專利名稱：一種大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，尤其是基于多次腐蝕制作大面積的金屬平面浮雕的設(shè)備。
背景技術(shù)：
大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板尤其是大面積的金屬平面(立體)浮雕是現(xiàn)代裝飾和家居、輕工用品產(chǎn)業(yè)的重要材料和生產(chǎn)支撐及技術(shù)保障，如用于模具生產(chǎn)，也用于各種裝飾、地板等材料的制造，包括制備具有壓花的各種飾面板、吊頂板、地板，然而大面積的精細(xì)花紋金屬浮雕板始終是一個(gè)技術(shù)難點(diǎn)，重要的一點(diǎn)是金屬平面的立體浮雕圖案加工難以達(dá)到細(xì)節(jié)和紋路的逼真自然、工藝可控。然而大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板的制備需要專門的設(shè)備進(jìn)行制備。
用菲林感光板制備大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板存在幾大難題:菲林片規(guī)格目前幅寬只有1680mm ;出菲林的照排機(jī)也僅有1680mm的幅寬；大幅照排機(jī)的精度目前只能做到2400DPI ;菲林感光要求片面和金屬浮雕板的平面板板面都非常平整，對(duì)精度達(dá)200目以上網(wǎng)點(diǎn)和10微米的感光是更加困難了。片與膠之間任何位置都不能有絲毫間隙，由于靜電菲林和涂膠中吸附的肉眼看不清的塵埃都會(huì)造成致命的質(zhì)量問題。灰塵使菲林片無法與膠面緊密貼合造成透光，精細(xì)圖像就變糊了。大幅金屬浮雕板精細(xì)產(chǎn)品按目前技術(shù)，采用精雕壓輥，通過模壓輥壓離心紙?jiān)賹㈦x心紙上的紋理轉(zhuǎn)移至浸膠或高分子產(chǎn)品上，成本很高，卻使用壽命太短，十幾次離心 紙就報(bào)廢。對(duì)板面已經(jīng)蝕刻有密集凹凸形狀的模具，再要進(jìn)行感光且要高精度顯示圖像，用菲林是無法實(shí)現(xiàn)的。CN94110703.5異形陶板浮雕的模具制作方法及異形陶板浮雕的成型工藝，將石墨板或紫銅板切割成異形板，拼擺后將浮雕圖案印制在異形板上，用刻刀將圖案雕刻成浮雕，將雕刻有浮雕的異形板及制作陽模的鋼件接上脈沖直流電對(duì)鋼件進(jìn)行腐蝕、拋光、根據(jù)陽模制作與陽模相配套的陰模，將雕刻有浮雕的異形板及制作陽模的鋼件接上脈沖直流電對(duì)鋼件進(jìn)行腐蝕，本質(zhì)上仍是電化學(xué)方法，但浮雕圖案進(jìn)行雕刻的方法是難以控制的。總體上不能較深的花紋細(xì)節(jié)完美的腐蝕工藝——一旦腐蝕到0.4mm以上的深度還不能稱立體浮雕，也不能保證繼續(xù)曝光腐蝕時(shí)的紋路細(xì)節(jié)的完盡口 ο
CN200410155155.9 一種鍍鎳金屬印刷模板及其制造方法，金屬模板基片是表面被覆有鎳鍍層的金屬模板基片，制造方法是依次有以下工藝步驟:激光切割金屬基片、研磨處理孔壁、表面除油、去毛刺、表面刷鍍和烘干?，F(xiàn)有技術(shù)無法制備大于I米5的寬幅及長(zhǎng)度在2米以上的金屬立體浮雕板，一個(gè)重要原因是需要提供變種專用的設(shè)備不易，如進(jìn)行重復(fù)腐蝕之對(duì)菲林片的對(duì)準(zhǔn)要求太高，也易受溫度變化的影響。尤其是機(jī)械裝置與控制裝置并不能有機(jī)結(jié)合在一道。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是:提出一種大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，尤其是基于多次腐蝕制作大面積的金屬平面浮雕的設(shè)備?？赏耆查_菲林來制備大幅面金屬平面浮雕(精細(xì)花紋圖像):金屬平面浮雕包括平板模具、浮雕板模具及浮雕裝飾件，還是一種保證立體浮雕的層次的紋路細(xì)節(jié)完善和立體感強(qiáng)的金屬平面浮雕的制作設(shè)備，相同或不同圖案還可以進(jìn)行重復(fù)或疊加進(jìn)行加工，具有浮雕畫圖案清晰、立體感強(qiáng)、立體浮雕圖案加工細(xì)節(jié)和紋路的逼真自然，多次加工的重復(fù)性好，而且成本低，生產(chǎn)條件亦可與現(xiàn)有工藝兼容并且容易控制。