0362][信息顯示裝置]
[0363] 信息顯示裝置包含觸摸屏10。
[0364] 使用觸摸屏10的信息顯示裝置優(yōu)選的是移動機器，例如可列舉以下的信息顯示 裝置。
[0365] 愛瘋（iPhone)4、艾派德（iPad)(以上由美國蘋果公司制造）、索愛（Xperia) (S0-01B)(索尼愛立信移動通訊公司制造）、蓋世（Galaxy)S(SC_02B)、蓋世泰博（Galaxy Tab) (SC-01C)(以上由韓國三星電子公司制造）、黑莓（BlackBerry)8707h(加拿大移動研 究公司（ResearchInMotion)制造）、刊德（Kindle)(美國亞馬遜公司制造）、庫伯塔奇 (KoboTouch)(樂天股份有限公司制造）。
[0366][實施例]
[0367] 以下，列舉實施例對本發(fā)明加以更具體的說明。下述實施例中所示的材料、試劑、 比例、機器、操作等只要不偏離本發(fā)明的范圍則可以加以適宜變更。本發(fā)明并不限定于以下 所示的實施例。另外，在下述實施例中，只要無特別說明，則" ％ "及"份"均是質(zhì)量基準，分 子量表示重量平均分子量。
[0368][實施例1~實施例8及比較例2]
[0369] <黑色著色液及白色著色液的制備>
[0370] 制備黑色著色液1、黑色著色液2及白色著色液1~白色著色液3。將黑色著色液 1、黑色著色液2及白色著色液1~白色著色液3的組成表示于下述表1中。
[0371][表1]
[0372]
[0373] ?黑色分散液（GB4016、山陽色素股份有限公司制造、下述組成）
[0374] 黑色顏料（碳黑）25.0質(zhì)量％
[0375] 分散助劑 9. 5質(zhì)量％
[0376] 分散溶劑（丙二醇單甲醚乙酸酯）65. 5質(zhì)量％
[0377] ?白色分散液（FP白（FPWhite)B422、山陽色素股份有限公司制造、下述組成）
[0378] 白色顏料（二氧化鈦） 70. 0質(zhì)量％
[0379] 分散助劑 3. 5質(zhì)量％
[0380] 分散溶劑（甲基乙基酮）26. 5質(zhì)量％
[0381] ?硅酮樹脂溶液1 (KR300、信越硅利光股份有限公司制造、下述組成）
[0382] 硅酮樹脂的二甲苯溶液（固體成分為50質(zhì)量％ )
[0383] ?硅酮樹脂溶液2(KR311、信越硅利光股份有限公司制造、下述組成）
[0384] 硅酮樹脂的二甲苯溶液（固體成分為60質(zhì)量％ )
[0385] ?硅酮樹脂溶液3(KR251、信越硅利光股份有限公司制造、下述組成）
[0386] 硅酮樹脂的二甲苯溶液（固體成分為20質(zhì)量％ )
[0387] ?硅酮樹脂溶液4(X-40_9246、信越硅利光股份有限公司制造、下述組成）硅酮樹 脂（固體成分為100質(zhì)量％)
[0388] ?聚合催化劑（D-15、信越化學股份有限公司制造、下述組成）
[0389] 含有鋅的催化劑的二甲苯溶液（固體成分為50質(zhì)量％ )
[0390] ?抗氧化劑（易璐佛斯（IRGAF0S) 168、巴斯夫公司制造、下述化合物）
[0391][化1]
[0392]
[0393] ?涂布助劑（美佳法（Megafac)F_780F、迪愛生（DIC)股份有限公司制造、下述組 成）
[0394] 表而活性劑 30質(zhì)量％
[0395] 甲基乙基酮 70質(zhì)量％
[0396] ?丙烯酸系樹脂溶液（下述組成）
[0397] 甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸無規(guī)共聚物
[0398](摩爾比為78/22、重量平均分子量為38, 000) 27質(zhì)量％
[0399] 丙二醇單甲醚乙酸酯 73質(zhì)量％
[0400] ?丙烯酸系單體溶液（日本化薬股份有限公司制造、下述組成）
[0401] 二季戊四醇六丙烯酸酯76質(zhì)量％
[0402] 丙二醇單甲醚乙酸酯 24質(zhì)量％
