防偽標(biāo)簽及其生產(chǎn)方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種具有至少一個(gè)金屬化層(2)的防偽載體(1)，其中引入有至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)，所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)具有非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)(A)，其中，所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)具有分辨率小于20微米的獨(dú)立的激光光刻結(jié)構(gòu)(B)。
【專利說明】防偽標(biāo)簽及其生產(chǎn)方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前述特征部分所限定的防偽載體，以及一種生產(chǎn)防偽載體的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]對(duì)用于產(chǎn)品、文件和鑒定的防偽保護(hù)，使用光學(xué)可變?cè)?。光學(xué)可變?cè)蟹直媛史浅８叩慕Y(jié)構(gòu)，其會(huì)產(chǎn)生特殊的光學(xué)效果。這樣的結(jié)構(gòu)是難以復(fù)制的，并且通常無法通過常見的印刷技術(shù)來制造。光學(xué)可變?cè)梢园阊劭梢姾万?yàn)證的結(jié)構(gòu)，也可以包含可用簡單或?qū)ｉT讀取設(shè)備檢驗(yàn)的結(jié)構(gòu)。光學(xué)可變?cè)枪?，并且可按照多種方式使用。光學(xué)可變?cè)ǎ?，全息圖，影像圖(cinegram)和光刻圖(Iithograms)。光學(xué)可變?cè)邪慕Y(jié)構(gòu)可以是全息圖，特殊彩虹全息圖(special rainbow hologram),透射全息圖，反射全息圖，二維全息圖，三維全息圖，傅立葉全息圖，菲涅耳全息圖，體積全息圖以及開諾全息圖(kinoforms)。這樣的全息圖可以直接光學(xué)產(chǎn)生，或者可用計(jì)算機(jī)進(jìn)行計(jì)算。此外，可以包含衍射結(jié)構(gòu)，特別是衍射光柵?？梢园凵浣Y(jié)構(gòu)，如菲涅耳透鏡或閃光光柵?？梢园⑸湓?，如散射器。文獻(xiàn)中描述了眾多其它可以包含在光學(xué)可變?cè)械慕Y(jié)構(gòu)。各種結(jié)構(gòu)可以部分重疊，以便能夠在光學(xué)可變?cè)南嗤瑓^(qū)域提供兩種或更多種的效果。各種結(jié)構(gòu)可以用于配置成圖形元件，例如扭索飾，標(biāo)識(shí)，圖像，線，面等。也可進(jìn)一步配置字符元素，諸如字母，數(shù)字或字母數(shù)字序列號(hào)，微縮說明(miCToscripts)。也可進(jìn)一步配置功能性元件，如條形碼或其它機(jī)器可讀的結(jié)構(gòu)。各種結(jié)構(gòu)和元素以合適的方法組合，形成可變光學(xué)元件的整體設(shè)計(jì)，盡可能滿足可變光學(xué)元件的安全性、，功能性和美學(xué)印象等所有要求。
[0003]光學(xué)可變?cè)梢杂脧?fù)型工藝(replicat1n process)來制造。為此,精心制作一個(gè)具有特殊整體設(shè)計(jì)的主壓花模具。這樣的主壓花模具可通過電子束光刻法或者通過點(diǎn)陣法(dot-matrix method)制造,在這種情況下,可以實(shí)現(xiàn)高的分辨率。在電子束光刻法的情況下，可以實(shí)現(xiàn)小至幾納米的分辨率。在點(diǎn)陣法或其它干涉方法的情況下，可以產(chǎn)生小至幾百納米光柵常數(shù)的衍射光柵。由此可從主壓花模具來生產(chǎn)復(fù)制品壓花模具，并可進(jìn)一步由其生產(chǎn)復(fù)制品壓花模具。然后，在壓印過程中使用該壓花模具以壓印大量的光學(xué)可變?cè)?。在這樣的壓印工藝中，所產(chǎn)生的光學(xué)可變?cè)旧隙际且粯拥摹?br> [0004]EP0420261B1是最接近的現(xiàn)有技術(shù)，其公開了一種方法，其中，通過在壓印工藝的不同點(diǎn)進(jìn)行修飾，引入個(gè)性化措施，以使壓印工藝制備的光學(xué)可變?cè)影踩⑶以诠鈱W(xué)可變?cè)幸敫郊訑?shù)據(jù)。以這種方式，批次信息或序列號(hào)信息可以添加到該光學(xué)可變?cè)?。然而，所述的個(gè)性化方法受限制且涉及到在原設(shè)計(jì)中特定區(qū)域的破壞、橋接(bridging)或停用，由于原始設(shè)計(jì)無法通過上述措施改造。特別是，通過所述的個(gè)性化方法，不可能產(chǎn)生全息、衍射或其他光學(xué)可變的獨(dú)立結(jié)構(gòu)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于使載體具有更好的防偽能力，并提供它們的生產(chǎn)方法。
