專(zhuān)利名稱(chēng)：制作平滑的對(duì)角組件的數(shù)字光刻系統(tǒng)的制作方法
交叉引用此專(zhuān)利申請(qǐng)為2000年8月8日提交的序列號(hào)為NO.09/633978的美國(guó)專(zhuān)利的系列申請(qǐng)。
背景本發(fā)明總的涉及光刻曝光設(shè)備，并尤其涉及一種例如可以用于半導(dǎo)體集成電路器件的制作的光刻系統(tǒng)。
在常規(guī)的模擬光刻系統(tǒng)中，光刻設(shè)備需要一個(gè)用于將圖象印刷到目標(biāo)目標(biāo)主體上的掩模。該目標(biāo)目標(biāo)主體例如可以包括用于制作集成電路的涂覆了光致抗蝕劑的半導(dǎo)體襯底、用于蝕刻的鉛框制作的金屬襯底或用于印刷電路板制作的導(dǎo)體板等。帶有圖案的掩?；蚬庋谀＠缈梢园鄠€(gè)線(xiàn)條或結(jié)構(gòu)。在光刻曝光中，必須利用一些機(jī)械控制方式和復(fù)雜的校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)將目標(biāo)主體與掩膜非常精確地校準(zhǔn)。
在此引為參考的美國(guó)專(zhuān)利US5,691,541公開(kāi)了一種無(wú)刻線(xiàn)的數(shù)字光刻系統(tǒng)。該數(shù)字系統(tǒng)采用了一種脈沖的或選通的準(zhǔn)分子激光器，將光束反射離開(kāi)可編程的數(shù)字反射鏡裝置(DMD)，而該反射鏡裝置用于將圖象組件(如金屬線(xiàn)條)投影到襯底上。襯底安置在一個(gè)于脈沖序列期間移動(dòng)的臺(tái)座上。
在此因?yàn)閰⒖嫉呐c2000年1月10日提交的美國(guó)專(zhuān)利USS/N09/480,796公開(kāi)了另一種數(shù)字光刻系統(tǒng)，它將移動(dòng)的數(shù)字象素圖案投影到目標(biāo)主體的特定部位?！安课弧币辉~可以代表目標(biāo)主體上被光刻系統(tǒng)掃描的帶有單個(gè)象素元的預(yù)定區(qū)域。
上述兩種數(shù)字光刻系統(tǒng)把象素掩膜圖案投影到目標(biāo)主體上，如芯片、印刷電路板或其它介質(zhì)上。該系統(tǒng)向象素板、如可變形的反射鏡裝置或液晶顯示器提供一系列圖案。象素板提供由多個(gè)可以投影到目標(biāo)主體上的象素元組成的的圖象，該圖象與提供的圖案對(duì)應(yīng)。
然后將多個(gè)象素元的每一個(gè)同時(shí)聚焦到目標(biāo)主體的不同部位。之后，移動(dòng)目標(biāo)主體，并響應(yīng)于移動(dòng)和象素掩模圖案，提供下一個(gè)圖象。結(jié)果，光可以投射到象素板上或穿過(guò)象素板以對(duì)目標(biāo)主體上的多個(gè)象素元曝光，并且可以根據(jù)象素掩膜圖案移動(dòng)和更改象素元，從而在目標(biāo)主體上建立連接的圖象。
參見(jiàn)圖1a，采用光掩模的常規(guī)模擬光刻系統(tǒng)可以在目標(biāo)主體12上很容易地并且精確地產(chǎn)生圖象10。圖象10可以有水平的、垂直的、對(duì)角傾斜的或是彎曲的組件(如金屬導(dǎo)線(xiàn))，它們非常的平滑，且具有一致的線(xiàn)寬。
再參見(jiàn)圖1b，使用數(shù)字掩模的常規(guī)數(shù)字光刻系統(tǒng)也可以在目標(biāo)主體16上產(chǎn)生圖象14。雖然圖象14可以有水平的、垂直的、對(duì)角傾斜的或彎曲的組件，如圖1a的模擬圖象，但有一些組件(如對(duì)角傾斜的一種)既不是平滑的，也沒(méi)有一致的線(xiàn)寬。
希望對(duì)數(shù)字光刻系統(tǒng)做一定的改進(jìn)，如上述系統(tǒng)，其一，希望提供平滑的組件，如同用模擬光刻系統(tǒng)產(chǎn)生的對(duì)角傾斜和彎曲的金屬線(xiàn)。另外，希望有一個(gè)較大的曝光面積，提供較好的圖象分辨率，提供良好的冗余度，使用較為便宜的非相干光源，提供較高的光能效率，提供較高的生產(chǎn)率和分辨率，并且更靈活可靠。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明通過(guò)一種用數(shù)字光刻系統(tǒng)制作對(duì)角傾斜組件的新穎方法和系統(tǒng)而提供了一項(xiàng)技術(shù)改進(jìn)。在一個(gè)實(shí)施例中，執(zhí)行數(shù)字光刻的方法把第一象素元曝光到目標(biāo)主體如涂覆抗蝕劑的芯片的第一地點(diǎn)。然后此方法在一定距離處重新定位芯片并對(duì)第二象素元曝光。曝光的第二象素元覆蓋或部分覆蓋曝光的第一象素元。重復(fù)此過(guò)程直到芯片表面的大部分被曝光。
在一些實(shí)施例中，此方法在不同的方向上重新定位目標(biāo)主體，并將第三象素元曝光到目標(biāo)主體上。曝光的第三象素元覆蓋但非全部覆蓋曝光的第一象素元和/或第三象素元。
在一些實(shí)施例中，第一距離小于第一地點(diǎn)的半長(zhǎng)度。第二象素元曝光后，系統(tǒng)可以再掃描并曝光第三象素元。曝光的第三象素元覆蓋但非全部覆蓋第一和第二象素元的曝光部分。
還提供了一種用于制作平滑的對(duì)角組件的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括用于將第一數(shù)字圖案提供給數(shù)字象素板如可變形反射鏡裝置(DMD)的設(shè)備，如計(jì)算機(jī)。DMD能夠提供多個(gè)用于曝光到目標(biāo)主體上多個(gè)地點(diǎn)處的第一象素元，每個(gè)地點(diǎn)在一個(gè)方向上有一定的長(zhǎng)度，在另一個(gè)方向上有一定的寬度。
曝光后，可以相對(duì)于數(shù)字象素板在一個(gè)方向上重新定位目標(biāo)主體。然后該DMD能夠提供一個(gè)第二數(shù)字圖案，用于將多個(gè)第二象素元曝光到目標(biāo)主體上的多個(gè)地點(diǎn)處。曝光的多個(gè)第二象素元覆蓋曝光的多個(gè)第一象素元。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于可以通過(guò)數(shù)字光刻制造非常平滑的并且是連續(xù)一致的對(duì)角組件(和其它形狀的組件)。