[0403] ?聚合引發(fā)劑（IRGA⑶RE0XE01、巴斯夫公司制造、下述化合物）
[0404][化 2]
[0405]
[0406] ?聚合抑制劑（吩噻嗪、下述化合物）
[0407][化 3]
[0408]
[0409] ?有機溶劑1(丙二醇單甲醚乙酸酯）
[0410] ?有機溶劑2 (甲基乙基酮）
[0411] ?有機溶劑3 (環(huán)己酮）
[0412] <剝離膜的準備>
[0413] 作為帶有剝離層的臨時支撐體，準備以下的剝離膜。
[0414] ?尤尼匹魯（Unipeel)TR6(尤尼吉可股份有限公司制造、在厚度為75ym的PET膜 上包含消光劑自剝離層隆起200nm的烯烴系剝離層）
[0415] *6502(琳得科股份有限公司制造、在厚度為50ym的PET膜上包含消光劑自剝離 層隆起320nm的非硅酮系剝離層）
[0416] ?塞拉匹魯（Cerapeel)BLK(東麗膜加工股份有限公司制造、在厚度為50ym的PET 膜上包含消光劑自剝離層隆起200nm的非硅酮系剝離層）
[0417] ?HP_A5(富士夸股份有限公司、在厚度為75ym的PET膜上包含消光劑自剝離層 隆起400nm的非娃酮系剝離層）
[0418] ?費穆巴納（FILMBYNA)NSD(藤森工業(yè)股份有限公司、在厚度為50ym的PET膜上 包含消光劑自剝離層隆起270nm的非硅酮系剝離層）
[0419] ?東洋紡酯膜TN110(東洋紡績股份有限公司制造、在厚度為75ym的PET膜上包 含消光劑自剝離層隆起320nm的硅酮系剝離層）
[0420] <保護膜的準備>
[0421] 其次，準備以下的保護膜。
[0422] ?阿爾凡（ALPHAN)E_501(王子艾弗泰克斯（F-Tex)股份有限公司制造、厚度為 12ym的聚丙烯膜）
[0423] <在臨時支撐體上制作有色材料層（包含遮光層及白色層的轉(zhuǎn)印層）>
[0424] 使用E型涂布機，在帶有剝離層的臨時支撐體的剝離層上，以干燥厚度成為 2. 0ym的方式涂布用以形成遮光層的上述表1中所記載的黑色著色液1或黑色著色液2， 使其干燥。
[0425] 在遮光層上，以干燥厚度成為32.0ym的方式涂布用以形成白色層的上述表1中 所記載的白色著色液1~白色著色液3的任意的，使其干燥。
[0426] 在白色層上壓接上述保護膜，制作臨時支撐體寬度為260mm、轉(zhuǎn)印層為240mm、涂 布長度為20m的轉(zhuǎn)印材料。具體的層的構(gòu)成如下述表2所示。將所得的轉(zhuǎn)印材料作為實施 例1~實施例8及比較例2的轉(zhuǎn)印材料。
[0427] <利用膜轉(zhuǎn)印法制作帶有轉(zhuǎn)印層的基材>
[0428] 對如圖2所示的形成有開口部8(15mmc&)的強化處理玻璃 (300mmX400mmX0. 7mm) -面通過噴淋吹附20秒調(diào)整為25°C的玻璃清洗劑液，一面用具有 尼龍毛的旋轉(zhuǎn)刷進行清洗。將所述玻璃基板在基材預熱裝置中、90°C下進行2分鐘的預熱。
[0429] 將實施例1~實施例8及比較例2的轉(zhuǎn)印材料成形為與玻璃基板的四個邊對應的 尺寸的邊框狀后，轉(zhuǎn)印至上述玻璃基板上。詳細如下所示。
[0430] 以一邊成為98mm、另外邊框?qū)挾瘸蔀?0mm的方式對轉(zhuǎn)印材料進行沖裁。準備一邊 為120mm、厚度為100ym的PET片材。以所述PET片材的中心為基準，以一邊成為90mm的 方式涂布粘著劑SK-達因（SK-Dyne) 1604N(綜研化學股份有限公司），形成粘著膜。繼而， 在所述PET片材上貼附所沖裁的轉(zhuǎn)印材料的臨時支撐體側(cè)。與其分開地準備一邊為70mm、 厚度為50ym的PET片材，以粘著膜的粘著劑并不影響貼附轉(zhuǎn)印材料的范圍外的方式貼附 所述PET片材。其次，自轉(zhuǎn)印材料除去保護膜。其次，準備一邊為100mm的玻璃基板。使用 層壓裝置，自貼附有轉(zhuǎn)印材料的PET片材側(cè)，將所述轉(zhuǎn)印材料連同粘著膜轉(zhuǎn)印至玻璃基板 上。將轉(zhuǎn)印材料轉(zhuǎn)印至玻璃基板上時的玻璃基板的溫度為40°C。其次，將臨時支撐體連同 粘著片自玻璃片材除去。