[0006]關(guān)于制品，該目的是通過具有權(quán)利要求1的特征的防偽載體來實(shí)現(xiàn)的。優(yōu)選的改進(jìn)是制品從屬權(quán)利要求的主題。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的防偽載體可以具有多種構(gòu)造。特別地，其可以配置為自粘標(biāo)簽或者為熱密封材料。所述標(biāo)簽形狀、或熱密封模具的形狀可以是任何所需的形狀，例如圓形，橢圓形，多邊形，圓角多邊形等。在熱密封材料的情況下，整體設(shè)計(jì)也可配置為長條帶形，密封到基板的整個(gè)長度上。這種條帶可通過入境卡、運(yùn)輸季票或鈔票而已知。令人驚訝地，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)當(dāng)該光學(xué)可變?cè)哂蟹仟?dú)立壓花結(jié)構(gòu)，并且所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)€具有分辨率小于20微米的獨(dú)立激光光刻結(jié)構(gòu)時(shí)，所述光學(xué)可變?cè)妮d體的防偽安全性可提高。根據(jù)本發(fā)明的防偽載體包括至少一個(gè)金屬化層，優(yōu)選地，所述非獨(dú)立壓花結(jié)構(gòu)以及獨(dú)立激光光刻結(jié)構(gòu)被引入到相同的金屬化層。通過在同一光學(xué)可變?cè)薪M合地引入非獨(dú)立壓花結(jié)構(gòu)和獨(dú)立激光光刻結(jié)構(gòu)，對(duì)其復(fù)制變得相當(dāng)困難。
[0008]為此，所述光刻結(jié)構(gòu)的分辨率為小于20微米，優(yōu)選小于5微米。在這種情況下，小于20微米或5微米的分辨率意味著該結(jié)構(gòu)組件具有小于20微米或5微米的延伸長度，和小于20微米或5微米的彼此間距。優(yōu)選在每個(gè)組件上遵守這些延伸長度和間距，但至少在多個(gè)組件上遵守這些延伸長度和間距。在通過激光將像素引入到所述金屬化層的情況下，這個(gè)分辨率意味著單個(gè)像素的直徑應(yīng)該小于20微米或5微米，像素彼此間的間距應(yīng)該小于20微米或5微米。
[0009]術(shù)語載體在本申請(qǐng)應(yīng)按廣義理解，并且可以包括可變形條帶，特別是條帶狀的多層膜，膠帶，但也可是硬條帶。
[0010]可變光學(xué)元件或多個(gè)可變光學(xué)元件沿著所述載體、且優(yōu)選沿著所述載體布置。優(yōu)選地，所述載體在所述光學(xué)可變?cè)g是可分開的，使得每個(gè)獨(dú)立光學(xué)可變?cè)梢栽儆米骺烧承哉辰拥幕驘崦芊獾臉?biāo)簽，全息點(diǎn)(holospot)等。
[0011]作為載體的基底材料，特別是可以使用金屬化膜或金屬化涂層。在這種情況下，可以先進(jìn)行壓印，然后金屬化，反之亦可。壓印的凸紋可壓印到金屬化層。該金屬化層不被壓印破壞，且用作反射層，以將由壓花結(jié)構(gòu)衍射的光反射回空隙中。
[0012]在許多應(yīng)用中，例如，為了增加安全性，可能希望的是金屬化層部分地脫金屬化。在壓印的光學(xué)可變?cè)那闆r下，這通常在與壓印相獨(dú)立的第二工藝中完成。
[0013]DE3430111 Cl描述了這樣一個(gè)過程。在金屬化之前,可以部分地施加一個(gè)脫模層，其在金屬化后連同金屬化層一起洗掉。在沒有涂敷脫模層的位置，金屬被保留。這里，會(huì)產(chǎn)生相對(duì)所述部分脫金屬化的金屬層精確匹配地標(biāo)定壓印方向的困難。此外，沒有對(duì)這種脫金屬化的個(gè)性化進(jìn)行說明。由于在這些方法中使用印刷工藝來施加所述脫模層，該方法的分辨率是有限的。典型地，實(shí)現(xiàn)了 20微米的最小值。
[0014]由DE4131964 Al描述了獨(dú)立的脫金屬化的可能性。這里，使用激光刻劃法以獨(dú)立地使全息圖的金屬層脫金屬化。然而，在該方法中，全息、衍射或其他光學(xué)可變獨(dú)立結(jié)構(gòu)不能由激光束生成。此外，這樣的激光刻劃方法在脫金屬化時(shí)的分辨率是有限的。典型地，實(shí)現(xiàn)了 20微米的最小值。
[0015]在直接生產(chǎn)光學(xué)可變?cè)?，?duì)個(gè)性化沒有任何限制。在這種情況下，該光學(xué)可變?cè)皇怯蓮?fù)型工藝制造，而是直接引入到目標(biāo)基底或中間產(chǎn)物中。例如，這可以通過在隨后步驟單獨(dú)曝光感光膜來完成。另一個(gè)例子是高分辨率激光光刻技術(shù)，其中，在激光束的輔助下，將期望的結(jié)構(gòu)直接引入到激光敏感層。在這種情況下，有需要后續(xù)改進(jìn)的方法和光學(xué)可變?cè)恍柙龠M(jìn)一步改進(jìn)的那些方法。在這種情況下，高分辨率激光光刻法可以與傳統(tǒng)激光劃刻法區(qū)分開，因?yàn)橹挥懈叻直媛始す夤饪碳夹g(shù)是有可能實(shí)現(xiàn)非常小的結(jié)構(gòu)尺寸，以使得使用曝光結(jié)構(gòu)作為光學(xué)可變?cè)蔀榭赡?。下面，將僅參考高分辨率激光光刻技術(shù)，其中，基本分辨率和結(jié)構(gòu)尺寸為小于20微米，優(yōu)選小于5微米。
[0016]在激光光刻法中，待曝光的結(jié)構(gòu)借助于激光束轉(zhuǎn)移到基底。該待曝光的結(jié)構(gòu)經(jīng)過計(jì)算機(jī)裝置預(yù)定或計(jì)算，并以圖像或者矢量數(shù)據(jù)的方式存在。激光光刻機(jī)使用所述圖像或矢量數(shù)據(jù)來控制激光束相對(duì)于所述基底的位置，并控制入射到基底上激光束的強(qiáng)度和作用時(shí)間。在激光光刻中，已經(jīng)確立了多種方法。例如，寫入光束可以固定在空間中，且基板可相對(duì)于此移動(dòng)。也可以將基底固定在空間中，且寫入光束相對(duì)于基底移動(dòng)。此外，也可以是基板和所述激光束均移動(dòng)。也可以用單調(diào)光調(diào)制器調(diào)節(jié)寫入光束，從而同時(shí)曝光相對(duì)較大的基底面積。同樣的原理，與入光束和基底可移動(dòng)。
