專利名稱：藥液涂敷方法及其涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及藥液涂敷方法及其涂敷裝置，例如在液晶用玻璃基板上涂敷藥液時(shí)，該方法和裝置能夠高效率進(jìn)行均勻調(diào)整藥液漫延的藥液抑止，以使在涂敷過(guò)的藥液中不發(fā)生涂敷不勻。
然后，相對(duì)于基板6的行進(jìn)方向，將氣刀8配置在下滴噴嘴7的上流側(cè)。此外，氣刀8具有比基板6的寬度稍寬的尺寸，同時(shí)將空氣噴出口朝向與基板6的行進(jìn)方向垂直的方向來(lái)設(shè)置，以規(guī)定的角度向基板6上吹出高壓空氣。此外，貯液箱2具備回收處理后的藥液并進(jìn)行循環(huán)的功能。
下面用圖7來(lái)說(shuō)明使用這樣的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的藥液涂敷裝置，在基板上進(jìn)行藥液涂敷的方法。圖7是圖6的局部放大圖。首先，將基板6搬入到藥液處理槽中。搬入的基板6通過(guò)運(yùn)送滾輪5沿基板行進(jìn)方向(用箭頭表示)按一定速度移動(dòng)。從氣刀8始終向基板6的表面以規(guī)定的角度吹出高壓空氣12，從該氣刀8下方通過(guò)的基板6到達(dá)下滴噴嘴7的下方。藥液11連續(xù)地從下滴噴嘴7滴下，在基板6的前端到達(dá)下滴噴嘴7的正下方的時(shí)刻從下滴噴嘴7向基板表面涂敷藥液11，藥液11在行進(jìn)的基板6上流動(dòng)彌散。彌散到基板6的后方的藥液11通過(guò)從垂直于基板行進(jìn)方向的氣刀8吹出的高壓空氣12，使藥液11的彌散的前沿在基板寬度方向上被抑制成一直線狀(以下，將該狀態(tài)稱為藥液抑止)。在該藥液抑止的狀態(tài)下，隨著基板6的行進(jìn)，藥液11的彌散的前沿在基板6的后端之前大致維持一直線狀并進(jìn)行流動(dòng)，所以可以在基板6上存在沒(méi)有涂敷彌散不勻的均勻的飽滿藥液。
作為使用該氣刀的這種相關(guān)技術(shù)，有(日本)特開(kāi)2001-87702號(hào)公報(bào)，如上所述，該技術(shù)用于除去在基板上涂敷的多余的液體，而未論述以下方法為了沒(méi)有涂敷彌散不勻，使用氣刀作為設(shè)置于下滴噴嘴前側(cè)的藥液抑止部件。
但是，在上述的現(xiàn)有涂敷方法中，如圖8的說(shuō)明圖所示，為了使從氣刀8吹出的空氣流均勻，需要嚴(yán)密地進(jìn)行空氣吹出口13的間隙調(diào)整。調(diào)整通過(guò)固定螺釘16進(jìn)行(示于圖9)，但如果調(diào)整得不好，則無(wú)論什么場(chǎng)所在間隙上都產(chǎn)生差別。因此，從空氣吹出口13吹出的高壓空氣12a、12b、12c的吹出方向分散，高壓空氣的流動(dòng)不集中，即使進(jìn)行氣刀8的角度調(diào)整，也不能消除該分散。
特別是在液晶用玻璃基板這樣的基板尺寸大的情況下，在基板上不易均勻地進(jìn)行藥液彌散，難以把向與基板行進(jìn)方向垂直的方向彌散的藥液涂敷得均勻，其結(jié)果，如圖9的俯視圖所示，僅用氣刀8不能充分阻止藥液11在基板6上流動(dòng)漫延，在涂敷后的藥液11中產(chǎn)生涂敷不勻15，在基板6的涂敷結(jié)束后，殘留著該涂敷不勻15影響的基板6被運(yùn)送到下一工序。殘留了該涂敷不勻15影響的部分其藥液的涂敷厚度也不均勻，很可能對(duì)下一工序產(chǎn)生不良影響。
于是，在現(xiàn)有的藥液涂敷方法和裝置中，僅用氣刀使藥液抑止不充分而產(chǎn)生涂敷彌散不勻，在殘留受該涂敷彌散不勻影響的狀態(tài)下，基板被運(yùn)送到下一工序。例如，如果藥液涂敷工序是清洗液涂敷工序，則在下一工序的清洗液除去工序中也不能除去涂敷不勻的影響而仍殘留下來(lái)，成為清洗不良的原因。