本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于保持了較高的圖象分辨率。
本發(fā)明的再一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于可以提供較好的冗余度。
本發(fā)明的還有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于保持與常規(guī)的數(shù)字光刻系統(tǒng)相同的數(shù)據(jù)容量。


圖1a和1b分別是由常規(guī)的模擬光刻系統(tǒng)和常規(guī)的數(shù)字光刻系統(tǒng)產(chǎn)生的圖象。
圖2是用于實(shí)施本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)的數(shù)字光刻系統(tǒng)的框圖；圖3a和3b表示曝光在目標(biāo)主體上的象素的各種整體布局；圖4a和4b表示疊加在目標(biāo)主體上的象素的效果；圖5表示圖2所示系統(tǒng)的組件曝光示圖，與圖1b和1a所示系統(tǒng)的常規(guī)曝光作比較；圖6a和6b分別表示與圖1a和1b所示圖象對(duì)應(yīng)的組件曝光；圖7表示提供到圖2所示系統(tǒng)的象素板上的各種象素圖案；圖8、9和10.1-10.20表示在臺(tái)座上以一定角度定位并被掃描的目標(biāo)主體的簡(jiǎn)圖。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該角度便于覆蓋目標(biāo)主體上一個(gè)地點(diǎn)的曝光；圖11是用于執(zhí)行本發(fā)明另一實(shí)施例的圖2所示數(shù)字光刻系統(tǒng)的部分框圖；圖12-13提供了一個(gè)被以一定角度定位并掃描、且由圖11所示系統(tǒng)曝光的目標(biāo)主體簡(jiǎn)圖；圖14表示一處被重疊曝光600次的地點(diǎn)。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的公開(kāi)涉及曝光系統(tǒng)，例如可以用于半導(dǎo)體光刻過(guò)程的系統(tǒng)。但是，應(yīng)該理解，下列的公開(kāi)提供了用于實(shí)現(xiàn)本發(fā)明不同特征的多個(gè)不同實(shí)施例或?qū)嵗?。下面描述的組件和分布的特例簡(jiǎn)化了本發(fā)明的說(shuō)明。當(dāng)然，這些僅僅是舉例，不構(gòu)成對(duì)權(quán)利要求所述的本發(fā)明的限定。
無(wú)掩模的光刻系統(tǒng)參見(jiàn)圖2，無(wú)掩模的光刻系統(tǒng)包括一個(gè)光源32，一個(gè)第一透鏡系統(tǒng)34，一個(gè)計(jì)算機(jī)輔助的圖案設(shè)計(jì)系統(tǒng)36，一個(gè)象素板38，一個(gè)板校準(zhǔn)臺(tái)39，一個(gè)第二透鏡系統(tǒng)40，一個(gè)目標(biāo)主體42和一個(gè)目標(biāo)主體臺(tái)44?？桃庠谀繕?biāo)主體42上設(shè)置一個(gè)抗蝕劑層或涂層46。光源32刻意是非相干光源(如汞燈)，提供一束經(jīng)第一透鏡系統(tǒng)34投影到象素板38上的準(zhǔn)直光束48。
象素板38通過(guò)一條(或多條)適當(dāng)?shù)男盘?hào)線(xiàn)50由計(jì)算機(jī)輔助圖案設(shè)計(jì)系統(tǒng)36提供數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)，建立所需的象素圖案(象素掩模圖案)?？梢愿鶕?jù)需要，在特定的階段得到象素掩模圖案并駐流在象素板38上。然后，從(或經(jīng))象素板38的象素掩模圖案發(fā)出的光通過(guò)第二透鏡系統(tǒng)40并到達(dá)目標(biāo)主體42上。通過(guò)這種方式，象素掩模圖案被投影到目標(biāo)主體42的抗蝕劑涂層46上。
計(jì)算機(jī)輔助掩模設(shè)計(jì)系統(tǒng)36可以用于象素掩模圖案的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的建立。計(jì)算機(jī)輔助圖案設(shè)計(jì)系統(tǒng)36可以包括計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)軟件，與目前用在傳統(tǒng)印刷掩模的制造中的掩模數(shù)據(jù)的建立類(lèi)似。象素掩模圖案中所需的任何改型和/或變化都可以利用計(jì)算機(jī)輔助圖案設(shè)計(jì)系統(tǒng)36進(jìn)行。因此，可以根據(jù)需要改變?nèi)魏谓o定的象素掩模圖案，幾乎是即時(shí)使用計(jì)算機(jī)輔助圖案設(shè)計(jì)系統(tǒng)36發(fā)出的適當(dāng)指令。計(jì)算機(jī)輔助掩模設(shè)計(jì)系統(tǒng)36還可以用于調(diào)節(jié)圖象的尺度或校正圖象畸變。
在本實(shí)施例中，象素板38例如是美國(guó)專(zhuān)利US5,079,544中所示的一個(gè)數(shù)字光處理器(DLP)或數(shù)字反射鏡裝置(DMD)，該專(zhuān)利在此引為參考。當(dāng)前的DMD技術(shù)為一組潛在的象素元提供600×800的反射鏡陣列。每個(gè)反射鏡可以選擇性地把光48導(dǎo)向目標(biāo)主體42(“ON”狀態(tài))或?qū)щx目標(biāo)主體(“OFF”狀態(tài))。另外，每個(gè)反射鏡可以在特定的時(shí)間周期于ON或OFF狀態(tài)之間更換以適應(yīng)光效率的變化。例如，如果第二透鏡系統(tǒng)40有一個(gè)“暗”區(qū)(如部分透鏡系統(tǒng)是無(wú)效的或變形的)，則DMD可以更換與透鏡的“亮”區(qū)對(duì)應(yīng)的反射鏡，由此使投影到透鏡上的總光量相等。為了簡(jiǎn)化和清楚起見(jiàn)，圖中將象素板38示為一個(gè)DMD。在另一個(gè)實(shí)施例中可以使用多個(gè)DMD、一個(gè)或多個(gè)液晶顯示器和/或其它類(lèi)型的數(shù)字板。