[0017]在激光光刻中，分辨率是由所使用的波長和所使用的光學(xué)原理限制。為了能夠生產(chǎn)出具有最大可能的分辨率的結(jié)構(gòu)，優(yōu)選使用短的波長。合適的波長在0.2微米至10微米的范圍內(nèi)，優(yōu)選在0.2微米到I微米的范圍內(nèi)。更短的波長同樣是可能的。使用這些波長，能夠產(chǎn)生在可見光范圍(波長為約0.4微米至0.7微米)內(nèi)有效的結(jié)構(gòu)。因此，它可以產(chǎn)生可見光量級(jí)的光柵常數(shù)的衍射光柵，其具有大的衍射角，因此可以特別好地察覺到。全息圖也有相應(yīng)大的衍射角。制備光學(xué)可變?cè)梢灾挥酶叻直媛始す夤饪碳夹g(shù)，在這種情況下，基本分辨率必須小于20微米，優(yōu)選小于5微米。
[0018]由于這種制造方法，使用激光光刻術(shù)制造的光學(xué)元件可以完全個(gè)性化設(shè)計(jì)。所有的結(jié)構(gòu)都可以獨(dú)立配置。這可以通過數(shù)值或字母數(shù)字序列號(hào)的輔助或由獨(dú)立的圖形元素例如圖像或扭索飾來完成。
[0019]作為激光光刻技術(shù)的基底材料，在壓花光學(xué)可變?cè)那闆r下，特別是使用金屬化膜或者金屬化涂層。在這種情況下，將調(diào)整激光束的波長、強(qiáng)度、脈沖長度、形狀和寫入能量，以使得基底材料特定的預(yù)定位置脫金屬化，并因此變得透明或半透明。這是通過燒蝕(ablating)金屬層，通過朝所述曝光位置邊緣移動(dòng)金屬層或者通過將所述金屬層轉(zhuǎn)化成透明或半透明的氧化物層來進(jìn)行。也可能發(fā)生上述三種效應(yīng)的混合。脫金屬化可以相對(duì)于由激光光刻生產(chǎn)的其它結(jié)構(gòu)精確匹配地定向，因?yàn)樗鼈兛稍谙嗤钠毓膺^程中引入。由于在激光光刻技術(shù)的情況下，脫金屬化原則上隨高分辨率激光光刻過程發(fā)生，因此可以產(chǎn)生高分辨率的脫金屬化結(jié)構(gòu)。這些包括微縮描述(microscripts),散射結(jié)構(gòu),灰度值或灰階楔(gray step wedges)。這樣的灰度值可以在半色調(diào)方法中通過合適的柵格化(rastering)來生產(chǎn)，在某一個(gè)區(qū)域，該半色調(diào)方法僅在該區(qū)域的一部分脫金屬化成為光柵。在灰階楔的情況下，通過在該區(qū)域內(nèi)順應(yīng)柵格化，逐漸增加脫金屬化表面比例。
[0020]在激光光刻技術(shù)的情況下，除了完全脫金屬化，也可以通過精確調(diào)整寫入過程中引入的激光能量來減少金屬層厚度。通過減少金屬層厚度，金屬層的透光率增加?；叶戎祷蚧译A楔也可以用這種方式產(chǎn)生。
[0021]由高分辨率激光光刻生產(chǎn)光學(xué)可變?cè)艿揭欢ǖ叵拗?。例?基本分辨率受所使用的寫入激光的波長和所使用的光學(xué)原理限制。由于高的寫入速率和因此得到的高產(chǎn)量的目的是實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)，期望進(jìn)一步降低分辨率，因?yàn)檫@樣，就可以在較短的時(shí)間內(nèi)曝光更大的區(qū)域。在這種情況中使用的典型的基本分辨率為0.5微米到5微米。在激光光刻中，因此可以假設(shè)有限的分辨率。對(duì)于生產(chǎn)衍射結(jié)構(gòu)，例如光柵或全息圖，由于該有限的分辨率，不是所有的衍射角都可以實(shí)現(xiàn)。此外，通過激光光刻在材料中實(shí)現(xiàn)的相位或振幅調(diào)制并不理想，因此，沒有達(dá)到衍射結(jié)構(gòu)的理論最大衍射效率。
[0022]根據(jù)本發(fā)明，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，壓花光學(xué)可變?cè)艿南拗坪图す夤饪讨圃斓墓鈱W(xué)可變?cè)艿南拗剖遣糠只パa(bǔ)的。例如，壓花光學(xué)可變?cè)荒芡耆苯亓水?dāng)?shù)貍€(gè)性化，而激光光刻制造的光學(xué)可變?cè)s可以。壓花光學(xué)可變?cè)荒茉诘诙に嚥襟E中脫金屬化，而激光光刻制造的光學(xué)可變?cè)梢跃_匹配地在一個(gè)工藝中曝光和脫金屬化。壓花光學(xué)可變?cè)拿摻饘倩缘偷姆直媛蔬M(jìn)行，而激光光刻工藝中的脫金屬化可按該工藝的完全分辨率進(jìn)行。激光光刻制造的光學(xué)可變?cè)ǔＪ鞘苡邢薜姆直媛实南拗疲鴫夯ü鈱W(xué)可變?cè)t沒有這樣的限制。此外，它們通常受到有限的衍射效率的限制，而可用光學(xué)可變?cè)慝@得非常高的衍射效率。
[0023]根據(jù)本發(fā)明，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，存在既適于壓花光學(xué)可變?cè)策m用于激光光刻制造的光學(xué)可變?cè)幕撞牧?。這種材料是復(fù)合層的金屬化膜或涂層。為了允許高效的激光光刻涂層，光學(xué)厚度(OT)應(yīng)該盡可能地小。另一方面，當(dāng)OT較小時(shí)，金屬化層的反射程度相應(yīng)變少。已發(fā)現(xiàn)適合的OT的所述范圍為0.1到10，優(yōu)選為0.8到3。
[0024]就該方法而言，通過具有權(quán)利要求11特征的方法能實(shí)現(xiàn)該目的。優(yōu)選的改進(jìn)是從屬權(quán)利要求的主題。
[0025]根據(jù)本發(fā)明，將非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)壓印到載體的金屬層，并且借助于激光將激光光刻結(jié)構(gòu)曝光到金屬化層。曝光產(chǎn)生的所述光刻結(jié)構(gòu)具有小于20微米的分辨率,優(yōu)選小于5微米，并且壓花結(jié)構(gòu)和光刻結(jié)構(gòu)一起形成至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)５?，也可考慮I微米或更小的較聞分辨率。
