相關申請的交叉引用

本申請要求2015年1月12日提交的美國臨時專利申請no.62/102,534的優(yōu)先權(quán)，該美國臨時專利申請的內(nèi)容特此通過引用而全文并入。

本發(fā)明總體上涉及顯示技術，尤其涉及像素區(qū)塊(pixeltile)結(jié)構(gòu)和布局。

背景技術：

設計制造具有高空間分辨率、廣色域和高亮度范圍的大尺寸顯示面板一直被許多顯示器制造商公認為是困難的嘗試。因為涉及相對較多的相對昂貴的光學、音頻、電子和機械組件，并且將它們?nèi)技稍趩蝹€顯示系統(tǒng)的許多像素中是復雜的，所以制造高端顯示系統(tǒng)的成本通常非常高。

在制造尺寸相對大的顯示面板時可能引入各種類型的可見偽像。例如，當將像素放置到單塊大尺寸顯示面板上、尤其是顯示面板的邊緣區(qū)域中時，空間誤差可能容易發(fā)生?？商娲兀叽缦鄬^大的顯示面板可以通過組合多個相對較小的區(qū)塊而制成。然而，顯示面板中的分隔相鄰區(qū)塊的邊界處的小的錯位在視覺上可能表現(xiàn)得尤其明顯。

本節(jié)中所描述的方法是可以實行的方法，但不一定是以前已經(jīng)設想過的或?qū)嵭羞^的方法。因此，除非另有指示，否則不應僅由于本節(jié)中所描述的任何方法被包括在本節(jié)中就假定該方法為現(xiàn)有技術。類似地，關于一種或多種方法被識別的問題不應基于本節(jié)而被假定為已經(jīng)在任何現(xiàn)有技術中被認識到，除非另有指示。

附圖說明

本發(fā)明在附圖的各圖中被以舉例的方式、而非限制的方式例示說明，在附圖中，相似的標號指代類似的元件，其中：

圖1a例示說明示例圖像渲染表面；

圖1b例示說明示例子像素級錯位、像素級錯位以及像素區(qū)塊級錯位；

圖2例示說明示例區(qū)塊放置系統(tǒng)；

圖3a和圖3b例示說明圖像渲染表面的像素區(qū)塊中的像素級隨機移位；

圖4a至圖4d例示說明圖像渲染表面的像素區(qū)塊中的子像素級隨機移位；

圖5a至圖5e例示說明用于創(chuàng)建圖像渲染表面的各種類型的像素區(qū)塊；圖5f至圖5j例示說明使用流控自裝配技術的像素或子像素的隨機移位；

圖6例示說明示例過程流程；

圖7例示說明根據(jù)本發(fā)明的可能的實施例的在其上可以實現(xiàn)如本文中所描述的計算機或計算裝置的示例硬件平臺；以及

圖8例示說明示例顯示系統(tǒng)。

具體實施方式

本文中描述了與像素區(qū)塊結(jié)構(gòu)和布局相關的示例的可能的實施例。在以下描述中，為了解釋的目的，闡述了許多特定細節(jié)，以便提供本發(fā)明的透徹理解。然而，將顯而易見的是，在沒有這些特定細節(jié)的情況下仍可實施本發(fā)明。在其他情況下，不對眾所周知的結(jié)構(gòu)和裝置進行詳盡描述，以便避免不必要地遮蔽、模糊或混淆本發(fā)明。

在本文中根據(jù)以下大綱來描述示例實施例：

1.總體概述

2.結(jié)構(gòu)概述

3.示例區(qū)塊放置系統(tǒng)

4.視覺特性的像素級變化

5.視覺特性的子像素級變化

6.不同類型的圖像渲染表面

7.使用流控自裝配的隨機移位

8.示例顯示系統(tǒng)

9.示例過程流程

10.實現(xiàn)機制——硬件概述

11.等同、擴展、替代及其他

1.總體概述

本概述呈現(xiàn)了本發(fā)明的可能的實施例的一些方面的基本描述。應注意到，本概述不是可能的實施例的各方面的廣泛的或詳盡的總結(jié)。而且，應注意到，本概述不應被理解為標識可能的實施例的任何特別重要的方面或元件，也不應被理解為具體地描繪可能的實施例的任何范圍，也不應被理解為概括地描繪本發(fā)明。本概述僅以扼要簡化的格式呈現(xiàn)與示例的可能的實施例相關的一些構(gòu)思，并且應被理解為僅僅是下文對示例的可能的實施例的更詳細描述的概念性序言。

為了避免創(chuàng)建單塊大尺寸圖像渲染表面(例如，小于5英尺、5英尺、7英尺、10英尺、劇院大小、影院大小、戶外廣告大小等)時的高成本和技術難題，可以通過組合多個像素區(qū)塊來創(chuàng)建大尺寸圖像渲染表面。

然而，當區(qū)塊中的像素按規(guī)則圖案(比如矩陣圖案、對角圖案、同心圖案等)布置時，在區(qū)塊邊界處，相鄰區(qū)塊之間的放置偏差、甚至亞微米錯位都可能是人類視覺系統(tǒng)可感知的。如本文中所描述的規(guī)則圖案可以是指通過恒定步幅的重復而形成的圖案、或通過加上或減去與在放置和組合像素區(qū)塊時發(fā)生的空間錯位相比較小的空間變化(例如，1％、2％等)的恒定步幅的重復而形成的圖案。

根據(jù)如本文中所描述的技術，可以測量由區(qū)塊放置模塊引起的空間誤差或錯位。這些空間誤差可以被分析并且被用于為有意引入的像素或子像素隨機放置而設置總移位容限(displacementtolerance)。像素級或子像素級的隨機移位被添加(inject)到被裝配到圖像渲染表面中的多個像素區(qū)塊中的每個像素區(qū)塊中。這些隨機移位可以要么是各向同性的，要么是各向異性的，只要它們避免或基本上移除相鄰像素區(qū)塊中的錯位的視覺可感知性即可。

像素級或子像素級的多種隨機移位可以被如本文中所描述的技術所用。在例子中，如本文中所描述的隨機移位可以通過將像素放置在與形成規(guī)則圖案的像素的被分配位置有隨機化的空間距離和/或成隨機化的空間角度的位置上來實現(xiàn)。在另一個例子中，如本文中所描述的隨機移位可以通過將子像素放置在與形成規(guī)則圖案的子像素的被分配位置有隨機化的空間距離和/或成隨機化的空間角度的位置上來實現(xiàn)。在進一步的例子中，如本文中所描述的隨機移位可以通過在像素級和子像素級兩者上組合隨機化移位來實現(xiàn)。

附加地、可選地或可替代地，如本文中所描述的隨機移位可以通過(例如，隨機地、偽隨機地、等等)改變像素密度、像素之間和/或子像素之間的間隔、像素高度、像素寬度、像素直徑、像素間距、子像素高度、子像素寬度、子像素直徑、子像素間距、在像素中布置有色子像素的空間次序等來實現(xiàn)。

結(jié)果，根據(jù)如本文中所描述的技術，不會跨分隔圖像渲染表面中的像素區(qū)塊的邊界發(fā)生規(guī)則像素或子像素圖案的視覺上明顯的破裂。

多種的顯示技術、放置技術等可以得益于如本文中所描述的技術。如本文中所描述的圖像渲染表面可以通過以下技術中的一種或多種來創(chuàng)建：基于掩模的技術、基于印刷的技術(包括但不限于3d印刷技術)、基于沉積的技術、基于半導體晶圓的技術、基于機器人臂的技術、基于隔膜的技術、基于激光的技術、基于納米管的技術、流控自裝配(fsa)技術、卷對卷或網(wǎng)處理技術等。