在一些實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)輔助掩模設(shè)計(jì)系統(tǒng)36連接到用于移動(dòng)目標(biāo)主體臺(tái)44的第一電機(jī)52和用于給象素板38提供數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的驅(qū)動(dòng)器54。在一些實(shí)施例中，還可以包含用于移動(dòng)象素板的附加電機(jī)55，如下所述。系統(tǒng)36由此與象素板38和目標(biāo)主體42之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)聯(lián)合地控制提供給象素板38的數(shù)據(jù)。
象素覆蓋象素板38的曝光時(shí)間或曝光強(qiáng)度直接影響抗蝕劑涂層46。例如，如果象素板38的單個(gè)象素以最大的曝光量或以最大的曝光強(qiáng)度曝光到目標(biāo)主體42的一個(gè)地點(diǎn)處，則目標(biāo)主體上抗蝕劑涂層的對(duì)應(yīng)部分將有最大的厚度(無(wú)曝光的或曝光不足的抗蝕劑被除去)。如果象素板38的單個(gè)象素以小于最大曝光量或以減弱的強(qiáng)度曝光，則目標(biāo)主體42上抗蝕劑涂層46的對(duì)應(yīng)部分將有適中的厚度。如果象素板38的單個(gè)象素不被曝光，則目標(biāo)主體42上抗蝕劑涂層的對(duì)應(yīng)部分將最終被除去。
參見(jiàn)圖3a和3b，人們希望曝光到一個(gè)地點(diǎn)上的每個(gè)象素元覆蓋前面曝光的象素元。圖3s表示一個(gè)方向上的涂覆層的預(yù)測(cè)描繪，其中象素元80.1被象素元80.2覆蓋，而象素元80.2又被80.3覆蓋，...直到被80.N覆蓋，其中“N”為一個(gè)方向上覆蓋的象素元總數(shù)。注意，在本例中，象素元80.1不覆蓋象素元80.N。
圖3b是圖3a的二維擴(kuò)展。在此實(shí)例中，象素元80.1在另一方向上被象素元81.1覆蓋，而象素元81.1又被82.1覆蓋，...直到被8M.N覆蓋，其中“M”為第二個(gè)方向上覆蓋的象素元總數(shù)。結(jié)果，對(duì)于一個(gè)地點(diǎn)總共可以曝光M×N個(gè)象素元。
參見(jiàn)圖4a來(lái)考慮一個(gè)有可能被(M，N)＝(4×4)個(gè)象素元曝光的地點(diǎn)的例子。在此例中，實(shí)際上只有16個(gè)可能象素元中的四個(gè)處于“ON”，并且因此曝光目標(biāo)主體42的數(shù)個(gè)部位。這四個(gè)象素元標(biāo)號(hào)為100.1，100.2，100.3，100.4。這四個(gè)象素元100.1-100.4被曝光到目標(biāo)主體42的光致抗蝕劑層46上。這所有的四個(gè)象素元100.1-100.4在區(qū)域102處彼此覆蓋，其中的三個(gè)象素元在區(qū)域104處覆蓋；其中的兩個(gè)象素元在區(qū)域106處覆蓋；區(qū)域108只被一個(gè)象素元覆蓋。因此，區(qū)域102將接受最大的曝光量(100％)；區(qū)域104接受75％的曝光量；區(qū)域106接受50％的曝光量；區(qū)域108接受25％的曝光量。注意，區(qū)域102非常小，在本實(shí)例中占任何象素元100.1-100.4的1/16。
參見(jiàn)圖4b，圖4a的實(shí)例可以擴(kuò)大為(M，N)＝(6，6)個(gè)象素元，有兩個(gè)增加的覆蓋的象素元100.5、100.6處于ON狀態(tài)。象素元100.5、100.6因此曝光到目標(biāo)主體42的光致抗蝕劑層46上，使得覆蓋四個(gè)象素元100.1-100.4的部分區(qū)域。在此擴(kuò)展的實(shí)例中，象素元100.1-100.4在區(qū)域102處彼此覆蓋；四個(gè)象素元100.2-100.5在區(qū)域110處彼此覆蓋；四個(gè)象素元100.3-200.6在區(qū)域112處彼此覆蓋。另外，區(qū)域114將接受75％的曝光量，區(qū)域116將接受50％的曝光量；區(qū)域118將接受25％的曝光量。結(jié)果，在光致抗蝕劑層46上形成非常小的隆脊。
在一個(gè)實(shí)施例中，本發(fā)明的象素板32可以有600×800的象素元陣列。由兩個(gè)變量(M，N)定義重疊部分?？紤]600個(gè)象素的一行，該系統(tǒng)將600個(gè)象素覆蓋到(M，N)重疊區(qū)(M，N)＝20個(gè)象素×30個(gè)象素(1)參見(jiàn)圖5a，可以重復(fù)圖4a和4b的過(guò)程以在目標(biāo)主體42上產(chǎn)生一個(gè)對(duì)角組件。雖然圖4a和4b的實(shí)例有四種可能的曝光程度(100％，75％，50％，25％)，但通過(guò)增加重疊的數(shù)量(如圖3b中所示)，可以有極細(xì)分辨率的所需曝光。
對(duì)角組件120呈現(xiàn)為一種棱鏡形的結(jié)構(gòu)，具有三角形截面。如果目標(biāo)主體42是一個(gè)芯片，則組件120可以是一個(gè)導(dǎo)體(如一條金屬線(xiàn))，一個(gè)多邊形或任何其它的結(jié)構(gòu)。該組件的上部大部分120t是部分光致抗蝕劑層46，大部分被對(duì)應(yīng)的象素元覆蓋，并且因此接受最大的曝光量。
組件120與圖5b的組件122和圖5c的組件124相對(duì)。圖5b的組件122表示常規(guī)數(shù)字組件。圖5c的組件124表示常規(guī)的模擬組件。
覆蓋的方法再參見(jiàn)圖2，上述覆蓋可以通過(guò)各種方法實(shí)現(xiàn)。一般地，移動(dòng)和/或布置象素板38和/或目標(biāo)主體42的各種組合可以實(shí)現(xiàn)所需的覆蓋。