[0026]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，將光學(xué)可變?cè)诘谝还に嚥襟E中壓印，和在第二工藝步驟中激光光刻曝光。在本發(fā)明的另一種實(shí)施方式中，將所述光學(xué)可變?cè)诘谝还に嚥襟E中激光光刻曝光，和在第二工藝步驟中壓印。在本發(fā)明的另一種實(shí)施方式中，首先將所述光學(xué)可變?cè)M(jìn)行壓印，隨后施加(優(yōu)選可粘性粘接或密封)到制品，并且隨后在進(jìn)一步的工藝步驟中激光光刻曝光。在這種情況下，所述制品可能是，例如，產(chǎn)品，產(chǎn)品包裝，標(biāo)識(shí)，紙幣，文件，塑料卡片，膜或標(biāo)簽。
[0027]作為與本發(fā)明有關(guān)的光學(xué)可變?cè)幕?，合適的是既可以壓印又可以激光光刻曝光的材料。特別地，這些是金屬化涂層或膜，特別是聚合物膜，例如PET，PMMA，PVC,BOPP0所述金屬化涂層或膜優(yōu)選在復(fù)合層中，其中存在另外的層，例如進(jìn)一步的涂層或膜，尤其是聚合物薄膜或粘合劑層，例如丙烯酸酯粘合劑混配物或熱熔粘合劑?；膬?yōu)選具有至少一層粘合劑層的標(biāo)簽材料。在另一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，基材是一種含有金屬化層和熱熔粘合劑的熱封膜。在另一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，基材是包含金屬化層的冷封膜。所述涂層或膜的金屬化可通過蒸發(fā)、濺射或通過用金屬顏料墨打印來產(chǎn)生。該金屬化可以在基材的表面上，或者也可以位于內(nèi)部。
[0028]根據(jù)本發(fā)明，該光學(xué)可變?cè)膲河〖庸び靡环N非獨(dú)立整體設(shè)計(jì)進(jìn)行，其是大量復(fù)制的且特別是可以含有所有公知的壓花光學(xué)可變?cè)慕Y(jié)構(gòu)。這種非獨(dú)立的整體設(shè)計(jì)被稱為壓花結(jié)構(gòu)。
[0029]激光光刻曝光的整體設(shè)計(jì)可以包含靜態(tài)的、重復(fù)的結(jié)構(gòu)和序列的、變化的結(jié)構(gòu)，例如數(shù)字或字母數(shù)字序列號(hào)，這種序列號(hào)或者個(gè)體圖形的全息圖。所述激光光刻曝光的整體設(shè)計(jì)也可含有脫金屬化或者脫金屬化為光柵的區(qū)域。激光光刻曝光的整體設(shè)計(jì)稱為激光光刻結(jié)構(gòu)。
[0030]根據(jù)本發(fā)明，所述非獨(dú)立壓花結(jié)構(gòu)和所述獨(dú)立激光光刻結(jié)構(gòu)一起形成至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?。在這種情況下，所述壓花結(jié)構(gòu)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)、或其單獨(dú)的區(qū)域，可以彼此空間分離的布置。另外，所述壓花結(jié)構(gòu)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)、或其單獨(dú)的區(qū)域，可以部分或完全重疊的布置。另外，所述壓花結(jié)構(gòu)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)、或其單獨(dú)的區(qū)域，可以相間錯(cuò)雜或交叉地布置。
[0031]憑借本發(fā)明的，能夠生產(chǎn)一種光學(xué)可變?cè)?，其包含可專門僅由壓印制造的結(jié)構(gòu)以及可專門僅由激光光刻制造的結(jié)構(gòu)兩者。通過該壓花結(jié)構(gòu)與激光光刻結(jié)構(gòu)的組合，獨(dú)立的結(jié)構(gòu)可以以圖形方式和邏輯方式組合。獨(dú)立的結(jié)構(gòu)可以相輔相成。由于激光光刻提供了脫金屬化的可能性，該壓花結(jié)構(gòu)的獨(dú)立區(qū)域都可以單獨(dú)地破壞。
[0032]通過該壓花結(jié)構(gòu)與激光光刻結(jié)構(gòu)的組合，可以形成新的結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)不能從不根據(jù)本發(fā)明方法生產(chǎn)的傳統(tǒng)光學(xué)可變?cè)弥＠?，通過用在激光光刻中盡可能高的分辨率的脫金屬化，壓花結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)可以部分或完全破壞。這種破壞可以單獨(dú)進(jìn)行。由于所述脫金屬化具有高的分辨率，可以在脫金屬化中使用柵格化，該壓花結(jié)構(gòu)在這些位置逐漸破壞。特別是，通過柵格化，有可能在脫金屬化時(shí)產(chǎn)生一種灰度特性(gray profile),由此使所述壓花結(jié)構(gòu)產(chǎn)生灰度特性，這是一種人眼可察覺的漸變轉(zhuǎn)化。這種結(jié)構(gòu)無法通過常規(guī)的方法來制備。除了柵格化，也可以通過受控制地調(diào)制在激光光刻曝光中使用的激光功率來實(shí)現(xiàn)脫金屬化中的灰度值或灰度特性。新結(jié)構(gòu)的另一個(gè)例子是精細(xì)衍射結(jié)構(gòu)，例如線或點(diǎn)，其具有高衍射效率和任何所需的衍射角，其可以是獨(dú)立的。在這種情況下，壓花設(shè)計(jì)的預(yù)定的衍射區(qū)域基本上脫金屬化，使得只有精細(xì)結(jié)構(gòu)保留。這些保留的金屬化精細(xì)結(jié)構(gòu)能夠有非常高的衍射效率和任何所需的衍射角，因?yàn)檫@兩個(gè)因素是由壓印確定的，并且因?yàn)樗鼈冇杉す夤饪趟a(chǎn)生而可以是獨(dú)立的且高分辨的。高分辨率的激光光刻賦予所述結(jié)構(gòu)精細(xì)度，其分辨率顯著高于其他的脫金屬化方法的分辨率。
