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全彩LED顯示單元及其制備方法與流程

文檔序號:11213814閱讀:393來源:國知局
全彩LED顯示單元及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種全彩led顯示單元及其制備方法。



背景技術(shù):

目前,rgb三基色led構(gòu)成全彩led顯示陣列的主流方式有兩種,一種是由三個獨立的直插式led構(gòu)成,這種方式構(gòu)成的全彩陣列,由于單顆led尺寸及相鄰led間距均較大,多用于戶外顯示屏;另一種是將rgb三種led晶粒并行排列封裝在同一個基底上,以構(gòu)成獨立像素,這種方式構(gòu)成的全彩led陣列像素尺寸較小,像素間距可根據(jù)使用需求和環(huán)境調(diào)整,因此被廣泛應(yīng)用于室內(nèi)高清顯示屏。

近年來,led顯示憑借其優(yōu)異的色彩表現(xiàn),超長壽命和高效節(jié)能等優(yōu)點吸引越來越多科研工作者和各大顯示廠商的關(guān)注,人們希望將這種顯示技術(shù)應(yīng)用于更高密度更小間距的產(chǎn)品中,如電腦、手機、智能穿戴設(shè)備等,這勢必要求led芯片尺寸更小,如50μm或以下,每個像素尺寸在200μm或以下。在此情況下,上述第一種全彩led陣列構(gòu)建方式顯然不適用,而采用第二種方式,會對led晶粒制備工藝和led芯片封裝工藝提出更高的要求。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的主要目的在于提供一種全彩led顯示單元及其制備方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中全彩led顯示單元難以實現(xiàn)超小尺寸像素且封裝工藝難度大的問題。

為了實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種全彩led顯示單元,包括基板和ic芯片,全彩led顯示單元還包括:透明介質(zhì)層,設(shè)置在基板的第一表面上,透明介質(zhì)層的遠離基板的表面為第四表面;第一led芯片組,設(shè)置在第一表面上且被透明介質(zhì)層覆蓋,第一led芯片組的遠離第一表面的表面所在平面為第二表面;第二led芯片組,設(shè)置在第二表面以上且被透明介質(zhì)層覆蓋,第一led芯片組的遠離第一表面的表面所在平面為第三表面;第三led芯片組,設(shè)置在第三表面以上且被透明介質(zhì)層覆蓋,或設(shè)置在第四表面上,第一led芯片組包括至少一個第一led芯片,第二led芯片組包括至少一個第二led芯片,第三led芯片組包括至少一個第三led芯片,且各第一led芯片、各第二led芯片和各第三led芯片均與ic芯片電連接,第一led芯片、第二led芯片和第三led芯片的發(fā)光波長不同。

進一步地,透明介質(zhì)層包括:第一透明介質(zhì)層,覆蓋于基板和第一led芯片表面,第一透明介質(zhì)層中具有第一連接孔,各第二led芯片通過第一連接孔與ic芯片電連接;第二透明介質(zhì)層,覆蓋于第一透明介質(zhì)層和第二led芯片表面,第二透明介質(zhì)層和第一透明介質(zhì)層中具有第二連接孔,各第三led芯片通過第二連接孔與ic芯片電連接。

進一步地,透明介質(zhì)層還包括第三透明介質(zhì)層,第三透明介質(zhì)層覆蓋于第二透明介質(zhì)層和第三led芯片表面,優(yōu)選第一透明介質(zhì)層、第二透明介質(zhì)層和第三透明介質(zhì)層的遠離基板的一側(cè)表面為平面。

進一步地,ic芯片位于基板的遠離第一led芯片的一側(cè),基板具有第三連接孔,第一led芯片通過第三連接孔與ic芯片電連接,第二led芯片通過第一連接孔和第三連接孔與ic芯片電連接,第三led芯片通過第二連接孔和第三連接孔與ic芯片電連接。

進一步地,第一led芯片包括沿遠離基板的方向順序設(shè)置的第一電極和第一子外延層,且全彩led顯示單元還包括:第一電極布線層,設(shè)置于基板與第一led芯片之間,用于將第三連接孔與第一電極電連接;優(yōu)選第二led芯片包括沿遠離基板的方向順序設(shè)置的第二電極和第二子外延層,且全彩led顯示單元還包括:第二電極布線層,設(shè)置于第一透明介質(zhì)層與第二led芯片之間,用于將第一連接孔與第二電極電連接;優(yōu)選第三led芯片包括沿遠離基板的方向順序設(shè)置的第三電極和第三子外延層,且全彩led顯示單元還包括:第三電極布線層,設(shè)置于第二透明介質(zhì)層與第三led芯片之間,用于將第二連接孔與第三電極電連接。