在一些實施例中，為了避免或減小圖像渲染表面中的視覺偽像的目的，可以測量并且分析通過這些技術放置像素區(qū)塊時的準確度、誤差等，以產(chǎn)生用于在像素塊級、像素級、子像素級等上控制并且添加隨機移位的總移位容限。像素區(qū)塊可被以相對較小的尺寸(比如2英寸、5英寸、12英寸、24英寸等)、以相對較低的成本創(chuàng)建。這些像素區(qū)塊(可以是或者可以不是各種不同的形狀)可以用于也以相對較低的成本構(gòu)造尺寸大得多(例如，5英尺、7英尺、10英尺、劇院大小、影院大小、戶外廣告大小等)的圖像渲染表面。根據(jù)如本文中所描述的像素區(qū)塊放置技術，像素區(qū)塊的不大于像素大小或子像素大小的很小一部分的精度水平的準確對齊不是必要的。

附加地、可選地或可替代地，這些技術也可以與用于創(chuàng)建圖像渲染表面的多種基板、材料等(比如有色顏料、含磷材料、量子點、發(fā)光二極管(led)、有機發(fā)光二極管(oled)、納米管或納米線led、玻璃、半導體晶圓、金屬、透明導電膜、樹脂、帆布、光學膜、光導、基板上的不規(guī)則凹陷、將被沉積到基板上的不規(guī)則凹陷中的成形組件、柔性基板(比如聚對苯二甲酸乙二醇酯或pet卷)、熱塑性聚合物樹脂等)一起工作。

在一些實施例中，一種方法包括提供如本文中所描述的顯示系統(tǒng)。在一些可能的實施例中，如本文中所描述的機制形成系統(tǒng)的一部分，所述系統(tǒng)包括，但不限于，工廠制造系統(tǒng)、放置機器、顯示系統(tǒng)、戶外圖像顯示器、手持裝置、游戲機、電視機、膝上型計算機、上網(wǎng)本計算機、蜂窩無線電電話、電子書閱讀器、銷售點終端、臺式計算機、計算機工作站、計算機亭、pda以及各種其他種類的終端和顯示單元。

對于本文中所描述的優(yōu)選實施例以及一般原理和特征的各種修改對于本領域技術人員將是顯而易見的。因此，本公開并不意圖限于所示的實施例，而是要被給予與本文中所描述的原理和特征一致的最廣泛的范圍。

2.結(jié)構(gòu)概述

圖1a例示說明示例圖像渲染表面100。如本文中所描述的圖像渲染表面可以包括兩個或更多個像素區(qū)塊。為了例示說明的目的，如圖1a所示，圖像渲染表面(100)包括兩個像素區(qū)塊102-1和102-2。如本文中所描述的像素區(qū)塊(例如，102-1、102-2等)可以是多種幾何形狀中的任何一種，比如矩形形狀、三角形形狀、橢圓形形狀、多邊形形狀等。在一些實施例中，如本文中所描述的圖像渲染表面(例如，100)可以包括幾何形狀相同的像素區(qū)塊。在一些實施例中，如本文中所描述的圖像渲染表面(例如，100)可以包括至少兩種不同幾何形狀的像素區(qū)塊。

在一些實施例中，如圖1a所示，像素區(qū)塊(例如，102-1、102-2等)包括成幾何形狀的按二維陣列布置的相應的多個像素。例如，像素區(qū)塊(102-1)包括第一多個像素，比如104-1-1、104-1-2等，而像素區(qū)塊(102-2)包括第二多個像素，比如104-2-1、104-2-2等。

在一些實施例中，如本文中所描述的像素(例如，104-1-1、104-1-2、104-2-1、104-2-2等)可以包括不同類型的三個或更多個子像素，比如在圖1a中分別被表示為“r”、“g”和“b”的紅色、綠色和藍色子像素。表示像素(例如，104-1-1、104-1-2、104-2-1、104-2-2等)的子像素(例如，“r”、“g”、“b”等)可以被布置為單個小點或單個點、按線性或非線性圖案布置的多個小點或多個點、等等。

以單塊的方式創(chuàng)建大尺寸圖像渲染表面是困難的。在其中通過用陰影掩模(例如，包括填充或沉積有色顏料的分區(qū)的金屬陰影掩模等等)填充有色顏料來創(chuàng)建子像素中的濾色器的顯示面板中，用于大型顯示面板的單個陰影掩模對于背板、相鄰層、結(jié)構(gòu)、基板等來說可能太重太大，以至于不能提供均勻的機械支撐、防止結(jié)構(gòu)翹曲等。在子像素是由機器人臂定位的單獨有色發(fā)光二極管(led)或單獨(有色)有機發(fā)光二極管(oled)的顯示面板中，可能在有限區(qū)域(例如，半徑為12英寸的區(qū)域、等等)外部發(fā)生相對較大的移動誤差、位置誤差等。在通過在涂布在圖像渲染表面上的含磷材料、量子點等上掃描具有調(diào)制強度的激光或電子束而產(chǎn)生的圖像渲染表面中，可能在有限區(qū)域(在該區(qū)域中，光路或電子束路徑相對較短)外部發(fā)生相對較大的點擴散函數(shù)相關的誤差、位置誤差等。

在一些實施例中，圖像渲染表面可以由組合多個像素區(qū)塊(例如，102-1和102-2等)的像素區(qū)塊級放置模塊創(chuàng)建或形成，其中每個像素區(qū)塊可以由子區(qū)塊放置模塊相對精確地創(chuàng)建。

子區(qū)塊放置模塊是指將各個像素或子像素放在它們在像素區(qū)塊內(nèi)的被分配位置處的物理模塊或機構(gòu)。子區(qū)塊放置模塊的例子可以包括，但不僅限于，以下中的任何一個：具有將組件移動并且放置到像素區(qū)塊中的機器人臂的放置機器；具有反射鏡和準直器的激光器，這些反射鏡和準直器產(chǎn)生具有調(diào)制強度的光并且將該光引導到被涂布光轉(zhuǎn)換材料(比如含磷材料、量子點等)的像素區(qū)塊上；拾取、移動并且放置組件到像素區(qū)塊中的具有帶電隔膜的放置機器；在其上生長特定直徑的納米管以產(chǎn)生特定強度(例如，經(jīng)由脈寬調(diào)制或pwm等)的、各種波長(例如，對應于紅色、綠色、藍色等)的光的表面；將成形組件分布或傳送到基板(其可以被單顆化、切割或分割為像素區(qū)塊、顯示面板等)上的不規(guī)則凹陷中的流控自裝配過程；等等。

像素區(qū)塊放置模塊是指將各個像素區(qū)塊放在它們在圖像渲染表面內(nèi)的被分配位置處的物理模塊或機構(gòu)。像素區(qū)塊放置模塊的例子可以包括，但不僅限于，以下中的任何一個：具有移動像素區(qū)塊并且將像素區(qū)塊放置到圖像渲染中的機器人臂的放置機器；具有多個激光器的激光控制背板，其中每個激光器與反射鏡和準直器一起操作以產(chǎn)生具有調(diào)制強度的光并且將該光引導到被涂布光轉(zhuǎn)換材料(比如含磷材料、量子點等)的相應的像素區(qū)塊上；等等。

將像素區(qū)塊組合到圖像渲染表面中可能在接合相鄰像素區(qū)塊的邊界(例如，圖1a的108等)處引起稍微的錯位。雖然相鄰像素區(qū)塊之間的錯位(例如，0.5微米等)與像素大小(例如，50微米等)、像素區(qū)塊大小(例如，10英寸等)相比可能小，但是人類視覺系統(tǒng)仍相對容易地注意到規(guī)則圖案中的這樣的不規(guī)則。