在一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)掩模光刻系統(tǒng)通過(guò)相對(duì)于目標(biāo)主體在兩個(gè)方向上迅速移動(dòng)圖象(除了掃描運(yùn)動(dòng)之外)。板電機(jī)55連接到象素板38以在兩個(gè)方向上移動(dòng)象素板，這兩個(gè)方向由x箭頭132和y箭頭134表示。板電機(jī)55可以是一種能夠做非常小且精密的運(yùn)動(dòng)的壓電裝置(PZT)。
另外，掃描電機(jī)55在一個(gè)方向136上掃描目標(biāo)主體臺(tái)44，繼而掃描目標(biāo)主體42。或者，可以固定目標(biāo)主體臺(tái)44，并且板電機(jī)55可以在與方向136相反的方向掃描象素板38(和透鏡40)。
還參見(jiàn)圖7，與上述的圖象掃描對(duì)應(yīng)，被象素板38投影的象素掩模圖案因此改變。在一個(gè)實(shí)施例中，此種對(duì)應(yīng)可以通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)(圖2)控制掃描運(yùn)動(dòng)70和提供給象素板38的數(shù)據(jù)而具備。圖7所示以及下面的討論將描述如何可以將數(shù)據(jù)及時(shí)地提供給象素板。
圖7表示象素板38的中間圖案。因?yàn)橄笏匕?8上的圖案和信號(hào)線(xiàn)50上的數(shù)據(jù)隨時(shí)間改變，所以用后綴“ 1”、“2”或“3”即時(shí)表示在一個(gè)特定地點(diǎn)處信號(hào)線(xiàn)中的數(shù)據(jù)和象素板上的對(duì)應(yīng)圖案。在第一中間圖案中，建立的象素板38.1的圖案響應(yīng)于經(jīng)信號(hào)線(xiàn)50.1提供的接收到的數(shù)據(jù)D0。在本實(shí)例中，建立的圖案成為象素板38.1中象素元陣列。在預(yù)定的時(shí)間周期之后(假如遇到曝光的情況)，圖案移位。移位的圖案(在此示作象素板38.2)包括經(jīng)信號(hào)線(xiàn)38.2提供的附加數(shù)據(jù)D1。圖案之間的移位也可以利用光源32的選通或關(guān)閉。
在圖7所示的第二中間圖案中，D1表示DMD 38.2的圖案中最左列的象素元。在另一預(yù)定的時(shí)間周期后，該圖案(此時(shí)示作象素板38.3)又移位。兩次移位的圖案包括經(jīng)信號(hào)線(xiàn)38.2提供D2。在圖7所示的第三中間圖案中，D2表示DMD 38.3的圖案中最坐列的象素元。因而該圖案在138方向上移過(guò)象素板38。注意到，如同從信號(hào)線(xiàn)50提供給象素板38一樣，圖案方向138正朝著與掃描方向136相反的方向移動(dòng)。在一些實(shí)施例中，該圖案可以在附加的方向上移位，如在垂直于掃描方向136的方向上移位。
參見(jiàn)圖8，在一些實(shí)施例中，無(wú)掩模光刻系統(tǒng)30在將目標(biāo)主體定位于目標(biāo)主體臺(tái)44上以適于其它方向的同時(shí)，通過(guò)相對(duì)于目標(biāo)主體42在一個(gè)方向(除了掃描運(yùn)動(dòng)之外)上迅速移動(dòng)圖象而進(jìn)行二維數(shù)字掃描。板電機(jī)55在由箭頭134表示的方向上移動(dòng)象素板38。掃描電機(jī)55在一個(gè)方向上掃描目標(biāo)主體臺(tái)44、繼而掃描目標(biāo)主體42?；蛘撸潭繕?biāo)主體臺(tái)44，并且板電機(jī)55可以在與方向136相反的方向上掃描象素板38(和透鏡40)。
來(lái)自象素板38和/或目標(biāo)主體42的圖象以θ角與掃描方向136對(duì)齊。假設(shè)投影到目標(biāo)主體42上的每個(gè)象素具有l(wèi)的長(zhǎng)度和w的寬度，則θ可以判定如下θ＝tan-1{(w-1/M)/(N×l)}(2)在另一實(shí)施例中，可以在相反的方向上偏移，以致于θ可以判定如下
θ＝tan-1{(w+1/M)/(N×l)}(3)參見(jiàn)圖9和10.1以目標(biāo)主體42上的兩個(gè)地點(diǎn)140.1和142.1為例來(lái)考慮。最初，兩個(gè)地點(diǎn)140.1和142.1同時(shí)分別被象素板38的象素元P1和P50曝光。象素元P1和P50分別位于象素板38的R0行和C1及C0列。此行和列的標(biāo)號(hào)可以任意，在本實(shí)施例中標(biāo)定以使該例清楚。下面的討論將主要集中在地點(diǎn)140.1上。但是應(yīng)該理解，在此討論的方法一般用于目標(biāo)主體上的多個(gè)地點(diǎn)，包括142.1，但為了清楚起見(jiàn)，避免顯示和討論地點(diǎn)142.1。
從圖9中可以清楚地看到，象素板38與目標(biāo)主體42和掃描方向136成一角度。上系統(tǒng)30掃描時(shí)，象素元P11將通常直接被投影在頂部地點(diǎn)140.1上。但是，如圖10.2所示，象素元P11在稍稍偏離地點(diǎn)140.1的y方向(或-y方向)上曝光地點(diǎn)140.11。當(dāng)系統(tǒng)30繼續(xù)掃描時(shí)，象素元P12-P14分別曝光到偏移部位140.12-140.14，這些部位分別如圖10.3-10.5所示。象素元P11-P14處于象素板38的C1列的相鄰行R1，R2，R3，R4。
在本實(shí)施例中，掃描電機(jī)52為每次投影移動(dòng)目標(biāo)主體臺(tái)44(繼而移動(dòng)目標(biāo)主體42)l的距離，即象素地點(diǎn)140.1的長(zhǎng)度。為了提供上述的偏移，板電機(jī)55為每次投影移動(dòng)象素板38附加的距離l/(N-1)。(在本例中N＝5)。因此，每次投影的總相對(duì)移動(dòng)量“掃描步長(zhǎng)”為掃描步長(zhǎng)＝l+l/(N-1)(4)在另一實(shí)施例中，可以在相反的方向上偏移，以致于每次投影的總相對(duì)移動(dòng)量“掃描步長(zhǎng)”為掃描步長(zhǎng)＝l-l/(N-1)(5)在一些實(shí)施例中，不需要板電機(jī)55。相反，掃描電機(jī)52移動(dòng)目標(biāo)主體臺(tái)適當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度(方程4或5)。
