專利名稱：激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其適于用作例如在液晶顯示器、等 離子體顯示器等顯示裝置中進行電路圖案的缺陷修復的激光修補裝置等。
背景技術(shù)：
以往，在液晶顯示器、等離子體顯示器等顯示裝置中，為進行電路圖案
的缺陷修復，采用利用激光CVD法的激光修補裝置。
利用該激光CVD法的激光修補裝置利用激光的化學氣相生長法，具體而 言，將激光照射到置于原料氣體中的基板，通過促進激光照射面的原料氣體 的化學、物理反應，使原料氣體的覆膜在基板上的修復部位生長。
但是，針對利用這樣現(xiàn)有的激光CVD法的激光修補裝置，提出了如下問 題，即，作為修復材料只能使用可氣化的材料(W、 Cr、 Mo),而且由于利 用激光照射面的原料氣體的化學、物理反應，因此，修復速度慢。
另一方面，作為可解決這樣問題的激光修補裝置，已知有利用激光轉(zhuǎn)印 法(LMT: Laser Metal Transfer)的激光修補裝置(例如參照專利文獻l )。
圖11 (a) - (d)表示利用該激光轉(zhuǎn)印法的激光修補裝置的原理。圖中， a是石英玻璃板，b是作為修復材料的導電性金屬薄膜，c是基板，d是電路 圖案，e是透鏡，f是激光束，g是電路圖案上的缺陷部位，b，是飛起的金屬 薄膜。另外，該例中，將石英玻璃板a和薄膜b合并而成為轉(zhuǎn)印板。
在該激光轉(zhuǎn)印法中，首先，如圖11 (a)所示，在具有缺陷部位g的基板 c上，將具有修復材料的薄膜b的石英玻璃板a隔開距離L與物面相對，如圖 ll(b)所示，經(jīng)由透鏡e將激光束f聚焦成規(guī)定的點形狀進行照射。于是， 如圖11 (c)所示，被照射激光束f的薄膜部分b，飛起，如圖11 (d)所示， 附著于電路圖案d上的缺陷部分g上。此時，在設修復部分的線寬為2~5m m時，距離L為1 p —20la程度。
專利文獻1:(日本國)特開2000-31013號公報
在使用這樣現(xiàn)有的激光轉(zhuǎn)印法的激光修補裝置中，作為修復材料的金屬覆膜，可選擇Al、 Ni、 Ta、 W、 Ti、 Au、 Ag、 Cu、 Cr等這樣的各種金屬， 而且，由于可通過只照射激光來對轉(zhuǎn)印板進行修復，故具有修復速度快的優(yōu) 點。
然而，在這種激光修補裝置中，為了在成為修補對象物的顯示器件等的 表面得到所需要的線寬的轉(zhuǎn)印膜，需要始終將轉(zhuǎn)印對象物表面和轉(zhuǎn)印材料覆 膜的距離維持在微米級(例如1 ~ 20 m m )。
但是，由于在這種修補對象物(顯示裝置的基板等)的表面存在微米級 的凹凸，因此，在修補對象物上的任何位置將與表面的距離始終維持在微米 級(例如l~20pm),對于利用伺服電機、線性電機等的通常的伺服控制技 術(shù)是困難的。
而且，這種修補對象物(顯示器件等)容易受電、磁的影響，因此，也 無法采用利用靜電及磁的浮起控制方式。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于這樣現(xiàn)有的問題而提出的，其目的在于提供一種激光轉(zhuǎn) 印裝置的轉(zhuǎn)印頭，在以激光修補裝置為代表的這種激光轉(zhuǎn)印裝置中，能夠?qū)?轉(zhuǎn)印材料薄膜與轉(zhuǎn)印對象物的距離始終維持在微米級(例如1 -20jam)。
對于本發(fā)明的其它目的及作用效果，通過參照iJt明書的以下記述，對于 本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是容易理解的。
上述技術(shù)課題可利用具有以下結(jié)構(gòu)的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭來解決。
本發(fā)明提供一種激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其用于對在具有激光透過性的 板狀小片的物面覆蓋轉(zhuǎn)印材料薄膜而構(gòu)成的轉(zhuǎn)印板進行支承，以使得所述轉(zhuǎn) 印板與轉(zhuǎn)印對象物的大致水平的被轉(zhuǎn)印面兩者間保持微細的大致一定間隙， 并在使轉(zhuǎn)印材料薄膜與所述轉(zhuǎn)印對象物的大致水平的被轉(zhuǎn)印面面對的狀態(tài)下 進行支承，
該激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭具有轉(zhuǎn)印板保持架，其在下面保持所述轉(zhuǎn)印 板，且開設有使所述轉(zhuǎn)印板從上面?zhèn)嚷冻龅霓D(zhuǎn)印窗；轉(zhuǎn)印頭機體，其具有所 述轉(zhuǎn)印板保持架收容用的空間并且給予水平方向及垂直方向的位置基準；保
內(nèi)的轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體上下能夠移動而水平不能移動地進 行支承；以及轉(zhuǎn)印板浮起裝置，其通過向所述轉(zhuǎn)印板保持架的下方噴射氣體,使所述轉(zhuǎn)印板與所述轉(zhuǎn)印板保持架一起相對于所述被轉(zhuǎn)印面浮起。
其中，所述轉(zhuǎn)印板浮起裝置，為向所述轉(zhuǎn)印板保持架的下方噴射氣體而
具有多個氣體噴射孔，并且，這些氣體噴射孔按照圍繞所述轉(zhuǎn)印板外周的方
式配置于所述轉(zhuǎn)印板保持架的下面。
其中，作為"氣體"，根據(jù)修補對象物的性質(zhì)可采用各種氣體。在修補對
象物為不適合電路圖案等氧化的材料時，作為氣體的種類，可采用惰性氣體 (例如氮氣等)。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，用于將轉(zhuǎn)印對象物的被轉(zhuǎn)印面和轉(zhuǎn)印板的距離維持在 微小值的控制不僅是使用了伺服電機、線性電機等的電伺服控制，而且是通 過吹入轉(zhuǎn)印板保持架和被轉(zhuǎn)印面之間的氣體進行,因此，即使在使設于轉(zhuǎn)印 板保持架上的轉(zhuǎn)印板和被轉(zhuǎn)印面隔開微細距離相對的狀態(tài)下使兩者相對移動 ,也能夠使轉(zhuǎn)印板追隨被轉(zhuǎn)印面上的凹凸而適當?shù)厣舷聞幼?，因此，可將?轉(zhuǎn)印板的水平移動中觸及被轉(zhuǎn)印面上的大的隆起而損害構(gòu)成被轉(zhuǎn)印面的修補 對象物等的可能性防患于未然。