進一步地,形成第一電極、第二電極和第三電極的材料為透明導(dǎo)電材料,且各自獨立地優(yōu)選為ito、zno或石墨烯。

進一步地,第一led芯片、第二led芯片和第三led芯片分別選自紅色led芯片、綠色led芯片和藍色led芯片;優(yōu)選第一led芯片為紅色led芯片,第二led芯片為綠色led芯片且第三led芯片為藍色led芯片,或第二led芯片為藍色led芯片且第三led芯片為綠色led芯片。

進一步地,全彩led顯示單元還包括tft結(jié)構(gòu)和tft電極布線層,tft結(jié)構(gòu)與tft電極布線層均設(shè)置于基板與第一led芯片組之間,且tft電極布線層設(shè)置于tft結(jié)構(gòu)的遠離基板的一側(cè),tft結(jié)構(gòu)、各第一led芯片、各第二led芯片、各第三led芯片和ic芯片均與tft電極布線層電連接。

進一步地,基板靠近第一led芯片組的一側(cè)表面具有cmos結(jié)構(gòu),全彩led顯示單元還包括cmos電極布線層,cmos電極布線層設(shè)置于cmos結(jié)構(gòu)與第一led芯片組之間,且cmos結(jié)構(gòu)、各第一led芯片、各第二led芯片、各第三led芯片和ic芯片均與cmos電極布線層電連接。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種上述的全彩led顯示單元的制備方法,包括以下步驟:s1,將第一led芯片組設(shè)置于基板的一側(cè),并使第一led芯片組的第一led芯片與ic芯片電連接;s2,將第一透明介質(zhì)材料覆蓋于基板和第一led芯片表面并固化形成第一透明介質(zhì)層;s3,將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面上,并使第二led芯片組的第二led芯片與ic芯片電連接;s4,將第二透明介質(zhì)材料覆蓋于第一透明介質(zhì)層和第二led芯片表面并固化形成第二透明介質(zhì)層;s5,將第三led芯片組設(shè)置于第二透明介質(zhì)層的表面上,并使第三led芯片組的第三led芯片與ic芯片電連接。

進一步地,制備方法還包括以下步驟:在步驟s2之后,在第一透明介質(zhì)層中形成第一連接孔,在步驟s3中,使各第二led芯片通過第一連接孔與ic芯片電連接;在步驟s4之后,在第一透明介質(zhì)層和第二透明介質(zhì)層中形成第二連接孔,在步驟s5中,使各第三led芯片通過第二連接孔與ic芯片電連接。

進一步地,步驟s1包括以下過程:s11,在第一襯底表面形成第一外延層,并在第一外延層上形成n個第一電極,將第一外延層分隔為與各第一電極一一對應(yīng)的n個第一子外延層,以在第一襯底上形成n個第一led芯片,n為大于0的整數(shù);s12,在基板表面形成第一電極布線層,并將第一led芯片的第一電極與第一電極布線層粘接;s13,當(dāng)n=1時,將第一襯底剝離,以將第一led芯片組設(shè)置于基板的一側(cè),或當(dāng)n>1時,將第一襯底和m層第一子外延層剝離,以將第一led芯片組設(shè)置于基板的一側(cè),0≤m<n。

進一步地,步驟s3包括以下過程:s31,在第二襯底表面形成第二外延層,并在第二外延層上形成n個第二電極,將第二外延層分隔為與各第二電極一一對應(yīng)的n個第二子外延層,以在第二襯底上得到n個第二led芯片形成的第二led芯片組,n為大于0的整數(shù);s32,在第一透明介質(zhì)層表面形成第二電極布線層,并將第二led芯片的第二電極與第二電極布線層粘接;s33,當(dāng)n=1時,將第二襯底剝離,以將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面上,或當(dāng)n>1時,將第二襯底和m層第二子外延層剝離,以將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面上,0≤m<n。

進一步地,步驟s5包括以下過程:s51,在第三襯底表面形成第三外延層,并在第三外延層上形成n個第三電極,將第三外延層分隔為與各第三電極一一對應(yīng)的n層第三子外延層,以在第三襯底上形成n個第三基體結(jié)構(gòu),n為大于0的整數(shù);s52,在第二透明介質(zhì)層表面形成第三電極布線層,并將第三基體結(jié)構(gòu)的具有第三電極的一側(cè)與第三電極布線層粘接;s53,當(dāng)n=1時,將第三襯底從第三電極布線層表面剝離,以得到第二led芯片,或當(dāng)n>1時,將第三襯底和m層第三子外延層從第三電極布線層表面剝離,以得到第三led芯片,0≤m<n。

進一步地,在步驟s5之后,制備方法還包括以下步驟:s6,將第三透明介質(zhì)材料覆蓋于第二透明介質(zhì)層和第三led芯片的表面并固化形成第三透明介質(zhì)層。