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是，大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，包括控制裝置、移動(dòng)橫梁、X軸光柵尺、機(jī)座、X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸光柵尺、激光曝光頭、Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器；機(jī)座上設(shè)有靠山板和定位點(diǎn)，機(jī)座二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌和至少一側(cè)置有X軸光柵尺，移動(dòng)橫梁置于二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌上，由X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)移動(dòng)橫梁在X軸移動(dòng)并由X軸光柵尺檢測(cè)定位，移動(dòng)橫梁上置有Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌、Y軸光柵尺和Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件，即移動(dòng)橫梁上置有沿Y軸運(yùn)動(dòng)的激光曝光頭及安裝支架由Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件沿Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)并由Y軸光柵尺定位。進(jìn)一步的，定位點(diǎn)起碼有兩個(gè)為好，可由多種方法定位。進(jìn)一步的，激光曝光頭及安裝支架安裝在垂直于Y軸導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)的Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器上；進(jìn)一步的，基座上設(shè)有真空與氣浮平臺(tái)，平臺(tái)上置大幅面金屬平面浮雕板、平臺(tái)上設(shè)有均勻分布的氣孔，氣孔連接外置的壓縮空氣動(dòng)力源或真空負(fù)壓源。進(jìn)一步的，平臺(tái)上設(shè)有均勻分布的氣孔是按區(qū)域獨(dú)立連接外置的壓縮空氣動(dòng)力源或真空源，以適應(yīng)在小不同面積的大幅面金屬平面浮雕板，以免小面積金屬平面浮雕板未遮蔽的氣孔時(shí)使壓縮空氣動(dòng)力源或真空負(fù)壓源泄壓。大幅面金屬平面浮雕板置于真空與氣浮平臺(tái)上，可以使大幅面金屬平面浮雕板氣浮平臺(tái)的氣浮啟動(dòng)時(shí)托起上噸的 大幅面金屬平面浮雕板以進(jìn)行微調(diào)移動(dòng)，而對(duì)板表面無任何損傷。而在啟動(dòng)負(fù)壓時(shí)又使大幅面金屬平面浮雕板極好的固定。大幅面金屬平面浮雕板也指待加工的坯料板或半成品乃至成品板。激光曝光頭的X、Y、Z三維移動(dòng)動(dòng)作的數(shù)控通過光柵尺和控制裝置進(jìn)行，在板不同位置進(jìn)行曝光不同的圖案。Z軸自動(dòng)測(cè)距進(jìn)行升降，也可以在聚焦后I 一 5_的高度范圍內(nèi)微調(diào)，采用高度隨機(jī)測(cè)調(diào)技術(shù)，可放大工件的不平度要求仍然能夠保證精確曝光。Χ、γ軸移動(dòng)采用直線電機(jī)加光柵尺控制，重復(fù)精度可致2微米(如采用更高精度的光柵尺，控制精度可以更高)精度進(jìn)行控制，Z軸可根據(jù)激光曝光頭高低距離設(shè)定，與工件的距離自動(dòng)隨機(jī)調(diào)難
iF.0本發(fā)明的應(yīng)用包括:大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備方法，基于N次腐蝕制作大面積的金屬平面浮雕的方法，在金屬基板上進(jìn)行腐蝕制作浮雕，在金屬基板表面上涂覆光敏涂層；用激光束對(duì)涂層曝光使之具有所要求的正性或負(fù)性圖案或圖像，然后以化學(xué)去除工藝去除曝光后不保留的涂層，即在曝光后立即去除涂層露出產(chǎn)生腐蝕凹陷的區(qū)域；然后以腐蝕侵蝕或電解金屬侵蝕的方式，在已被去除涂層的區(qū)域上形成凹陷。所述激光束是紫外激光束或其它可見或紅外光束(也可采用其它激光)，曝光使之具有所要求的正性或負(fù)性圖案；金屬基板光敏涂層在圖案或圖像是由激光束直接曝光形成的，即直接控制激光束明暗或通斷的時(shí)間對(duì)光敏涂層進(jìn)行曝光。并不需要控制激光束的顏色或灰度明暗。
較好的方法是DMD微鏡(或其它激光照排器件)的部件進(jìn)行線面掃描，將每幀的圖案或圖像存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)內(nèi)，由計(jì)算機(jī)控制DMD微鏡的激光部件在金屬基板光敏涂層上掃描；掃描的方式是:可以是點(diǎn)激光源，也可以是一排點(diǎn)陣構(gòu)成的線陣，更可以是M排線激光源構(gòu)成的面激光源；金屬基板光敏涂層上圖案或圖像是由激光束直接曝光形成的，即直接控制激光束通斷的時(shí)間對(duì)光敏涂層進(jìn)行曝光。激光射向金屬基板光敏涂層的角度近乎垂直為好。