一旦N個(gè)部位被曝光，則投影到所需部位的下一個(gè)象素元處于相鄰的一列上。參見(jiàn)圖10.6，在本例中， R5行、C2列的象素元P2曝光一個(gè)在x方向(或-x方向，根據(jù)是采用方程4還是方程5)稍稍偏離地點(diǎn)140.1的部位140.2。當(dāng)系統(tǒng)30繼續(xù)掃描時(shí)，象素元P21-P24被分別曝光到偏移的部位140.21-140.24，這些部位分別如圖10.7-10.10所示。象素元P21-P24處于象素板38的C2列的相鄰行R6，R7，R8，R9。
一旦N個(gè)以上的部位被曝光，則投影到所需部位的下一個(gè)象素元處于另一個(gè)相鄰的列上。參見(jiàn)圖10.11，在本例中，R10行、C3列的象素元P3曝光一個(gè)在x方向(或-x方向，根據(jù)是采用方程4還是方程5)稍稍偏離地點(diǎn)140.2的部位140.3。當(dāng)系統(tǒng)30繼續(xù)掃描時(shí)，象素元P31-P34被分別曝光到偏移的部位140.31-140.34，這些部位分別如圖10.12-10.15所示。象素元P31-P34處于象素板38的C3列的相鄰行R11，R12，R13，R14。
重復(fù)上述過(guò)程以便全面掃描所需的重疊的圖象。參見(jiàn)圖10.16，在本實(shí)例中，R15行、C4列的象素元P4曝光一個(gè)在x方向(或-x方向，根據(jù)是采用方程4還是方程5)稍稍偏離地點(diǎn)140.3的部位140.4。當(dāng)系統(tǒng)30繼續(xù)掃描時(shí)，象素元P41-P44被分別曝光到偏移的部位140.41-140.444，這些部位分別如圖10.17-10.20所示。象素元P41-P44處于象素板38的C4列的相鄰行R16，R17，R18，R19。
點(diǎn)陣系統(tǒng)和方法參見(jiàn)圖11，在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，光刻系統(tǒng)30除了有透鏡系統(tǒng)40外還利用一個(gè)獨(dú)有的光學(xué)系統(tǒng)150。在美國(guó)專(zhuān)利No.S/N09/480,796中詳細(xì)討論了該光學(xué)系統(tǒng)150，該專(zhuān)利在此引為參考?？梢岳斫猓撏哥R系統(tǒng)40適于各種組件和光刻系統(tǒng)30的要求，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以適當(dāng)?shù)剡x擇和定位透鏡。作為例子，透鏡組40a和附加透鏡40b構(gòu)成光學(xué)系統(tǒng)150。
光學(xué)系統(tǒng)150包括一個(gè)光柵152和一個(gè)點(diǎn)陣154。光柵152可以是用于消除和/或減小一定的光線(xiàn)帶寬和/或象素板38的各個(gè)象素之間的衍射的傳統(tǒng)蔭罩裝置。光柵152可以有各種形式，在一些實(shí)施例中，可以用其它的裝置代替或根本不用。
點(diǎn)陣154是一個(gè)多焦裝置。點(diǎn)陣有多種類(lèi)型，包括菲涅爾環(huán)，磁性e束透鏡，x射線(xiàn)控制透鏡和用于固體透明裝置的超聲控制的光會(huì)聚裝置。
在本實(shí)施例中，點(diǎn)陣154是各個(gè)微透鏡的匯編或微透鏡陣列。在本實(shí)施例中，如同在象素板38中有象素元一樣，有多個(gè)單獨(dú)的微透鏡。例如，如果象素板38是一個(gè)帶有600×800象素的DMD，則微透鏡陣列154可以有600×800個(gè)微透鏡。在另一實(shí)施例中，透鏡的數(shù)量不同于象素板38中象素元的數(shù)量。在這些實(shí)施例中，單獨(dú)一個(gè)微透鏡可以容納DMD的多個(gè)象素元，或者可以修改象素元以用于校準(zhǔn)。為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，圖中只顯示一行四個(gè)單獨(dú)的透鏡154a，154b，154c和154d。在本實(shí)施例中，每個(gè)單獨(dú)的透鏡154a，154b，154c和154d都為雨滴的形狀。該形狀對(duì)具體的衍射有益，后面有述。但是應(yīng)該理解，也可以采用采用圖示以外的其它形狀。
與圖2所示的透鏡系統(tǒng)40類(lèi)似，光學(xué)系統(tǒng)150放置在象素板38和目標(biāo)主體42之間，在本實(shí)施例中出于舉例的目的，如果象素板38是一個(gè)DMD裝置，則光束將從DMD裝置反射并指向光學(xué)系統(tǒng)150。如果象素板38是一個(gè)LCD裝置，則光將(選擇性地)穿過(guò)LCD裝置并指向光學(xué)系統(tǒng)150。為了進(jìn)一步地解釋本實(shí)施例，象素板38包括一行用于產(chǎn)生四個(gè)象素元的元件(或反射鏡或液晶)。
在本例的繼續(xù)中，從象素板38的每個(gè)象素投影四個(gè)不同的象素元156a，156b，156c，156d。實(shí)際上，象素元156a，156b，156c，156d是在任何特定的瞬間既可以為ON、也可以為OFF的光束(意味著根據(jù)象素掩模圖案可以存在或不存在光束)，但為了討論的目的，圖中示出了所有的光束。
象素元156a，156b，156c，156d穿過(guò)透鏡系統(tǒng)40a，并按照當(dāng)前操作條件的要求操縱這些象素元。如后面所述，透鏡系統(tǒng)40a和40b的使用是現(xiàn)有技術(shù)中普遍認(rèn)知的設(shè)計(jì)選擇，在一個(gè)實(shí)施例中可以存在一個(gè)或兩個(gè)。由透鏡系統(tǒng)40a操縱的象素元156a，156b，156c，156d分別標(biāo)為158a，158b，158c，158d。