進一步地,剝離為激光剝離。

應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案,提供了一種包括透明基板和ic芯片的全彩led顯示單元,該全彩led顯示單元還包括順序?qū)盈B的第一led芯片、第一透明介質(zhì)層、第二led芯片、第二透明介質(zhì)層和第三led芯片,且第一led芯片、第二led芯片和第三led芯片分別選自紅色led芯片、綠色led芯片和藍色led芯片,由于具有不同發(fā)光顏色的led芯片被透明介質(zhì)層分隔而位于不同層中,從而能夠通過芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,進而通過三次轉(zhuǎn)移工藝即得到具有rgb三種發(fā)光顏色的led顯示單元,上述led顯示單元不僅能夠?qū)崿F(xiàn)全彩發(fā)光,而且還能夠通過在晶片上制備較小尺寸的基體結(jié)構(gòu),在轉(zhuǎn)移工藝后使led顯示單元中的led芯片具有超小尺寸,有效地縮小led顯示單元的像素尺寸;并且,每個顯示單元均具有透明介質(zhì)層作為保護,從而使led顯示單元能夠具有更高的可靠性。

除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外,本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖,對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明。

附圖說明

構(gòu)成本發(fā)明的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解,本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:

圖1示出了本發(fā)明實施方式所提供的一種全彩led顯示單元的立體透視圖示意圖;

圖2示出了圖1所示的全彩led顯示單元在x-z平面以及x-x’位置的截面示意圖;

圖3示出了圖1所示的全彩led顯示單元中第二透明介質(zhì)層上表面的俯視示意圖;

圖4示出了圖1所示的全彩led顯示單元在y-z平面以及y-y’位置的截面示意圖;

圖5示出了圖1所示的全彩led顯示單元中第一透明介質(zhì)層上表面的俯視示意圖;

圖6示出了本申請實施方式所提供的全彩led顯示單元的制備方法的流程示意圖;

圖7示出了在本申請實施方式所提供的全彩led顯示單元的制備方法中,在第一襯底上形成n個第一led芯片后的晶圓剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖8示出了將第一led芯片組設(shè)置于透明基板的一側(cè)后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖9示出了在圖8所示的透明基板和第一led芯片表面上形成第一透明介質(zhì)層后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖10示出了在圖9所示的第一透明介質(zhì)層中形成第一連接孔,以及將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖11示出了在圖10所示的第一透明介質(zhì)層和第二led芯片表面形成第二透明介質(zhì)層后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖12示出了在圖11所示的第一透明介質(zhì)層和第二透明介質(zhì)層中形成第二連接孔,以及將第三led芯片組設(shè)置于第二透明介質(zhì)層的表面后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖;以及

圖13示出了在圖12所示的第二透明介質(zhì)層和第三led芯片表面形成第三透明介質(zhì)層后的基體剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

其中,上述附圖包括以下附圖標(biāo)記:

100、基板;101、第一透明介質(zhì)層;102、第二透明介質(zhì)層;103、第三透明介質(zhì)層;11、第一led芯片;111、第一電極;112、第一電極布線層;113、第一子外延層;12、第二led芯片;121、第二電極;122、第二電極布線層;123、第一連接孔;13、第三led芯片;131、第三電極;132、第三電極布線層;133、第二連接孔;200、第一襯底。

具體實施方式

需要說明的是,在不沖突的情況下,本發(fā)明中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分的實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護的范圍。

需要說明的是,本發(fā)明的說明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語“第一”、“第二”等是用于區(qū)別類似的對象,而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解這樣使用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可以互換,以便這里描述的本發(fā)明的實施例。此外,術(shù)語“包括”和“具有”以及他們的任何變形,意圖在于覆蓋不排他的包含,例如,包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元,而是可包括沒有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。

正如背景技術(shù)中所介紹的,現(xiàn)有技術(shù)中全彩led顯示單元難以實現(xiàn)超小尺寸像素且封裝工藝難度大。本申請的發(fā)明人針對上述問題進行研究,提出了一種全彩led顯示單元,如圖1至5所示,包括基板100和ic芯片(未在圖中示出),全彩led顯示單元還包括:透明介質(zhì)層,設(shè)置在基板100的第一表面上,透明介質(zhì)層的遠離基板100的表面為第四表面;第一led芯片組,設(shè)置在第一表面上且被透明介質(zhì)層覆蓋,第一led芯片組的遠離第一表面的表面所在平面為第二表面;第二led芯片組,設(shè)置在第二表面以上且被透明介質(zhì)層覆蓋,第一led芯片組的遠離第一表面的表面所在平面為第三表面;第三led芯片組,設(shè)置在第三表面以上且被透明介質(zhì)層覆蓋,或設(shè)置在第四表面上,第一led芯片組包括至少一個第一led芯片11,第二led芯片組包括至少一個第二led芯片12,第三led芯片組包括至少一個第三led芯片13,且各第一led芯片11、各第二led芯片12和各第三led芯片13均與ic芯片電連接,第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13的發(fā)光波長不同。