以上激光曝光時(shí)也可以進(jìn)行圖案或圖像對(duì)光敏層進(jìn)行刷新的方式多次曝光，而使圖案或圖像的紋路或花紋更加清晰，而使圖案或圖像的清晰度更好，即制版的效果更好，通過增強(qiáng)對(duì)比度，描繪邊界線以及分離對(duì)比度而將圖像中花紋路細(xì)節(jié)顯示。
為了保證深度的腐蝕而構(gòu)成立體浮雕，本發(fā)明的方法重復(fù)對(duì)金屬基板涂光敏涂層、曝光、化學(xué)去除工藝將其去除涂層、腐蝕侵蝕或電解金屬去除的方式，在已被去除涂層的區(qū)域上形成凹凸圖案的過程，即在已經(jīng)形成凹凸圖案的基板上進(jìn)行重復(fù)的依圖腐蝕的過程，N次曝光的位置精確，從而保證了圖案的精準(zhǔn)。本發(fā)明通過N (3至16常見)次金屬基板光敏涂層進(jìn)行腐蝕。
由于每次化學(xué)腐蝕的深度會(huì)受到限制，否則會(huì)將無法精確控制塊、線、點(diǎn)的分布深度，本發(fā)明在已經(jīng)化學(xué)腐蝕一次達(dá)到一定深度(一次腐蝕的深度一般不超過0.2_才可保證圖案的精細(xì))的金屬板上，再次涂光敏膠并激光曝光圖案或圖像在模板上，以激光曝光頭曝光或以DMD微鏡器件以快速開關(guān)速度與雙脈沖寬度調(diào)制的一種精確的圖案或圖像重復(fù)多次，就可以將腐蝕深度到0.4mm以上的深度甚至到數(shù)毫米，甚至可以達(dá)到IOmm以上，可以在任意大面積幅度上的金屬板上制造，構(gòu)成真正的立體浮雕。金屬板尤其是可以是模板等工作母板，也可以是一般裝飾板，如電梯裝飾板等。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明綜合了下述技術(shù)要點(diǎn):①激 光平行光的成形技術(shù)進(jìn)行立體高度調(diào)整的曝光；②并通過圖像光點(diǎn)的控制技術(shù)對(duì)曝光進(jìn)行控制高精度重復(fù)定位技術(shù)；④穩(wěn)定設(shè)備制作精度的措施大幅面，重型模板的精確移動(dòng)、定位固定技術(shù)高速激光曝光成像技術(shù)8 — 20 rtf /h ;⑦大幅平板模具的快速制作技術(shù)20 Hf大型精細(xì)至2400DPI的平板模具從感光開始到成品4個(gè)小時(shí)可完成；⑧通過氣浮平臺(tái)對(duì)位技術(shù)，可將近一噸重的金屬浮雕板輕輕移動(dòng)進(jìn)行對(duì)位和定位；⑨真空與氣浮平臺(tái)面的分區(qū)域控制技術(shù)。⑩X、Y、Z三維移動(dòng)動(dòng)作的數(shù)控技術(shù)。Z軸采用高度隨機(jī)測(cè)調(diào)技術(shù)后，可放大工件的不平度要求仍然能夠保證精確曝光?？梢苑奖氵_(dá)到對(duì)精度達(dá)200目以上網(wǎng)點(diǎn)和微米級(jí)的點(diǎn)感光。
利用本發(fā)明設(shè)備，可完全撇開菲林來制備大幅面金屬精細(xì)花紋圖像:包括平板模具、浮雕板模具及浮雕裝飾件；解決了菲林不能實(shí)現(xiàn)的大幅精細(xì)圖紋，浮雕圖像感光的制作難題?？啥啻沃貜?fù)定位，配合蝕刻可做5_深的浮雕模具。可在高低不平<5_涂有感光膠的工件上精細(xì)感光?？勺鰺o接縫環(huán)形花紋鋼模帶，浮雕鋼模帶等加工件上應(yīng)用。不需菲林可直接制大幅面金屬網(wǎng)板和大幅面精細(xì)金屬立體花紋模具。所述模具圖像精細(xì)度和效率比雕刻機(jī)加工中心等設(shè)備強(qiáng)出幾十倍。分辨精度可達(dá)1400DPI—3600DPI，激光頭可以采用照排用激光曝光頭，通常的規(guī)格可以工作面積可以達(dá)到每分鐘照排即浮雕圖像感光面積為0.1平方米以上。并可以讀出任何輸入控制裝置的圖案，本發(fā)明可利用繪圖軟件和照排機(jī)的功能，發(fā)指令于激光曝光頭打出精細(xì)圖像。
有了本發(fā)明，可以用激光平行光通過可控的微孔直接照排到涂膠工件上感光，中間沒有任何附加?xùn)|西，且可以在高低5_范圍內(nèi)不失精度。大大降低了產(chǎn)品制造的工藝難度。利用大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，尤其是基于多次腐蝕制作大面積的金屬平面浮雕的方法，可以大面積的制備大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板，尤其是工藝條件與現(xiàn)有工藝兼容且容易掌控。成本低，應(yīng)用廣泛:如各種工藝品浮雕畫圖的大量復(fù)制，即用于印模和壓模的各種模具、模板，也用于各種裝飾材料的制作，如制作具有壓花的各種飾面板、吊頂板、地板等等。通過重復(fù)曝光腐蝕仍能得到良好的圖案精度，可以達(dá)到2-5微米左右的精度。大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板的寬度可以達(dá)到I米5以上的寬幅及長(zhǎng)度在2米以上(甚至可以不限長(zhǎng)度，可進(jìn)行連續(xù)掃描)。


圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式圖1所示，大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，包括控制裝置10、移動(dòng)橫梁11、真空與氣浮平臺(tái)12、分區(qū)域真空吹吸導(dǎo)管13、均勻氣孔2、直角定位點(diǎn)1、X軸光柵尺3、機(jī)座
4、X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件5、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件6、Y軸光柵尺7、激光曝光頭8、Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器9 ;機(jī)座4上設(shè)有靠山板和直角定位點(diǎn)1，金屬板制備的平板狀的機(jī)座4的二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌和至少一側(cè)置有X軸光柵尺3，移動(dòng)橫梁置于二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌上，由X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件5驅(qū)動(dòng)移動(dòng)橫梁在X軸移動(dòng)并由X軸光柵尺3檢測(cè)定位，移動(dòng)橫梁表面或側(cè)面上置有Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌、Y軸光柵尺和Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件，移動(dòng)橫梁上置有沿Y軸運(yùn)動(dòng)的Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器和激光曝光頭8，激光曝光頭等由Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件沿Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)并由Y軸光柵尺定位；均沿著移動(dòng)橫梁整體運(yùn)動(dòng)。

X、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件可以是受控的直線電機(jī)、也可以是伺服或步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲桿或齒輪齒條在軌道上運(yùn)行，由光柵尺的檢測(cè)獲得激光曝光頭12的工作和掃描的位置和區(qū)域?？刂蒲b置10主要根據(jù)程序?qū)軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件5、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件6和激光曝光頭8進(jìn)行位置和曝光控制。也可以控制真空與氣浮平臺(tái)12 (正壓下進(jìn)行氣浮)、分區(qū)域真空吹吸導(dǎo)管13使分區(qū)域的均勻氣孔2產(chǎn)生正壓或負(fù)壓而調(diào)節(jié)金屬平面浮雕板的位置(正壓氣浮)或進(jìn)行工作(吸附)。當(dāng)然直角定位點(diǎn)可以是一個(gè)基準(zhǔn)I或多個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)(板角絕對(duì)要磨平，最好有二個(gè)角部基準(zhǔn)點(diǎn))。激光曝光頭12及安裝支架安裝在垂直于Y軸導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)的Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器9上；基座上設(shè)有真空與氣浮平臺(tái)或?yàn)橐惑w化的真空與氣浮平臺(tái)，平臺(tái)上置大幅面金屬平面浮雕板、平臺(tái)上設(shè)有均勻分布的氣孔(1_左右的直徑均可。