本發(fā)明是一種藥液涂敷方法，用于向沿一定方向按一定速度行進(jìn)的基板涂敷藥液，從與所述基板表面相對(duì)配置的下滴噴嘴向所述基板表面下滴藥液，使用第1藥液抑止部件和第2藥液抑止部件這兩級(jí)使向所述基板表面的上流側(cè)流動(dòng)的所述藥液抑止，其中，所述第1藥液抑止部件被設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置，所述第2藥液抑止部件被設(shè)置在比所述第1藥液抑止部件更靠近相對(duì)于行進(jìn)方向的上流側(cè)位置。
此外，本發(fā)明是一種藥液涂敷方法，用于向沿一定方向按一定速度行進(jìn)的基板涂敷藥液，從與所述基板表面相對(duì)配置的下滴噴嘴向所述基板表面下滴藥液，從氣刀向空氣方向變化部件噴出空氣，其中所述的氣刀被設(shè)置在相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向比所述下滴噴嘴的位置靠近上流側(cè)，其中所述的空氣方向變化部件被設(shè)置在所述下滴噴嘴和所述氣刀之間位置，由所述氣刀使空氣的方向大致集中在所述基板上的寬度方向的一直線上，通過(guò)集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上的空氣，阻止藥液向所述基板表面的上流側(cè)流動(dòng)。
此外，本發(fā)明是一種藥液涂敷裝置，該裝置包括運(yùn)送部件，沿一定方向以一定速度運(yùn)送基板；藥液下滴噴嘴，與所述基板表面對(duì)置配置；第1藥液抑止部件，設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置；以及第2藥液抑止部件，設(shè)置在比所述第1藥液抑止部件更靠近相對(duì)于行進(jìn)方向的上流側(cè)位置。
此外，本發(fā)明是一種藥液涂敷裝置，該裝置包括運(yùn)送部件，沿一定方向以一定速度運(yùn)送基板；藥液下滴噴嘴，與所述基板表面對(duì)置配置；氣刀，設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置；以及空氣方向變化部件，在所述下滴噴嘴和所述氣刀之間的位置，使從所述氣刀噴出的空氣的方向集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上。
此外，本發(fā)明是一種藥液涂敷方法及其涂敷裝置，所述第1藥液抑止部件和空氣方向變化部件與所述基板之間有規(guī)定的間隙，通過(guò)該間隙，可降低流動(dòng)到相對(duì)于基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)的所述藥液的彌散。
在本發(fā)明中，在下滴噴嘴和氣刀之間配有空氣方向變化部件，使得從氣刀噴出的空氣的噴出方向集中在基板上的寬度方向的大致一直線上。該空氣方向變化部件與基板之間有一定的間隙，通過(guò)該間隙還起到降低向上流側(cè)流動(dòng)的藥液彌散的初次藥液抑止部件的作用。從氣刀噴出的高壓空氣同與氣刀對(duì)置的空氣方向變化部件的表面相對(duì)，集中噴吹到基板上的寬度方向的大致一直線上。穿過(guò)空氣方向變化部件和基板的間隙能夠流動(dòng)到上流側(cè)的藥液，通過(guò)集中噴吹到大致一直線上的高壓空氣再次抑制向基板的上流側(cè)的漫延。即，氣刀起到作為總藥液抑止部件的作用。于是，由于經(jīng)兩個(gè)階段的藥液抑止，所以與以往相比，能夠阻止藥液漫延的前端彌散得小一些。
圖2是

圖1的局部放大圖。
圖3是說(shuō)明本發(fā)明裝置的功能的圖。
圖4是作為空氣方向變更部件一例的滾輪部的側(cè)面圖。
圖5是空氣方向變更部件的另一例的側(cè)面圖。
圖6是現(xiàn)有的藥液處理裝置的示意結(jié)構(gòu)圖。
圖7是圖6的局部放大圖。
圖8是說(shuō)明現(xiàn)有裝置的功能的圖。
圖9是表示現(xiàn)有的涂敷不勻的俯視圖。
如圖1所示，本發(fā)明的藥液涂敷裝置包括藥液處理槽1，在液晶用玻璃基板等尺寸大的基板6上進(jìn)行藥液涂敷；運(yùn)送滾輪5，是從藥液處理槽1的一端(在圖1中為左端)將基板6以一定速度搬入到藥液處理槽1內(nèi)，并從藥液處理槽1的另一端(圖1中為右端)將基板以一定速度搬出到藥液處理槽1外的運(yùn)送部件；藥液的貯液箱2，被設(shè)置在藥液處理槽1的底部；下滴噴嘴7，把藥液下滴在基板6上；以及氣刀8，抑止下滴后的藥液；下滴噴嘴7通過(guò)泵3、過(guò)濾器4與貯液箱2進(jìn)行管線連接，而氣刀8被管線連接到空氣發(fā)生源9。