[0033]在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述激光光刻曝光可以相對(duì)壓印精確配合地進(jìn)行。這可以在以下條件下實(shí)現(xiàn)，即，如果在光學(xué)可變?cè)闹谱髦校紫冗M(jìn)行壓印，隨后進(jìn)行激光光刻。精確的配合可以通過激光光刻中的特殊措施保證，例如，通過由觸發(fā)傳感器或攝像機(jī)來檢測(cè)預(yù)壓花結(jié)構(gòu)的特征來保證精確配合。這樣的特征可以專門納入壓花設(shè)計(jì)，以實(shí)現(xiàn)高度精確的配合。因?yàn)樵谖锪陷斔椭?，激光光刻通常具有高精確度和引導(dǎo)準(zhǔn)確度(guidefidelity)，激光光刻設(shè)計(jì)相對(duì)于所述壓花設(shè)計(jì)的精確配合定向?qū)す夤饪虥]有例外的要求。可以實(shí)現(xiàn)激光光刻的分辨率量級(jí)的精確匹配。
[0034]如果，在生產(chǎn)過程中，先進(jìn)行激光光刻而后進(jìn)行壓印，那么所述壓印可以精確配合到由激光光刻引入的結(jié)構(gòu)中。為此，首先，激光光刻結(jié)構(gòu)的位置需要通過觸發(fā)傳感器或攝像裝置檢測(cè)，然后，所述壓印的位置需要調(diào)整到這個(gè)位置。這可以通過壓印工藝的橫向或時(shí)間補(bǔ)償，或通過擴(kuò)展基底材料完成。
[0035]在本發(fā)明的另一種實(shí)施方式中，用適當(dāng)選擇的預(yù)壓花結(jié)構(gòu)或者激光光刻結(jié)構(gòu)，可以解決兩個(gè)結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)確匹配定向。例如，如果其中兩個(gè)結(jié)構(gòu)之一包括連續(xù)重復(fù)的圖形元素例如扭索飾、正弦線、鋸齒線、條帶、或點(diǎn)狀圖案，那么，由于結(jié)構(gòu)重復(fù)，精確匹配是沒有必要的。優(yōu)選使用不需要與激光光刻結(jié)構(gòu)精確匹配的壓花結(jié)構(gòu)。
[0036]該具有光學(xué)可變?cè)姆纻屋d體可以密封或可粘性粘接到制品上，例如產(chǎn)品，產(chǎn)品包裝，標(biāo)識(shí)，文件，鈔票，塑料卡等。也可以在將載體制成到其它標(biāo)簽上之后，將該標(biāo)簽密封或可粘性粘接，之后將載體本身又可粘性粘接到制品上。在這兩種情況下，能夠使所述制品或所述另外的標(biāo)簽的設(shè)計(jì)適應(yīng)所述光學(xué)可變?cè)脑O(shè)計(jì)。這在所述載體的子區(qū)域脫金屬化時(shí)特別地適宜。然后，在脫金屬化的子區(qū)域中，能夠看到所述制品或所述另外的標(biāo)簽上的下層設(shè)計(jì)。這種可能是因?yàn)槊摻饘倩訁^(qū)域變?yōu)橥该骰虬胪该鳡?。在這種方式中，除了壓花結(jié)構(gòu)和激光光刻結(jié)構(gòu)之外，該配置中也可包含所述制品或所述另外的標(biāo)簽的基礎(chǔ)設(shè)計(jì)。這種基礎(chǔ)設(shè)計(jì)可以按適當(dāng)?shù)姆绞脚c壓花結(jié)構(gòu)和激光光刻結(jié)構(gòu)所指定的壓花設(shè)計(jì)和光刻設(shè)計(jì)進(jìn)行組合。在這種情況下，除了圖形組合之外，也可以進(jìn)行邏輯組合。所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)既可包含靜態(tài)元素也可包含獨(dú)立元素，例如，它們可以通過獨(dú)立的印刷技術(shù)制造。獨(dú)立元素可以是數(shù)字或字母數(shù)字序列號(hào)，條形碼或獨(dú)立的圖形。所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)的獨(dú)立組件可以按照邏輯和圖形與激光光刻設(shè)計(jì)的獨(dú)立組件相組合。例如，所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)可包含與激光光刻設(shè)計(jì)完全或部分重復(fù)的數(shù)字或字母數(shù)字序列號(hào)。所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)和激光光刻設(shè)計(jì)可包含數(shù)字或字母數(shù)字編號(hào)，它們通過數(shù)據(jù)庫或通過數(shù)學(xué)運(yùn)算彼此結(jié)合。但是，所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)的靜態(tài)元素也可能與激光光刻設(shè)計(jì)的獨(dú)立元素相結(jié)合。例如，在激光光刻設(shè)計(jì)中，可以獨(dú)立地使子區(qū)域脫金屬化，這使得能夠看到基礎(chǔ)設(shè)計(jì)的某些地區(qū)。以這種方式，例如，能單獨(dú)地看到所述基礎(chǔ)設(shè)計(jì)的數(shù)字或彩色區(qū)域。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0037]以下將在11個(gè)附圖中的示例性實(shí)施方式的輔助下描述本發(fā)明，其中:
