本發(fā)明涉及圖案制作技術(shù)，尤其涉及一種圖案制備方法及電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

目前常采用如下工藝過(guò)程在電子設(shè)備的金屬機(jī)殼上做出高光效果的商標(biāo)logo，如：在金屬殼體上做出logo凹槽，利用點(diǎn)膠將高光效果的logo單體固定于logo凹槽中，利用該方法制造出的logo圖案局限性較強(qiáng)，且logo圖案脫落的風(fēng)險(xiǎn)較大；因此，亟需一種新型logo圖案的制備方法以解決上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決現(xiàn)有存在的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種圖案制備方法及電子設(shè)備，能至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明實(shí)施例第一方面提供了一種圖案制備方法，所述方法包括：

在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層，所述保護(hù)層具有預(yù)設(shè)圖案；以便利用所述保護(hù)層對(duì)所述目標(biāo)區(qū)域中被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)；

對(duì)所述金屬殼體的第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域進(jìn)行腐蝕處理，以使所述第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域的第一光學(xué)特征參數(shù)不同于被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)的第二光學(xué)特征參數(shù)；

去除所述目標(biāo)區(qū)域涂覆的所述保護(hù)層，以在所述第一表面上形成具有第二光學(xué)特征參數(shù)的所述預(yù)設(shè)圖案。

上述方案中，所述在殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層之前，所述方法還包括：

至少對(duì)所述第一表面中的所述目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行高拋光處理，以增大所述預(yù)設(shè)圖案的第二光學(xué)特征參數(shù)。

上述方案中，所述第一光學(xué)特征參數(shù)小于所述第二光學(xué)特征參數(shù)，以便于在所述第一表面上凸顯出所述預(yù)設(shè)圖像。

上述方案中，所述預(yù)設(shè)圖案為商標(biāo)logo的圖案。

上述方案中，所述保護(hù)層選用的材料為油墨，所述油墨絲印有所述logo的圖案。

本發(fā)明實(shí)施例第二方面提供了一種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括：

金屬殼體，所述金屬殼體包括形成商標(biāo)logo的圖案，所述圖案形成在所述金屬殼體的外表面；所述圖案的視覺(jué)效果與所述金屬殼體上除所述圖案以外的區(qū)域的視覺(jué)效果不同；

所述金屬殼體為一體化金屬板，所述金屬板不具有為所述logo預(yù)留的孔。

上述方案中，所述logo的圖案位于所述金屬殼體的包括邊緣的邊緣部分。

上述方案中，所述金屬殼體的長(zhǎng)邊的邊緣部分為曲面，所述logo的圖案位于所述曲面上。

上述方案中，所述logo的圖案為所述金屬殼體上具有拋高光處理所形成的視覺(jué)效果的圖案；所述金屬殼體上除所述logo的圖案以外的區(qū)域具有藥水腐蝕后的視覺(jué)效果。

上述方案中，油墨絲印有所述logo的圖案，絲印有所述logo的圖案的油墨覆蓋在拋高光處理后的金屬殼體上，以使得所述金屬殼體被藥水腐蝕后能夠形成所述logo的圖案，并且利用絲印有所述logo的圖案的油墨保護(hù)被覆蓋的拋高光處理效果。

本發(fā)明實(shí)施例所述的圖案制備方法及電子設(shè)備，在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層，且所述保護(hù)層具有預(yù)設(shè)圖案，進(jìn)而對(duì)所述金屬殼體的第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域進(jìn)行腐蝕處理，以使所述第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域的第一光學(xué)特征參數(shù)不同于被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)的第二光學(xué)特征參數(shù)，最后在去除所述目標(biāo)區(qū)域涂覆的所述保護(hù)層之后，即可在所述第一表面上形成具有第二光學(xué)特征參數(shù)的所述預(yù)設(shè)圖案。這里，本發(fā)明實(shí)施例無(wú)需在金屬殼體上形成凹槽，即形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域可以具體為所述金屬殼體上的任意區(qū)域，所以，本發(fā)明實(shí)施例應(yīng)用范圍較廣，例如，可以在金屬殼體的平面上形成logo圖案，也可以在曲面上形成logo圖案。進(jìn)一步地，與現(xiàn)有需要先形成凹槽，在點(diǎn)膠黏貼logo圖案的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例不僅工藝流程簡(jiǎn)單，形成的logo圖案還牢固。因此，便于大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例一圖案制備方法的實(shí)現(xiàn)流程示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例圖案制備方法的具體實(shí)現(xiàn)中的流程示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例利用圖案制備方法形成的金屬殼體的示意圖。