圖1b例示說明示例像素區(qū)塊級錯位110。如所示，像素區(qū)塊級錯位(110)可能是由相鄰像素區(qū)塊(例如，102-1和102-2等)跨邊界(例如，108等)錯位而引起的。在一些實施例中，像素區(qū)塊級錯位(110)可以作為位于不同像素區(qū)塊(例如，102-1和102-2等)中的像素行之間的差值被測量。根據(jù)本發(fā)明的一個或多個實施例，可以通過像素區(qū)塊(例如，102-1等)內(nèi)的像素的位置引入像素級錯位(112)以減輕像素區(qū)塊級錯位110的感知。在一些實施例中，像素級錯位(112)可以作為像素的實際位置和該像素在像素區(qū)塊(例如，102-1等)內(nèi)的被分配位置之間的差值被測量。根據(jù)本發(fā)明的一個或多個可替代實施例，可以通過像素內(nèi)的子像素的位置引入子像素級錯位(114)以減輕像素區(qū)塊級錯位110的感知。在一些實施例中，子像素區(qū)塊級錯位(114)可以作為子像素的實際位置和該子像素在像素內(nèi)的被分配位置之間的差值被測量。

3.示例區(qū)塊放置系統(tǒng)

圖2例示說明示例區(qū)塊放置系統(tǒng)200，其被配置為創(chuàng)建來自于像素區(qū)塊之間的錯位的視覺偽像沒有或僅很小的圖像渲染表面。在一些實施例中，區(qū)塊放置系統(tǒng)(200)包括放置控制器202、子區(qū)塊放置模塊204、區(qū)塊放置模塊206等，放置控制器202被配置為執(zhí)行用于創(chuàng)建圖像渲染表面的目的的總體控制操作，子區(qū)塊放置模塊204被配置為在所述圖像渲染表面中的每個像素區(qū)塊內(nèi)執(zhí)行像素級或子像素級放置操作，區(qū)塊放置模塊206被配置為在所述圖像渲染表面內(nèi)執(zhí)行區(qū)塊級放置操作。

在一些實施例中，子區(qū)塊放置模塊(204)可以僅表示被配置為執(zhí)行像素級放置操作(例如，對于預制像素、對于單色像素等)的像素放置模塊。

在一些實施例中，子區(qū)塊放置模塊(204)可以僅表示被配置為執(zhí)行子像素級放置操作(例如，像素區(qū)塊內(nèi)的像素位置在子像素被放置到像素區(qū)塊中時被自動地設置，等等)的子像素放置模塊。

在一些實施例中，子區(qū)塊放置模塊(204)可以表示被配置為執(zhí)行像素級放置操作和子像素級放置操作的組合子區(qū)塊放置模塊。

在一些實施例中，子區(qū)塊放置模塊(204)可以包括相互分開的像素級放置子模塊和子像素級放置子模塊。

放置控制器(202)可以被配置為確定可能是由區(qū)塊放置模塊(206)執(zhí)行的像素區(qū)塊放置操作引起的像素區(qū)塊級錯位(例如，110等)的組值。組值的例子可以包括，但不僅限于，在像素區(qū)塊放置操作中產(chǎn)生的多個像素區(qū)塊級錯位(例如，110等)之中的以下值中的任何一個：最大值、平均值、中值、模式值、靜態(tài)值等。

附加地、可選地或可替代地，放置控制器(202)可以被配置為確定可能是由子區(qū)塊放置模塊(204)執(zhí)行的像素放置操作引起的像素級錯位(例如，112等)的組值。組值的例子可以包括，但不僅限于，在像素放置操作中產(chǎn)生的多個像素級錯位(例如，112等)之中的以下值中的任何一個：最大值、平均值、中值、模式值、靜態(tài)值等。

附加地、可選地或可替代地，放置控制器(202)可以被配置為確定可能是由子區(qū)塊放置模塊(206)執(zhí)行的子像素放置操作引起的子像素級錯位(例如，114等)的組值。組值的例子可以包括，但不僅限于，在子像素放置操作中產(chǎn)生的多個子像素級錯位(例如，114等)之中的以下值中的任何一個：最大值、平均值、中值、模式值、靜態(tài)值等。

放置控制器(202)可以被配置為使用像素區(qū)塊級錯位、像素級錯位、子像素級錯位等的組值中的一個或多個來確定用于創(chuàng)建圖像渲染表面的總移位容限。在一些實施例中，放置控制器(202)將總移位容限設置為像素區(qū)塊級錯位、像素級錯位、子像素級錯位等的組值中的所述一個或多個中的特定一個(例如，像素區(qū)塊級錯位的組值等)。在一些實施例中，放置控制器(202)將總移位容限設置為像素區(qū)塊級錯位、像素級錯位、子像素級錯位等的組值中的所述一個或多個之中的最大值。

基于總移位容限，放置控制器(202)被配置為控制子區(qū)塊放置模塊(204)，以對于將被組合到圖像渲染表面中的每個像素區(qū)塊中的像素或子像素添加隨機移位。放置控制器(202)被進一步配置為控制像素區(qū)塊級放置模塊(206)將如下這樣的像素區(qū)塊組合到圖像渲染表面中，關于每個像素區(qū)塊，已經(jīng)對于像素或子像素添加了隨機移位。

如本文中所描述的技術可以支持基于用于圖像渲染表面的多個像素區(qū)塊的總移位容限來對于像素區(qū)塊中的像素或子像素添加隨機移位的多種方式。

4.視覺特性的像素級變化

圖3a例示說明像素區(qū)塊(302)中的像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)的不均勻的、不齊的或隨機的移位(例如，312-1、312-2、312-3、312-4等)。在一些實施例中，像素區(qū)塊(302)中的像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)可以對應于相應的被分配位置(例如，306-1、306-2、306-3、306-4等)。在非限制性實施例中，被分配位置可以用沿著x軸和y軸的一對坐標值表示。如本文中所描述的像素區(qū)塊中的像素的被分配位置可以形成或者可以不形成規(guī)則圖案，比如矩陣、對角線、多邊形、圓形等。關于相應的被分配位置(例如，306-1、306-2、306-3、306-4等)的移位(例如，312-1、312-2、312-3、312-4等)可以由區(qū)塊放置系統(tǒng)(例如，圖2的200等)中的子區(qū)塊放置模塊(例如，圖2的204等)產(chǎn)生。像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)的移位(例如，312-1、312-2、312-3、312-4等)可以相對于像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)的相應的被分配位置(例如，306-1、306-2、306-3、306-4等)被測量。

圖3b例示說明包括兩個像素區(qū)塊302-1和302-1的示例圖像渲染表面300，其中每個像素區(qū)塊是通過像素區(qū)塊(302-1和302-2)中的每一個中的像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)的不均勻的、不齊的或隨機的移位(例如，312-1、312-2、312-3、312-4等)而創(chuàng)建的。如圖所示，雖然像素區(qū)塊(302-1和302-2)被沿著邊界308錯位放置，但是由組合像素區(qū)塊(302-1和302-2)而得到的圖像渲染表面(300)中的像素(例如，304-1、304-2、304-3、304-4等)形成的圖案沒有或只有很小的來自于像素區(qū)塊之間的錯位的(或與像素區(qū)塊之間的錯位有關的)視覺偽像。