上述全彩led顯示單元中由于具有不同發(fā)光顏色的led芯片被透明介質(zhì)層分隔而位于不同層中,從而能夠通過芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,進而通過三次轉(zhuǎn)移工藝即得到具有rgb三種發(fā)光顏色的led顯示單元,上述led顯示單元不僅能夠?qū)崿F(xiàn)全彩發(fā)光,而且還能夠通過在晶片上制備較小尺寸的基體結(jié)構(gòu),在轉(zhuǎn)移工藝后使led顯示單元中的led芯片具有超小尺寸,有效地縮小led顯示單元的像素尺寸;并且,每個顯示單元均具有透明介質(zhì)層作為保護,從而使led顯示單元能夠具有更高的可靠性。

在本發(fā)明的上述全彩led顯示單元中,基板100可以是透明材料,如樹脂、聚酰亞胺、石英、玻璃、藍寶石等,也可以是不透明材料,如常用的加了顏料的玻璃纖維、聚酰亞胺、si等,其中,si導(dǎo)電,其余材料絕緣;上述基板100可以設(shè)置為柔性材料,如柔性樹脂、柔性聚酰亞胺、和柔性玻璃。透明介質(zhì)層為絕緣材料,可以選自硅膠、玻璃纖維、聚酰亞胺和樹脂等,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)對上述透明介質(zhì)層的種類進行合理選取。

上述第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13在垂直方向上的相對位置可以設(shè)置為完全重合、稍許偏差或三角排列等;并且,為了有效地實現(xiàn)全彩發(fā)光,優(yōu)選地,上述第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13分別選自紅色led芯片、綠色led芯片和藍色led芯片;更為優(yōu)選地,第一led芯片11為紅色led芯片,第二led芯片12為綠色led芯片且第三led芯片13為藍色led芯片,或第二led芯片12為藍色led芯片且第三led芯片13為綠色led芯片。即上述第二led芯片12和上述第三led芯片13的發(fā)光顏色可以相互調(diào)換位置,而由于形成紅光led芯片的材料不透明,從而通過使上述第一led芯片11為紅光led芯片能夠避免遮光。

在本發(fā)明的上述全彩led顯示單元中,優(yōu)選地,上述透明介質(zhì)層包括:第一透明介質(zhì)層101,覆蓋于基板100和第一led芯片11表面,第一透明介質(zhì)層101中具有第一連接孔123,各第二led芯片12通過第一連接孔123與ic芯片電連接;第二透明介質(zhì)層102,覆蓋于第一透明介質(zhì)層101和第二led芯片12表面,第二透明介質(zhì)層102和第一透明介質(zhì)層101中具有第二連接孔133,各第三led芯片13通過第二連接孔133與ic芯片電連接。更為優(yōu)選地,上述透明介質(zhì)層還包括第三透明介質(zhì)層103,第三透明介質(zhì)層103覆蓋于第二透明介質(zhì)層102和第三led芯片13表面。

在上述優(yōu)選的實施方式中,通過在第一透明介質(zhì)層101中形成第一連接孔123,能夠通過在第一連接孔123中填充的導(dǎo)電材料使第二led芯片12與ic芯片電連接;并且,通過在第二透明介質(zhì)層102和第一透明介質(zhì)層101中形成第二連接孔133,能夠通過在第二連接孔133中填充的導(dǎo)電材料使第三led芯片13與ic芯片電連接,相當(dāng)于將第二led芯片12和第三led芯片13的導(dǎo)電引線延伸至與第一led芯片11的導(dǎo)電引線位于的同一層中,從而簡化了ic芯片與第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13之間的電連接,使結(jié)構(gòu)更為簡單。上述導(dǎo)電材料可以是金、銅、ito、zno、焊錫、金錫合金、異方向?qū)щ娔z等,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)對上述導(dǎo)電材料進行合理選取一種或多種。

為了保證第一led芯片組、第二led芯片組和第三led芯片組的平穩(wěn)設(shè)置,優(yōu)選地,上述第一透明介質(zhì)層101、第二透明介質(zhì)層102和第三透明介質(zhì)層103的遠離基板100的一側(cè)表面為平面。上述優(yōu)選的實施方式提高了全彩led顯示單元的顯示效果和可靠性。

并且,優(yōu)選地,ic芯片位于基板100的遠離第一led芯片11的一側(cè),基板100具有第三連接孔(未在圖中示出),第一led芯片11通過第三連接孔與ic芯片電連接,第二led芯片12通過第一連接孔123和第三連接孔與ic芯片電連接,第三led芯片13通過第二連接孔133和第三連接孔與ic芯片電連接。