[0038]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的條帶狀載體，其具有沒有精確配合的壓花和光刻設(shè)計(jì)。
[0039]圖2示出了具有精確配合的壓花設(shè)計(jì)和光刻設(shè)計(jì)的條帶狀載體。
[0040]圖3示出了根據(jù)圖1的載體，每個(gè)獨(dú)立標(biāo)簽都具有標(biāo)記線。
[0041]圖4示出了根據(jù)圖2的載體，每個(gè)獨(dú)立標(biāo)簽都具有標(biāo)記線。
[0042]圖5示出了 5種單獨(dú)地實(shí)施例，其壓花設(shè)計(jì)和光刻設(shè)計(jì)以及標(biāo)記線關(guān)聯(lián)配置。
[0043]圖6顯示了壓花設(shè)計(jì)，光刻設(shè)計(jì)和組合的灰階楔設(shè)計(jì)。
[0044]圖7顯示了由壓花設(shè)計(jì)制造的精細(xì)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和由光刻設(shè)計(jì)制造的精細(xì)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。
[0045]圖8示出的是由壓花設(shè)計(jì)和激光光刻設(shè)計(jì)組成的組合設(shè)計(jì)。
[0046]圖9示出的是由壓花設(shè)計(jì)和激光光刻設(shè)計(jì)組成的組合設(shè)計(jì)的另一種實(shí)例。
[0047]圖10顯示了壓花設(shè)計(jì)，激光光刻設(shè)計(jì)，標(biāo)簽上的組合設(shè)計(jì)，包裝表面以及應(yīng)用到該包裝表面的標(biāo)簽。
[0048]圖11顯示了壓花設(shè)計(jì)，激光光刻設(shè)計(jì)，標(biāo)簽上的組合設(shè)計(jì)，包裝表面以及應(yīng)用到該包裝表面的標(biāo)簽。
[0049]圖1示出了具有金屬化層2的載體1，其既包括壓花設(shè)計(jì)A也包括激光光刻設(shè)計(jì)B0

【具體實(shí)施方式】
[0050]引用的附圖標(biāo)記一方面指代該壓花設(shè)計(jì)A或該激光光刻設(shè)計(jì)B，但同時(shí)也指代金屬化層2內(nèi)的壓花結(jié)構(gòu)或激光光刻結(jié)構(gòu),設(shè)計(jì)A, B基于所述壓花結(jié)構(gòu)或激光光刻結(jié)構(gòu)。
[0051]連續(xù)波浪線和三條平行線代表所述壓花設(shè)計(jì)A的用于靜態(tài)結(jié)構(gòu)的占位符(placeholder)。序列號(hào)和橢圓表示激光光刻設(shè)計(jì)B的獨(dú)立和靜態(tài)結(jié)構(gòu)的占位符。所述占位符作象征性地理解，并代表可以通過壓印工藝或激光光刻來制造的任何結(jié)構(gòu)。該布置和符號(hào)數(shù)目也僅理解為舉例。
[0052]所述壓印和激光光刻曝光沒有彼此精確的配合。這可以從該序列號(hào)相對(duì)于波浪線的遷移看出來。但是，因?yàn)樾蛄刑?hào)總是位于波浪線上，所以這兩種設(shè)計(jì)組合在一起。該組合是通過兩種設(shè)計(jì)的固定垂直關(guān)系進(jìn)行的。
[0053]圖2示出了壓花設(shè)計(jì)A和激光光刻設(shè)計(jì)B彼此精確配合的載體。壓印A和激光光刻曝光B彼此精確的配合。這可以從序列號(hào)并不相對(duì)于波浪線遷移的事實(shí)看出來。通過精確的配合，這兩種設(shè)計(jì)能完全組合在一起。這種組合是通過兩種設(shè)計(jì)A，B的固定的水平和垂直關(guān)系進(jìn)行。
[0054]圖3顯示了具有根據(jù)圖1的彼此沒有精確匹配的壓花設(shè)計(jì)A和光刻設(shè)計(jì)B的載體1，顯示了標(biāo)記線7在獨(dú)立光學(xué)元件6的周圍。虛線圓表示的是用于標(biāo)簽的標(biāo)記線7或用于進(jìn)行熱密封應(yīng)用的模具形狀，并因此表示施用光學(xué)可變?cè)?的對(duì)象上的光學(xué)可變?cè)?的邊界。標(biāo)記線7并非必須是圓形的，而是可以具有任何其他期望的形狀，例如橢圓形，多邊形，圓角多邊形等。
[0055]所述壓印A和激光光刻曝光B沒有彼此精確的配合來布置。但是，所述激光光刻曝光B相對(duì)于光學(xué)可變?cè)?的邊界和載體I的邊界精確的配合來布置，以使每個(gè)光學(xué)可變?cè)?進(jìn)行獨(dú)特的個(gè)性化。
[0056]圖4示出了載體1，其中壓印A和激光光刻曝光B彼此精確的配合并且相對(duì)于光學(xué)可變?cè)?的邊界和載體I的邊界精確的配合來布置。
[0057]在圖5中，虛線圓表示的是用于標(biāo)簽的標(biāo)簽線7或用于熱密封應(yīng)用中模具的形狀，因此也是最終產(chǎn)品中光學(xué)可變?cè)?的邊界。示意了結(jié)構(gòu)A、B的各種可能的布置。區(qū)域A表示的是壓花設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)，以及區(qū)域B表示的是激光光刻設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)。獨(dú)立的結(jié)構(gòu)A、B可以是彼此分開，也可以部分或完全重疊。在一種設(shè)計(jì)中，一些子區(qū)域也可以重疊且其他子區(qū)域不重疊。除了所示的布置外，相間錯(cuò)雜的或交叉的布置也是可能的。