然后象素元158a，158b，158c，158d穿過(guò)微透鏡陣列154，每個(gè)光束指向特定的微透鏡154a，154b，154c，154d。由微透鏡陣列154操縱的象素元158a，158b，158c，158d分別表示為聚焦的光束160a，160b，160c，160d。如圖11所示，光束160a，160b，160c，160d中的每一束被聚焦到關(guān)于每個(gè)象素元的焦點(diǎn)162a，162b，162c，162d。即，操縱象素板38的每個(gè)象素元直到聚焦到特定的焦點(diǎn)。希望焦點(diǎn)162a，162b，162c，162d存在于目標(biāo)主體42上。為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，可以將透鏡40b用在一些實(shí)施例中以將光束160a，160b，160c，160d重新聚焦到目標(biāo)主體42上。圖11表示單個(gè)光束的焦點(diǎn)，理解為光束直到到達(dá)目標(biāo)主體42才被聚焦(具有存在中間焦點(diǎn)的可能性)。
繼續(xù)本例，目標(biāo)主體42包括四個(gè)曝光地點(diǎn)170a，170b，170c，170d。地點(diǎn)170a，170b，170c，170d直接與分別從微透鏡154a，154b，154c，154d出來(lái)的光束162a，162b，162c，162d相關(guān)連。另外，地點(diǎn)170a，170b，170c，170d中的每一個(gè)被同時(shí)曝光。但每個(gè)地點(diǎn)170a，170b，170c，170d的整體不在同時(shí)曝光。
參見(jiàn)圖12，帶有光學(xué)系統(tǒng)150的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)30也可以執(zhí)行二維數(shù)字掃描，如參考圖8所述。例如，象素板38的圖象可以與掃描方向136成θ角(方程2和3)地排列。
參見(jiàn)圖13，本實(shí)施例的操作與圖9-10的實(shí)施例非常類(lèi)似。但是，替代對(duì)較大的部位曝光，聚焦象素元并將象素元曝光到地點(diǎn)170a，170b，170c，170d上的較小點(diǎn)(如圖11的各個(gè)聚焦光束162a，162b，162c，162d)。
首先，象素元156a將各個(gè)聚焦的光束162a曝光到目標(biāo)主體42的一個(gè)地點(diǎn)170a。聚焦光束162a產(chǎn)生一個(gè)曝光(或是未曝光的，這要根據(jù)象素元156a是ON還是OFF)的焦點(diǎn)PT1。當(dāng)系統(tǒng)30掃描時(shí)，象素元156b把各個(gè)聚焦光束162b曝光到地點(diǎn)170a上。聚焦光束162a產(chǎn)生曝光的(或未曝光的)焦點(diǎn)PT2。焦點(diǎn)PT2在y(或-y方向)方向稍稍偏離焦點(diǎn)PT1。當(dāng)系統(tǒng)30繼續(xù)掃描時(shí)，象素元156c和156d分別將各個(gè)聚焦光束162c和162d曝光到地點(diǎn)170a。聚焦光束162c和162d分別產(chǎn)生曝光的(或未曝光的)焦點(diǎn)PT3和PT4。焦點(diǎn)PT3在y方向(或-y方向)上稍稍偏離焦點(diǎn)PT2，并且焦點(diǎn)PT4類(lèi)似地偏離焦點(diǎn)PT3。
一旦N個(gè)象素元被投影，則下一個(gè)被投影到所需地點(diǎn)的象素將出于相鄰的列。此操作類(lèi)似于圖10.6-10.20中所示。重復(fù)上述過(guò)程以全面掃描重疊在地點(diǎn)170a上的所需圖象。
可以理解，光束162a被曝光在地點(diǎn)170a的同時(shí)，光束162b被曝光在地點(diǎn)170b，光束162c被曝光在地點(diǎn)170c，光束162d被曝光在地點(diǎn)170d上。系統(tǒng)30掃描一次后，光束162a曝光在新的地點(diǎn)(未示出)，同時(shí)光束162b曝光在地點(diǎn)170a上，光束162c曝光在地點(diǎn)170b上，光束162d曝光在地點(diǎn)170c。重復(fù)此過(guò)程，使得整個(gè)目標(biāo)主體可以被象素板38掃描。
還可以理解，在一些實(shí)施例中，在光束(如162a-d)從一個(gè)地點(diǎn)移動(dòng)到另一個(gè)地點(diǎn)(如170a-170d)、同時(shí)光束緩慢地曝光它們的對(duì)應(yīng)地點(diǎn)時(shí)，可以迅速地移動(dòng)目標(biāo)主體42。
通過(guò)將幾個(gè)象素板沿x方向分成一組，可以由象素板掃描整個(gè)目標(biāo)主體。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)36可以跟蹤提供給每個(gè)象素板的所有數(shù)據(jù)以調(diào)節(jié)整個(gè)掃描程序。在另一實(shí)施例中，可以進(jìn)行掃描和步進(jìn)的組合。例如，如果目標(biāo)主體42是一個(gè)芯片，則可以?huà)呙鑶蝹€(gè)模具(或一組模具)，并且然后整個(gè)系統(tǒng)30可以移步到下一個(gè)模具(或一組模具)。
為了清楚起見(jiàn)，將圖11-13的實(shí)例限定在數(shù)個(gè)象素元內(nèi)。在圖中，每個(gè)焦點(diǎn)的直徑約為地點(diǎn)170a的長(zhǎng)度l或?qū)挾葁的1/2。因?yàn)榇死蠳＝4，所以重疊的空間較大，并且如果焦點(diǎn)有重疊，重疊得也不是很多。隨著象素元數(shù)量的增多(因而N增大)，重疊的分辨率和重疊量也因此增大。
對(duì)于另一個(gè)例子，圖14表示一個(gè)用焦點(diǎn)PT1-PT600的600個(gè)象素元(如來(lái)自600×800DMD)曝光的地點(diǎn)200?？梢钥闯?，焦點(diǎn)PT1-PT600分布成一個(gè)陣列(與方程1類(lèi)似)(M，N)＝20個(gè)焦點(diǎn)×30個(gè)焦點(diǎn)(6)通過(guò)選擇ON或OFF對(duì)應(yīng)的象素元，可以在地點(diǎn)220上形成多個(gè)結(jié)構(gòu)222、224、226。注意，結(jié)構(gòu)222-226具有較好的分辨率，并且可以畫(huà)出各種不同的形狀，包括對(duì)角線(xiàn)形。還注意到，在地點(diǎn)220周?chē)脑S多焦點(diǎn)最終將與相鄰地點(diǎn)上的焦點(diǎn)重疊。這樣，整個(gè)目標(biāo)主體42可以被這些地點(diǎn)覆蓋。