特別是在這種激光轉(zhuǎn)印裝置作為激光修補裝置實現(xiàn)時，為修復電路圖案 上的缺陷，需要一邊使轉(zhuǎn)印板向水平方向按規(guī)定間距偏移， 一邊對電路圖案 上的同一缺陷部位進行多次轉(zhuǎn)印，但此時，當修補對象物表面存在微米級的 凹凸時，則可能與其沖突而損害電路圖案。即，在通過電伺服控制來維持距 離并向水平方向移動時，由于精度粗糙及響應速度緩慢，因而使轉(zhuǎn)印板與修
補對象物碰撞的可能性高，而與此相對，如本發(fā)明，通過向修補對象物和轉(zhuǎn)
由于即使存在這樣的隆起，也能夠使轉(zhuǎn)印板追隨而上下移動，因此，即使不 使用復雜的伺服控制，也能夠?qū)烧唛g的距離始終維持在最佳值。
此外，在作為激光修補裝置實現(xiàn)本發(fā)明時，為縮短修補工序的生產(chǎn)節(jié)拍 時間，若只進行電控制，則需要一邊每次測定與修補對象物的距離， 一邊特 別注意地使轉(zhuǎn)印板接近修補對象物，而且每次接近需要較長時間，而與此相 對，如果利用本發(fā)明的對合的自浮起控制，則可在大致地利用開環(huán)控制使轉(zhuǎn) 印板接近修補對象物的表面后，利用氣體進行浮起控制，因此，不需要每次 接近進行距離控制，從而可縮短生產(chǎn)節(jié)拍時間。
另外，通過按照圍繞轉(zhuǎn)印板的外周的方式在轉(zhuǎn)印板保持架下面設置用于 向轉(zhuǎn)印板保持架下方噴射氣體的氣體噴射孔，可與在轉(zhuǎn)印板自身設置氣體噴射孔的情況相比，使氣體難以進入轉(zhuǎn)印板和轉(zhuǎn)印對象物之間，從而在通過激 光束使薄膜從轉(zhuǎn)印板飛起時不易受到氣體的影響。
在上述本發(fā)明中，在所述轉(zhuǎn)印板保持架下面的氣體噴射孔列和轉(zhuǎn)印板外 周緣部之間設有用于使從氣體噴射孔列噴射的氣體排出到轉(zhuǎn)印板保持架上面 側(cè)的氣體排出孔。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，通過在氣體噴射孔列和轉(zhuǎn)印板外周緣部之間設置用于 使從氣體噴射孔列噴射的氣體排出到轉(zhuǎn)印板保持架上面?zhèn)鹊臍怏w排出孔，從 而使從氣體噴射孔噴射的氣體由氣體排出孔排出，在通過激光束使薄膜從轉(zhuǎn) 印板飛起時更難以受到氣體的影響。
其次，在所述發(fā)明中，作為通過吹入所述轉(zhuǎn)印板保持架下面和所述轉(zhuǎn)印
所述被轉(zhuǎn)印面浮起的轉(zhuǎn)印板浮起裝置，可采用如下結(jié)構(gòu)。
即，作為所述轉(zhuǎn)印板浮起裝置的一例，可如下構(gòu)成，利用用于將來自規(guī) 定的氣體源的氣體向所述轉(zhuǎn)印板保持架的氣體入口孔供給的氣體供給裝置、 和將所述轉(zhuǎn)印板保持架的氣體入口孔和所述轉(zhuǎn)印板保持架下面的多個氣體噴 出孔連通的保持架內(nèi)氣體通路，將來自所述氣體源的氣體經(jīng)由所述保持架內(nèi)
印對象物的被轉(zhuǎn)印面之間，由此使所述轉(zhuǎn)印板與所述轉(zhuǎn)印板保持架 一起相對 于所述被轉(zhuǎn)印面浮起。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于氣體從作為浮起對象的轉(zhuǎn)印板向下面噴出，故可 將設于轉(zhuǎn)印板保持架的轉(zhuǎn)印板和被轉(zhuǎn)印面的距離可靠地維持在規(guī)定值。此時 ,作為氣體供給裝置，可以是將所述氣體源和所述轉(zhuǎn)印板保持架的氣體入口 孔之間連接的可撓性管，也可以是在所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周面 的將氣體吹入位于所述轉(zhuǎn)印板保持架外周面的氣體入口孔的氣體噴射噴嘴。
在使用可撓性管時，即使不是過高的壓力，也能夠?qū)⑺枰臍怏w可靠 地自轉(zhuǎn)印板保持架下面吹出。另一方面，若采用氣體噴射噴嘴，則不需要使 可撓性管與轉(zhuǎn)印板保持架結(jié)合，從而具有轉(zhuǎn)印板保持架的上下動作不受可撓 性管干擾的優(yōu)點。
另外，作為所述轉(zhuǎn)印板浮起機構(gòu)，也可以為如下構(gòu)成，在所述轉(zhuǎn)印頭機 體的所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周緣部下面具有噴射來自氣體源的氣 體的多個氣體噴射孔，由此，通過將從所述轉(zhuǎn)印頭機體的所述轉(zhuǎn)印板保持架持架和所述被轉(zhuǎn)印對象物的被轉(zhuǎn)印面之間，使所述轉(zhuǎn)印板與所述轉(zhuǎn)印板保持 架 一起相對于所述被轉(zhuǎn)印面浮起。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于不需要將氣體從轉(zhuǎn)印頭機體側(cè)向轉(zhuǎn)印板保持架側(cè) 供給，故轉(zhuǎn)印板保持架不受可撓性管的限制，而可自由地上下移動，從而可 保證轉(zhuǎn)印板保持架順暢的上下移動。
此時，在所述轉(zhuǎn)印頭機體的所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周緣部上 面具有噴射來自氣體源的氣體的多個氣體噴射孔，由此，將來自所述氣體源 的氣體向從所述轉(zhuǎn)印板保持架外周突出向半徑方向外側(cè)的突緣部下面噴射， 由此也可以輔助所述轉(zhuǎn)印板保持架的浮起作用。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于實質(zhì)的轉(zhuǎn)印板的重量輕量化，故轉(zhuǎn)印板相對于轉(zhuǎn) 印板保持架和被轉(zhuǎn)印面之間的氣體變化而靈敏地升降移動，從而可提高轉(zhuǎn)印 板的升降響應性。