在上述優(yōu)選的實施方式中,通過將ic芯片設(shè)置于基板100的遠離芯片的一側(cè),并通過在基板100中形成第三連接孔,能夠通過在第三連接孔中填充的導(dǎo)電材料使第一led芯片11與ic芯片電連接,通過第一連接孔123和第三連接孔中填充的導(dǎo)電材料使第二led芯片12與ic芯片電連接,通過第二連接孔133和第三連接孔中填充的導(dǎo)電材料使第三led芯片13與ic芯片電連接,從而通過上述ic芯片同時驅(qū)動和控制第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13的發(fā)光,上述結(jié)構(gòu)不需要再外加引線將ic芯片分別與第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13連接,從而不僅結(jié)構(gòu)簡單而且集成度高。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)對上述第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13的結(jié)構(gòu)進行合理設(shè)置,上述第一led芯片11可以包括沿遠離基板100的方向順序設(shè)置的第一電極111和第一子外延層113,上述第二led芯片12包括沿遠離基板100的方向順序設(shè)置的第二電極121和第二子外延層,上述第三led芯片13包括沿遠離基板100的方向順序設(shè)置的第三電極131和第三子外延層。

本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)對上述第一電極111、第二電極121和第三電極131的種類進行合理選取,為了提高導(dǎo)電性能,優(yōu)選地,形成上述第一電極111、第二電極121和第三電極131的材料為透明導(dǎo)電材料;更為優(yōu)選地,形成上述第一電極111、第二電極121和第三電極131的材料獨立地選自ito、zno或石墨烯。

為了方便第一led芯片11與ic芯片的電連接,優(yōu)選地,上述全彩led顯示單元還包括:第一電極布線層112,設(shè)置于基板100與第一led芯片11之間,用于將第三連接孔與第一電極111電連接;為了方便第二led芯片12與ic芯片的電連接,優(yōu)選地,第二電極布線層122,設(shè)置于第一透明介質(zhì)層101與第二led芯片12之間,用于將第一連接孔123與第二電極121電連接;并且,為了方便第三led芯片13與ic芯片的電連接,第三電極布線層132,設(shè)置于第二透明介質(zhì)層102與第三led芯片13之間,用于將第二連接孔133與第三電極131電連接。

除了上述ic芯片與led芯片通過電極布線層直接電連接進行驅(qū)動的方式,在本發(fā)明的上述全彩led顯示單元中,led的驅(qū)動方式還可以為tft驅(qū)動,即在絕緣基板上表面(貼led那一面)形成tft結(jié)構(gòu),再外接ic控制。此時,全彩led顯示單元還包括tft結(jié)構(gòu)和tft電極布線層(未在圖中示出),tft結(jié)構(gòu)與tft電極布線層均設(shè)置于基板100與第一led芯片組之間,且tft電極布線層設(shè)置于tft結(jié)構(gòu)的遠離基板100的一側(cè),tft結(jié)構(gòu)、各第一led芯片11、各第二led芯片12、各第三led芯片13和ic芯片均與tft電極布線層電連接。

在本發(fā)明的上述全彩led顯示單元中,led的驅(qū)動方式還可以為cmos驅(qū)動,即在si基板上形成cmos結(jié)構(gòu),再外接ic控制。此時,基板100靠近第一led芯片組的一側(cè)表面具有cmos結(jié)構(gòu)(未在圖中示出),全彩led顯示單元還包括cmos電極布線層(未在圖中示出),cmos電極布線層設(shè)置于cmos結(jié)構(gòu)與第一led芯片組之間,且cmos結(jié)構(gòu)、各第一led芯片11、各第二led芯片12、各第三led芯片13和ic芯片均與cmos電極布線層電連接。

根據(jù)本申請的另一個方面,提供了一種上述的全彩led顯示單元的制備方法,如圖6所示,包括以下步驟:s1,將第一led芯片組設(shè)置于基板100的一側(cè),并使第一led芯片組的第一led芯片11與ic芯片電連接;s2,將第一透明介質(zhì)材料覆蓋于基板100和第一led芯片11表面并固化形成第一透明介質(zhì)層101;s3,將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層101的表面上,并使第二led芯片組的第二led芯片12與ic芯片電連接;s4,將第二透明介質(zhì)材料覆蓋于第一透明介質(zhì)層101和第二led芯片12表面并固化形成第二透明介質(zhì)層102;s5,將第三led芯片組設(shè)置于第二透明介質(zhì)層102的表面上,并使第三led芯片組的第三led芯片13與ic芯片電連接。