然后，相對(duì)于基板6的行進(jìn)方向依次配置氣刀8、下滴噴嘴7。此外，氣刀8具有比基板6的寬度稍長(zhǎng)的尺寸，同時(shí)將空氣吹出口朝向與基板6的運(yùn)送方向垂直的方向來(lái)設(shè)置，向基板6上以規(guī)定的角度吹出高壓空氣。下滴噴嘴7具有一定寬度的縫隙，與氣刀8大致平行地設(shè)置，以便可以在基板的寬度方向內(nèi)將藥液大致均勻地滴在基板上。此外，貯液箱2還具備回收循環(huán)處理后的藥液的功能。
除了這樣的結(jié)構(gòu)以外，本發(fā)明還具備以下特征。即，在氣刀8和下滴噴嘴7之間，靠近氣刀8來(lái)設(shè)置兼作初次藥液抑止的空氣方向變化部件。作為兼作初次藥液抑止的空氣方向變化部件，滾輪10較合適。滾輪10與氣刀8平行設(shè)置，如圖4的側(cè)面圖所示，具有與基板6的寬度大致相同的長(zhǎng)度，在滾輪主體10a的兩端安裝可自由拆裝的凸緣部14，凸緣部14接觸基板6的寬度方向的端部，起裝載滾輪的作用。該凸緣部14的突出高度為限制基板6和滾輪主體10a的間隙t的尺寸，通過(guò)該間隙t，可以對(duì)沿滾輪的縱向方向涂敷的藥液進(jìn)行的初次藥液抑止。再有，過(guò)剩的藥液從基板的兩側(cè)端流下來(lái)，被貯液箱2回收。
可預(yù)先準(zhǔn)備直徑不同的多種凸緣部14，可通過(guò)交換凸緣部14來(lái)調(diào)整間隙t的尺寸，以便按照藥液的種類獲得期望的涂敷厚度。例如，在清洗液晶用玻璃基板的情況下，將t的值設(shè)定在0.5mm左右較好。此外，凸緣部通過(guò)螺紋連接等進(jìn)行交換拆裝，材質(zhì)為使t的值不變化的不易磨損的樹(shù)脂材料較好。此外，通過(guò)將凸緣部上載在基板上來(lái)擠壓基板，可以抑制基板運(yùn)送時(shí)的振動(dòng)，在樹(shù)脂基板那樣的基板中存在彎曲的情況下，還可以抑制彎曲。
下面，用圖3的功能說(shuō)明圖來(lái)說(shuō)明該滾輪10和氣刀8之間的關(guān)系。對(duì)于怎樣調(diào)整空氣吹出口13的間隙來(lái)說(shuō)，從氣刀8吹出的高壓空氣如高壓空氣12a、12b、12c那樣的吹出方向分散的狀態(tài)。但是，通過(guò)調(diào)整氣刀8的安裝角度、及滾輪10和氣刀8的距離等位置關(guān)系，將分散的高壓空氣12a～12c經(jīng)滾輪10的滾輪主體面反射來(lái)改變吹出方向，可以盡量集中在基板寬度方向的一直線P上。
于是，本發(fā)明的藥液涂敷裝置通過(guò)氣刀中滾輪組合，可以將基板上流動(dòng)著的涂敷液沿著滾輪的縱向方向的上流側(cè)的漫延進(jìn)行大致均勻一致的初次藥液抑止，同時(shí)從氣刀吹出的高壓空氣的前端大致在一直線上，所以可對(duì)初次藥液抑止后的涂敷液再進(jìn)行良好的二次藥液抑止，可以抑制涂敷不勻的產(chǎn)生。
下面，使用圖2來(lái)說(shuō)明使用本發(fā)明的藥液涂敷裝置在基板上進(jìn)行藥液涂敷的方法。圖2是圖1的局部放大圖。首先，將基板6按一定速度搬入到藥液處理槽中。搬入的基板6由運(yùn)送滾輪5沿基板行進(jìn)方向(用箭頭表示)以一定速度移動(dòng)。從氣刀8始終向基板6的表面以規(guī)定的角度吹出高壓空氣10，從該氣刀8下方以一定速度通過(guò)的基板6接觸滾輪10的凸緣部14而進(jìn)入其下方，在運(yùn)送滾輪5和滾輪10的夾置狀態(tài)下到達(dá)下滴噴嘴7的下方。