而且，通過在所述轉(zhuǎn)印板保持架下面形成沿所述轉(zhuǎn)印板保持架的外周垂 向下方的環(huán)狀突條，也可以形成如下空間，即，在保持于所述轉(zhuǎn)印板保持架 下面的轉(zhuǎn)印板的外周面和所述環(huán)狀突條的內(nèi)周面之間作為氣體貯存部起作用 的空間。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，通過氣體貯存部的存在，可將從多個氣體噴射孔噴射 的氣體更順暢地吹入轉(zhuǎn)印板保持架和凈皮轉(zhuǎn)印面之間。
其次，在所述本發(fā)明中，作為將所述轉(zhuǎn)印頭機體的轉(zhuǎn)印板保持架收容用
動地支承的保持架支承機構(gòu)，可采用各種結(jié)構(gòu)。
作為所述保持架支承機構(gòu)的一例，所述保持架支承機構(gòu)由板簧構(gòu)成，所 述板簧以所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周緣部為固定端，以所述轉(zhuǎn)印板 保持架收容用空間所收容的轉(zhuǎn)印板保持架的外周緣部為自由端，且按照使所 述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體能夠上下移動的方式在兩者間進行支 承。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，只是橫跨轉(zhuǎn)印板保持架和轉(zhuǎn)印頭機體的間隙將板簧固 定于兩者上，即可實現(xiàn)上下可移動且水平不能移動的功能，因此，組裝容易 ，可低成本制造，而且，通過在板簧上適宜形成沖孔，可平衡地配置單臂狀 板簧部分，通過均勻地支承轉(zhuǎn)印板保持架的外周，可不變形地使轉(zhuǎn)印板保持架進行升降移動。
作為所述保持架支承機構(gòu)的另一例，所述保持架支承機構(gòu)由鋼球引導件 構(gòu)成，所述鋼球引導件設于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容 于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印板保持架的外周面之間，且按照使所 述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體能夠上下移動的方式在兩者間進行支 承。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于采用作為球軸承的一種的鋼球引導件，故以鋼球 的真球度的精度為基準，可實現(xiàn)順暢的轉(zhuǎn)印板保持架的升降動作，能夠更好 地追隨轉(zhuǎn)印板和被轉(zhuǎn)印面之間的氣體而使轉(zhuǎn)印板保持架根據(jù)被轉(zhuǎn)印面上的隆 起進行升降。
作為所述保持架支承機構(gòu)的另 一 例，所述保持架支承機構(gòu)由壓縮彈簧構(gòu) 成，所述壓縮彈簧設于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容于所 述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印板保持架的外周面之間，且按照使所述轉(zhuǎn) 印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體能夠上下移動的方式將兩者間彈性按壓支承。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于通過壓縮彈簧的擴張壓力將轉(zhuǎn)印板保持架自其外 周向中心均勻地按壓，故轉(zhuǎn)印板保持架的向水平方向的移動被可靠地限制， 轉(zhuǎn)印板保持架受到轉(zhuǎn)印板和被轉(zhuǎn)印面之間的壓力而上下移動。
作為所述保持架支承機構(gòu)的另 一例，所述保持架支承機構(gòu)由樹脂支座構(gòu) 成，所述樹脂支座設于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容于所 述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印板保持架的外周面之間，且按照使所述轉(zhuǎn) 印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體能夠上下移動的方式將兩者間能夠滑動地 支承。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于樹脂支座的構(gòu)造較簡單且使轉(zhuǎn)印板保持架較圓滑 地上下移動，故可低價地實現(xiàn)較良好的上下移動。
在以上所述的 一連串發(fā)明中，作為將所述轉(zhuǎn)印板保持于所述轉(zhuǎn)印板保持 架的手段，可使用粘接劑、真空吸附裝置，或者利用聯(lián)結(jié)器機構(gòu)。
若使用粘接劑，則雖然需要剝離的時間，但具有不需要其他的吸附配管 或聯(lián)結(jié)器的優(yōu)點。另一方面，若使用真空吸附機構(gòu)，則容易進行更換時的拆 裝。另一方面，若使用聯(lián)結(jié)器機構(gòu)，則只是更換聯(lián)結(jié)器機構(gòu)，就可使轉(zhuǎn)印板 從轉(zhuǎn)印板保持架脫離。根據(jù)本發(fā)明，用于將轉(zhuǎn)印對象物的被轉(zhuǎn)印面和轉(zhuǎn)印板的距離維持在微小 值的控制不僅是使用了伺服電機、線性電機等的電伺服控制，而且通過向轉(zhuǎn) 印板保持架下方噴射的氣體進行控制，因此，即使在使轉(zhuǎn)印板和被轉(zhuǎn)印面隔 開微細距離相對的狀態(tài)下使兩者相對移動，也能夠使轉(zhuǎn)印板追隨被轉(zhuǎn)印面上 的凹凸而適當?shù)厣舷乱苿樱虼?，在轉(zhuǎn)印板的水平移動過程中，能夠?qū)⒂|及 被轉(zhuǎn)印面上的大的隆起而損害構(gòu)成被轉(zhuǎn)印面的修補對象物等的可能性防患于 未然。