或者，可以重疊一定的焦點(diǎn)和其它類(lèi)型的曝光地點(diǎn)，以在象素板38中提供足夠的冗余度。例如，圖14的600個(gè)相同的焦點(diǎn)可以用于產(chǎn)生一個(gè)陣列(M，N)＝20個(gè)焦點(diǎn)×15個(gè)焦點(diǎn)(7)通過(guò)復(fù)制每個(gè)焦點(diǎn)的曝光，這一冗余度可以接收象素板38中的一個(gè)或多個(gè)有故障的象素元。
雖然以上已參考優(yōu)選實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了展示和描述，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，在不脫離本發(fā)明實(shí)質(zhì)和范圍的前提下可以做各種形式和細(xì)節(jié)上的改變。例如，可以按序排列地構(gòu)成多個(gè)DMD象素。通過(guò)這種方式，從光源32發(fā)出的光可以投影到第一DMD，在那兒反射到第二DMD，在那兒再反射到目標(biāo)主體42上。在這種情況下，第二DMD可以用于產(chǎn)生曝光的圖象，同時(shí)第一DMD根據(jù)同時(shí)或之前映射的數(shù)據(jù)控制光的均勻性。因此，應(yīng)該以一個(gè)寬泛地方式詮釋權(quán)利要求，以與本發(fā)明一致。
權(quán)利要求
1.用于在一個(gè)對(duì)象上進(jìn)行數(shù)字光刻的一種方法，所述方法包括以下步驟把一個(gè)第一象素曝光于所述對(duì)象的一個(gè)第一地點(diǎn)上；把所述對(duì)象重新定位，從而使一個(gè)第二象素與所述第一地點(diǎn)相對(duì)準(zhǔn)；以及把所述第二象素曝光于所述對(duì)象的所述第一地點(diǎn)上，從而使來(lái)自所述第二象素的曝光與來(lái)自所述第一象素的曝光部分但不是全部地重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括對(duì)所述對(duì)象進(jìn)行重新定位，從而使一個(gè)第三象素與所述第一地點(diǎn)相對(duì)準(zhǔn)；以及把所述第三象素暴露于所述對(duì)象的所述第一地點(diǎn)上，從而使來(lái)自所述第三象素的曝光與來(lái)自所述第一象素的曝光的另一個(gè)部分相重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，其中來(lái)自所述第一、第二和第三象素的曝光是非直線(xiàn)地排列的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述第一和第二象素位于一個(gè)象素板的一個(gè)公共的列上，所述方法進(jìn)一步包括在對(duì)所述第二象素進(jìn)行曝光之后，對(duì)用于在所述第一地點(diǎn)上進(jìn)行曝光的一個(gè)第三象素進(jìn)行重新定位，所述第三象素位于所述象素的一個(gè)不同的列上；以及把所述第三象素曝光于所述對(duì)象的所述第一地點(diǎn)上，從而使來(lái)自所述第三象素的曝光與來(lái)自所述第一象素和來(lái)自所述第二象素的曝光部分但不是全部地重疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，進(jìn)一步包括在對(duì)所述第二象素進(jìn)行曝光之后，對(duì)所述對(duì)象進(jìn)行重新定位，從而使一個(gè)第三象素與所述第一地點(diǎn)相對(duì)準(zhǔn)；以及把所述第三象素暴露于所述對(duì)象的所述第一地點(diǎn)上，從而使來(lái)自所述第三象素的曝光與來(lái)自所述第一象素的全部曝光和來(lái)自所述第二象素的一部分曝光相重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括把一層光刻膠加到所述對(duì)象上，其中所述光刻膠響應(yīng)于所接收的曝光量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括在曝光期間把所述第一和第二象素減小至焦點(diǎn)。
8.用于在一個(gè)對(duì)象上進(jìn)行光刻的一種方法，所述方法包括以下步驟給包括第一多個(gè)象素的一個(gè)第一數(shù)字圖案提供給一個(gè)數(shù)字象素板；把所述第一多個(gè)象素暴露于所述對(duì)象的多個(gè)地點(diǎn)上，這些地點(diǎn)中的每一個(gè)地點(diǎn)都具有沿著一個(gè)方向的長(zhǎng)度和沿著另一個(gè)方向的寬度；沿著所述一個(gè)方向，相對(duì)于所述數(shù)字象素板，對(duì)所述對(duì)象掃描小于所述長(zhǎng)度的一個(gè)距離；把包括第二多個(gè)象素的一個(gè)第二數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；把所述第二多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上；從而使得被曝光的第二多個(gè)象素與被曝光的第一多個(gè)象素相重疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進(jìn)一步包括沿著所述其他方向，相對(duì)于所述數(shù)字象素板，在小于所述寬度的一個(gè)距離上，對(duì)所述對(duì)象進(jìn)行重新定位；把包括第三多個(gè)象素的一個(gè)第三數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；把所述第三多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上；從而使所述第三多個(gè)象素與所述曝光的第二多個(gè)象素相重疊。