[0431] 如上所述而獲得帶有轉(zhuǎn)印層的玻璃基板。
[0432] <帶有轉(zhuǎn)印層的基材的制作>
[0433] 其次，進行假設(shè)為IT0濺鍍的280°C、30分鐘的加熱，獲得依序?qū)盈B有玻璃基板、白 色層、遮光層的實施例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層的基材。
[0434] <剝離力的測定>
[0435] (1)自轉(zhuǎn)印層剝離保護膜的步驟
[0436] 利用以下方法測定保護膜與轉(zhuǎn)印層（白色層）之間的剝離力。將其結(jié)果記載于下 述表2中。
[0437] 準備一邊為100mm的玻璃基板。將一邊為90mm的轉(zhuǎn)印材料以保護膜成為空氣側(cè) 的方式，使用雙面接著帶No. 5610 (日東電工股份有限公司制造）而將臨時支撐體側(cè)貼附于 玻璃基板上。將保護膜的一部分剝離，使用數(shù)字負載機/拉伸壓縮試驗機SV-55 (今田制作 所股份有限公司制造）測定剝離力。
[0438] (2)將轉(zhuǎn)印層轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印基材（玻璃基板）上，剝離臨時支撐體的步驟
[0439] 利用以下方法測定被轉(zhuǎn)印基材（玻璃基板）與轉(zhuǎn)印層（白色層）之間的剝離力。 將其結(jié)果記載于下述表2中。
[0440] 準備一邊為100mm的玻璃基板。準備一邊為90mm的轉(zhuǎn)印材料。自轉(zhuǎn)印材料剝下 保護膜后，將轉(zhuǎn)印層設(shè)為玻璃基板側(cè)，層壓在40 °C的玻璃基板上。自層壓的轉(zhuǎn)印材料將臨時 支撐體的一部分剝離，使用滕喜龍（TENSILON)萬能試驗機RTG-1210(A&D股份有限公司制 造）而測定剝離力。
[0441] < 評價 >
[0442](遮光層的品質(zhì)）
[0443] 關(guān)于所得的實施例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層的基材，將有色材料層 轉(zhuǎn)印至基材上，通過目視評價將保護膜及剝離層剝離后的遮光層的品質(zhì)。
[0444] 將有色材料層的轉(zhuǎn)印性良好，并無有色材料層的剝離，且剝離層并不殘留于有色 材料層側(cè)（無需顯影步驟）的情況評價為"良好"。
[0445] 另一方面，有色材料層的轉(zhuǎn)印性存在問題、或有色材料層剝離、剝離層殘留于有色 材料層側(cè)的情況（需要顯影步驟的情況）的任意情況均在實用上存在問題。
[0446] 將評價的結(jié)果表示于下述表2中。
[0447](光學密度）
[0448] 使用阪田油墨（SakataInx)股份有限公司制造的BMT-1測定上述所制作的實施 例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層的基材的轉(zhuǎn)印層（遮光層與白色層）與被轉(zhuǎn)印基 材的層疊體的光學密度。
[0449] 將評價的結(jié)果表示于下述表2中。
[0450](遮光層上的表面電阻）
[0451] 使用愛德萬測試（Advantest)股份有限公司制造的R8340A超高電阻計（ULTRA HIGHRESISTANCEMETER)測定上述所制作的實施例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層 的基材的遮光層上的表面電阻。
[0452] 可知實施例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層的基材的遮光層的表面電阻在 25°C下為 1. 0X1013Q/ □以上。