特別是在這種激光轉(zhuǎn)印裝置作為激光修補裝置實現(xiàn)時，為修復電路圖案 上的缺陷，需要一邊使轉(zhuǎn)印板向水平方向偏移規(guī)定間距， 一邊對電路圖案上 的同一缺陷部位進行多次轉(zhuǎn)印，但此時，若修補對象物的表面存在微米級的 凹凸，則可能與其碰撞而損害電路圖案。即，在通過電伺服控制，來維持距 離并向水平方向移動時，由于精度的粗糙及響應速度的緩慢，因而轉(zhuǎn)印板與 修補對象物碰撞的可能性高，與此相對，如本發(fā)明，利用向修補對象物和轉(zhuǎn)
，即使這樣的隆起存在，轉(zhuǎn)印板也能夠追隨而上下移動，因此，即使不使用 復雜的伺服控制，也能夠?qū)烧唛g的距離始終維持在最佳值。
此外，在作為激光修補裝置實現(xiàn)本發(fā)明時，為縮短修補工序的生產(chǎn)節(jié)拍 時間，若只進行電控制，則需要每次一邊測定與修補對象物的距離， 一邊注 意地使轉(zhuǎn)印板接近修補對象物，由此， 一次接近需要較長時間，而與此相對 ，若利用本發(fā)明的對合的自浮起控制，則可在大致地利用開環(huán)控制使轉(zhuǎn)印板 接近修補對象物表面后，進行氣體的浮起控制，因此，不需要每次接近都進 行距離控制，從而可縮短生產(chǎn)節(jié)拍時間。
而且，通過圍繞轉(zhuǎn)印板的外周在轉(zhuǎn)印板保持架下面設置用于向轉(zhuǎn)印板保 持架下方噴射氣體的氣體噴射孔，與在轉(zhuǎn)印板自身設置氣體噴射孔的情況相 比，使得氣體不易進入轉(zhuǎn)印板和轉(zhuǎn)印對象物之間，在通過激光束使薄膜從轉(zhuǎn) 印板飛起時，不易引起轉(zhuǎn)印材料錯開目標位置而附著的情況。進而，通過在 氣體噴射孔列和轉(zhuǎn)印板外周緣部之間設置用于使從氣體噴射孔列噴射的氣體 排出向轉(zhuǎn)印板保持架上面?zhèn)鹊臍怏w排出孔，從而能夠使從氣體噴射孔噴射的 氣體自氣體排出孔排出，因此，在轉(zhuǎn)印時不易受到氣體的影響。另外，由于 也可以不在轉(zhuǎn)印板上設置噴出孔，故能夠廉價地供給轉(zhuǎn)印材料。


圖1 (a)、 (b)是第一實施方式的結(jié)構(gòu)圖2 (a)、 (b)是第二實施方式的結(jié)構(gòu)圖3 (a)、 (b)是第三實施方式的結(jié)構(gòu)圖4 (a)、 (b)是第四實施方式的結(jié)構(gòu)圖5是應用本發(fā)明的布線圖案修復裝置的外觀立體圖6是轉(zhuǎn)印頭的外觀立體圖7是轉(zhuǎn)印頭的分解立體圖8是轉(zhuǎn)印頭的上下翻轉(zhuǎn)狀態(tài)的外觀立體圖9是轉(zhuǎn)印頭的平面圖(板簧安裝狀態(tài))；
圖IO是轉(zhuǎn)印頭的平面圖(板簧拆下狀態(tài))；
圖11 (a) - (d)是作為本發(fā)明前提的激光轉(zhuǎn)印法的說明圖。
標i己i兌明
1轉(zhuǎn)印頭
2 三維定位才幾構(gòu)
3 激光照射光學系統(tǒng) 4激光束
11 轉(zhuǎn)印頭才幾體 lla 安裝部 lib 支承部 lie 空間
12 板簧 12a 開口 12b 沖孔 12c 沖孔 12d 螺絲孔 12e 螺絲孔 12f 氣體排出孔 13轉(zhuǎn)印板保持架 13a 轉(zhuǎn)印窗
13b 螺絲孔13C氣體排出孔 14 轉(zhuǎn)印板
15a連接器 15b連接器 15c連接器 15d連接器 15e連接器 15f連接器 16a可撓性管 16b可撓性管
21 X方向驅(qū)動部
22 Y方向驅(qū)動部
23 Z方向驅(qū)動部 31光束分離器
32 物鏡
33 旋轉(zhuǎn)式編碼器 34光束整形機構(gòu)
35 LED照明器
36 旋轉(zhuǎn)盤
37 電子攝像機
38 Z方向?qū)к?br> 39 入射口
100 激光轉(zhuǎn)印單元
101 轉(zhuǎn)印板 101a 氣體噴射孔
102 轉(zhuǎn)印對象物 102a 被轉(zhuǎn)印面
103 轉(zhuǎn)印板保持架 103a 轉(zhuǎn)印窗 103b 氣體入口孔 103c 氣體排出孔103d 保持架內(nèi)氣體通路
103e 吸引孑L 103f 內(nèi)部通路
104 轉(zhuǎn)印頭才幾體
104a轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間
105 氣體 106排氣
107 板簧 107a觀察用窗
108 可撓性管
110 壓縮彈簧
111 鋼球引導件
112 樹脂支座 CI 共用光路
C2 激光照射用光路 C3 拍攝用光路
具體實施例方式
下面，參照附圖詳細說明本發(fā)明的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭的優(yōu)選的一實 施方式。
圖l(a)、 (b)表示本發(fā)明的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭的第一實施方式的結(jié) 構(gòu)圖。另外，圖1 (a)是平面圖，圖1 (b)是剖面圖。
從這些圖可以看出，該激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭1將轉(zhuǎn)印板101以使其轉(zhuǎn) 印材料薄膜(未圖示)與轉(zhuǎn)印對象物102的大致水平的被轉(zhuǎn)印面102a相對的 狀態(tài)進行支承，并使兩者間保持微細的大致一定間隙，其中，所述轉(zhuǎn)印板IOI 是在具有激光透過性的板狀小片(例如石英玻璃的板狀小片)的物面(圖中 下面)覆蓋轉(zhuǎn)印材料(例如A1、 Ni、 Ta、 W、 Ti、 Au、 Ag、 Cu、 Cr等)的 薄膜而成。
該轉(zhuǎn)印頭1包括轉(zhuǎn)印板保持架103,其在下面保持轉(zhuǎn)印板101，且開設 有使轉(zhuǎn)印板101向上面?zhèn)嚷冻龅霓D(zhuǎn)印窗103a;轉(zhuǎn)印頭機體104,其具有轉(zhuǎn)印 板保持架收容用的空間104a，并且提供水平方向及垂直方向的基準位置；保持架支承機構(gòu)(詳細后述)，其對轉(zhuǎn)印頭機體104的轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間 104a內(nèi)收容的轉(zhuǎn)印板保持架103相對于轉(zhuǎn)印頭機體104上下可移動且水平不 能移動地進行支承；轉(zhuǎn)印板浮起裝置，其通過將氣體105向轉(zhuǎn)印板保持架103 下方噴射，使轉(zhuǎn)印板101與轉(zhuǎn)印板保持架103 —起相對于被轉(zhuǎn)印面102a浮起； 以及氣體排出孔103c，其使氣體105向轉(zhuǎn)印板保持架103上部排出。