5.視覺特性的子像素級變化

圖4a例示說明像素區(qū)塊(402)中的子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)的不均勻的、不齊的或隨機的移位(例如，412-1、412-2、412-3、412-4等)。如圖所示，子像素區(qū)塊(402)中的子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)可以屬于像素區(qū)塊(402)中的不同像素(例如，404-1、404-2、404-3、404-4等)。子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)對應于相應的被分配位置(例如，406-1、406-2、406-3、406-4等)。在非限制性實施例中，被分配位置可以用沿著x軸和y軸的一對坐標值表示。如本文中所描述的子像素區(qū)塊中的子像素的被分配位置可以形成或者可以不形成規(guī)則圖案，比如矩陣、對角線、多邊形、圓形等。關于相應的被分配位置(例如，406-1、406-2、406-3、406-4等)的移位(例如，412-1、412-2、412-3、412-4等)可以由子區(qū)塊放置系統(tǒng)(例如，圖2的200等)中的子像素級或子像素放置模塊(例如，圖2的204等)產(chǎn)生。子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)的隨機移位(例如，412-1、412-2、412-3、412-4等)可以相對于子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)的相應的被分配位置(例如，406-1、406-2、406-3、406-4等)被測量。

圖4b例示說明包括兩個像素區(qū)塊402-1和402-2的示例圖像渲染表面400，其中每個像素區(qū)塊是通過像素區(qū)塊(402-1和402-2)中的每一個中的子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)的不均勻的、不齊的或隨機的移位(例如，412-1、412-2、412-3、412-4等)而創(chuàng)建的。如所示，雖然像素區(qū)塊(402-1和402-2)被沿著邊界412錯位放置，但是由組合像素區(qū)塊(402-1和402-2)而得到的圖像渲染表面(400)中的子像素(例如，410-1、410-2、410-3、410-4等)形成的圖案沒有或只有很小的來自于像素區(qū)塊之間的錯位的(或與像素區(qū)塊之間的錯位有關的)視覺偽像。

如本文中所描述的像素或子像素的不均勻的、不齊的或隨機的移位(例如，關于像素和子像素的相應的被分配位置等)可以實現(xiàn)為多種不均勻空間位置布置中的任何一個。例如，隨機移位可以被限制低于最大移位閾值，比如像素大小(例如，像素高度、像素寬度、像素直徑等)、子像素大小(例如，子像素高度、子像素寬度、子像素直徑等)的0.5％、1％、2％、5％等。附加地、可選地或可替代地，隨機移位可以被限制低于與像素區(qū)塊、圖像渲染表面的一個或多個空間大小、像素數(shù)量、子像素數(shù)量等相關地確定的最大移位閾值。

在一些實施例中，如本文中所描述的隨機移位在圖像渲染表面內(nèi)可以是各向同性的。隨機移位的幅度的概率分布在圖像渲染表面中可以是無方向性的，或者在一些或所有的空間方向上是相同的或類似的。具有各向同性隨機移位的像素區(qū)塊可以用于沿著任何輪廓、方位、方向等的多種邊界相互接合。

在一些實施例中，如本文中所描述的隨機移位在圖像渲染表面內(nèi)可以是各向異性的。隨機移位的幅度的概率分布在圖像渲染表面中可以是有方向性的，包括定向瓣，或者有利于一個或多個特定的空間方向。具有各向異性隨機移位的像素區(qū)塊可以用于沿著一個或多個特定輪廓、方位、方向等的一個或多個特定邊界相互接合。例如，可以沿著y軸對通過沿著y軸的邊界接合的像素區(qū)塊實現(xiàn)隨機移位；結(jié)果，沿著y軸的錯位被改善或避免。

如本文中所描述的隨機移位可以是，但不僅限于，真隨機的移位。在一些實施例中，隨機移位包括偽隨機移位、定向移位等，只要這些移位避免在組合多個像素區(qū)塊的圖像渲染表面中形成具有視覺偽像的圖案即可。在一些實施例中，如本文中所描述的像素區(qū)塊可以實現(xiàn)多于一種類型的(例如，真隨機的、偽隨機的、定向的、等等)移位、多于一種類型的移位概率分布等。在一些實施例中，實現(xiàn)如本文中所描述的隨機移位的一個或多個像素區(qū)塊可以與不實現(xiàn)如本文中所描述的隨機移位的一個或多個像素區(qū)塊組合到(例如，連續(xù)的、不連續(xù)的、等等)圖像渲染表面。在一些實施例中，形成或提供圖像渲染表面的一個或多個像素區(qū)塊可以具有相同的不均勻的移位圖案。附加地、可選地或可替代地，一個或多個不均勻的移位圖案可以在一個區(qū)塊內(nèi)或者在多個區(qū)塊之間重復(例如，+1、-2、-3、+1、+2…+1、-2、-3、+1、+2等)。

在一些實施例中，像素區(qū)塊中的隨機移位的(例如，概率等)分布可以有與對于像素區(qū)塊設置的總移位容限所表示的組值相同的組值。在例子中，當總移位容限表示最大值時，隨機移位的分布可以有與總移位容限所表示的最大值相同的最大值。在另一個例子中，當總移位容限表示平均值時，隨機移位的分布可以有與總移位容限所表示的平均值相同的平均值。在一些實施例中，區(qū)塊放置系統(tǒng)用來控制圖像渲染表面的每個像素區(qū)塊內(nèi)的像素級或子像素級移位的總移位容限可以包括多于一個的組值、多于一種的組值類型等。相對應地，在這樣的像素區(qū)塊中實現(xiàn)的隨機移位的分布可以有多于一個的組值、多于一種的組值類型等，其中的一些或全部與總移位容限所表示的組值、組值類型等是相同的。

如本文中所描述的技術可以用于提供像素區(qū)塊級、像素級、子像素級等上的視覺性質(zhì)的許多不同類型的變化中的任何一個來補充或代替像素或子像素的隨機移位。例如，局部密度、像素高度、像素寬度、像素直徑、像素間距(例如，像素間距離等)、子像素高度、子像素寬度、子像素直徑、子像素間距(例如，像素內(nèi)的子像素間距離等)等中的一個或多個的變化可以在如本文中所描述的像素區(qū)塊中實現(xiàn)。

在一些實施例中，如本文中所描述的像素區(qū)塊的不同像素中的(不同顏色的)子像素可以按不同的空間次序布置。圖4c例示說明示例像素區(qū)塊402-3，其包括在像素中并排布置的子像素。像素404-5包括三個子像素410-5-1、410-5-2和410-5-3，這些子像素分別對應于按第一次序布置的紅色、綠色和藍色子像素。相反，像素404-6包括三個子像素410-6-1、410-6-2和410-6-3，這些子像素分別對應于按不同于第一次序的第二次序布置的紅色、綠色和藍色子像素。

僅僅為了例示說明的目的，已經(jīng)描述了像素包括三種原色(紅色、綠色和藍色)的子像素。應注意到，在各種實施例中，除了紅色、綠色和藍色之外的其他原色的子像素可以被用在如本文中所描述的像素中。另外，像素無需僅包括三種原色的子像素。在一些實施例中，如本文中所描述的像素可以包括更多的或更少的原色。附加地、可選地或可替代地，在一些實施例中，如本文中所描述的像素可以包括如圖4d所示的非原色的子像素，其中除了紅色、綠色和藍色(分別被表示為“r”、“g”和“b”)的子像素之外，像素還可以包括白色的子像素(被表示為“w”)?？梢詫τ谙袼刂械母鞣N原色或非原色的子像素實現(xiàn)子像素級上的隨機移位(例如，多種視覺特性的變化等)。

如本文中所描述的技術可以與多種顯示技術、放置技術等一起工作，比如以下技術中的一種或多種：基于掩模的技術、基于印刷的技術(包括但不限于3d印刷技術)、基于沉積的技術、基于半導體晶圓的技術、基于機器人臂的技術、基于隔膜的技術、基于激光器的技術、基于納米管的技術、流控自裝配(fsa)技術、卷對卷或網(wǎng)處理技術等。