分布均勻)，氣孔連接外置的壓縮空氣正壓動(dòng)力源或真空負(fù)壓源。為適應(yīng)在小 不同面積的大幅面金屬平面浮雕板，以免小面積金屬平面浮雕板未遮蔽的氣孔時(shí)使壓縮空氣動(dòng)力源或真空負(fù)壓源泄壓。氣孔是分區(qū)域控制的，即最小一塊區(qū)域同時(shí)開通或關(guān)閉氣孔壓力或吸力時(shí)對(duì)應(yīng)最小一塊板的托起。最小一塊區(qū)域外圍加一塊凹形的分布?xì)饪讌^(qū)(對(duì)應(yīng)某一根分區(qū)域真空吹吸導(dǎo)管)同時(shí)開通或關(guān)閉氣孔壓力或吸力時(shí)對(duì)應(yīng)略大的一塊板的托起；以此類推。大幅面金屬平面浮雕板置于真空與氣浮平臺(tái)上，可以使大幅面金屬平面浮雕板氣浮平臺(tái)的氣浮啟動(dòng)時(shí)托起上噸的大幅面金屬平面浮雕板以進(jìn)行微調(diào)移動(dòng)，而對(duì)板表面無任何損傷。而在啟動(dòng)負(fù)壓時(shí)又使大幅面金屬平面浮雕板極好的固定。根據(jù)工件大小可調(diào)，并有氣浮功能，可輕松將IOOOKG的大平板雙手移動(dòng)對(duì)準(zhǔn)靠山板后固定。
基座上設(shè)有直角定位點(diǎn)I和靠山板給大幅面金屬平面浮雕板定位。采用電腦出圖軟件，將圖像以光點(diǎn)形式直接打在涂有光敏膠的工件上采用攝像放大精確定位裝置，可作重復(fù)定位。
只有有足夠的基座，本發(fā)明能夠提供大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板，具有的寬度大于150cm,長(zhǎng)度大于150cm,且具有腐蝕到0.4-0.6mm的深度，
激光曝光頭(感光頭)可選自激光反光型直線平行光，光點(diǎn)直徑2-5微米。也可以是線束激光或激光照排頭單元部件。
Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器在腐蝕深度深的多次曝光時(shí)使用，使曝光時(shí)在上下方向?qū)?zhǔn)位置；亦可控制裝置控制。
DMD微鏡器件(或激光曝光的照排頭單元部件)以快速開關(guān)速度調(diào)制的圖案或圖像(掃描照排)由幾何圖形的尺寸和密度精確分布構(gòu)成，也可以多次曝光形成，幾何圖形為塊、線或點(diǎn)，并覆蓋在金屬的表面進(jìn)行腐蝕凹陷深度的控制；并通過控制幾何圖形塊、線或點(diǎn)的尺寸和密度分布來控制金屬表面的腐蝕深度，從而形成具有在截面上有弧度或曲線的浮雕。即幾何圖形的密度分布較密時(shí)，腐蝕凹陷的深度較淺，控制幾何圖形的尺寸較細(xì)或幾何圖形的密度分布較稀疏時(shí)，即腐蝕凹陷深度較深。本發(fā)明能精確控制塊、線、點(diǎn)的分布，從而有效控制浮雕的立體效果，N次過程可以保證浮雕的深度。由于每次化學(xué)腐蝕的深度會(huì)受到限制，否則會(huì)將無法精確控制塊、線、點(diǎn)的分布深度，本發(fā)明在已經(jīng)化學(xué)腐蝕一次達(dá)到一定深度的金屬板上以激光器曝光或以DMD微鏡器件以快速開關(guān)速度與雙脈沖寬度調(diào)制的曝光圖案或圖像，重復(fù)腐蝕，就可以將腐蝕深度到數(shù)毫米，甚至可以達(dá)到5mm以上，可以在大面積的金屬板上制造立體浮雕， 構(gòu)成真正的立體浮雕。
權(quán)利要求
1.大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是包括控制裝置、移動(dòng)橫梁、X軸光柵尺、機(jī)座、X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸光柵尺、激光曝光頭、Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器；機(jī)座上設(shè)有靠山板和定位點(diǎn)，機(jī)座二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌和至少一側(cè)置有X軸光柵尺，移動(dòng)橫梁置于二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌上，由X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)移動(dòng)橫梁在X軸移動(dòng)并由X軸光柵尺檢測(cè)定位，移動(dòng)橫梁上置有Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌、Y軸光柵尺和Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件，即移動(dòng)橫梁上置有沿Y軸運(yùn)動