在該例中，保持架支承機構(gòu)由板簧107構(gòu)成，所述板簧107以轉(zhuǎn)印板保 持架收容用空間104a的內(nèi)周緣部為固定端，以轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a 收容的轉(zhuǎn)印板保持架103的外周緣部為自由端，并且按照使轉(zhuǎn)印板保持架103 相對于轉(zhuǎn)印頭機體104上下可移動的方式對兩者間進行支承。在此，在板簧 107上設有觀察用窗107a，觀察用窗107a可用于轉(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印對象物 102的距離測定、向被轉(zhuǎn)印對象物102上的特定部位進行激光束照射等。由此， 例如在被轉(zhuǎn)印對象物102為基板且基板上的電路圖案有剩余部位的情況下， 能夠從觀察用窗107a向剩余部分照射激光束而將電路圖案切斷。另外，圖中， 雖然作為板簧107表示了橫向長的長方形狀的板片，但本領(lǐng)域技術(shù)人員是容 易理解的，實際上的結(jié)構(gòu)是形成有多個適當?shù)臎_孔乃至沖切線，使多個部分 局部地實現(xiàn)作為板簧的作用。
另一方面，轉(zhuǎn)印板浮起裝置包括用于將來自規(guī)定氣體源(未圖示)的 氣體向轉(zhuǎn)印板保持架103的氣體入口孔103b供給的作為氣體供給裝置起作用 的可撓性管108、以及將轉(zhuǎn)印板保持架103的氣體入口孔103b和轉(zhuǎn)印板保持 架103下面的多個氣體噴射孔103e連通的保持架內(nèi)氣體通路103d，由此，通 過將來自氣體源(未圖示)的氣體經(jīng)由保持架內(nèi)氣體通路103d從氣體噴射孔 103e向轉(zhuǎn)印板保持架103下方噴射，使轉(zhuǎn)印板101與轉(zhuǎn)印板保持架103 —起 相對于纟皮轉(zhuǎn)印面102a浮起。
此外，作為用于將轉(zhuǎn)印板101保持于轉(zhuǎn)印板保持架103的手段，可使用 粘接劑或真空吸附裝置等。其中，真空吸附裝置是指如下構(gòu)成的裝置，設置
將設于轉(zhuǎn)印板保持架103下面的多個吸引孔和設于轉(zhuǎn)印板保持架103外周面 的吸引孔連通的保持架內(nèi)吸引通路，并利用連接于真空源的吸引管從設于轉(zhuǎn) 印板保持架103外周面的吸引孔進行吸引，吸附轉(zhuǎn)印板101。
根據(jù)以上的結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)印板保持架103經(jīng)由板簧107被支承于轉(zhuǎn)印頭機體 104上，向水平方向的移動^f皮限制，并且在垂直方向可自由地移動。因此，當 從多個氣體噴射孔103e噴射氣體105時，因氣體的浮起作用，使轉(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印面102a之間保持微細距離L ( 1 ~2|um)。因此，當通過電開環(huán)控制 使轉(zhuǎn)印頭1整體接近到例如100jam程度的距離后，只要是從多個氣體噴射孔 103e噴射氣體105的狀態(tài)，則即使直接放置，也能夠?qū)⑥D(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印 面102a的距離保持在微細距離L，從而沒有轉(zhuǎn)印板101碰撞到被轉(zhuǎn)印面102a 的可能性。
而且，由于在氣體噴射孔103e和轉(zhuǎn)印板101的外周緣部之間，設有用于 使從氣體噴射孔列噴射的氣體105作為排氣106向轉(zhuǎn)印板保持架103的上面 側(cè)排出的氣體排出孔103c,因此，可防止氣體105進入轉(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印 對象物102之間，防止對覆膜轉(zhuǎn)印的影響。
其次，圖2 (a)、 (b)表示本發(fā)明的轉(zhuǎn)印頭1的第二實施方式的結(jié)構(gòu)圖。 另外，圖中與第一實施方式相同的構(gòu)成部分使用相同標記，說明省略。
該第二實施方式的特征在于，保持架支承機構(gòu)采用壓縮彈簧110，該壓縮 彈簧IIO設于轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a的內(nèi)周面和收容于轉(zhuǎn)印板保持架 收容用空間104a的轉(zhuǎn)印板保持架103外周面之間，其按照使轉(zhuǎn)印板保持架103
根據(jù)該第二實施方式，具有平面看正方形狀的轉(zhuǎn)印板保持架103被收容 于在轉(zhuǎn)印頭機體104上形成的正方形狀的轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a內(nèi)， 且其四邊經(jīng)由壓縮彈簧110在六個部位被壓接并進行支承。因此，轉(zhuǎn)印板保 持架103在限制了向水平方向移動的狀態(tài)下，能夠向上下方向移動自如。
其次，圖3(a)、 (b)表示本發(fā)明的轉(zhuǎn)印頭的第三實施方式的結(jié)構(gòu)圖。另 外，該圖中，對于與上述第一及第二實施方式相同的構(gòu)成部分使用相同的標 記，it明省略。
該第三實施方式的轉(zhuǎn)印頭1的特征在于，保持架支承機構(gòu)由鋼球引導件 111構(gòu)成，該鋼球保持架111設于轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a的內(nèi)周面和 收容于轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a的轉(zhuǎn)印板保持架103的外周面之間，其 按照使轉(zhuǎn)印板保持架103相對于轉(zhuǎn)印頭機體104上下可動的方式支承兩者間。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，呈平面看正方形狀的轉(zhuǎn)印板保持架103被收容于在轉(zhuǎn) 印頭機體104上形成的正方形狀的轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a內(nèi)，且其四 邊通過六個鋼球引導件111被上下移動自如地支承。