在一些實施例中，為了避免或減小圖像渲染表面中的視覺偽像的目的，可以測量并且分析通過這些技術放置像素區(qū)塊的準確度、誤差等以產(chǎn)生總移位容限，這些總移位容限用于在像素塊級、像素級、子像素級等上控制并且添加隨機移位。

附加地、可選地或可替代地，這些技術也可以與用于創(chuàng)建圖像渲染表面的多種基板、材料等一起工作，比如玻璃、半導體晶圓、金屬、透明導電膜、樹脂、帆布、光學膜、光導、基板上的不規(guī)則凹陷、將被沉積到基板上的不規(guī)則凹陷中的成形組件、柔性基板(比如聚對苯二甲酸乙二醇酯或pet卷)、熱塑性聚合物樹脂等。

6.不同類型的圖像渲染表面

圖5a例示說明可以用于創(chuàng)建如本文中所描述的像素區(qū)塊的至少一部分的示例陰影掩模500。陰影掩模(500)包括可以用于放置或沉積有色顏料、含磷材料、量子點等的單元(例如，502-1、502-2、502-3等)，這些單元被配置為沿著光方向504發(fā)射調(diào)制光。

在其他方法中，像素和/或子像素被放置到(分配)由黑色矩陣(其吸收并且阻止相鄰像素或子像素之間的光污染)所限定的規(guī)則圖案(比如矩陣圖案、對角線圖案等)中的位置。

相反，根據(jù)如本文中所描述的技術，像素和/或子像素被放置到由陰影掩模(500)中的單元(例如，502-1、502-2、502-3等)所限定的不均勻圖案中的實際位置中。這些實際位置包括像素和/或子像素相對于規(guī)則圖案中的相應的被分配位置的隨機移位。

圖5b例示說明可以用于創(chuàng)建如本文中所描述的像素區(qū)塊的至少一部分的示例基板510(例如，玻璃、膜、光導等)?；?510)可以包括在其上可以被印刷含磷材料、量子點等的表面區(qū)域(例如，512-1、512-2、512-3等)，這些表面區(qū)域被配置為沿著光方向514發(fā)射調(diào)制光。

在其他方法中，像素和/或子像素被放置到(被分配)規(guī)則圖案(比如矩陣圖案、對角線圖案等)中的位置。

相反，根據(jù)如本文中所描述的技術，像素和/或子像素被放置到由基板(510)中的表面區(qū)域(例如，512-1、512-2、512-3等)限定的不均勻圖案中的實際位置。這些實際位置包括像素和/或子像素相對于規(guī)則圖案中的相應的被分配位置的隨機移位。

圖5c例示說明可以用于創(chuàng)建如本文中所描述的像素區(qū)塊的至少一部分的示例基板520(例如，玻璃等)。納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)或納米線led可以在基板(520)上生長或從基板(520)生長。納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)可以被構(gòu)造有不同的直徑，以當在各納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)的兩端之間施加電壓時沿著光方向524發(fā)射不同顏色的調(diào)制光。從各納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)發(fā)射的光的強度可以用脈寬調(diào)制(pwm)技術控制。在非限制性例子中，薄膜導電膜可以涂布基板(520)以提供第一極性的公共電極，而多個不相交的金屬團中的一個金屬團可以在各納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)的另一端處與薄膜相對放置，以提供與公共電極的第一極性相反的第二極性的像素電極。

根據(jù)如本文中所描述的技術，像素和/或子像素被放置到由基板(520)中的納米管(例如，522-1、522-2、522-3等)限定的不均勻圖案中的實際位置中。這些實際位置包括像素和/或子像素相對于規(guī)則圖案中的相應的被分配位置的隨機移位。

圖5d例示說明可以用于創(chuàng)建如本文中所描述的像素區(qū)塊的至少一部分的示例背板530。具有可以在x和y方向上移動的機器人臂536的放置設備538可以拿取、運送不同光顏色的led組件(例如，紅色led、綠色led、藍色led等)并且將這些led組件放置到背板(530)上的位置(例如，532-1、532-2、532-3等)。在一些實施例中，led組件可以具有比如30微米×30微米、50微米×20微米等的尺寸。led組件可以表示被安裝或安設在背板(530)上的位置(例如，532-1、532-2、532-3等)處的、被配置為沿著光方向534發(fā)射調(diào)制光的像素和/或子像素。

根據(jù)如本文中所描述的技術，像素和/或子像素被放置到非一致圖案中的實際位置(例如，532-1、532-2、532-3等)上。這些實際位置包括像素和/或子像素相對于規(guī)則圖案中的相應的被分配位置的隨機移位。

在一些實施例中，為了拿取或拾取相對微小尺寸的像素或子像素組件(例如，紅色led、綠色led、藍色led等)，機器人臂(336)可以以基于隔膜的拾取機構(gòu)、而不是機械臂的形式實現(xiàn)。拾取機構(gòu)中的隔膜可以被充電有第一電荷類型(例如，正電荷等)，而像素或子像素組件可以被充電有與第一電荷類型相反的第二電荷類型(例如，負電荷等)?？梢允狗謩e在拾取機構(gòu)和像素或子像素組件中的相反的電荷類型相互絕緣(例如，通過絕緣材料、絕緣膜等)，以防止拾取和運送步驟中放電。

在一些實施例中，代替led組件或者作為led組件的補充，不同光顏色的oled組件可以被用在如本文中所描述的圖像渲染表面上。

圖5e例示說明可以用于創(chuàng)建如本文中所描述的像素區(qū)塊的至少一部分的示例圖像渲染區(qū)域部分540。圖像渲染區(qū)域部分(540)可以包括被涂布光轉(zhuǎn)換材料(比如含磷材料、量子點等)的單元(例如，542-1、542-2、542-3等)。在一些實施例中，單元(例如，542-1、542-2、542-3等)可以被分組為表示像素(例如，544等)的相應集合。

激光器548可以發(fā)射在x和y方向上掃描的調(diào)制光546(例如，基于在顯示應用運行時接收的圖像數(shù)據(jù)等)。光(546)的掃描可以由被容納在例如與迪斯科光球類似的殼體中的可移動鏡提供。

代替在形成規(guī)則圖案的單元(例如，542-1、542-2、542-3等)中的像素或子像素的被分配位置處開通調(diào)制光(546)，激光器(548)可以在形成不齊圖案的單元(例如，542-1、542-2、542-3等)中的實際位置處開通調(diào)制光(546)。這些實際位置包括像素和/或子像素相對于規(guī)則圖案中的相應的被分配位置的隨機移位。

在一些實施例中，空間振動器550(比如聲學振動器、壓電振動器等)可以用于產(chǎn)生高達基于總移位容限確定的某個幅度的振動。為了產(chǎn)生像素和/或子像素相對于相應的被分配位置的隨機移位的目的，可以將激光器(548)與空間振動器(550)機械地耦合。

圖像渲染表面(例如，由分別將調(diào)制光發(fā)射到它們相應的像素區(qū)塊的多個激光器驅(qū)動的戶外顯示器等)可以通過組合多個圖像渲染區(qū)域部分(比如540等)和多個激光器(比如548等)來創(chuàng)建。

7.使用流控自裝配的隨機移位

在一些實施例中，如本文中所描述的像素或子像素的不均勻的、不齊的或隨機的移位可以使用流控自裝配(fsa)技術來實現(xiàn)。附加地、可選地或可替代地，如本文中所描述的像素或子像素的移位可以使用卷對卷(例如，網(wǎng))過程來實現(xiàn)，該過程可以與fsa過程聯(lián)合操作以用于高產(chǎn)出制造。

