專利名稱：激光可重寫設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種激光可重寫設(shè)備，尤其是一種利用激光照射熱可逆記錄介質(zhì)來進(jìn)行圖像重寫的激光可重寫設(shè)備。
背景技術(shù)：
本領(lǐng)域中(例如，見日本公開專利申請(qǐng)N0.2008-194905)，附有熱可逆記錄介質(zhì)的物體按預(yù)定方向傳輸，在傳輸路徑的一側(cè)或另一側(cè)上設(shè)置激光可重寫設(shè)備。該激光可重寫設(shè)備向熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光從而重寫圖像。本領(lǐng)域的激光可重寫設(shè)備具有圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備。圖像擦除設(shè)備向其上記錄了圖像的熱可逆記錄介質(zhì)上發(fā)射激光并對(duì)圖像進(jìn)行擦除。圖像記錄設(shè)備位于圖像擦除設(shè)備的預(yù)定的介質(zhì)傳輸方向下游側(cè)，通過向圖像已經(jīng)被圖像擦除設(shè)備擦除的熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光來記錄新圖像。然而，當(dāng)圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備之間的間隔過大時(shí)，由于擦除圖像所耗的時(shí)間變長，導(dǎo)致生產(chǎn)量降低；當(dāng)圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備之間的間隔短時(shí)，例如，取決于其上附著熱可逆記錄介質(zhì)的要被傳輸物體的尺寸，會(huì)不可能分別并行地由圖像擦除設(shè)備對(duì)要被傳輸物體上的熱可逆記錄介質(zhì)進(jìn)行擦除操作，同時(shí)對(duì)另一要被傳輸物體上的熱可逆記錄介質(zhì)進(jìn)行記錄。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一種實(shí)施方式，激光可重寫設(shè)備定位在其上附有熱可逆記錄介質(zhì)的要被傳輸物體按預(yù)定方向傳輸?shù)膫鬏斅窂降囊粋?cè)或另一側(cè)上。該激光可重寫設(shè)備向熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光并重寫圖像。激光可重寫設(shè)備包括圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備。圖像擦除設(shè)備向其上包括記錄圖像的熱可逆記錄介質(zhì)上發(fā)射激光并對(duì)圖像進(jìn)行擦除。圖像記錄設(shè)備位于圖像擦除設(shè)備的預(yù)定傳輸方向下游，并通過向圖像已經(jīng)被圖像擦除設(shè)備擦除的熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光來記錄新圖像。圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備具有相應(yīng)的光發(fā)射部，激光發(fā)射部在相對(duì)于預(yù)定傳輸方向的相同側(cè)的端部處發(fā)射激光。本發(fā)明的其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將從下面的詳細(xì)描述并結(jié)合附圖閱讀時(shí)變得更清
λ.Μ
/E.ο


圖1A和IB示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備(第一布局)；圖2A和2B示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備(第二布局)；圖3A示出包括在激光可重寫設(shè)備中的圖像擦除設(shè)備總體結(jié)構(gòu)；圖3B是示出圖像擦除設(shè)備的控制部的結(jié)構(gòu)的方框圖；圖4A示出包括在激光可重寫設(shè)備中的圖像記錄設(shè)備總體結(jié)構(gòu)；圖4B是示出圖像記錄設(shè)備的控制部的總體結(jié)構(gòu)的方框圖5A和5B示出對(duì)照例的激光可重寫設(shè)備；圖6A和6B示