因此，當從轉(zhuǎn)印板101下面噴射氣體105時，轉(zhuǎn)印板101與轉(zhuǎn)印板保持 架103 —起被鋼球引導件111引導而進行上下移動，將轉(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印面102a之間的距離L維持在微米級(例如1 ~ 20 ja m )程度。
圖4(a)、 (b)表示本發(fā)明轉(zhuǎn)印頭的第四實施方式的結(jié)構(gòu)圖。該第四實施 方式的特征在于，作為保持架支承機構(gòu)采用樹脂支座112,該樹脂支座112設 于轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間104a的內(nèi)周面和收容于轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間 104a的轉(zhuǎn)印板保持架103的外周面之間，其使轉(zhuǎn)印板保持架103相對于轉(zhuǎn)印 頭才幾體104上下可動。另外，該圖中，對于與之前的實施方式相同的構(gòu)成部 分使用相同標記，說明省略。
根據(jù)該第四實施方式，轉(zhuǎn)印板保持架103被收容于轉(zhuǎn)印頭機體104的轉(zhuǎn) 印板保持架收容用空間104a內(nèi)，并且經(jīng)由樹脂支座112上下移動自如地被支 承。因此，通過從轉(zhuǎn)印板101下面噴射氣體105，將轉(zhuǎn)印板101和被轉(zhuǎn)印面 102a的距離L保持為微米級。
其次，圖5表示應用本發(fā)明的布線圖案修復裝置的主要部分(激光轉(zhuǎn)印 單元100)的更具體的外觀立體圖。布線圖案修復裝置(也稱作"激光修補裝 置")包括用于將成為修復對象的液晶顯示器件及等離子體顯示器件等使電 路圖案面朝上載置的載物臺(未圖示)；在該載物臺上方可在水平面內(nèi)的任意 XY坐標進行定位的XY定位機構(gòu)(未圖示)；利用該XY定位機構(gòu)懸吊支承 的激光轉(zhuǎn)印單元100。
激光轉(zhuǎn)印單元100包括利用上述的XY定位機構(gòu)懸吊支承在載物臺之 上的單元機架(未圖示)；相對于單元機架安裝的三維定位機構(gòu)2;通過三維 定位機構(gòu)2定位的轉(zhuǎn)印頭1;以及相對于單元機架升降自如地安裝的激光照射 光學系統(tǒng)3。
三維定^立機構(gòu)2包括X方向驅(qū)動部21 、支承X方向驅(qū)動部21的Y方 向驅(qū)動部22、支承Y方向驅(qū)動部22的Z方向驅(qū)動部23,支承轉(zhuǎn)印板保持架 的轉(zhuǎn)印頭1纟皮安裝于X方向驅(qū)動部21。
激光照射光學系統(tǒng)3包括光束整形機構(gòu)34,其將從未圖示的上部激光 源發(fā)射來的激光束4從入射口 37導入，將該光束截面整形，形成與成為修復 對象的電路圖案的線寬對應的細長長方形狀光束截面；激光照射用光路C2， 其將光束整形機構(gòu)34整形的激光束垂直向下向光束分離器31引導；拍攝用 光路C3 ，其將由光束分離器31分離的拍攝光沿水平方向向電子攝像機37側(cè) 引導；以及共用光路Cl,其將經(jīng)由激光照射用光路C2到來的激光束垂直向 下導向物鏡32,并且將從物鏡32發(fā)射的拍攝光垂直向上導向光束分離器31 。另外，35是用于對攝像機的視野進行照明的LED照明器。換言之，激光照射光學系統(tǒng)3構(gòu)成同軸落射型光學系統(tǒng)，該同軸落射型光學系統(tǒng)具有垂直的激光照射用光路C2、水平的拍攝用光路C3、以及將這些光路結(jié)合一體化的垂直的公用光路C1 。從物鏡32垂直向下射出的激光束通過物鏡32的聚光作用，而在射出光路上的規(guī)定距離被聚光，產(chǎn)生聚光點。激光照射進行的薄膜轉(zhuǎn)印處理在該射出光路上的規(guī)定距離產(chǎn)生的激光聚光點進行。另一方面，電子攝像機37始終進行對焦，使焦點對焦在位于該激光聚光點的物體上。而且，在電子攝像機37中內(nèi)置有基于圖像信號將是否對焦的狀態(tài)向外部判斷輸出的功能。激光照射光學系統(tǒng)3整體通過未圖示的滾珠絲杠機構(gòu)和驅(qū)動電機的作用沿Z方向?qū)к?8向能夠在垂直方向上下移動任意距離。因此，只要一邊使激光照射光學系統(tǒng)3整體上升或下降， 一邊監(jiān)視電子 攝像機37的焦點判斷輸出，則能夠知道聚光點是否與激光照射對象物一致。 另外，如果測定距某基準高度的降下距離，并監(jiān)視電子攝像機37的焦點判斷 輸出，則基于到對焦時的降下距離測定值，可知道從基準高度到該激光照射 對象物的降下距離。如后述，該實施方式中，通過利用上述的激光照射光學 系統(tǒng)3的作用，實現(xiàn)轉(zhuǎn)印板的高度方向的定位控制。另外，圖5中，36是在圓周上支承多個物鏡的旋轉(zhuǎn)盤，33是用于進行旋 轉(zhuǎn)盤32的旋轉(zhuǎn)角控制的旋轉(zhuǎn)式編碼器，由此可進行物鏡的自動更換。圖6表示轉(zhuǎn)印頭的外觀立體圖，圖7表示轉(zhuǎn)印頭的分解立體圖，圖8表 示上下翻轉(zhuǎn)狀態(tài)的外觀立體圖，圖9表示轉(zhuǎn)印頭的平面圖(板簧安裝狀態(tài))， 圖IO表示轉(zhuǎn)印頭的平面圖(板簧拆下狀態(tài))。從這些圖可以看出，轉(zhuǎn)印頭1以轉(zhuǎn)印頭機體11為主體構(gòu)成。該轉(zhuǎn)印頭機 體11具有用于相對X方向驅(qū)動部21進行安裝的安裝部lla、和用于支承 轉(zhuǎn)印板保持架13的支承部llb。在支承部llb的中央形成空間llc，在該空間llc內(nèi)收容保持架13。為將 保持架13支承于空間llc內(nèi)，在該例中，使用板簧12。