具體實(shí)施方式

為了能夠更加詳盡地了解本發(fā)明的特點(diǎn)與技術(shù)內(nèi)容，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)進(jìn)行詳細(xì)闡述，所附附圖僅供參考說(shuō)明之用，并非用來(lái)限定本發(fā)明。

實(shí)施例一

本實(shí)施例提供了一種圖案制備方法，具體地，圖1為本發(fā)明實(shí)施例一圖案制備方法的實(shí)現(xiàn)流程示意圖，如圖1所示，所述方法包括：

步驟101：在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層，所述保護(hù)層具有預(yù)設(shè)圖案；以便利用所述保護(hù)層對(duì)所述目標(biāo)區(qū)域中被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)，也就是說(shuō)，利用所述保護(hù)層對(duì)需要形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)。

本實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)圖案可以具體為商標(biāo)logo的圖案，也就是說(shuō)，在金屬殼體的第一表面(如外表面)上，需要設(shè)置商標(biāo)logo的圖案的區(qū)域形成保護(hù)層，這樣，以便于利用所述保護(hù)層對(duì)需要設(shè)置商標(biāo)logo的圖案的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)。進(jìn)一步地，所述保護(hù)層選用的材料可以具體為油墨，而所述油墨絲印有所述logo的圖案，這樣，為在所述金屬殼體的第一表面上形成所述logo的圖案，且使形成的所述logo的圖案的視覺(jué)效果不同于其他區(qū)域的視覺(jué)效果奠定了基礎(chǔ)。

這里，本實(shí)施例中，所述金屬殼體的第一表面上覆蓋保護(hù)層的區(qū)域并非為凹槽區(qū)域，也就是說(shuō)，本實(shí)施例中，利用保護(hù)層形成logo圖案的方法無(wú)需在金屬殼體上形成凹槽，即形成logo圖案的區(qū)域可以具體為所述金屬殼體上的任意區(qū)域，所以，本發(fā)明實(shí)施例所述的方法應(yīng)用范圍較廣，例如，可以在金屬殼體的平面上形成logo圖案，也可以在曲面上形成logo圖案。

這里，在實(shí)際應(yīng)用中，所述金屬殼體可以具體為一體化的金屬板，且所述一體化的金屬板上對(duì)應(yīng)于logo的圖案的區(qū)域不為凹槽區(qū)域，也即不設(shè)置有孔，例如，預(yù)期形成有l(wèi)ogo的圖案的區(qū)域，與金屬板上第一平面上的其他區(qū)域處于同一平面。如此，與現(xiàn)有需要先形成凹槽，在點(diǎn)膠黏貼logo圖案的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例形成的logo的圖案不僅牢靠，而且工藝流程還簡(jiǎn)單，因此，便于大規(guī)模工業(yè)化使用。而且，與現(xiàn)有點(diǎn)膠必須適用于平面的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例的使用范圍也更廣。

在一具體實(shí)施例中，為實(shí)現(xiàn)logo圖案的高光效果，可以在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層之前，至少對(duì)所述第一表面中的所述目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行高拋光處理，也就是說(shuō)，在金屬殼體的第一表面上形成預(yù)設(shè)圖案的保護(hù)層之前，至少對(duì)所述第一表面上預(yù)期形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域(也即保護(hù)層對(duì)應(yīng)的區(qū)域)進(jìn)行高拋光處理，以增大所述預(yù)設(shè)圖案的第二光學(xué)特征參數(shù)，使預(yù)設(shè)圖案對(duì)應(yīng)的區(qū)域具有拋高光處理所形成的視覺(jué)效果。

步驟102：對(duì)所述金屬殼體的第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域進(jìn)行腐蝕處理，以使所述第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域的第一光學(xué)特征參數(shù)不同于被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)的第二光學(xué)特征參數(shù)；

本實(shí)施例中，所述第一光學(xué)特征參數(shù)小于所述第二光學(xué)特征參數(shù)，以便于在所述第一表面上凸顯出所述預(yù)設(shè)圖像。例如，所述預(yù)設(shè)圖案具有拋高光處理所形成的視覺(jué)效果，而所述金屬殼體上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域具有藥水腐蝕后的視覺(jué)效果，如此，在所述金屬殼體上凸顯了所述預(yù)設(shè)圖案，實(shí)現(xiàn)了預(yù)設(shè)圖像具有高光效果的目的。