藥液11定量地連續(xù)地從下滴噴嘴7滴下，在基板6的前端到達(dá)下滴噴嘴7的正下方的時(shí)刻從下滴噴嘴7向基板表面涂敷藥液11，在按一定速度移動(dòng)的基板6上藥液11流動(dòng)漫延。漫延到基板6的后方的藥液11首先由滾輪10進(jìn)行初次藥液抑止，漫延的前沿被大致調(diào)整到一直線上。接著，藥液11從滾輪10的下方穿過(guò)時(shí)，通過(guò)從氣刀8吹出的高壓空氣12進(jìn)行二次藥液抑止。如圖3所示，高壓空氣12通過(guò)滾輪10使高壓空氣12a～12c的彌散大致被調(diào)整到一直線P上，所以在基板6上漫延的藥液的前沿的流動(dòng)更良好地進(jìn)行藥液抑止，通過(guò)該二次藥液抑止在基板6上可以形成沒(méi)有涂敷不勻的均勻的藥液飽滿狀態(tài)。再有，在基板6的前端和后端，在涂敷藥液的時(shí)序上有偏差，但將通過(guò)本發(fā)明的藥液涂敷裝置處理后的基板依次投入到下一工序的處理裝置，從基板的前端起可按與原來(lái)藥液涂敷工序相同的速度進(jìn)行處理。因此，可以使與藥液接觸的時(shí)間的偏差在基板全表面上大致均勻，可以降低對(duì)下一工序的影響。
以上，舉例說(shuō)明了使用滾輪作為空氣方向變化部件的情況，但如果只要是具有將空氣方向集中到基板上的寬度方向的大致一直線上作用的部件，均可以取代滾輪來(lái)使用。即，與氣刀對(duì)置，具有與基板的上流側(cè)表面形成的角為銳角的表面的部件就可以。例如，可列舉出具有向下流側(cè)壓縮高壓空氣的方向那樣的平面的部件(圖5(a))和具有曲面的部件(圖5(b))。在圖5(a)、(b)中，空氣方向變化部件在上流側(cè)和下流側(cè)為對(duì)稱的構(gòu)造，但并不一定需要與氣刀對(duì)置1下流側(cè)與上流側(cè)形成對(duì)稱的形狀。此外，在這些空氣方向變化部件兩側(cè)端部上也可以設(shè)置與上載在基板上的滾輪的凸緣部同樣的部分。再有，在本發(fā)明中，使用滾輪作為空氣方向變化部件的情況是因?yàn)轶w是圓柱形狀而容易控制空氣的流動(dòng)，可以與凸緣部一起旋轉(zhuǎn)，具容易發(fā)現(xiàn)對(duì)主體表面的異物附著等異常這樣的優(yōu)點(diǎn)，是最合適的。
作為在本發(fā)明中可使用的藥液，除了清洗液以外，還可列舉出蝕劑液和其顯像液等。本發(fā)明的藥液涂敷裝置不限定于圖1所示的置，在基板運(yùn)送部件上，也可以從上流側(cè)依次配置第1藥液抑止部件第2藥液抑止部件和藥液下滴噴嘴。第1藥液抑止部件、第2藥液抑止部件、藥液下滴噴嘴和基板的相對(duì)配置可以考慮藥液的粘度、下量、基板的運(yùn)送速度等，然后進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。再有，在使用清洗液為藥液的情況下，即使多少有一些涂敷厚度不勻，也沒(méi)有太大的影響而在使用抗蝕劑液的情況下，需要嚴(yán)密地控制涂敷厚度，所以除了種配置以外，還要注意空氣的噴出量。
在現(xiàn)有的藥液涂敷方法及涂敷裝置中，在液晶用玻璃基板這樣尺寸大的基板上涂敷藥液時(shí)，存在因僅用氣刀使藥液抑止不充分而生涂敷不勻，在殘留因該涂敷不勻產(chǎn)生的影響的狀態(tài)下基板就被運(yùn)到下一工序這樣的問(wèn)題。
因此，本發(fā)明在基板上涂敷藥液時(shí)，作為可以充分進(jìn)行在基板流動(dòng)漫延的藥液的藥液抑止的藥液抑止部件，通過(guò)設(shè)置氣刀與滾輪合的藥液抑止部件，以滾輪產(chǎn)生的初次藥液抑止和氣刀產(chǎn)生的總藥抑止這兩個(gè)階段來(lái)進(jìn)行藥液抑止。
于是，根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)設(shè)置氣刀與滾輪組合的藥液抑止部件滾輪不僅調(diào)整藥液的涂敷厚度，同時(shí)還具有使彌散的空氣的吹出方不勻的問(wèn)題，并且可降低對(duì)下一工序的影響，從而可以提高產(chǎn)品良品率。
權(quán)利要求
1.一種藥液涂敷方法，向沿一定方向按一定速度行進(jìn)的基板涂敷藥液，其特征在于從與所述基板表面相對(duì)配置的下滴噴嘴向所述基板表面下滴藥液，使用第1藥液抑止部件和第2藥液抑止部件這兩級(jí)使向所述基板表面的上流側(cè)流動(dòng)的所述藥液抑止，其中，所述第1藥液抑止部件被設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置，所述第2藥液抑止部件被設(shè)置在比所述第1藥液抑止部件更靠近相對(duì)于行進(jìn)方向的上流側(cè)位置。