(dòng)的激光曝光頭及安裝支架由Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件沿Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)并由Y軸光柵尺定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是基座上設(shè)有真空與氣浮平臺(tái)，平臺(tái)上置大幅面金屬平面浮雕板、平臺(tái)上設(shè)有均勻分布的氣孔，氣孔連接外置的壓縮空氣動(dòng)力源或/與真空負(fù)壓源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是激光曝光頭及安裝支架安裝在垂直于Y軸導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)的Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是平臺(tái)上設(shè)有均勻分布的氣孔是按區(qū)域獨(dú)立連接外置的壓縮空氣動(dòng)力源或真空源，以適應(yīng)在小不同面積的大幅面金屬平面浮雕板。
5.由權(quán)利要求1或2所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是激光曝光頭為DMD微鏡器件或照排激光頭。
6.由權(quán)利要求1或2所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是X、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件是受控的直線電機(jī)、伺服或步進(jìn)電機(jī)。
7.由權(quán)利要求6所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是所述電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲桿或齒輪齒條在軌道上運(yùn)行，由光柵尺的檢測(cè)獲得激光曝光頭12的工作和掃描的位置和區(qū)域。
8.由權(quán)利要求6所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是控制裝置根據(jù)程序?qū)軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件5、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件6和激光曝光頭8進(jìn)行位置和曝光控制。
9.由權(quán)利要求1所述的大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，其特征是定位點(diǎn)為一至二個(gè)直角定位點(diǎn)作為板的基準(zhǔn)點(diǎn)。
全文摘要
大尺幅精細(xì)花紋金屬浮雕板制備設(shè)備，包括控制裝置、移動(dòng)橫梁、X軸光柵尺、機(jī)座、X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件、Y軸光柵尺、激光曝光頭、Z軸自動(dòng)測(cè)距升降器；機(jī)座上設(shè)有靠山板和定位點(diǎn)，機(jī)座二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌和至少一側(cè)置有X軸光柵尺，移動(dòng)橫梁置于二側(cè)置X軸移動(dòng)導(dǎo)軌上，由X軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)移動(dòng)橫梁在X軸移動(dòng)并由X軸光柵尺檢測(cè)定位，移動(dòng)橫梁上置有Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌、Y軸光柵尺和Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件，即移動(dòng)橫梁上置有沿Y軸運(yùn)動(dòng)的激光曝光頭及安裝支架由Y軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件沿Y軸移動(dòng)導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)并由Y軸光柵尺定位。
文檔編號(hào)B44C1/22GK103231619SQ20131013934
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月19日
發(fā)明者王敬達(dá) 申請(qǐng)人:王敬達(dá)