步驟103：去除所述目標(biāo)區(qū)域涂覆的所述保護(hù)層，以在所述第一表面上形成具有第二光學(xué)特征參數(shù)的所述預(yù)設(shè)圖案，如圖2所示，在金屬殼體上形成預(yù)設(shè)圖案。

以下結(jié)合圖2對(duì)本發(fā)明實(shí)施例所述的工藝流程做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明；具體地，如圖2所示，對(duì)金屬殼體表面進(jìn)行拋高光處理，對(duì)需要留出logo的區(qū)域增加絲印油墨保護(hù)，對(duì)logo之外的區(qū)域進(jìn)行藥水腐蝕，最后再去除logo處的保護(hù)油墨，得到圖3所示的具有高亮logo的金屬殼體。

這樣，本發(fā)明實(shí)施例所述的圖案制備方法，在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層，且所述保護(hù)層具有預(yù)設(shè)圖案，進(jìn)而對(duì)所述金屬殼體的第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域進(jìn)行腐蝕處理，以使所述第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域的第一光學(xué)特征參數(shù)不同于被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)的第二光學(xué)特征參數(shù)，最后在去除所述目標(biāo)區(qū)域涂覆的所述保護(hù)層之后，即可在所述第一表面上形成具有第二光學(xué)特征參數(shù)的所述預(yù)設(shè)圖案。這里，本發(fā)明實(shí)施例無(wú)需在金屬殼體上形成凹槽，即形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域可以具體為所述金屬殼體上的任意區(qū)域，所以，本發(fā)明實(shí)施例應(yīng)用范圍較廣，例如，可以在金屬殼體的平面上形成logo圖案，也可以在曲面上形成logo圖案。進(jìn)一步地，與現(xiàn)有需要先形成凹槽，在點(diǎn)膠黏貼logo圖案的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例不僅工藝流程簡(jiǎn)單，形成的logo圖案還牢固。而且，與利用曝光顯影工藝形成logo圖案的工藝相比，本發(fā)明實(shí)施例成本低、良品率高，因此，便于大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供了一種電子設(shè)備，本實(shí)施例所述電子設(shè)備可以為任何具有金屬殼體的設(shè)備，進(jìn)一步地，所述電子設(shè)備還至少設(shè)置有具有數(shù)據(jù)處理能力的處理器；具體地，所述金屬殼體包括形成商標(biāo)logo的圖案，所述圖案形成在所述金屬殼體的外表面；所述圖案的視覺(jué)效果與所述金屬殼體上除所述圖案以外的區(qū)域的視覺(jué)效果不同；所述金屬殼體為一體化金屬板，所述金屬板不具有為所述logo預(yù)留的孔。

本實(shí)施例中，所述金屬殼體可以采用如下工藝流程制備而成，具體地，首先，在金屬殼體第一表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層，所述保護(hù)層具有預(yù)設(shè)圖案；以便利用所述保護(hù)層對(duì)所述目標(biāo)區(qū)域中被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)，也就是說(shuō)，利用所述保護(hù)層對(duì)需要形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)；其次，對(duì)所述金屬殼體的第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域進(jìn)行腐蝕處理，以使所述第一表面上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域的第一光學(xué)特征參數(shù)不同于被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)的第二光學(xué)特征參數(shù)；最后，去除所述目標(biāo)區(qū)域涂覆的所述保護(hù)層，以在所述第一表面上形成具有第二光學(xué)特征參數(shù)的所述預(yù)設(shè)圖案，如圖2所示，在金屬殼體上形成預(yù)設(shè)圖案。

這里，所述預(yù)設(shè)圖案可以具體為所述商標(biāo)logo的圖案，也就是說(shuō)，在金屬殼體的第一表面，也即外表面上需要設(shè)置商標(biāo)logo的圖案的區(qū)域形成保護(hù)層，這樣，以便于利用所述保護(hù)層對(duì)需要設(shè)置商標(biāo)logo的圖案的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)。進(jìn)一步地，所述保護(hù)層選用的材料可以具體為油墨，而所述油墨絲印有所述logo的圖案，這樣，為在所述金屬殼體的第一表面上形成所述logo的圖案，且使形成的所述logo的圖案的視覺(jué)效果不同于其他區(qū)域的視覺(jué)效果奠定了基礎(chǔ)。例如，當(dāng)絲印有所述logo的圖案的油墨覆蓋在拋高光處理后的金屬殼體上時(shí)，即可使得所述金屬殼體被藥水腐蝕后形成所述logo的圖案具有拋高光處理效果。