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備；圖7示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備；圖8示出對(duì)照例的激光可重寫設(shè)備；圖9示出根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備；圖1OA是一個(gè)曲線圖，示出了其上通過激光可重寫設(shè)備進(jìn)行圖像重寫的熱可逆記錄介質(zhì)顏色的形成和擦除的特性描述；圖1OB示出熱可逆記錄介質(zhì)的顏色形成和擦除的機(jī)理；圖11A，11B, 11C，IlD是示出熱可逆記錄材料的層結(jié)構(gòu)的特定實(shí)例的總體截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面將參照?qǐng)D1A，IB, 2A，2B, 3A，3B, 4A，4B對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。圖1A，1B，2A，2B示出根據(jù)第一實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備100的總體結(jié)構(gòu)。激光可重寫設(shè)備100向附著于作為要被傳輸物體的例子的容器C上的可重寫標(biāo)簽RL照射激光，進(jìn)而重寫圖像，如后面將詳細(xì)描述的。提醒注意的是，所述“圖像”意味著可見的信息，如容器C所保持的裝載物的內(nèi)容，傳輸目的地的信息，可重寫標(biāo)簽RL的使用次數(shù)
坐寸ο舉例來說，所述的“容器C”是用于運(yùn)輸?shù)募b箱。所述的“可重寫標(biāo)簽RL”是一種熱可逆記錄介質(zhì)，其中，由于加熱和/或冷卻過程的差異而形成顏色或擦除顏色，并包括可吸收激光并產(chǎn)生熱量的光熱轉(zhuǎn)化材料。舉例來說，所述可重寫標(biāo)簽RL附于容器C的一個(gè)側(cè)面上。要指出的是，所述熱可逆記錄介質(zhì)將在后面進(jìn)行詳細(xì)描述。如圖1A和IB所示,激光可重寫設(shè)備100具有圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16。圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16設(shè)于傳輸容器C的傳輸單元10的-Y側(cè)(如圖1A)或者+Y側(cè)(如圖2A)。簡單描述傳輸單元10。作為一個(gè)例子，傳輸單元10具有滾軸傳輸器RC(傳輸路徑)，支撐基座12，驅(qū)動(dòng)器(圖中未示出)等等。滾軸傳輸器RC包括多組沿X軸方向設(shè)置的滾軸。多組滾軸中的每組滾軸包含沿X軸方向按預(yù)定間隔設(shè)置的多個(gè)滾軸11 (例如4個(gè)滾軸11)，且具有沿Y軸方向的軸向。所述各組的多個(gè)滾軸11由支撐基座12支撐為繞Y軸同步旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)。所述多組滾軸由主控制部(圖中未示出)通過所述驅(qū)動(dòng)器獨(dú)立(各自)控制和驅(qū)動(dòng)。在上述結(jié)構(gòu)中，滾軸傳輸器RC沿+X方向在每組滾軸上至少可以傳輸或停運(yùn)一個(gè)容器C，也可以將容器C在相鄰組滾軸間轉(zhuǎn)移。下文中滾軸傳輸器RC傳輸上述容器C的方向(+X方向)將被簡稱為傳輸方向。提醒注意的是，傳輸單元10可以采用其他傳輸路徑形式，比如采用傳輸帶而非滾軸傳輸器RC傳輸。下面，將就圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16設(shè)置在傳輸單元10的-Y側(cè)(下文中也稱第一布局)來具體描述。提醒注意的是，此處描述的圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16只是利用半導(dǎo)體激光器的圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備的一個(gè)具體例子，具體實(shí)施方式