板簧12具有大致正 方形狀，其中央形成開口 12a，并且在開口 12a的外周形成有沖孔12b、 12c、 螺絲孔12d、 12e、及氣體排出孔12f。利用這些沖孔12b、 12c賦予局部的彈 性，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是容易理解的。板簧12和保持架13的結(jié)合通過板簧12側(cè)的螺絲孔12e和保持架13側(cè) 的螺絲孔13b進行。另外，板簧12和支承部lib的結(jié)合通過板簧12側(cè)的螺 絲孔12d和支承部llb側(cè)的螺絲孔12d進行。由此，保持架13在空間lie內(nèi)被限制向水平方向移動，且向上下方向的 移動在板簧12的彈性范圍內(nèi)。在保持架13的外周面上的兩個部位設有氣體入口孔(未圖示)，且在其 下面與轉(zhuǎn)印板上的氣體噴射孔匹配而環(huán)狀地排列配置有多個氣體出口孔。在這些入口孔和出口孔之間形成有圓環(huán)狀的內(nèi)部通路。另外，在保持架13上設 有從上面貫通到下面的氣體排出孔13c，在板簧12和保持架13結(jié)合時，板簧 的氣體排出孔12f和保持架的氣體排出孔13c重合。另外，連接器15e、 15f 被固定于保持架13側(cè)的氣體入口。在設于支承部lib的空間llc的內(nèi)周面固定有兩個連接器15c、 15d，在 支承部lib的外周面固定有兩個連接器15a、 15b。在此，連接器15a和連接 器15c連通，連接器15b和連接器15d連通。連接器15e和連接器15c經(jīng)由 可撓性管16a連接，連接器15f和連接器15d同樣經(jīng)由可撓性管16b連接。由 于在連接器15a和連接器15b上分別形成有管連接用插口，因此，通過在此 插入可撓性管，可將氣體從支承部11b向保持架3內(nèi)部供給。在保持架13的中央部開設轉(zhuǎn)印窗13a，使保持于下面?zhèn)鹊霓D(zhuǎn)印板14從該 轉(zhuǎn)印窗13a露出。在該例中，轉(zhuǎn)印板14通過粘接劑被固定于保持架13下面。 當從連接器15a、 15b供給氣體時，該供給來的氣體從保持架13背面?zhèn)鹊膰?射孔(未圖示)向轉(zhuǎn)印對象物噴射。由此，轉(zhuǎn)印板14與保持架13—起浮起。在利用以上結(jié)構(gòu)的布線圖案修復裝置進行修復作業(yè)時，首先使未圖示的 XY定位機構(gòu)動作，將激光轉(zhuǎn)印單元100中包含的物鏡32定位在修補部位正 上方。該定位并用如下控制，即，基于修補部位的XY坐標和物鏡32的光軸 的XY坐標的開環(huán)定位控制；以及測定對電子攝像機37的圖像進行圖像處理 而得到的修補部位的位置和電子攝像機視野內(nèi)的基準點距離并同時進行的伺 服回路的定位控制。當物鏡32的光軸被定位在^奮補部位正上方，其次，4吏三維定位機構(gòu)2動 作，使轉(zhuǎn)印頭1從遮擋物鏡32光軸的重合位置退避到不遮擋該光軸的退避位 置后，使激光照射光學系統(tǒng)3整體下降，監(jiān)視電子攝像機37的焦點判斷輸出， 根據(jù)對焦時的降下距離，取得從規(guī)定基準高度到修補對象物上面的距離(A)。其次，使三維定位機構(gòu)再次動作，使轉(zhuǎn)印頭1從不遮擋物鏡32光軸的退 避位置恢復到遮擋物鏡32光軸的重合位置后，與之前相同，使激光照射光學 系統(tǒng)3整體下降，監(jiān)視電子攝像機37的焦點判斷輸出，根據(jù)到對焦時的降下 距離，取得從規(guī)定基準高度到修補對象物上面的距離(B)。其次，根據(jù)距離(A)和距離(B)算出轉(zhuǎn)印板和修補對象物的距離(X) {(A) - (B))后，以從修補對象物表面到轉(zhuǎn)印板101的高度(Hl:約5mm 左右)為第一目標高度，通過開環(huán)控制使轉(zhuǎn)印頭機體104降下至此的降下距 離(X-H1)。通過開環(huán)控制使轉(zhuǎn)印頭機體104降下了降下距離(X-Hl)后， 接著，以從修補對象物表面到轉(zhuǎn)印板101的高度(H2:約100 jum左右)為 第二目標高度，通過開環(huán)控制使轉(zhuǎn)印頭機體104降下至此的降下距離(X-Hl - H2)。此時，第二目標高度(H2)被設定在氣體噴射的自身浮起作用開始動作 的高度范圍內(nèi)，故在轉(zhuǎn)印頭機體104降下到第二目標高度(H2)的中途，轉(zhuǎn) 印板保持架103相對于轉(zhuǎn)印頭機體104自身浮起。因此，即使用于向第一及 第二目標高度接近的開環(huán)控制多少有誤差、或因修補對象物側(cè)的理由而使表 面高度變化，在轉(zhuǎn)印頭1降下的過程中，也能夠可靠地避免轉(zhuǎn)印板101碰撞 到修補對象物而損害表面等的可能性，通過由氣體噴射的自身浮起作用來適 宜設定氣體壓力乃至流量，能夠?qū)⑥D(zhuǎn)印板101和修補對象物的距離維持在最 佳范圍(例如1 ~20|am)。之后，當通過驅(qū)動未圖示的激光源來照射激光束時，與照射點(例如生 產(chǎn)線上)對應的轉(zhuǎn)印材料的薄膜被轉(zhuǎn)印到修補對象部位，若有需要，則維持 其接近距離并同時使轉(zhuǎn)印頭1向^見定間距的水平方向位移，重復多次以上的 照射。于是，在修復對象部位層疊多層轉(zhuǎn)印材料薄膜，得到所需要的層疊厚度。 在向該水平方向位移過程中，由于進行氮氣等氣體的噴射，因此，具有轉(zhuǎn)印部位的間隙保持作用，可將轉(zhuǎn)印板不小心碰撞到修復對象物而對其造成損害 的事態(tài)防患于未然。這樣，4艮據(jù)本發(fā)明的轉(zhuǎn)印頭1,通過噴射氣體，可將轉(zhuǎn)印板IOI和轉(zhuǎn)印對 象物的距離維持在規(guī)定的微細距離，因此，對于通過Z方向驅(qū)動部23的電控 制而言，只要使轉(zhuǎn)印板與轉(zhuǎn)印對象物某程度接近地大致控制即可，而且之后 氣體噴射的面對的浮起作用，可使轉(zhuǎn)印板安全地接近轉(zhuǎn)印對象物，因此，即使在作為修復對象的顯示裝置等上存在多個缺陷部位的情況下，也能夠依次 高速地移動到這些部位，從而可高速地重復進行轉(zhuǎn)印頭1降下的處理，從而 具有可大幅縮短這種作業(yè)的生產(chǎn)節(jié)拍時間的優(yōu)點。根據(jù)本發(fā)明具有如下優(yōu)點，在以激光修補裝置為代表的這種激光轉(zhuǎn)印裝 置中，可將轉(zhuǎn)印材料的薄膜和轉(zhuǎn)印對象物的距離始終維持在微米級(例如1 ~20Mm)。