[0453](表面元素分析）
[0454] 為了確認在上述所制作的實施例1~實施例8及比較例2的帶有轉(zhuǎn)印層的基材的 遮光層上并未殘留剝離層，對于轉(zhuǎn)印材料的狀態(tài)下的剝離層的表面、與轉(zhuǎn)印層剝離后的剝 離層的表面，使用X射線光電子分光分析裝置（AXIS-HSi、島津制作所股份有限公司制造） 而進行元素分析。
[0455] 將結(jié)果表示于下述表2中。
[0456]另外，在實施例1中，在轉(zhuǎn)印材料的狀態(tài)（剝離前）的剝離層的表面確認到0、N、 C，在剝離轉(zhuǎn)印層后的剝離層的表面確認到0、N、C、Si。這表示在將轉(zhuǎn)印層剝離后，剝離層處 于臨時支撐體側(cè)。
[0457] 如后所述，在未具有的剝離層的比較例1中，在轉(zhuǎn)印材料的狀態(tài)下確認臨時支撐 體的表面元素，在剝離轉(zhuǎn)印層后確認臨時支撐體的表面，結(jié)果在剝離轉(zhuǎn)印層后，在臨時支撐 體的表面確認到N、Si。這表示在剝離臨時支撐體時，遮光層剝離。
[0458][比較例1]
[0459] 在并無剝離層的臨時支撐體（使用尤尼匹魯（Unipeel)TR6的并無剝離層的側(cè)的 PET)上制作有色材料層（包含遮光層及白色層的轉(zhuǎn)印層）代替剝離膜，除此以外與實施例 1同樣地進行而制作比較例1的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材。
[0460] 關(guān)于所得的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材，與實施例1同樣地進行各剝離力的測 定、與帶有轉(zhuǎn)印層的基材的評價。將所得的結(jié)果表示于下述表2中。
[0461] 在下述表2中，比較例1的轉(zhuǎn)印層與被轉(zhuǎn)印基材的光學密度表示由于遮光層剝離 而產(chǎn)生光學密度低的部分。
[0462][比較例3及比較例5]
[0463] <帶有熱塑性樹脂層與中間層的臨時支撐體的制作>
[0464] 利用以下方法而在臨時支撐體上形成熱塑性樹脂層與中間層。
[0465] 在厚度為75ym的聚對苯二甲酸乙二酯膜臨時支撐體上，使用狹縫狀噴嘴涂布包 含下述配方H1的熱塑性樹脂層用涂布液而使其干燥。其次，涂布包含下述配方P1的中間 層用涂布液而使其干燥。
[0466](熱塑性樹脂層用涂布液：配方H1)
[0467] ?甲醇：11.1質(zhì)量份
[0468] ?丙二醇單甲醚乙酸酯：6. 36質(zhì)量份
[0469] ?甲基乙基酮：52. 4質(zhì)量份
[0470] ?甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物 (共聚組成比（摩爾比）=55/11. 7/4. 5/28. 8、分子量=10萬、Tg、70U) :5. 83質(zhì)量份
[0471] ?苯乙烯/丙烯酸共聚物（共聚組成比（摩爾比）=63/37、重量平均分子量=1 萬、Tg>HMr_C) :13.6 質(zhì)量份
[0472] ?單體1 (商品名：BPE_500、新中村化學工業(yè)股份有限公司制造）：9. 1質(zhì)量份
[0473] ?涂布助劑：0?54質(zhì)量份
[0474] 另外，熱塑性樹脂層用涂布液H1的除去溶劑后的120°C的粘度為1500Pa?sec。
[0475](中間層用涂布液：配方PI)
[0476] ?聚乙烯醇：32. 2質(zhì)量份
[0477](商品名：PVA205、可樂麗股份有限公司制造、皂化度=88%、聚合度為550)
[0478] ?聚乙稀P比略燒酮：14. 9質(zhì)量份
[0479](商品名：K-30、ISP日本股份有限公司制造）
[0480] ?蒸餾水：524質(zhì)量份
[0481] ?甲醇：429質(zhì)量份
[0482] <轉(zhuǎn)印材料的制作>