不限于此方式。如圖3A和3B所示，圖像擦除設(shè)備14包括:一維激光陣列LA1、光學(xué)系統(tǒng)0C1、終端模塊7、操作者控制面板19、控制部33、冷卻單元35以及長方體形狀的外罩15(如圖1A和1B)。所述一維激光陣列LA1、光學(xué)系統(tǒng)0C1、終端模塊7、操作者控制面板19，控制部33和冷卻單兀35封裝于外罩15中。操作者控制面板19可設(shè)于外罩15的側(cè)表面或上表面上。在一個(gè)實(shí)施例中，所述一維激光陣列LAl具有圖中未示出的沿Z軸方向(一維排列)設(shè)置的多個(gè)激光二極管(比如17個(gè)激光二極管)(半導(dǎo)體激光器)。例如，沿Z軸方向在+Z端的激光二極管和在-Z端的激光二極管之間的距離小于10mm。作為一個(gè)實(shí)例，所述一維激光陣列LAl沿-X方向發(fā)射具有線型斷面形狀的激光(下文中稱為線型束)。冷卻單元35例如為安裝于所述一維激光陣列LAl附近的散熱片，并包括用于傳送熱氣至散熱片的風(fēng)扇，和/或類似裝置。作為一個(gè)實(shí)施例，光學(xué)系統(tǒng)OCl包括:第一圓柱透鏡20，第一球面透鏡22，微透鏡陣列24，第一反射鏡25，第二反射鏡27，第二球面透鏡26，第二圓柱透鏡28和檢流計(jì)反射鏡裝置30。為方便起見，下文中將所述第一圓柱透鏡20，第一球面透鏡22，微透鏡陣列24，第二球面透鏡26，第二圓柱透鏡28合稱為“透鏡組”。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第一圓柱透鏡20位于由所述一維激光陣列LAl發(fā)射的所述線型束的光學(xué)路徑上(在所述一維激光陣列LAl的-X側(cè)上)，并對(duì)所述線型束在其寬度方向(Y)上稍微聚合(沿平行于方向(Y)的方向，該方向(Y)垂直于所述多個(gè)激光二極管所布設(shè)的方向(Z))。此例中，所述小尺寸的第一圓柱透鏡20位于所述一維激光陣列LAl的激光發(fā)射面附近。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第一球面透鏡22位于所述線型束穿過所述第一圓柱透鏡20后的光路上(在所述第一圓柱透鏡20的-X側(cè))，并收集所述線型束到微透鏡陣列24上。作為一個(gè)實(shí)施例，所述微透鏡陣列24位于所述線型束穿過所述第一球面透鏡22后的光路上(位于所述第一球面透鏡22的-X側(cè))，通過沿縱向(Z)(平行于布設(shè)所述激光二極管的方向(Z))均勻擴(kuò)散所述線型束，使得所述線型束均勻分布。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第一反射鏡25位于所述線型束穿過所述微透鏡陣列24后的光路上(位于所述微透鏡陣列24的-X側(cè))，并沿+Y向反射所述線型束。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第二反射鏡27位于所述線型束穿過所述第一反射鏡25后的光路上(位于所述第一反射鏡25的+Y側(cè))，并沿+X向反射所述線型束。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第二球面透鏡26位于所述線型束在經(jīng)所述第二反射鏡27反射后的光路上(位于所述第二反射鏡27的+X側(cè))，并將所述線型束沿縱向和寬度方向均勻放大或會(huì)聚。作為一個(gè)實(shí)施例，所述第二圓柱透鏡28位于所述線型束穿過所述第二球面透鏡26后的光路上(位于所述第二球面透鏡26的+X側(cè))，將所述線型束沿寬度方向稍微聚合。檢流計(jì)反射鏡裝置30是其中以振蕩方式旋轉(zhuǎn)并反射所述激光的振蕩反射鏡30a安裝于檢流計(jì)上的裝置。在這個(gè)實(shí)施例中，作為一個(gè)例子，振蕩反射鏡30a圍繞Z軸以振蕩方式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。所述檢流計(jì)反射鏡裝置30具有角度傳感器(圖中未示出)，其探測所述振蕩反射鏡30a的旋轉(zhuǎn)角度。作為一個(gè)實(shí)施例，所述振蕩反射鏡30a位于所述線型束穿過所述第二圓柱透鏡28后的光路上(位于所述第二圓柱透鏡28的+X側(cè))，其圍繞Z軸以振蕩方式旋轉(zhuǎn)的同時(shí)反射所述線型束(改變反射方向)，并將所述線型束在近似+Y側(cè)上偏轉(zhuǎn)。光發(fā)射孔(光發(fā)射部)15a形成在外罩15的+Y側(cè)的側(cè)壁的X側(cè)的端部處，通過允許偏轉(zhuǎn)過的線型束穿過而發(fā)射被所述檢流計(jì)反射鏡裝置30偏轉(zhuǎn)的線型束。所述光發(fā)射孔15a由透明或半透明組件封閉。