[0058]根據(jù)圖6，壓花設(shè)計(jì)由含有壓花結(jié)構(gòu)的區(qū)域A組成。激光光刻設(shè)計(jì)由高分辨率光柵灰階楔8的區(qū)域B組成。在該實(shí)施例中，灰階楔8從沒有脫金屬化到脫金屬化逐漸過渡轉(zhuǎn)變。以這種方式，壓花區(qū)域A在區(qū)域B中逐漸過渡地被破壞，所以對(duì)觀察者來說，壓花結(jié)構(gòu)逐漸融合。如果壓花結(jié)構(gòu)是閃爍出彩虹的顏色的微光的衍射光柵，那么這種閃爍將在區(qū)域B中逐步淡出。如果壓花結(jié)構(gòu)是全息圖，則在視覺上全息圖會(huì)在區(qū)域B中逐漸淡出。標(biāo)記線7再次限定光學(xué)可變?cè)?的邊界。
[0059]以這種方式，生產(chǎn)一種既不能僅由壓花工藝生產(chǎn)也不能僅由激光光刻生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)。
[0060]根據(jù)圖7，壓花設(shè)計(jì)由含有壓花結(jié)構(gòu)的區(qū)域A組成。激光光刻設(shè)計(jì)由大片區(qū)域被脫金屬化且精細(xì)的高分辨的線保留的區(qū)域B組成。以這種方式，在區(qū)域B內(nèi)只留下壓花區(qū)域A的精細(xì)的壓花線。如果壓花結(jié)構(gòu)是閃爍出彩虹的顏色的微光的衍射光柵，那么這些精細(xì)線也會(huì)閃爍彩虹顏色的微光。這些光柵現(xiàn)在可以按它們不能通過激光光刻工藝來制造的方式配置。
[0061]以這種方式，生產(chǎn)一種既不能單獨(dú)由壓印工藝也不能單獨(dú)由激光光刻來生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)。標(biāo)記線7再次限定光學(xué)可變?cè)?的邊界。
[0062]在圖8中，壓花設(shè)計(jì)A由標(biāo)識(shí)，精致鈕索紋和全表面區(qū)域(陰影部分)組成。這三個(gè)區(qū)域可以由不同結(jié)構(gòu)組成；例如，所述標(biāo)識(shí)可以配置為彩虹全息圖，所述扭索紋配置為2D全息圖，所述全表面區(qū)域配置為折射或衍射結(jié)構(gòu)。激光光刻設(shè)計(jì)B由方形結(jié)構(gòu)、兩個(gè)細(xì)線、第一個(gè)序列號(hào)和第二反序列號(hào)組成。所述方形結(jié)構(gòu)可是由計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的具有獨(dú)立內(nèi)容的傅立葉全息圖，所述兩個(gè)細(xì)線可以由衍射光柵組成，上面的所述序列號(hào)可以由菲涅耳全息圖組成。對(duì)于下部的反序列號(hào)的情況，序列號(hào)的外部區(qū)域被脫金屬化。
[0063]如果根據(jù)本發(fā)明將這兩種設(shè)計(jì)都引入到金屬化層2，則得到了組合設(shè)計(jì)的光學(xué)可變?cè)?。一方面，這種設(shè)計(jì)由分別分別包括兩種設(shè)計(jì)中的一種的可分區(qū)域組成，例如標(biāo)識(shí)或傅立葉全息圖。另一方面，它是由部分重疊結(jié)構(gòu)組成，如扭索紋、線紋和第一序列號(hào)。而且它是由組合結(jié)構(gòu)組成，例如激光光刻的反顯式第二序列號(hào)，在數(shù)字中載有壓印加工的折射或衍射結(jié)構(gòu)。
[0064]以這種方式，生產(chǎn)一種無法由單獨(dú)的壓印或由單獨(dú)的激光光刻生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)。
[0065]圖8顯示壓花設(shè)計(jì)A和激光光刻設(shè)計(jì)B的邏輯組合。在壓花設(shè)計(jì)A中有數(shù)字I至
5。根據(jù)激光光刻設(shè)計(jì)B的序列號(hào)的最后一位數(shù)字，單獨(dú)保留重復(fù)序列號(hào)的最后一位數(shù)字的區(qū)域。該光學(xué)可變?cè)?表示了邏輯組合。
[0066]圖10首先顯示的是壓花設(shè)計(jì)A，然后是光刻設(shè)計(jì)B，在圖10的第三圖像中，顯示了壓花設(shè)計(jì)A和光刻設(shè)計(jì)B的組合。第三圖像表示的是標(biāo)簽形式的光學(xué)可變?cè)?。激光光刻設(shè)計(jì)B的下方數(shù)字序列是透明的。第四圖像示出了具有在本申請(qǐng)表示為波浪狀結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的制品的表面11，所述制品例如包裝。由于將光學(xué)可變?cè)?應(yīng)用到制品的表面11上，位于所述光學(xué)可變?cè)?的透明區(qū)域10下方的所述結(jié)構(gòu)可以透過所述區(qū)域閃耀。
[0067]按類似圖10的方式，圖11所示的是表面11的結(jié)構(gòu)之間的邏輯組合，其額外地設(shè)置了一組序列號(hào)。按照序列號(hào)的最后一位數(shù)字，將區(qū)域10單獨(dú)脫金屬化。數(shù)字1-5是靜態(tài)印刷在制品的表面11上的；通過脫金屬化區(qū)域10可以看到表面11上的對(duì)應(yīng)數(shù)字。
[0068]附圖標(biāo)記列表
[0069]I 載體
[0070]2金屬化層
[0071]6光學(xué)元件
[0072]7標(biāo)記線
[0073]8灰色光楔
[0074]10脫金屬化/透明區(qū)域
[0075]11 表面
[0076]A壓花設(shè)計(jì)
[0077]B激光光刻設(shè)計(jì)
【權(quán)利要求】