上述制備方法中由于通過芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,從而將具有不同發(fā)光顏色的led芯片被透明介質(zhì)層分隔而位于不同層中,進而通過三次轉(zhuǎn)移工藝即得到具有rgb三種發(fā)光顏色的led顯示單元,上述led顯示單元不僅能夠?qū)崿F(xiàn)全彩發(fā)光,而且還能夠通過在晶片上制備較小尺寸的基體結(jié)構(gòu),在轉(zhuǎn)移工藝后使led顯示單元中的led芯片具有超小尺寸,有效地縮小led顯示單元的像素尺寸;并且,每個顯示單元均具有透明介質(zhì)層作為保護,從而使led顯示單元能夠具有更高的可靠性。

下面將結(jié)合圖1至5更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明提供的全彩led顯示單元的制備方法的示例性實施方式。然而,這些示例性實施方式可以由多種不同的形式來實施,并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的實施方式。應(yīng)當(dāng)理解的是,提供這些實施方式是為了使得本申請的公開徹底且完整,并且將這些示例性實施方式的構(gòu)思充分傳達給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。

首先,執(zhí)行步驟s1:將第一led芯片組設(shè)置于基板100的一側(cè),并使第一led芯片組的第一led芯片11與ic芯片電連接。通過上述ic芯片驅(qū)動和控制第一led芯片11的發(fā)光。

在一種優(yōu)選的實施方式中,上述步驟s1包括以下過程:s11,在第一襯底200表面形成第一外延層,并在第一外延層上形成n個第一電極111,將第一外延層分隔為與各第一電極111一一對應(yīng)的n個第一子外延層113,以在第一襯底200上形成n個第一led芯片11,n為大于0的整數(shù),得到的結(jié)構(gòu)如圖7所示;s12,在基板100表面形成第一電極布線層112,并將第一led芯片11的第一電極111與第一電極布線層112粘接;s13,當(dāng)n=1時,將第一襯底200剝離,以將第一led芯片組設(shè)置于基板100的一側(cè),或當(dāng)n>1時,將第一襯底200和m層第一子外延層113剝離,以將第一led芯片組設(shè)置于基板100的一側(cè),0≤m<n,得到的結(jié)構(gòu)如圖8所示。

在上述優(yōu)選的實施方式中,采用芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,從而通過一次轉(zhuǎn)移工藝即能夠?qū)⒕哂邢嗤l(fā)光顏色的led芯片設(shè)置于同一層中,進而簡化了全彩led顯示單元的制備工藝。為了更為有效地實現(xiàn)第一襯底200的剝離,優(yōu)選地,上述剝離工藝為激光剝離。

上述第一子外延層113之間的間距可設(shè)置為與顯示屏像素間距相等,或者設(shè)置為顯示屏像素間距的約數(shù)。若上述第一子外延層113之間的間距和led顯示屏像素間距相同,則可直接剝離整個第一襯底200,使第一led芯片11固定于基板100上表面,該過程可重復(fù),以使第一led芯片11鋪滿整個基板100;若上述第一子外延層113之間的間距為led顯示屏像素間距的約數(shù),則應(yīng)將第一led芯片11從第一襯底200表面間隔地(間隔距離=顯示屏像素間距)剝離,因而剝離掉的第一襯底200上仍留有l(wèi)ed,以重復(fù)該過程,直至第一襯底200上無第一led芯片11且整個基板100鋪滿第一led芯片11。

在執(zhí)行完步驟s1之后,執(zhí)行步驟s2:將第一透明介質(zhì)材料覆蓋于基板100和第一led芯片11表面并固化形成第一透明介質(zhì)層101,得到的結(jié)構(gòu)如圖9所示。上述第一透明介質(zhì)層101用于將第一led芯片11與其它顏色的led芯片組分隔在不同層中。

在執(zhí)行完步驟s2之后,執(zhí)行步驟s3:將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層101的表面上,并使第二led芯片組的第二led芯片12與ic芯片電連接。上述ic芯片還能夠驅(qū)動和控制第二led芯片組發(fā)光。

在一種優(yōu)選的實施方式中,上述步驟s3包括以下過程:s31,在第二襯底表面形成第二外延層,并在第二外延層上形成n個第二電極121,將第二外延層分隔為與各第二電極121一一對應(yīng)的n個第二子外延層,以在第二襯底上得到n個第二led芯片12形成的第二led芯片組,n為大于0的整數(shù);s32,在第一透明介質(zhì)層101表面形成第二電極布線層122,并將第二led芯片12的第二電極121與第二電極布線層122粘接;s33,當(dāng)n=1時,將第二襯底剝離,以將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面上,或當(dāng)n>1時,將第二襯底和m層第二子外延層剝離,以將第二led芯片組設(shè)置于第一透明介質(zhì)層的表面上,0≤m<n。同樣地,上述第二子外延層之間的間距也可設(shè)置為與顯示屏像素間距相等,或者設(shè)置為顯示屏像素間距的約數(shù)。