可替換地，也可以在所述外罩15上設(shè)遮光件，所述遮光件可以在阻擋所述光發(fā)射孔15a的阻擋位置和從阻擋位置退回所述遮光件的回退位置之間可移動(dòng)。這種情況下，當(dāng)不發(fā)射激光時(shí)，所述遮光件移動(dòng)到阻擋位置；當(dāng)發(fā)射激光時(shí)，所述遮光件移動(dòng)到回退位置。被檢流計(jì)反射鏡裝置30偏轉(zhuǎn)的所述線型束被發(fā)射，以使得該線型束在穿過所述光發(fā)射孔15a之后在所述滾軸傳輸器RC之上在例如從幾厘米到幾十厘米的高度穿過。因此，從所述一維激光陣列LAl發(fā)射出的線型束的能量密度經(jīng)所述透鏡組變得均勻，且線型束也沿縱向(Z軸方向)放大，被所述檢流計(jì)反射鏡裝置30偏轉(zhuǎn)，并提供給位于滾軸傳輸器RC上在面向所述光發(fā)射孔位置的所述物體。結(jié)果，所述線型束就可以沿X軸方向掃描所述物品。如圖3A所示，在一個(gè)實(shí)施例中，在所述圖像擦除設(shè)備14中，由于需要相對(duì)長的路徑(光路)的光學(xué)系統(tǒng)OCl在平面圖中布置成U形，所述外罩15被微型化，進(jìn)而，所述光發(fā)射孔15a形成在所述光學(xué)系統(tǒng)OCl的光發(fā)射端附近，即，在所述外罩15的+Y側(cè)的側(cè)壁的+X側(cè)的端部。從而，所述光發(fā)射孔15a形成于外罩15的一側(cè)壁(+Y側(cè)上的側(cè)壁)上。從而，與比如所述光發(fā)射孔15a形成于跨過外罩15的兩個(gè)相鄰側(cè)壁之間的邊界延伸的區(qū)域的情況相比，可以減少外罩15的強(qiáng)度的退化。所述終端模塊7具有用于輸入圖像擦除開始信號(hào)，聯(lián)鎖信號(hào)，環(huán)境溫度信號(hào)，編碼器信號(hào)等等的信號(hào)輸入端子，這些信號(hào)從主控制部(圖中未示出)輸出；還具有用于向主控單元輸出擦除準(zhǔn)備完畢信號(hào)，期間擦除信號(hào)，發(fā)生故障信號(hào)等的信號(hào)輸出端子。所述擦除開始信號(hào)是所述圖像擦除設(shè)備14開始擦除操作的信號(hào)。所述聯(lián)鎖信號(hào)用于緊急原因停止擦除操作的信號(hào)。所述環(huán)境溫度信號(hào)是用于通過環(huán)境溫度來校正激光強(qiáng)度(輸出)和激光掃描速度的信號(hào)。所述編碼器信號(hào)是用于檢測可重寫標(biāo)簽RL(物品)的移動(dòng)速度的信號(hào)。所述擦除準(zhǔn)備完畢信號(hào)是用于指示可以接收所述擦除開始信號(hào)的信號(hào)。所述期間擦除信號(hào)是用于指示正在進(jìn)行擦除操作的信號(hào)。所述故障發(fā)生信號(hào)用于指示控制器21檢測到，比如所述一維激光陣列LAl發(fā)射激光的故障、檢流計(jì)反射鏡裝置30的運(yùn)行故障等等的信號(hào)。所述操作者控制面板19是具有簡單指示器和操作開關(guān)的用戶界面。可以利用所述操作者控制面板19可以選擇菜單，輸入數(shù)值。在這個(gè)實(shí)施例中，作為一個(gè)例子，通過使用所述操作者控制面板19，可以指定諸如激光掃描長度，激光掃描速度，激光掃描方向、激光強(qiáng)度，擦除開始延遲時(shí)間，物品速度等的擦除條件。如圖3B所示，所述控制部33具有控制器21，電驅(qū)動(dòng)器42和激光驅(qū)動(dòng)器40。所述控制器21包括擦除條件設(shè)定部分32，擦除操作控制部分34，激光控制部分36和電流控制部分38。所述擦除條件設(shè)定部分32設(shè)定由用戶使用所述操作者控制面板19指定的，諸如激光掃描長度，激光掃描速度，激光掃描方向，激光強(qiáng)度，擦除開始延遲時(shí)間，物品速度等等的擦除條件。所述擦除操作控制部分34處理來自終端模塊7的信號(hào)，然后向所述激光控制部分36和所述電流控制部分38提供指令，同時(shí)向終端模塊7生成輸出信號(hào)。所述激光控制部分36將所述擦除操作控制部分34指示的激光輸出值轉(zhuǎn)換為模擬電壓，然后將模擬電壓輸出給所述激光驅(qū)動(dòng)器40,生成開、關(guān)激光的時(shí)間信號(hào)。所述激光驅(qū)動(dòng)器40是一個(gè)電路，其根據(jù)來自所述激光控制部分36的指令值后為所述一維激光陣列LAl生成驅(qū)動(dòng)電流并控制激光強(qiáng)度。