2.如權(quán)利要求1所述的藥液涂敷方法，其特征在于，以大致平行并且大致垂直于所述基板的行進(jìn)方向來(lái)設(shè)置所述第1藥液抑止部件和所述第2藥液抑止部件。
3.如權(quán)利要求1或2所述的藥液涂敷方法，其特征在于，所述第1藥液抑止部件與所述基板之間有規(guī)定的間隙，通過(guò)該間隙來(lái)降低在相對(duì)于基板的行進(jìn)方向向上流側(cè)流動(dòng)的所述藥液的彌散。
4.如權(quán)利要求3所述的藥液涂敷方法，其特征在于，所述第1藥液抑止部件與所述第2藥液抑止部件對(duì)置，有與所述基板的上流側(cè)表面形成的角為銳角的面。
5.如權(quán)利要求3或4所述的藥液涂敷方法，其特征在于，所述第1藥液抑止部件為滾輪。
6.如權(quán)利要求5所述的藥液涂敷方法，其特征在于，所述第2藥液抑止部件為氣刀，將從所述氣刀噴出的空氣吹向所述第1藥液抑止部件的對(duì)置面來(lái)改變空氣的方向，使彌散的所述空氣的噴出方向集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上，通過(guò)所述第1藥液抑止部件和所述基板的間隙進(jìn)行藥液抑止，使得流動(dòng)到上流側(cè)的藥液的前沿大致成一直線。
7.一種藥液涂敷方法，向沿一定方向按一定速度行進(jìn)的基板涂敷藥液，其特征在于從與所述基板表面相對(duì)配置的下滴噴嘴向所述基板表面下滴藥液，從氣刀向空氣方向變化部件噴出空氣，其中所述的氣刀被設(shè)置在相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向比所述下滴噴嘴的位置靠近上流側(cè)，其中所述的空氣方向變化部件被設(shè)置在所述下滴噴嘴和所述氣刀之間位置，由所述氣刀使空氣的方向大致集中在所述基板上的寬度方向的一直線上，通過(guò)集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上的空氣，阻止藥液向所述基板表面的上流側(cè)流動(dòng)。
8.如權(quán)利要求7所述的藥液涂敷方法，其特征在于，以大致平行并且大致垂直于所述基板的行進(jìn)方向來(lái)設(shè)置所述氣刀和所述空氣方向變化部件。
9.如權(quán)利要求7或8所述的藥液涂敷方法，其特征在于，以與所述基板之間具有規(guī)定的間隙來(lái)配置所述空氣方向變化部件，借助于該間隙來(lái)降低相對(duì)于基板的行進(jìn)方向流動(dòng)到上流側(cè)的所述藥液的彌散。
10.如權(quán)利要求9所述的藥液涂敷方法，其特征在于，所述空氣方向變化部件為滾輪。
11.一種藥液涂敷裝置，其特征在于，包括運(yùn)送部件，沿一定方向以一定速度運(yùn)送基板；藥液下滴噴嘴，與所述基板表面對(duì)置配置；第1藥液抑止部件，設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置；以及第2藥液抑止部件，設(shè)置在比所述第1藥液抑止部件更靠近相對(duì)于行進(jìn)方向的上流側(cè)位置。
12.如權(quán)利要求11所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，以大致平行并且大致垂直于所述基板的行進(jìn)方向來(lái)設(shè)置所述第1藥液抑止部件和所述第2藥液抑止部件。
13.如權(quán)利要求11或12所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述第1藥液抑止部件與所述基板之間有規(guī)定的間隙，通過(guò)該間隙來(lái)降低流動(dòng)到上流側(cè)的所述藥液的彌散。
14.如權(quán)利要求13所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述第1藥液抑止部件與所述第2藥液抑止部件對(duì)置，具有與所述基板的上流側(cè)表面形成的角為銳角的面。