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進(jìn)一步包括沿著所述一個(gè)方向，相對(duì)于所述數(shù)字象素板，再次對(duì)所述對(duì)象掃描小于所述長(zhǎng)度的一個(gè)距離；把包括第三多個(gè)象素的一個(gè)第三數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；把所述第三多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上；從而使所述曝光的第三多個(gè)象素與所述曝光的第一多個(gè)象素相重疊。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的方法，其中所述曝光的第三多個(gè)象素也與所述曝光的第二多個(gè)象素相重疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進(jìn)一步包括在進(jìn)行曝光時(shí)不對(duì)所述對(duì)象進(jìn)行掃描。
13.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進(jìn)一步包括把一層光刻膠加到所述對(duì)象上，其中所述光刻膠響應(yīng)于所接收的曝光量。
14.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進(jìn)一步包括在曝光期間把所述第一和第二象素減小至焦點(diǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中所述焦點(diǎn)覆蓋所述多個(gè)地點(diǎn)中的任何一個(gè)地點(diǎn)的一部分但不是全部。
16.用于在一個(gè)對(duì)象上進(jìn)行光刻的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括一個(gè)數(shù)字部分，用于把包括第一多個(gè)象素的一個(gè)第一數(shù)字圖案提供給一個(gè)數(shù)字象素板；用于把所述第一多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的多個(gè)地點(diǎn)上的裝置，每一個(gè)所述地點(diǎn)都具有沿著一個(gè)方向的一個(gè)長(zhǎng)度和沿著另一個(gè)方向的一個(gè)寬度；用于沿著所述一個(gè)方向并相對(duì)于所述第一多個(gè)象素把所述對(duì)象重新定位小于所述長(zhǎng)度的一個(gè)距離的裝置；所述數(shù)字部分還在所述第一多個(gè)象素的曝光之后把包括第二多個(gè)象素的一個(gè)第二數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；用于曝光的裝置還把所述第二多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上，從而使所述曝光的第二多個(gè)象素與所述曝光的第一多個(gè)象素相重疊。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的系統(tǒng)，其中所述用于重新定位的裝置進(jìn)一步地沿著所述另一個(gè)方向相對(duì)于所述第一多個(gè)象素把所述對(duì)象定位小于所述寬度的一個(gè)距離；所述數(shù)字部分還把包括第三多個(gè)象素的一個(gè)數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；且所述曝光裝置還把所述第三多個(gè)象素曝光到所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上，從而使所述第三多個(gè)象素與所述曝光的第二多個(gè)象素相重疊。
18.根據(jù)權(quán)利要求16的系統(tǒng)，其中所述用于重新定位的裝置進(jìn)一步地沿著所述一個(gè)方向相對(duì)于所述第一多個(gè)象素把所述對(duì)象定位小于所述長(zhǎng)度的一個(gè)距離；所述數(shù)字部分還把包括第三多個(gè)象素的一個(gè)第三數(shù)字圖案提供給所述數(shù)字象素板；且所述曝光裝置還把所述第三多個(gè)象素曝光于所述對(duì)象的所述多個(gè)地點(diǎn)上，從而使所述曝光的第三多個(gè)象素與所述曝光的第一多個(gè)象素相重疊。
19.根據(jù)權(quán)利要求18的系統(tǒng)，其中所述曝光的第三多個(gè)象素還與所述曝光的第二多個(gè)象素相重疊。
20.根據(jù)權(quán)利要求16的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括用于在曝光期間把所述第一和第二象素減小至焦點(diǎn)的裝置，其中每一個(gè)所述焦點(diǎn)覆蓋所述多個(gè)地點(diǎn)中的任何一個(gè)地點(diǎn)的一部分但不是全部。
全文摘要
提供了一種數(shù)字光刻系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠制備光滑的對(duì)角組件(圖2)。該系統(tǒng)包括一個(gè)計(jì)算機(jī)，用于將第一數(shù)字圖案提供給數(shù)字象素板，如可變形的反射鏡裝置(DMD)。DMD能夠?qū)⒍鄠€(gè)用于曝光的象素元提供到多個(gè)芯片地點(diǎn)(圖3b)。曝光之后，芯片可以被掃描一個(gè)短于長(zhǎng)度的距離。然后DMD接收第二數(shù)字圖案，用于把多個(gè)第二象素元曝光到目標(biāo)主體的多個(gè)地點(diǎn)上。曝光的多個(gè)第二象素元重疊曝光的多個(gè)第一象素元(圖4b)。這種重疊允許在曝光的圖象中進(jìn)行增加變化，由此調(diào)節(jié)對(duì)角組件的建立。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1495537SQ0314309
公開(kāi)日2004年5月12日 申請(qǐng)日期2001年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月14日
發(fā)明者梅文惠, 金武隆 申請(qǐng)人:鮑爾半導(dǎo)體公司