在一些實施例中，如本文中所描述的區(qū)塊放置系統(tǒng)(例如，圖2的200等)可以例如在卷對卷過程中用一個或多個鼓或印模在基板上壓印凹陷的一個或多個不均勻圖案。有色led芯片被定位在凹陷中時就間距間隔、密度、對齊、順序次序等中的至少一個而言是不均勻的，以避免圖像渲染表面中的像素區(qū)塊之間的(例如，亞微米等)錯位的視覺檢測。在一些實施例中，壓印在基板上的不規(guī)則凹陷可以是獨特(distinct)的形狀，這些形狀將被具有對應的獨特形狀的有色led芯片占據(jù)。

圖5f例示說明用于在基板562-1上壓印凹陷(不管是均勻的、還是不規(guī)則的)的一個或多個不均勻圖案的示例鼓560。在一些實施例中，鼓(560)可以包括腔體圖案和間距變化的若干個突出形狀。例如，在鼓(560)在基板(562-1)的上方(例如，在基板(562-1)的頂部、朝向圖5f的右邊、等等)軋制的同時，印模(560)上的突出形狀可以被按壓到基板(562-1)中以在基板(562-1)上創(chuàng)建凹陷564-1。鼓(560)可以被安裝在軸(未示出)上。在一些實施例中，例如，通過經(jīng)由軸施加扭矩，通過朝向圖5f的左邊作用在基板562-1上的軋制力/拉力，等等，鼓(560)相對于基板(562-1)旋轉(zhuǎn)。附加地、可選地或可替代地，為了在基板(562-1)上制成與鼓上的突出形狀相對應的凹陷的目的，可以由作用于鼓(560)的軸上的物理力產(chǎn)生的特定的向下的壓力可以被鼓(560)施加于基板(562-1)上。

圖5g例示說明用于在基板562-2上壓印凹陷(不管是均勻的凹陷、還是不規(guī)則的凹陷)的一個或多個不均勻圖案的示例印模570。在一些實施例中，印模(570)可以包括腔體圖案和間距變化的數(shù)個突出形狀。例如，在印模(570)正在周期性地向上移動遠離基板(562-2)并且向下按壓基板(562-2)的同時，印模(570)上的突出形狀可以被按壓到基板(562-2)中以在基板(562-2)上創(chuàng)建凹陷564-2、564-3等。當基板(562-2)在圖5g中正被從右到左逐個部分地軋制時，沖壓操作可以逐個部分地進行。

如本文中所描述的基板(例如，562-1、562-2等)可以是，但不必限于，柔性基板，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯或pet卷、熱塑性聚合物樹脂等。

在一些實施例中，基板上的凹陷的一個或多個圖案可以包括具有不同的獨特形狀的不規(guī)則凹陷的多個圖案。不規(guī)則凹陷的多個圖案中的每個圖案可以包括具有以下的凹陷：(i)獨特形狀，比如三角形、四邊形、五邊形、六邊形、圓形、不規(guī)則形狀、具有特定的關鍵圖案的形狀等；(ii)大小(長度、寬度)、和/或(iii)基板內(nèi)的深度(高度)。在各種實施例中，具有兩種或三種不同的獨特形狀的凹陷可以被并行地、串行地或部分并行部分串行地壓印到基板上。在一些實施例中，每個鼓、印模等可以包括特定類型的突出形狀(例如，三角形等)；多個鼓、印模等可以被串行地用于創(chuàng)建具有多種不同形狀的不規(guī)則凹陷的多個圖案。在一些實施例中，特定的鼓、印模等可以包括兩種或更多種特定類型的突出形狀(例如，矩形、六邊形和圓形等的組合)；該特定的鼓、印模等可以用于并發(fā)地創(chuàng)建具有多種不同形狀的不規(guī)則凹陷的多個圖案。

在一個例子中，為了串行地執(zhí)行壓印操作，第一鼓/印模可以創(chuàng)建將被第一顏色(例如，紅色等)的有色led芯片占據(jù)的第一獨特形狀的第一凹陷，這些有色led芯片是與第一凹陷的第一獨特形狀相對應的圖5h的形狀566-1；第二鼓/印?？梢詣?chuàng)建將被第二顏色(例如，綠色等)的有色led芯片占據(jù)的第二獨特形狀的第二凹陷，這些有色led芯片是與第二凹陷的第二獨特形狀相對應的圖5h的形狀566-2；第三鼓/印模可以創(chuàng)建將被第三顏色(例如，藍色等)的有色led芯片占據(jù)的第三獨特形狀的第三凹陷，這些有色led芯片是與第三凹陷的第三獨特形狀相對應的圖5h的形狀566-3。第一、第二和第三獨特形狀的凹陷中的每個均可以被所述形狀(5661-1至566-3)中的對應(匹配)形狀的led芯片占據(jù)，而不是被其他(不匹配)形狀的led芯片占據(jù)?？商娲兀还苄螤钊绾?，各有色led芯片的尺寸(例如，長度、寬度和/或高度)不同，使得與不同尺寸的凹陷不匹配的有色led芯片將在連續(xù)流控流下被逐出。

在另一個例子中，為了并行地執(zhí)行壓印操作，單個鼓/印?？梢詣?chuàng)建將被兩種或更多種不同顏色的led芯片占據(jù)的兩種或更多種獨特形狀的凹陷。

在一些實施例中，可以創(chuàng)建另外的獨特形狀的凹陷的另外的鼓/印模也可以用于并行地和/或串行地創(chuàng)建另外的原色(另外的原色的led芯片)。

附加地、可選地或可替代地，第一鼓/印模可以創(chuàng)建將被一種或多種顏色的有色led芯片占據(jù)的第一不規(guī)則圖案中的第一凹陷；第二鼓/印?？梢詣?chuàng)建將被一種或多種顏色的有色led芯片占據(jù)的第二不規(guī)則圖案中的第二凹陷；依此類推。第一、第二等不規(guī)則圖案可以具有變化的圖案。結(jié)果，不同的像素區(qū)塊布局可以在基板被填充、裝填各種有色led芯片等之后獲得。

獨特形狀的有色led芯片可以用各種方法裝配到基板中的對應形狀的凹陷(例如，562-1、562-2等)中。在一些實施例中，流控自裝配(fsa)過程可以用于將有色led芯片裝配到基板上。例如，在如圖5i所示的基板562被浸沒在流體中(具有特定的浮力)的同時，特定顏色和特定形狀的有色led芯片(比如568-1、568-2等)可以被分布和重新循環(huán)布置在基板上以沉入基板(562)中的對應形狀的凹陷中。每個有色led芯片可以表示像素或子像素。因此，不規(guī)則圖案的像素或子像素可以通過fsa過程與卷對卷(或網(wǎng))過程相組合以用于高產(chǎn)出制造來創(chuàng)建。

附加地、可選地或可替代地，有色led芯片中的一些或全部置于凹陷中可以通過機器人拾取和放置技術來執(zhí)行。例如，fsa過程之后的基板上的任何空缺的凹陷可以通過使用通過計算機視覺控制的機器人拾取和放置技術被用對應的有色led芯片填充。