所述電流控制部分38產(chǎn)生模擬信號(hào)，該模擬信號(hào)用于以指定的速度從所述擦除操作控制部分34所指示的掃描開始位置和掃描終止位置之間以振蕩方式旋轉(zhuǎn)所述檢流計(jì)反射鏡裝置30的所述振蕩反射鏡30a，并向所述電驅(qū)動(dòng)器42輸出摸擬信號(hào)。所述電驅(qū)動(dòng)器42具體是一個(gè)電路，其根據(jù)來自所述電流控制部分38的指令值，控制所述檢流計(jì)反射鏡裝置30的振蕩反射鏡30a的振蕩角度，將來自所述電流控制部分38的指令值和來自所述檢流計(jì)反射鏡裝置30具有的角度傳感器的信號(hào)相比較，然后向所述檢流計(jì)反射鏡裝置30輸出這種驅(qū)動(dòng)信號(hào)以使兩者之間的誤差最小。如圖1A所示，所述圖像記錄設(shè)備16位于所述圖像擦除設(shè)備14的+X側(cè)(傳輸方向的下游側(cè))。在使得激光可重寫設(shè)備100的體積最小的角度看，所述圖像擦除設(shè)備14和所述圖像記錄設(shè)備16沿X軸方向的距離M盡可能小是優(yōu)選的。也就是說，優(yōu)選地將所述圖像擦除設(shè)備14和所述圖像記錄設(shè)備16盡可能彼此接近。要指出的是，所述“接近”是指所述距離M例如小于或等于40cm,優(yōu)選地,小于或等于25cm,更優(yōu)選地,小于或等于15cm。如圖4A所示，所述圖像記錄設(shè)備16包括光纖耦合LD41，光學(xué)系統(tǒng)0C2，冷卻單元59,控制部53,以及第一外罩17和第二外罩18,例如,每個(gè)外罩均為長方體。在此例中，例如，所述第一外罩17位于第二外罩18的+Y側(cè)。所述光學(xué)系統(tǒng)0C2容納于第一外罩17內(nèi)，所述冷卻單兀59和控制部53容納于所述第二外罩18內(nèi)。在圖1A-2B中，所述第二外罩18等部件被省略了。所述光纖耦合LD41包括激光光源LS和光學(xué)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)(圖中未示出)，該光學(xué)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)用于將激光從激光光源LS引導(dǎo)到光纖0F。作為激光光源LS，可以使用單束激光，包括多個(gè)激光的激光陣列，單個(gè)發(fā)射器等類似物。作為一個(gè)實(shí)施例，所述所述光纖耦合LD41中，激光光源LS和光學(xué)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)被所述第二外罩18容納，且所述光纖OF從第二外罩18延伸到第一外罩17，并與光學(xué)系統(tǒng)0C2的入射端連接。在一個(gè)實(shí)例中，所述冷卻單元59包括定位于所述激光光源LS附近的散熱片(未示出)，和用于傳送空氣至散熱片的風(fēng)扇，和/或類似裝置。通過如此使用光纖耦合LD41，很容易獲得容易會(huì)聚且截面呈圓形(下文中稱為“圓型束(circular beam) ”的激光。進(jìn)一步地,也可以將第一外罩17安裝于滾軸傳輸器RC附近，將第二外罩18安裝成遠(yuǎn)離滾軸傳輸器RC。采用這種安裝方式，即便在傳輸路徑周圍的安裝空間狹小的情況下，也可以容易地進(jìn)行安裝。在一個(gè)實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)0C2包括:準(zhǔn)直透鏡單元43，焦點(diǎn)位置校正單元44，聚光透鏡45 (例如球面透鏡)，反射鏡49和檢流計(jì)反射鏡系統(tǒng)51。
在一個(gè)實(shí)施例中，所述準(zhǔn)直透鏡單元43包括沿光軸方向間隔開的多個(gè)準(zhǔn)直透鏡，其入射端(光學(xué)系統(tǒng)0C2的入射端)與光纖OF相連。所述準(zhǔn)直透鏡單元43使得來自光纖耦合LD41的圓型束平行并將其沿+Y方向射出。在一個(gè)實(shí)施例中，所述焦點(diǎn)位置校正單元44位于所述圓型束穿過準(zhǔn)直透鏡單元43后的光路上(位于準(zhǔn)直透鏡單元43的+Y側(cè))，并包括焦點(diǎn)位置校正透鏡(圖中未示出)和沿光軸方向移動(dòng)該焦點(diǎn)位置校正透鏡的移動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖中未示出)。