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制作平滑的對(duì)角組件的數(shù)字光刻系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2683290

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交叉引用此專利申請(qǐng)為2000年8月8日提交的序列號(hào)為NO.09/633978的美國(guó)專利的系列申請(qǐng)。背景本發(fā)明總的涉及光刻曝光設(shè)備,并尤其涉及一種例如可以用于半導(dǎo)體集成電路器件的制作的光刻系統(tǒng)。在常規(guī)的模擬光刻系統(tǒng)中,光刻設(shè)備需要一個(gè)用于將圖象印刷到目標(biāo)目標(biāo)主體上的掩模。該目標(biāo)目標(biāo)主體例如可以包括用于制作集成電路的涂覆了光致抗蝕劑的半導(dǎo)體襯底、用于蝕刻的鉛框制作的金屬襯底或用于印刷電路板制作的導(dǎo)體板等。帶有圖案的掩?;蚬庋谀@缈梢园鄠€(gè)線條或結(jié)構(gòu)。在光刻...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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