15.如權(quán)利要求13或14所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述第1藥液抑止部件為滾輪。
16.如權(quán)利要求15所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述滾輪由滾輪主體和安裝在其兩端的凸緣部組成，兩凸緣部接觸所述行進(jìn)的基板的兩端部，將滾輪設(shè)置于上載所述基板的位置。
17.如權(quán)利要求16所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述滾輪相對(duì)于所述滾輪主體可交換所述凸緣部，通過(guò)安裝期望的凸緣部，能夠調(diào)整所述滾輪主體和基板的間隙。
18.如權(quán)利要求13所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述第2藥液抑止部件為氣刀，將從所述氣刀噴出的空氣吹向所述第1藥液抑止部件的對(duì)置面來(lái)改變空氣的方向，使彌散的所述空氣的噴出方向集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上，通過(guò)所述第1藥液抑止部件和所述基板的間隙阻止藥液向上流側(cè)流動(dòng)。
19.如權(quán)利要求16所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述凸緣部由不易磨損的樹(shù)脂材料構(gòu)成。
20.一種藥液涂敷裝置，其特征在于，包括運(yùn)送部件，沿一定方向以一定速度運(yùn)送基板；藥液下滴噴嘴，與所述基板表而對(duì)置配置；氣刀，設(shè)置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對(duì)于所述基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置；以及空氣方向變化部件，在所述下滴噴嘴和所述氣刀之間的位置，使從所述氣刀噴出的空氣的方向集中在所述基板上的寬度方向的大致一直線上。
21.如權(quán)利要求20所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，以大致平行并且大致垂直于所述基板的行進(jìn)方向來(lái)設(shè)置所述氣刀和所述空氣方向變化部件。
22.如權(quán)利要求20或21所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述空氣方向變化部件與所述基板之間有規(guī)定的間隙，通過(guò)該間隙來(lái)降低流動(dòng)到上流側(cè)的所述藥液的彌散。
23.如權(quán)利要求20所述的藥液涂敷裝置，其特征在于，所述空氣方向變化部件是滾輪。
全文摘要
本發(fā)明提供一種藥液涂敷方法及其涂敷裝置。在液晶用玻璃基板這樣的尺寸大的基板上涂敷藥液時(shí)，通過(guò)設(shè)置能夠流動(dòng)漫延到基板上的藥液抑止充分進(jìn)行的藥液抑止部件，從而在涂敷的藥液中不產(chǎn)生不勻。其特征在于，在凸緣部(1)內(nèi)，包括運(yùn)送基板(6)的運(yùn)送滾輪(5)；向運(yùn)送中的基板(6)上下滴藥液的下滴噴嘴(7)；設(shè)置在比下滴噴嘴(7)的位置靠近相對(duì)于基板的行進(jìn)方向的上流側(cè)位置的滾輪(10)(初次藥液抑止部件)；以及設(shè)置在比滾輪(10)更靠近相對(duì)于行進(jìn)方向的上流側(cè)位置的氣刀(8)(總藥液抑止部件)。
文檔編號(hào)G03F7/16GK1396007SQ02141280
公開(kāi)日2003年2月12日 申請(qǐng)日期2002年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2001年7月5日
發(fā)明者前園武志 申請(qǐng)人:日本電氣株式會(huì)社