借由所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)沿光軸方向移動(dòng)該焦點(diǎn)位置校正透鏡，該焦點(diǎn)位置校正單元44光學(xué)控制圓型束的焦距，然后發(fā)射圓型束。要指出的是，優(yōu)選地提供距離傳感器(圖中未示出)，其檢測圖像記錄設(shè)備16的光發(fā)射孔(光發(fā)射部)17a和可重寫標(biāo)簽RL之間的距離，并根據(jù)距離傳感器的檢測結(jié)果控制所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)。作為一個(gè)實(shí)施例，所述聚光透鏡45位于圓型束穿過焦點(diǎn)位置校正單元44后的光路上(位于焦點(diǎn)位置校正單元44的光程+Y側(cè))，將圓型束轉(zhuǎn)變成會(huì)聚光線，并發(fā)射圓型束。在一個(gè)實(shí)施例中，所述反射鏡49位于圓型束穿過聚光透鏡45后的光路上(位于聚光透鏡45的光程+Y側(cè))，沿+X方向反射圓型束。如圖4B所示,所述檢流計(jì)反射鏡系統(tǒng)51包括X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48和Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50。所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48與上述檢流計(jì)反射鏡裝置30結(jié)構(gòu)相同，除了其振蕩反射鏡(圖中未示出)圍繞Y軸以振蕩方式旋轉(zhuǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中，該X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48位于圓型束經(jīng)反射鏡49反射后的光路上(位于反射鏡49的+X側(cè))，并大致在-Z (或+Z)側(cè)上偏轉(zhuǎn)圓型束。所述Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50與上述檢流計(jì)反射鏡裝置30結(jié)構(gòu)相同，除了其振蕩反射鏡(圖中未示出)圍繞X軸以振蕩方式旋轉(zhuǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中，該Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50位于圓型束經(jīng)所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48偏轉(zhuǎn)后的光路上(位于所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48的振蕩反射鏡的-Z (或+Z側(cè)))，大致在+Y側(cè)上偏轉(zhuǎn)圓型束。所述光發(fā)射孔(光發(fā)射部)17a形成于第一外罩17的+Y側(cè)的側(cè)壁上，用于允許經(jīng)所述檢流計(jì)反射鏡裝置50偏轉(zhuǎn)的所述圓型束穿過。在一個(gè)實(shí)施例中，所述光發(fā)射孔17a由一個(gè)透明或半透明組件阻擋。經(jīng)上述方式，已經(jīng)穿過所述光發(fā)射孔17a的所述圓型束在所述滾軸傳輸器RC之上在例如從幾厘米到幾十厘米的高度穿過。因此，從所述光纖耦合LD41射出的圓型束通過準(zhǔn)直透鏡單元43、焦點(diǎn)位置校正單元44，聚光透鏡45，反射鏡49被導(dǎo)引至該檢流計(jì)反射鏡系統(tǒng)51，依次經(jīng)X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48和Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50偏轉(zhuǎn)，然后提供給位于滾軸傳輸器RC上在面向所述光發(fā)射孔17a的位置的物體。結(jié)果，光點(diǎn)用于沿X軸和Z軸的兩維方向掃描所述物品。為了在可重寫標(biāo)簽上以精細(xì)的記錄線寬度記錄圖像，有必要盡可能地減小入射到檢流計(jì)反射鏡裝置50上的激光束的直徑。提醒注意的是，當(dāng)激光束直徑很大時(shí)，應(yīng)當(dāng)增大所述檢流計(jì)反射鏡裝置中振蕩反射鏡的尺寸。此種情況下，對(duì)反射鏡的操作不會(huì)那么精確，從而使得圖像記錄精度下降。