在一些實施例中，在fsa過程被應用或者被覆蓋以將有色led芯片放置到有色led芯片卷或基板中之后，柔性的互連卷(或背板)或基板(例如，pet卷、熱塑性聚合物樹脂等)被耦合到有色led芯片卷或基板?；ミB卷可以包括(例如，透明的、不透明的、金屬的、非金屬的、等等)用于將每個有色led芯片電耦合到單獨的控制器邏輯或開關元件的導電跡線。附加地、可選地或可替代地，激光鉆孔的通孔可以用于放置導電跡線?？刂茊为毜挠猩玪ed芯片的操作的開關元件、電極、電互連等也可以與如本文中所描述的fsa過程和/或卷對卷過程整合來產(chǎn)生顯示卷，該顯示卷可以被單顆化、切割、分割等成創(chuàng)建如圖5j所示的像素區(qū)塊的區(qū)域。這些像素區(qū)塊可以被如本文中所描述的區(qū)塊放置系統(tǒng)裝配到圖像渲染表面中，或者可以直接用作圖像渲染表面，除了許多不同的顯示器，圖像渲染表面可以包括柔性顯示器、移動顯示器等。在一些實施例中，一個或多個通孔或開口的通路(例如，孔等)可以設有如本文中所描述的凹陷(例如，在凹陷的底部上、在凹陷的頂緣上、等等)。導電材料，比如金屬導體、非金屬導體(例如，透明導電材料等)等，可以沉積在具有凹陷的通孔或開口的通路中以提供供電連接進入到安設在凹陷中的有色led芯片的進入通道。

8.示例顯示系統(tǒng)

圖8例示說明可以用于與如本文中所描述的一種或多種類型的圖像渲染表面一起操作的示例顯示系統(tǒng)。在一些實施例中，顯示邏輯802可以包括光控制邏輯804，其被配置為以在圖像渲染表面(800)上渲染圖像的目的來控制顯示系統(tǒng)(800)中的圖像渲染表面800中的調(diào)制光的產(chǎn)生。顯示邏輯(802)可以與圖像數(shù)據(jù)源806(例如，機頂盒、聯(lián)網(wǎng)服務器、存儲介質(zhì)或類似物等)操作地耦合，并且被配置為從圖像數(shù)據(jù)源(806)接收圖像數(shù)據(jù)。圖像數(shù)據(jù)可以由圖像數(shù)據(jù)源(806)以各種方式提供，包括從空中廣播、或以太網(wǎng)、高清多媒體接口(hdmi)、無線網(wǎng)絡接口、裝置(例如，機頂盒、服務器、存儲介質(zhì)等)等提供。從內(nèi)部或外部源接收的圖像幀可以被顯示邏輯(802)用于控制顯示系統(tǒng)中的圖像渲染表面800中的調(diào)制光的產(chǎn)生。圖像幀可以被顯示邏輯(802)用于在如本文中所描述的圖像渲染表面上以各種分辨率得出各幀中的單獨的或者聚合的像素值。

9.示例過程流程

圖6例示說明示例過程流程。在一些實施例中，一個或多個計算裝置或組件(比如圖2的區(qū)塊放置系統(tǒng)200等)可以執(zhí)行該過程流程。在方框610中，區(qū)塊放置系統(tǒng)(200)確定適用于將用作圖像渲染表面的部分的多個像素區(qū)塊中的每個像素區(qū)塊的總移位容限。這里，所述多個像素區(qū)塊中的每個像素區(qū)塊包括多個子像素。

在方框620中，區(qū)塊放置系統(tǒng)(200)基于總移位容限來產(chǎn)生所述多個像素區(qū)塊中的每個像素區(qū)塊的隨機移位。

在方框630中，區(qū)塊放置系統(tǒng)(200)將所述多個圖像渲染區(qū)塊組合到圖像渲染表面中。

在實施例中，隨機移位表示像素相對于這些像素的被分配位置的移位；被分配位置形成規(guī)則圖案。

在實施例中，隨機移位表示子像素相對于這些子像素的被分配位置的移位；被分配位置形成規(guī)則圖案。

在實施例中，所述多個像素區(qū)塊中的至少一個像素區(qū)塊中的子像素表示多個像素，其中所述多個像素中的每個像素包括所述至少一個像素區(qū)塊中的子像素中的一個或多個的子集。在實施例中，所述多個像素中的像素包括多個子像素；所述多個像素中的所述像素中的多個子像素在所述像素中的子像素之間具有固定的空間關系。在實施例中，所述多個像素中的像素包括多個子像素；所述多個像素中的像素的多個子像素在所述像素的子像素之間具有可變的空間關系。

在實施例中，所述多個像素區(qū)塊中的至少一個像素區(qū)塊包括所述至少一個像素區(qū)塊內(nèi)的密度、高度、寬度、間距等可變的像素。

在實施例中，所述多個像素區(qū)塊中的至少一個像素區(qū)塊包括所述至少一個像素區(qū)塊內(nèi)的密度、高度、寬度、間距等可變的子像素。

在實施例中，總移位容限表示用于將單獨的子像素放置到多個像素區(qū)塊中的像素區(qū)塊上的物理裝置的誤差。在實施例中，總移位容限表示用于將單獨的像素放置到多個像素區(qū)塊中的像素區(qū)塊上的物理裝置的誤差。在實施例中，如本文中所提到的物理裝置是以下中的一個或多個：激光器、像素放置模塊、子像素放置模塊、納米管、陰影掩模等。

在實施例中，總移位容限表示用于將單獨的像素區(qū)塊放置到圖像渲染表面上的區(qū)塊放置系統(tǒng)的誤差。

在實施例中，至少一個像素區(qū)塊包括以下中的一個或多個：有色顏料、含磷材料、量子點、納米管、發(fā)光二極管、有機發(fā)光二極管等。

在一些實施例中，涉及如本文中所描述的操作、方法等的過程流程可以通過一個或多個計算裝置或單元來執(zhí)行。

在實施例中，一種設備包括處理器，并且被配置為執(zhí)行這些操作、方法、過程流程等中的任何一個。

在實施例中，一種非暫時性計算機可讀存儲介質(zhì)存儲當被一個或多個處理器執(zhí)行時使得這些操作、方法、過程流程等中的任何一個被執(zhí)行的軟件指令。

在實施例中，一種計算裝置包括一個或多個處理器以及一個或多個存儲介質(zhì)，存儲介質(zhì)存儲當被所述一個或多個處理器執(zhí)行時使得這些操作、方法、過程流程等中的任何一個被執(zhí)行的指令集。注意到，盡管單獨的實施例在本文中被討論，但是本文中所討論的實施例和/或部分實施例的任何組合可以被組合以形成進一步的實施例。

10.實現(xiàn)機制——硬件概述

根據(jù)一個實施例，本文中所描述的技術通過一個或多個專用計算裝置來實現(xiàn)。專用計算裝置可以被硬連線來執(zhí)行所述技術，或者可以包括數(shù)字電子裝置，比如被持續(xù)地編程為執(zhí)行所述技術的一個或多個專用集成電路(asic)或現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)，或者可以包括被編程為依照固件、存儲器、其他儲存器或組合中的程序指令來執(zhí)行所述技術的一個或多個專用硬件處理器。這樣的專用計算裝置還可以組合具有實現(xiàn)所述技術的自定義編程的自定義硬連線邏輯、asic或fpga。專用計算裝置可以是臺式計算機系統(tǒng)、便攜式計算機系統(tǒng)、手持裝置、聯(lián)網(wǎng)裝置或合并實現(xiàn)所述技術的硬連線和/或程序邏輯的任何其他裝置。

例如，圖7是例示說明在其上可以實現(xiàn)本發(fā)明的實施例的計算機系統(tǒng)700的框圖。計算機系統(tǒng)700包括用于傳送信息的總線702或其他通信機制，以及與總線702耦合的用于對信息進行處理的硬件處理器704。硬件處理器704可以例如是通用微處理器。

計算機系統(tǒng)700還包括耦合到總線702的用于存儲將被處理器704執(zhí)行的信息和指令的主存儲器706，比如隨機存取存儲器(ram)或者其它動態(tài)存儲設備。主存儲器706還可以用于存儲將被處理器704執(zhí)行的指令執(zhí)行期間的臨時變量或其他中間信息。這樣的指令被存儲在處理器704可訪問的非暫時性存儲介質(zhì)中時使計算機系統(tǒng)700變?yōu)楸欢ㄖ茷閳?zhí)行指令中所指定的操作的專用機器。