權(quán)利要求
1. 一種激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其用于對在具有激光透過性的板狀小片的物面覆蓋轉(zhuǎn)印材料薄膜而構(gòu)成的轉(zhuǎn)印板進行支承，以使得所述轉(zhuǎn)印板與轉(zhuǎn)印對象物的大致水平的被轉(zhuǎn)印面兩者間保持微細的大致一定間隙，并在使轉(zhuǎn)印材料薄膜與所述轉(zhuǎn)印對象物的大致水平的被轉(zhuǎn)印面面對的狀態(tài)下進行支承，其特征在于，具有轉(zhuǎn)印板保持架，其在下面保持所述轉(zhuǎn)印板，且開設有使所述轉(zhuǎn)印板從上面?zhèn)嚷冻龅霓D(zhuǎn)印窗；轉(zhuǎn)印頭機體，其具有所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用的空間并且給予水平方向及垂直方向的位置基準；保持架支承機構(gòu)，其將被收容在所述轉(zhuǎn)印頭機體的轉(zhuǎn)印板保持架收容用的空間內(nèi)的轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體上下能夠移動而水平不能移動地進行支承；以及轉(zhuǎn)印板浮起裝置，其通過向所述轉(zhuǎn)印板保持架的下方噴射氣體，使所述轉(zhuǎn)印板與所述轉(zhuǎn)印板保持架一起相對于所述被轉(zhuǎn)印面浮起，所述轉(zhuǎn)印板浮起裝置，為向所述轉(zhuǎn)印板保持架的下方噴射氣體而具有多個氣體噴射孔，并且，這些氣體噴射孔按照圍繞所述轉(zhuǎn)印板外周的方式配置于所述轉(zhuǎn)印板保持架的下面。
2、 如權(quán)利要求1所述的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其特征在于， 在所述轉(zhuǎn)印板保持架下面的氣體噴射孔列和轉(zhuǎn)印板外周緣部之間設有用于使從氣體噴射孔列噴射的氣體排出到轉(zhuǎn)印板保持架上面?zhèn)鹊臍怏w排出 孔。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其特征在于， 所述保持架支承機構(gòu)由板簧構(gòu)成，所述板簧以所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周緣部為固定端，以所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間所收容的轉(zhuǎn)印板 保持架的外周緣部為自由端，且按照使所述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭 機體能夠上下移動的方式在兩者間進行支承。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其特征在于，所述保持架支承機構(gòu)由鋼球引導件構(gòu)成，所述鋼球引導件設于所述轉(zhuǎn)印 板保持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印板保持架的外周面之間，且按照使所述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭 機體能夠上下移動的方式在兩者間進行支承。
5、 如權(quán)利要求1或2所述的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其特征在于， 所述保持架支承機構(gòu)由壓縮彈簧構(gòu)成，所述壓縮彈簧設于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印 板保持架的外周面之間，且按照使所述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體 能夠上下移動的方式將兩者間彈性按壓支承。
6、 如權(quán)利要求1或2所述的激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其特征在于，所述保持架支承機構(gòu)由樹脂支座構(gòu)成，所述樹脂支座設于所述轉(zhuǎn)印板保 持架收容用空間的內(nèi)周面和被收容于所述轉(zhuǎn)印板保持架收容用空間的轉(zhuǎn)印 板保持架的外周面之間，且按照使所述轉(zhuǎn)印板保持架相對于所述轉(zhuǎn)印頭機體 能夠上下移動的方式將兩者間能夠滑動地支承。
全文摘要
本發(fā)明涉及激光轉(zhuǎn)印裝置的轉(zhuǎn)印頭，其在以激光修補裝置為代表的這種激光轉(zhuǎn)印裝置中，可將轉(zhuǎn)印材料的薄膜與轉(zhuǎn)印對象物的距離始終維持在微米級。該轉(zhuǎn)印頭具有保持架，其在下面保持所述轉(zhuǎn)印板，且開設有使轉(zhuǎn)印板從上面?zhèn)嚷冻龅霓D(zhuǎn)印窗；轉(zhuǎn)印頭機體，其具有轉(zhuǎn)印板保持架收容用的空間并且給予水平方向及垂直方向的位置基準；保持架支承機構(gòu)，其將被收容在轉(zhuǎn)印頭機體的轉(zhuǎn)印板保持架收容用的空間內(nèi)的轉(zhuǎn)印板保持架相對于轉(zhuǎn)印頭機體上下能夠移動而水平不能移動地進行支承；以及轉(zhuǎn)印板浮起裝置，其通過向所述轉(zhuǎn)印板保持架下方噴射氣體，使所述轉(zhuǎn)印板與所述轉(zhuǎn)印板保持架一起相對于所述被轉(zhuǎn)印面浮起，其中，圍繞轉(zhuǎn)印板外周而在轉(zhuǎn)印板保持架的下面配置有氣體噴射孔。
文檔編號G09F9/00GK101285944SQ20081009119
公開日2008年10月15日 申請日期2008年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月10日
發(fā)明者池澤利明 申請人:歐姆龍株式會社