這里，本實(shí)施例中，所述金屬殼體的外表面上覆蓋保護(hù)層的區(qū)域并非為凹槽區(qū)域，也就是說(shuō)，本實(shí)施例中，利用保護(hù)層形成logo圖案的方法無(wú)需在金屬殼體上形成凹槽，即形成logo圖案的區(qū)域可以具體為所述金屬殼體上的任意區(qū)域，所以，本發(fā)明實(shí)施例所述的方法應(yīng)用范圍較廣，例如可以在金屬殼體的平面上形成logo圖案，也可以在曲面上形成logo圖案。具體地，所述logo的圖案位于所述金屬殼體的包括邊緣的邊緣部分，如所述金屬殼體的長(zhǎng)邊的邊緣部分為曲面，此時(shí)，所述logo的圖案位于所述曲面上。

這里，在實(shí)際應(yīng)用中，所述金屬殼體可以具體為一體化的金屬板，且所述一體化的金屬板上對(duì)應(yīng)于logo的圖案的區(qū)域不為凹槽區(qū)域，也即不設(shè)置有孔，例如，預(yù)期形成有l(wèi)ogo的圖案的區(qū)域，與金屬板上第一平面上的其他區(qū)域處于同一平面。如此，與現(xiàn)有需要先形成凹槽，在點(diǎn)膠黏貼logo圖案的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例形成的logo的圖案不僅牢靠，而且工藝流程還簡(jiǎn)單，因此，便于大規(guī)模工業(yè)化使用。而且，與現(xiàn)有點(diǎn)膠必須適用于平面的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例的使用范圍也更廣。

在一具體實(shí)施例中，為實(shí)現(xiàn)logo圖案的高光效果，可以在金屬殼體外表面的目標(biāo)區(qū)域上形成保護(hù)層之前，至少對(duì)所述外表面中的所述目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行高拋光處理，也就是說(shuō)，在金屬殼體的外表面上形成預(yù)設(shè)圖案的保護(hù)層之前，至少對(duì)所述外表面上預(yù)期形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域(也即保護(hù)層對(duì)應(yīng)的區(qū)域)進(jìn)行高拋光處理，以增大所述預(yù)設(shè)圖案的第二光學(xué)特征參數(shù)，這里，所述第一光學(xué)特征參數(shù)小于所述第二光學(xué)特征參數(shù)，以便于在所述第一表面上凸顯出所述預(yù)設(shè)圖像。例如，所述預(yù)設(shè)圖案具有拋高光處理所形成的視覺(jué)效果，而所述金屬殼體上除被所述預(yù)設(shè)圖案所覆蓋的區(qū)域以外的其他區(qū)域具有藥水腐蝕后的視覺(jué)效果，如此，在所述金屬殼體上凸顯了所述預(yù)設(shè)圖案，實(shí)現(xiàn)了預(yù)設(shè)圖像具有高光效果的目的。

以下結(jié)合圖2對(duì)本發(fā)明實(shí)施例所述的工藝流程做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明；具體地，如圖2所示，對(duì)金屬殼體表面進(jìn)行拋高光處理，對(duì)需要留出logo的區(qū)域增加絲印油墨保護(hù)，對(duì)logo之外的區(qū)域進(jìn)行藥水腐蝕，最后再去除logo處的保護(hù)油墨，得到圖3所示的具有高亮logo的金屬殼體。

這樣，本發(fā)明實(shí)施例無(wú)需在金屬殼體上形成凹槽，即形成預(yù)設(shè)圖案的區(qū)域可以具體為所述金屬殼體上的任意區(qū)域，所以，本發(fā)明實(shí)施例應(yīng)用范圍較廣，例如，可以在金屬殼體的平面上形成logo圖案，也可以在曲面上形成logo圖案。進(jìn)一步地，與現(xiàn)有需要先形成凹槽，在點(diǎn)膠黏貼logo圖案的方式相比，本發(fā)明實(shí)施例形成的logo圖案牢固。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供針對(duì)一片金屬板的目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行高拋光處理形成高拋光的視覺(jué)效果，再利用形狀為產(chǎn)品商標(biāo)logo形狀的石墨覆蓋該高拋光的區(qū)域，再將覆蓋有石墨的一整片金屬板放入化學(xué)試劑中進(jìn)行腐蝕以形成另外一種是視覺(jué)效果。由于被產(chǎn)品商標(biāo)logo形狀的石墨覆蓋全高拋光區(qū)域受到石墨的保護(hù)。從而維持在高拋光的效果。最后在去除石墨，最終形成只有l(wèi)ogo為高拋光的視覺(jué)效果的金屬殼體。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。