在上述優(yōu)選的實施方式中,進一步采用芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,從而通過第二次轉(zhuǎn)移工藝將另一發(fā)光顏色的led芯片設(shè)置于同一層中,進而簡化了全彩led顯示單元的制備工藝。為了更為有效地實現(xiàn)第二襯底的剝離,優(yōu)選地,上述剝離工藝為激光剝離。

在上述步驟s2之后,上述制備方法還可以包括以下步驟:在第一透明介質(zhì)層101中形成第一連接孔123,此時,在上述步驟s3中,使各第二led芯片12通過第一連接孔123與ic芯片電連接,得到的結(jié)構(gòu)如圖10所示。通過在第一透明介質(zhì)層101中形成第一連接孔123,能夠通過在第一連接孔123中填充的導(dǎo)電材料使第二led芯片12與ic芯片電連接。

在執(zhí)行完步驟s3之后,執(zhí)行步驟s4:將第二透明介質(zhì)材料覆蓋于第一透明介質(zhì)層101和第二led芯片12表面并固化形成第二透明介質(zhì)層102,得到的結(jié)構(gòu)如圖11所示。上述第二透明介質(zhì)層102用于將第二led芯片12與其它顏色的led芯片組分隔在不同層中。

在執(zhí)行完步驟s4之后,執(zhí)行步驟s5:將第三led芯片組設(shè)置于第二透明介質(zhì)層102的表面上,并使第三led芯片組的第三led芯片13與ic芯片電連接。通過上述ic芯片以驅(qū)動和控制第三led芯片13的發(fā)光。

在一種優(yōu)選的實施方式中,上述步驟s5包括以下過程:s51,在第三襯底表面形成第三外延層,并在第三外延層上形成n個第三電極131,將第三外延層分隔為與各第三電極131一一對應(yīng)的n層第三子外延層,以在第三襯底上形成n個第三基體結(jié)構(gòu),n為大于0的整數(shù);s52,在第二透明介質(zhì)層102表面形成第三電極布線層132,并將第三基體結(jié)構(gòu)的具有第三電極131的一側(cè)與第三電極布線層132粘接;s53,當(dāng)n=1時,將第三襯底從第三電極布線層132表面剝離,以得到第二led芯片12,或當(dāng)n>1時,將第三襯底和m層第三子外延層從第三電極布線層132表面剝離,以得到第三led芯片13,0≤m<n。同樣地,上述第三子外延層之間的間距也可設(shè)置為與顯示屏像素間距相等,或者設(shè)置為顯示屏像素間距的約數(shù)。

在上述優(yōu)選的實施方式中,進一步采用芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,從而通過第三次轉(zhuǎn)移工藝將另一發(fā)光顏色的led芯片設(shè)置于同一層中,通過三次轉(zhuǎn)移工藝即得到具有rgb三種發(fā)光顏色的led顯示單元,進而簡化了全彩led顯示單元的制備工藝。為了更為有效地實現(xiàn)第三襯底的剝離,優(yōu)選地,上述剝離工藝為激光剝離。

在步驟s4之后,上述制備方法還可以包括以下步驟:在第一透明介質(zhì)層101和第二透明介質(zhì)層102中形成第二連接孔133,此時,在上述步驟s5中,使各第三led芯片13通過第二連接孔133與ic芯片電連接,得到的結(jié)構(gòu)如圖12所示。通過在第二透明介質(zhì)層102和第一透明介質(zhì)層101中形成第二連接孔133,能夠通過在第二連接孔133中填充的導(dǎo)電材料使第三led芯片13與ic芯片電連接。

在上述步驟s5之后,優(yōu)選地,上述制備方法還包括以下步驟:s6,將第三透明介質(zhì)材料覆蓋于第二透明介質(zhì)層102和第三led芯片13的表面并固化形成第三透明介質(zhì)層103,得到的結(jié)構(gòu)如圖13所示。上述第三透明介質(zhì)層103用于將第三led芯片13進行密封,以提高第三led芯片13的可靠性。

上述第一透明介質(zhì)層101、第二透明介質(zhì)層102和第三透明介質(zhì)層103的材料可以為現(xiàn)有技術(shù)中常用的透明絕緣材料,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)對上述透明介質(zhì)層的材料進行合理選??;并且,可以采用平坦化工藝使第一透明介質(zhì)層101、第二透明介質(zhì)層102和第三透明介質(zhì)層103具有平坦表面,以保證各透明介質(zhì)層表面上第一led芯片11、第二led芯片12和第三led芯片13的平穩(wěn)設(shè)置。

下面將結(jié)合實施例進一步說明本申請?zhí)峁┑娜蔿ed顯示單元及其制備方法。

實施例1

首先,設(shè)計并加工基板100,使下表面具有必要的金屬布線層,且內(nèi)部具有必要的電氣連接線,這些連接線和布線層將用于聯(lián)通led芯片和下表面的ic芯片。

