然而，部份附著于配向桿10的殘留顆粒不易被真空清潔器13吸走，持續(xù)附著于配向桿10的表面上，影響到配向膜高分子表面的排列狀態(tài)，造成配向膜制作的良率下降。
如上所述，需發(fā)展出一適用于液晶配向膜制造的液晶配向桿清潔設(shè)備與方法，以有效清潔配向桿的表面、防止配向膜品質(zhì)不良，并穩(wěn)定甚或增加配向膜的良率。
(3)發(fā)明內(nèi)容鑒于以上所述已有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的一目的是提供一液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，以清潔配向桿的表面，并克服已有技術(shù)的缺點(diǎn)。
本發(fā)明的另一目的為提供一液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，以清潔配向桿的表面，藉由以超音波轉(zhuǎn)化殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵，而減少殘留顆粒附著于配向桿的表面，以改善配向膜制作的良率。
本發(fā)明的又一目的為提供一液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，藉由一影像擷取裝置擷取配向桿表面的影像，呈示于顯像裝置上，以更有效地監(jiān)測配向桿清潔的表面。
本發(fā)明的再一目的為提供一液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，以清潔配向桿的表面，以通過超音波發(fā)生裝置與吸塵裝置影響配向桿表面紋理的排列整齊度，以利于后續(xù)配向膜的制作工序。
本發(fā)明提供一種液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，藉由提供一配向桿，并以配向桿固定裝置固定配向桿；再以具有超音波發(fā)生裝置與吸塵裝置的除污裝置施加超音波于配向桿，以轉(zhuǎn)化附著于配向桿表面上的殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵。之后，再以吸塵裝置吸附粉塵，以達(dá)到配向桿清潔的效果。
如上所述的本發(fā)明各特征，將于以下的較佳實(shí)施例中詳細(xì)描述。
(4)


圖1是已有清潔配向桿的設(shè)備的示意圖；圖2是本發(fā)明液晶配向桿清潔設(shè)備的第一實(shí)施例的示意圖；圖3是本發(fā)明液晶配向桿清潔設(shè)備的第二實(shí)施例的示意圖4是本發(fā)明液晶配向桿清潔設(shè)備的第三實(shí)施例的示意圖；以及圖5是本發(fā)明液晶配向桿清潔方法的流程圖。
(5)具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種適用于制造液晶配向膜的液晶配向桿清潔設(shè)備，將于以下詳述。本發(fā)明實(shí)施例是以解決先前技術(shù)所述的問題為主，但本發(fā)明所具的專利范圍，并不以下述的附圖與實(shí)施例的描述為限，而應(yīng)以所申請的專利范圍與精神為準(zhǔn)。
本發(fā)明第一實(shí)施例如圖2所示，液晶配向桿清潔設(shè)備具有一除污裝置25，除污裝置25具有超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253，吸塵裝置253設(shè)置于超音波發(fā)生裝置251的一側(cè)。待清潔的配向桿20藉由一配向桿固定裝置21固定于一固定位置，且可利用配向桿固定裝置21控制配向桿20的轉(zhuǎn)動狀況。除污裝置25則設(shè)置于配向桿固定裝置21周邊。
當(dāng)開始清潔配向桿20時，超音波發(fā)生裝置251會發(fā)生超音波以施加一超音波于液晶配向桿20上的殘留顆粒，并將殘留顆粒轉(zhuǎn)化為顆粒較細(xì)微的粉塵；之后，再通過吸塵裝置253發(fā)生吸力，以吸附粉塵使之脫離配向桿20。由于超音波可使殘留顆粒轉(zhuǎn)化為顆粒較細(xì)微的粉塵，即使原本強(qiáng)力固著于配向部201表面的殘留顆粒，亦容易因?yàn)檗D(zhuǎn)化為較細(xì)微的粉塵而不會如已有技術(shù)那樣，僅能吸除未強(qiáng)力固著的殘留顆粒。故本發(fā)明的液晶配向桿清潔設(shè)備可有效地清潔配向桿20的表面，以防表面上的殘留顆粒降低配向膜制作的良率。