計算機系統(tǒng)700進一步包括耦合到總線702的用于存儲用于處理器704的靜態(tài)信息和指令的只讀存儲器(rom)708或其他靜態(tài)存儲裝置。存儲裝置710，比如磁盤或光學盤，被提供并且被耦合到總線702以用于存儲信息和指令。

計算機系統(tǒng)700可以經(jīng)由總線702耦合到用于向計算機用戶顯示信息的顯示器712，比如液晶顯示器。包括字母數(shù)字鍵和其他鍵的輸入裝置714耦合到總線704以用于將信息和命令選集傳送到處理器704。另一種類型的用戶輸入裝置是用于將方向信息和命令選集傳送到處理器704并且用于控制顯示器712上的光標移動的光標控件716，比如鼠標、軌跡球或光標方向鍵。該輸入裝置通常具有使得裝置可以指定平面中的位置的兩個軸(第一軸(例如，x)和第二軸(例如，y))上的兩個自由度。

計算機系統(tǒng)700可以使用與計算機系統(tǒng)組合以使得計算機系統(tǒng)700成為專用機器或者將計算機系統(tǒng)700編程為專用機器的定制硬連線邏輯、一個或多個asic或fpga、固件和/或程序邏輯來實現(xiàn)本文中所描述的技術。根據(jù)一個實施例，如本文中所描述的技術由計算機系統(tǒng)700響應于處理器704執(zhí)行主存儲器706中所包含的一個或多個指令的一個或多個序列來執(zhí)行。這樣的指令可以從另一個存儲介質(zhì)(比如存儲裝置710)被讀取到主存儲器706中。主存儲器706中所包含的指令序列的執(zhí)行使處理器704執(zhí)行本文中所描述的過程步驟。在替代實施例中，硬連線電路可以用來代替軟件指令或者與軟件指令組合使用。

如本文中所使用的術語“存儲介質(zhì)”是指存儲使機器以特定方式操作的數(shù)據(jù)和/或指令的任何非暫時性介質(zhì)。這樣的存儲介質(zhì)可以包括非易失性介質(zhì)和/或易失性介質(zhì)。非易失性介質(zhì)包括例如光學盤或磁盤，比如存儲裝置710。易失性介質(zhì)包括動態(tài)存儲器，比如主存儲器706。常見形式的存儲介質(zhì)包括例如軟盤、柔性盤、硬盤、固態(tài)驅(qū)動器、磁帶或任何其他磁性數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、cd-rom、任何其他光學數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、具有孔圖案的任何物理介質(zhì)、ram、prom以及eprom、flash-eprom、nvram、任何其他存儲器芯片或盒。

存儲介質(zhì)不同于傳輸介質(zhì)，但是可以與傳輸介質(zhì)結(jié)合使用。傳輸介質(zhì)參與在存儲介質(zhì)之間傳送信息。例如，傳輸介質(zhì)包括同軸電纜、銅線和光纖，這些包括包含總線550的導線。傳輸介質(zhì)還可以采取聲波或光波的形式，比如無線電波和紅外數(shù)據(jù)通信期間產(chǎn)生的那些。

各種形式的介質(zhì)可以涉及將一個或多個指令的一個或多個序列傳載到處理器704以供執(zhí)行。例如，指令可以一開始承載于遠程計算機的磁盤或固態(tài)驅(qū)動器上。遠程計算機可以將指令加載到其動態(tài)存儲器中，并且使用調(diào)制解調(diào)器通過電話線發(fā)送指令。計算機系統(tǒng)700本地的調(diào)制解調(diào)器可以接收電話線上的數(shù)據(jù)，并且使用紅外發(fā)射器來將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為紅外信號。紅外探測器可以接收紅外信號中承載的數(shù)據(jù)，并且適當?shù)碾娐房梢詫?shù)據(jù)放置在總線702上?？偩€702將數(shù)據(jù)傳載到主存儲器706，處理器704從主存儲器706檢索并且執(zhí)行指令。主存儲器706接收的指令可以可選地在被處理器704執(zhí)行之前或之后被存儲在存儲裝置710上。

計算機系統(tǒng)700還包括耦合到總線702的通信接口718。通信接口718提供耦合到網(wǎng)絡鏈路720的雙向數(shù)據(jù)通信，網(wǎng)絡鏈路720連接到本地網(wǎng)絡722。例如，通信接口718可以是綜合服務數(shù)字網(wǎng)絡(isdn)卡、電纜調(diào)制解調(diào)器、衛(wèi)星調(diào)制解調(diào)器或提供與對應類型的電話線的數(shù)據(jù)通信連接的調(diào)制解調(diào)器。作為另一個例子，通信接口718可以是提供與可兼容lan的數(shù)據(jù)通信連接的局域網(wǎng)(lan)卡。還可以實現(xiàn)無線鏈路。在任何這樣的實現(xiàn)中，通信接口718發(fā)送和接收傳載表示各種類型的信息的數(shù)字數(shù)據(jù)流的電、電磁或光學信號。

網(wǎng)絡鏈路720通常通過一個或多個網(wǎng)絡提供與其他數(shù)據(jù)裝置的數(shù)據(jù)通信。例如，網(wǎng)絡鏈路720可以通過局域網(wǎng)722提供與主機計算機724或由互聯(lián)網(wǎng)服務提供商(isp)726運營的數(shù)據(jù)設備的連接。isp726繼而通過萬維網(wǎng)分組數(shù)據(jù)通信網(wǎng)絡(現(xiàn)在常被稱為“互聯(lián)網(wǎng)”)728來提供數(shù)據(jù)通信服務。局域網(wǎng)722和互聯(lián)網(wǎng)728都使用傳載數(shù)字數(shù)據(jù)流的電、電磁或光學信號。通過各種網(wǎng)絡的信號以及網(wǎng)絡鏈路720上的、通過通信接口718(其與計算機系統(tǒng)700來回傳載數(shù)字數(shù)據(jù))的信號是傳輸介質(zhì)的示例形式。

計算機系統(tǒng)700可以通過(一個或多個)網(wǎng)絡、網(wǎng)絡鏈路720和通信接口718來發(fā)送消息和接收數(shù)據(jù)(包括程序代碼)。在互聯(lián)網(wǎng)例子中，服務器730可以通過互聯(lián)網(wǎng)728、isp726、局域網(wǎng)722和通信接口718來發(fā)送對應用程序的請求代碼。

接收的代碼可以在它被接收時被處理器704執(zhí)行，和/或被存儲在存儲裝置710或其他非易失性儲存器中，以供以后執(zhí)行。

11.等同、擴展、替代及其他

在前面的說明書中，已經(jīng)參照在不同實現(xiàn)之間可以有所變化的許多特定細節(jié)描述了本發(fā)明的實施例。因此，本發(fā)明是什么以及申請人意圖什么是本發(fā)明的唯一的且排他的指示是本申請以特定形式發(fā)布的一組權(quán)利要求，包括任何后續(xù)修正，這樣的權(quán)利要求以所述特定形式發(fā)布。本文中針對這樣的權(quán)利要求中所包含的術語明確闡述的任何定義應決定這樣的術語用在權(quán)利要求中的意義。因此，在權(quán)利要求中未明確記載的限制、元件、性質(zhì)、特征、優(yōu)點或?qū)傩圆坏靡匀魏畏绞较拗七@樣的權(quán)利要求的范圍。說明書和附圖因此要從說明性、而非限制性的意義上來看待。