專利名稱：硬膜型電焊護(hù)目濾光片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜器件，尤其是濾光片。
背景技術(shù)：
光學(xué)薄膜器件的膜系變化多樣，品種繁多，膜系設(shè)計(jì)的好壞既關(guān)系產(chǎn)品的質(zhì)量與生產(chǎn)效率，又關(guān)系到產(chǎn)品的應(yīng)用范圍。通常眼鏡用的濾光片因紫外線或紅外線透射率強(qiáng)而不適宜在電焊工況使用。目前，大多數(shù)電焊工用的護(hù)目鏡仍采用可見光透射率很弱，紫外光和紅外光透射率仍很強(qiáng)的高深度黑色玻璃，不僅容易損傷眼睛，而且很難看準(zhǔn)焊點(diǎn)，這是一個(gè)丞待解決的問題，必須有一種適合電焊工使用的濾光片。現(xiàn)有技術(shù)中的濾光片是在玻璃上鍍有多層薄膜，膜層材料可采用氧化物與金屬銀。由于膜系設(shè)計(jì)的差異，其產(chǎn)品的光學(xué)性能也不相同。根據(jù)電焊工況，電焊護(hù)目濾光片應(yīng)當(dāng)達(dá)到的指標(biāo)是在可見光譜區(qū)500-600nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)透射率大于50％，在紫外光波段內(nèi)的透射率小于1.5％，紅外波段的透射率小于1％。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型需要解決的問題是濾光片必須滿足電焊工況的使用要求，因此，首先應(yīng)當(dāng)有一個(gè)保證產(chǎn)品達(dá)到電焊護(hù)目濾光片技術(shù)指標(biāo)的膜系設(shè)計(jì)方案。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案是在玻璃上鍍有氧化物與金屬銀膜構(gòu)成的膜系，膜系設(shè)計(jì)為G20M1HLHAg2MAgHLHA，其中M1是膜層光學(xué)厚度為1/4入。的一氧化硅，H是膜層光學(xué)厚度為1/4入。高折射率材料二氧化鈦或二氧化鋯，L是膜層光學(xué)厚度為1/4入。的低折射率材料二氧化硅，Ag是物理厚度為35-40nm銀膜，M是膜層光學(xué)厚度為1/4入。的三氧化二鋁，入。＝390-410nm，按上述膜系設(shè)計(jì)即在玻璃上鍍有20倍膜層光學(xué)厚度的一氧化硅，隨后依序鍍二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、銀膜層、2倍三氧化二鋁膜層、銀膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。
本實(shí)用新型的有益效果具體體現(xiàn)在VU-3101PC分光光度計(jì)測(cè)量的結(jié)果，不僅滿足了電焊護(hù)目濾光需要達(dá)到的光學(xué)指標(biāo)，而且可見光的最大透射率峰值大于65％，對(duì)于看準(zhǔn)焊點(diǎn)，提高焊接質(zhì)量創(chuàng)造了較好的條件。本實(shí)用新型也可供駕駛員、電腦屏前工作或微波工作者護(hù)目使用。


；附圖表示本實(shí)用新型的縱剖面結(jié)構(gòu)示意圖，圖中G表示玻璃，M1表示一氧化硅膜層，H表示高折射率膜層，L表示低折射率膜層，Ag表示銀膜層，M表示三氧化二鋁膜層。
具體實(shí)施方式
實(shí)施本實(shí)用新型的最好方式是在最后鍍復(fù)的二氧化鈦膜層表面再鍍復(fù)一層二氧化硅或一氧化硅。
權(quán)利要求1.硬膜型電焊護(hù)目濾光片包括玻璃上鍍有氧化物與金屬銀膜構(gòu)成的膜系，其特征是首先在玻璃上鍍有20倍膜層光學(xué)厚度的一氧化硅，隨后依序鍍二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、銀膜層、2倍三氧化二鋁膜層、銀膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬膜型電焊護(hù)目濾光片，其特征是在最后鍍復(fù)的二氧化鈦膜層表面再多鍍復(fù)一層二氧化硅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的的硬膜型電焊護(hù)目濾光片，其特征是在最后鍍復(fù)的二氧化鈦膜層表面再鍍復(fù)一層一氧化硅。
專利摘要本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜器件,尤其是濾光片。本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是設(shè)計(jì)符合電焊工使用的護(hù)目濾光片。本實(shí)用新型的技術(shù)方案包括玻璃上鍍有氧化物與金屬銀膜構(gòu)成的膜系,其特征是首先在玻璃上鍍有20倍膜層光學(xué)厚度的一氧化硅,隨后依序鍍二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、銀膜層、2倍三氧化二鋁膜層、銀膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。本實(shí)用新型用于電焊護(hù)目,也可供駕駛員、電腦屏前工作或微波工作者護(hù)目使用。
文檔編號(hào)G02C7/10GK2486990SQ0124669
公開日2002年4月17日 申請(qǐng)日期2001年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2001年7月24日
發(fā)明者毛書正 申請(qǐng)人:毛書正