另外，如圖2所示，本發(fā)明的液晶配向桿清潔設(shè)備還可包含一控制裝置255連接至除污裝置25，其具有位置調(diào)整裝置257與位置調(diào)整裝置259分別連接至超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253，以控制或調(diào)整其相對位置及作用角度。且控制裝置255亦可包含強(qiáng)度調(diào)整裝置，以分別連接至超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253，以調(diào)整發(fā)生超音波或吸附粉塵時的強(qiáng)度大小。而且，本發(fā)明的液晶配向桿清潔設(shè)備還可包含設(shè)置于除污裝置外側(cè)的顯像擷取裝置27，且影像擷取裝置27連接至一顯像裝置29。
在開始清潔配向桿20的表面時，可隨時通過影像擷取裝置27擷取配向桿20表面的影像，并通過顯像裝置29將擷取到的影像呈現(xiàn)出來；如此，便可由顯像裝置29呈現(xiàn)出來的影像中，判斷是否仍有殘留顆粒附著于配向桿20的表面上。又由于連接于超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253，控制裝置255可控制超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253的強(qiáng)度、所在位置以及作用角度，所以若發(fā)現(xiàn)配向桿20的表面有極不容易清潔的殘留顆粒時，便可藉由控制裝制255調(diào)整超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253的所在位置與作用角度，并增強(qiáng)超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253的強(qiáng)度，特別針對難以清潔的配向桿20表面進(jìn)行清潔動作。如此，便可防止如已有技術(shù)那樣，因?yàn)闊o法監(jiān)測配向桿20表面的情形，或是因?yàn)椴蝗菀浊鍧嶋y以自配向桿20表面松脫的殘留顆粒而導(dǎo)致配向膜制作的良率下降。而且，更因?yàn)樵谖鼔m裝置253開始吸附殘留顆粒之前，可先藉由超音波發(fā)生裝置251利用超音波將殘留顆粒轉(zhuǎn)化為一顆粒較細(xì)微的粉塵，所以可提升清潔的品質(zhì)。甚或在清潔程序完成之后，還可通過超音波發(fā)生裝置251發(fā)生超音波，以及利用吸塵裝置253的吸力影響配向部201表面的情形；舉例而言，若配向部201是為一摩擦布，則可通過超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253影響摩擦布表面紋理的排列整齊度，然后，再經(jīng)由影像擷取裝置27擷取配向部201表面紋理的影像，而顯示于顯像裝置29上，以利后續(xù)開始進(jìn)行的配向膜制作工序。
本發(fā)明的配向桿固定裝置21可如圖2中所示的結(jié)構(gòu)，亦可依需要而改變成其他形式以固定配向桿20。至于控制超音波發(fā)生裝置251及吸塵裝置253所在位置與作用角度的位置調(diào)整裝置257與259亦可依需要或整體設(shè)計(jì)的不同，而以其他種形式或設(shè)計(jì)調(diào)整其所在位置與作用角度。而吸塵裝置253可為一真空吸塵器，或其他具有吸附殘留顆?；蚍蹓m功能的裝置。影像擷取裝置27是可為一電荷耦合元件，或其他具有影像擷取功能的裝置。
本發(fā)明的第二實(shí)施例如圖3所示，可藉由影像擷取裝置27擷取配向桿20表面的影像，并通過顯像裝置29顯示出來；而除污裝置25則設(shè)置于配向桿20的下方。
所以在尚未以超音波發(fā)生裝置251發(fā)生超音波而轉(zhuǎn)化殘留顆粒為粉塵時，已可能有部份殘留顆粒因?yàn)榈匦囊Φ年P(guān)系，而掉落于吸塵裝置253中。所以，因?yàn)槌垩b置25設(shè)置于配向桿20的下方，便可藉由地心引力的作用而增強(qiáng)除污裝置的清潔效果。
本發(fā)明除污設(shè)備25的結(jié)構(gòu)可如第一實(shí)施例與第二實(shí)施例那樣，超音波發(fā)生裝置251與吸塵裝置253是為分離的儀器，但亦可如本發(fā)明第三實(shí)施例為一結(jié)合在一起的結(jié)構(gòu)。如本發(fā)明第三實(shí)施例圖4所示，超音波發(fā)生裝置251設(shè)置于吸塵裝置253的兩側(cè)；藉由兩側(cè)的超音波發(fā)生裝置251發(fā)生超音波以轉(zhuǎn)化附著于配向桿20表面的殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵，再以吸塵裝置253吸附粉塵，以達(dá)到清潔效果。而于清潔過程中，則可通過影像擷取裝置27擷取配向桿20表面的影像，再通過顯像裝置29顯示出來。