1.一種具有至少一個(gè)金屬化層(2)的防偽載體(I)，在其中引入有至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)，并且所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)具有非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)(A)，其特征在于: 所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)具有獨(dú)立的激光光刻結(jié)構(gòu)(B)，該激光光刻結(jié)構(gòu)具有小于20微米的分辨率。
2.如權(quán)利要求1所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述分辨率小于5微米。
3.如權(quán)利要求1或2所述的防偽載體(I)，其特征在于:所述將壓花結(jié)構(gòu)(A)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)(B)引入到同一金屬化層(2)。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的防偽載體(1)，其特征在于:所述壓花結(jié)構(gòu)(A)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)(B)至少在一些子區(qū)域重疊。
5.如權(quán)利要求1至4中至少一項(xiàng)所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述壓花結(jié)構(gòu)(A)和所述激光光刻結(jié)構(gòu)(B)彼此精確配合的布置。
6.如權(quán)利要求1至5中至少一項(xiàng)所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述激光光刻結(jié)構(gòu)(B)至少在子區(qū)域(10)至少局部地脫金屬化。
7.如權(quán)利要求6所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述子區(qū)域(10)完全脫金屬化。
8.如權(quán)利要求6或7所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述子區(qū)域(10)作為光柵脫金屬化。
9.如權(quán)利要求8所述的防偽載體(I)，其特征在于，在子區(qū)域(10)中，所述脫金屬化的柵格化是逐漸增大的。
10.如前述權(quán)利要求中的至少一項(xiàng)所述的防偽載體(I)，其特征在于，所述光學(xué)可變?cè)?6)在子區(qū)域(10)中是透明的。
11.一種具有至少一個(gè)金屬化層(2)的防偽載體(I)的制造方法，其通過以下步驟制造 壓花加工一種非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)㈧到所述金屬化層⑵內(nèi)和借助于激光將獨(dú)立的激光光刻結(jié)構(gòu)(B)光刻曝光到金屬化層(2)內(nèi)， 以小于20微米的分辨率曝光所述光刻結(jié)構(gòu)(B)， 由壓花結(jié)構(gòu)(A)和所述光刻結(jié)構(gòu)(B) —起形成所述至少一個(gè)光學(xué)可變?cè)?6)。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)(A)首先沿著所述載體(I)壓花到所述金屬化層⑵內(nèi)，然后，獨(dú)立的激光光刻結(jié)構(gòu)⑶曝光到所述金屬化層(2)內(nèi)。
13.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，獨(dú)立的激光光刻結(jié)構(gòu)(B)首先沿所述載體(I)曝光到金屬化層(2)內(nèi)，隨后，非獨(dú)立的壓花結(jié)構(gòu)(A)壓花到所述金屬化層(2)內(nèi)。
14.如權(quán)利要求11、12或13中至少一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述激光光刻結(jié)構(gòu)(B)和所述壓花結(jié)構(gòu)(A)彼此精確配合的引入到金屬化層(2)內(nèi)。
15.如權(quán)利要求11至14中至少一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述光刻結(jié)構(gòu)(B)的子區(qū)域(11)脫金屬化到透明的程度，所述壓花結(jié)構(gòu)(A)的子區(qū)域相對(duì)于所述透明子區(qū)域(10)布置，使它們通過透明子區(qū)域(10)閃光。
16.如權(quán)利要求11至15中至少一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述載體(I)是在所述光學(xué)可變?cè)?6)之間分離的，并且將所述光學(xué)可變?cè)?6)應(yīng)用到制品、特別是包裝上。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，所述光學(xué)可變?cè)?6)設(shè)有透明子區(qū)域(II)，并且所述制品的表面標(biāo)識(shí)透過所述透明子區(qū)域(10)閃光。
【文檔編號(hào)】B42D15/00GK104144796SQ201380012081
【公開日】2014年11月12日 申請(qǐng)日期:2013年2月18日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月2日
【發(fā)明者】S·博格施米勒, K·舒爾特-威金, S·諾埃特, B·特哈利 申請(qǐng)人:蒂薩斯克里博斯有限責(zé)任公司