[0483] 在所得的帶有熱塑性樹脂層與中間層的臨時支撐體的中間層上制作有色材料層 代替剝離膜，除此以外與實施例1同樣地進行而制作比較例3的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的 基材。
[0484] 而且，變更黑色著色液及白色著色液，除此以外與比較例3同樣地進行而制作比 較例5的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材。
[0485] 關(guān)于所得的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材，與實施例1同樣地進行各剝離力的測 定、與帶有轉(zhuǎn)印層的基材的評價。將所得的結(jié)果表示于下述表2中。
[0486][比較例4]
[0487] 相對于實施例1而言，設(shè)為并無保護膜，除此以外與實施例1同樣地進行而制作比 較例4的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材。
[0488] 關(guān)于所得的轉(zhuǎn)印材料及帶有轉(zhuǎn)印層的基材，與實施例1同樣地進行各剝離力的測 定、與帶有轉(zhuǎn)印層的基材的評價。將所得的結(jié)果表示于下述表2中。
[0489][表 2]
[0490]
[0491] 根據(jù)上述表2可知：實施例1~實施例8的轉(zhuǎn)印材料的有色材料層的轉(zhuǎn)印性良好， 將轉(zhuǎn)印層轉(zhuǎn)印至基材（玻璃基板）上之后自所述基材剝離臨時支撐體時并無有色材料層的 剝離，且剝離層并不殘留于有色材料層側(cè)（在轉(zhuǎn)印層側(cè)并未附著剝離層，臨時支撐體與剝 離層一體地剝離）。在產(chǎn)生在轉(zhuǎn)印層上的剝離層的剝離殘留的情況下（剝離層的一部分并 不自轉(zhuǎn)印層剝離而殘留于所述轉(zhuǎn)印層的表面的情況下），變得需要除去所述剝離殘留的步 驟（例如顯影步驟）。相對于此，根據(jù)本實施例1~實施例8的轉(zhuǎn)印材料，可抑制剝離層的 剝離殘留，因此變得無需將所述剝離殘留除去的步驟。
[0492]另一方面，根據(jù)比較例1可知：若使用臨時支撐體相對于轉(zhuǎn)印材料（臨時支撐體與 遮光層之間）的剝離力超出規(guī)定的上限值的轉(zhuǎn)印材料，則在剝離臨時支撐體時，遮光層自 白色層剝離。
[0493] 根據(jù)比較例2可知：若使用剝離層與轉(zhuǎn)印層（遮光層）之間的剝離力小于保護膜 與轉(zhuǎn)印層（白色層）之間的剝離力的轉(zhuǎn)印材料，則在保護膜上附有白色層，無法進行所期望 的轉(zhuǎn)印。
[0494] 根據(jù)比較例3及比較例5可知：若使用臨時支撐體與剝離層之間的剝離力小于剝 離層與轉(zhuǎn)印層（遮光層）之間的剝離力的轉(zhuǎn)印材料，則在剝離臨時支撐體時，剝離層殘留于 遮光層上（變得需要顯影步驟）。
[0495] 根據(jù)比較例4可知：在未使用保護膜的情況下（無保護膜的情況下），在臨時支撐 體的反涂布面附有白色層，無法進行所期望的轉(zhuǎn)印。具體而言，由于不存在保護膜，因此在 將比較例4的轉(zhuǎn)印材料制成卷狀的情況下，成為轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印基材上的白色層與臨時支撐 體接觸的狀態(tài)。因此，在轉(zhuǎn)印之前的階段，白色層的表面變得容易受到來自外部的影響。因 此，比較例4的轉(zhuǎn)印材料對于被轉(zhuǎn)印基材的轉(zhuǎn)印變得不良。
[0496][實施例101:觸摸屏的制作]
[0497]《第一透明電極圖案的形成》
[0498] <透明電極層的形成>
[0499] 將實施例1~實施例8的帶有轉(zhuǎn)印層的基材導入至真空腔室內(nèi)，使用Sn02含有率 為10質(zhì)量％的〗?靶（銦