采用led制備工藝,分別在不同的晶圓襯底上制備正負(fù)電極在同一側(cè)的紅色led芯片、綠色led芯片和藍色led芯片,以得到紅光led晶圓結(jié)構(gòu)、綠光led晶圓結(jié)構(gòu)和藍光led晶圓結(jié)構(gòu)。其中,紅色led芯片的制備工藝包括:在晶圓的第一襯底200表面形成第一子外延層113,并在第一子外延層113表面形成第一電極111,采用刻蝕或腐蝕等工藝分立各個led芯片,從而得到具有的第一led芯片11的尚未解理的紅光led晶圓結(jié)構(gòu),上述第一led芯片11為紅色led芯片,如圖6所示。

如圖7所示,在基板100上設(shè)置第一電極布線層112,將紅光led晶圓結(jié)構(gòu)與第一電極布線層112粘接;若紅色led芯片的間距與led顯示屏像素間距相同,則可直接剝離整個第一襯底200,使紅光led芯片固定于基板100上表面,該過程可重復(fù),以使紅色led芯片鋪滿整個基板100;若紅色led芯片的間距為led顯示屏像素間距的約數(shù),則應(yīng)間隔地(間隔距離=顯示屏像素間距)剝離紅光led芯片,因而剝離掉的第一襯底200上仍留有紅光led芯片,以重復(fù)該過程,直至第一襯底200上無紅光led芯片且整個基板100鋪滿紅光led芯片。

如圖8所示,在第一led芯片11上覆蓋一層透明介質(zhì)材料并進行固化,得到第一透明介質(zhì)層101,使其具有平坦的表面。

如圖9所示,在第一透明介質(zhì)層101內(nèi)形成第一連接孔123,貫通至基板100,并設(shè)置第二電極布線層122,然后將綠光led晶圓結(jié)構(gòu)與第二電極布線層122粘接;若綠色led芯片(即第二led芯片12)的間距和led顯示屏像素間距相同,則可直接剝離整個襯底,使綠光led芯片固定于第一透明介質(zhì)層101上表面,該過程可重復(fù),以使綠光led芯片鋪滿整個上表面;若綠色led芯片的間距為led顯示屏像素間距的約數(shù),則應(yīng)間隔地(間隔距離=顯示屏像素間距)剝離綠色led芯片,因而剝離掉的襯底上上仍留有綠色led芯片,以重復(fù)該過程,直至襯底上無綠色led芯片且整個第一透明介質(zhì)層101的上表面鋪滿綠色led芯片。

如圖10所示,在第二led芯片12上覆蓋一層透明介質(zhì)材料并進行固化,得到第二透明介質(zhì)層102,使其具有平坦的表面。

如圖11所示,在第一透明介質(zhì)層101和第二透明介質(zhì)層102內(nèi)形成第二連接孔133,貫通至基板100,并設(shè)置第三電極布線層132,然后將藍光led晶圓結(jié)構(gòu)與第三電極布線層132粘接;若藍色led芯片(即第三led芯片13)的間距和led顯示屏像素間距相同,則可直接剝離整個襯底,使藍光led芯片固定于第二透明介質(zhì)層102上表面,該過程可重復(fù),以使藍光led芯片鋪滿整個上表面。若藍光led芯片的間距為led顯示屏像素間距的約數(shù),則應(yīng)間隔地(間隔距離=顯示屏像素間距)剝離藍光led芯片,因而剝離掉的襯底上仍留有藍光led芯片,以重復(fù)該過程,直至襯底上無藍光led芯片且整個第二透明介質(zhì)層102的上表面鋪滿藍光led芯片。

如圖11所示,在第三led芯片13上覆蓋一層透明介質(zhì)材料并進行固化,得到第三透明介質(zhì)層103,使其具有平坦的表面。

從以上的描述中,可以看出,本發(fā)明上述的實施例實現(xiàn)了如下技術(shù)效果:具有不同發(fā)光顏色的led芯片被透明介質(zhì)層分隔而位于不同層中,從而能夠通過芯片轉(zhuǎn)移技術(shù)將同一晶片上的芯片結(jié)構(gòu)同時進行轉(zhuǎn)移,進而通過三次轉(zhuǎn)移工藝即得到具有rgb三種發(fā)光顏色的led顯示單元,上述led顯示單元不僅能夠?qū)崿F(xiàn)全彩發(fā)光,而且還能夠通過在晶片上制備較小尺寸的基體結(jié)構(gòu),在轉(zhuǎn)移工藝后使led顯示單元中的led芯片具有超小尺寸,有效地縮小led顯示單元的像素尺寸;并且,每個顯示單元均具有透明介質(zhì)層作為保護,從而使led顯示單元能夠具有更高的可靠性。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

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