為方便觀察配向桿20表面的影像，可通過顯像裝置29本身所具的放大功能放大影像，亦可如圖中所示，于影像擷取裝置27之前設(shè)置一可改變光線路徑的光學(xué)元件271，以達(dá)到放大的效果。
又如圖5所示，本發(fā)明的液晶配向桿清潔方法先如步驟31所示，提供欲清潔的配向桿。再如步驟33所示，以一控制裝置調(diào)整超音波發(fā)生裝置與吸塵裝置的所在位置與作用角度，使之與配向桿之間呈現(xiàn)最有利于清潔時的相對位置。而后，如步驟35，施加超音波至配向桿，以轉(zhuǎn)化附著于配向桿表面的殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵，以有利于清潔。之后，即可如步驟37所示，以吸塵裝置將粉塵吸附而清潔配向桿。
而且，本發(fā)明還可如步驟311，以影像擷取裝置擷取配向桿表面的影像；然后再如步驟313，通過顯像裝置顯示影像擷取裝置擷取的影像，以監(jiān)測后續(xù)配向桿表面的清潔情形，確定是否有清潔不干凈之處，確保清潔的效果。
故本發(fā)明的液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法，是利用超音波轉(zhuǎn)化配向桿表面的殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵，并將其吸附，而達(dá)到徹底清潔的效果，增加清潔配向桿的效率，亦確保配向膜制作的良率。同時亦可藉由影像擷取裝置監(jiān)測配向桿表面的清潔狀態(tài)，以確保配向桿表面的清潔程度。而且，還可通過超音波發(fā)生裝置與吸塵裝置影響配向桿表面(如摩擦布表面)紋理的排列整齊度，然后，經(jīng)由影像擷取裝置以及顯像裝置顯示的畫面監(jiān)測其排列情形，以利后續(xù)進(jìn)行的配向膜制作工序。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非用以限定本發(fā)明的申請專利范圍；凡其它未脫離本發(fā)明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾，均應(yīng)包含在下述的權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種液晶配向桿清潔設(shè)備，用于清潔一液晶配向桿上的殘留顆粒，該液晶配向桿清潔設(shè)備包含一超音波發(fā)生裝置，用以施加一超音波于該液晶配向桿上的殘留顆粒，并將殘留顆粒轉(zhuǎn)化為顆粒較細(xì)微的粉塵；以及一吸塵裝置，設(shè)置于該超音波發(fā)生裝置的周邊，以吸附該粉塵脫離該液晶配向桿。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶配向桿清潔設(shè)備，其特征在于還包含一影像擷取裝置。
3.如權(quán)利要求1所述的液晶配向桿清潔設(shè)備，其特征在于該影像擷取裝置連接于一顯像裝置。
4.一種液晶配向桿清潔方法，包含提供一具有殘留顆粒的一液晶配向桿；施加一超音波至該液晶配向桿上的該殘留顆粒，使其轉(zhuǎn)化為顆粒較細(xì)微的粉塵；以及以一吸塵裝置清潔該液晶配向桿上的該粉塵。
5.如權(quán)利要求4所述的液晶配向桿清潔方法，其特征在于還包含以一影像擷取裝置擷取該配向桿表面的一影像。
全文摘要
一種制造液晶配向膜的液晶配向桿清潔設(shè)備與清潔方法。液晶配向桿清潔設(shè)備具有一除污裝置，其具有超音波發(fā)生裝置以及設(shè)置于超音波發(fā)生裝置一側(cè)的吸塵裝置。藉由超音波發(fā)生裝置施加超音波到配向桿上，以轉(zhuǎn)化附著于配向桿表面的殘留顆粒為顆粒較細(xì)微的粉塵。之后，再以吸塵裝置吸附粉塵，以達(dá)到配向桿清潔的效果。
文檔編號G02F1/1337GK1588210SQ200410062889
公開日2005年3月2日 申請日期2004年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月5日
發(fā)明者何岳暾, 樓齊慶 申請人:友達(dá)光電股份有限公司