為了盡可能地減小入射到檢流計(jì)反射鏡裝置50上的激光束的直徑，就有必要增加光學(xué)系統(tǒng)0C2中從焦點(diǎn)位置校正單元44到檢流計(jì)反射鏡系統(tǒng)51的光路長度。在所述圖像記錄設(shè)備16中，作為一個(gè)實(shí)例，所述光學(xué)系統(tǒng)OCl在平面圖中布置成“L”形，并且將光發(fā)射孔17a設(shè)于光學(xué)系統(tǒng)0C2的激光發(fā)射端處，即，在所述第一外罩17的+Y側(cè)的側(cè)壁的+X側(cè)的端部處。這樣就使得第一外罩17小型化，并且盡可能增加了上述光路長度。因此，所述光發(fā)射孔17a形成于第一外罩17的一側(cè)壁(+Y側(cè)上的側(cè)壁)上。因此，與例如所述光發(fā)射孔形成于跨過第一外罩17兩鄰近側(cè)壁之間的邊界延伸的區(qū)域的情況相t匕，可以減小第一外罩17的強(qiáng)度的退化。如圖4B所示，控制部53具有控制器46，主機(jī)47，X軸伺服電機(jī)52和Z軸伺服電機(jī)54。基于從主機(jī)47輸出的圖像信息，所述控制器46生成線段構(gòu)成的渲染數(shù)據(jù)，控制X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48和Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50的振蕩反射鏡的位置，激光發(fā)射時(shí)間和光發(fā)射功率，并在記錄目標(biāo)上記錄(形成)圖像。在一個(gè)實(shí)例中，所述圖像，如字符/字母，數(shù)字，圖形或者條形碼以大約0.25mm的記錄線寬被記錄。所述控制器46通過X軸伺服電機(jī)52控制X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48，也通過Z軸伺服電機(jī)54控制Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50。所述X軸伺服電機(jī)52是一個(gè)電路，其根據(jù)來自控制器46的指令值，控制所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48的振蕩反射鏡的位置，比較所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48中角度傳感器的信號(hào)與來自所述控制器46的指令值，并向所述X軸檢流計(jì)反射鏡裝置48輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)以盡可能減少兩者之間的誤差。類似地，所述Z軸伺服電機(jī)54是一個(gè)電路，其根據(jù)來自控制器46的指令值，控制所述Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50的振蕩反射鏡的位置，比較所述Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50中角度傳感器的信號(hào)與來自所述控制器46的指令值，然后向所述Z軸檢流計(jì)反射鏡裝置50輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)以盡可能減少兩者之間的誤差。對(duì)于圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16，也可以按照預(yù)期目的選擇除半導(dǎo)體激光器之外的其他激光器，比如:固態(tài)激光器，光纖激光器，CO2激光器等等。當(dāng)在圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16中選擇上述除半導(dǎo)體激光器之外的其他激光器時(shí)，也可以提供所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16的光學(xué)系統(tǒng)之外的其他光學(xué)系統(tǒng)。同時(shí)，在這種情況下，優(yōu)選地將所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16中的光學(xué)系統(tǒng)分別布置成在平面圖為“U”型和“L”型，與上述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16中的相同，為了使外罩小型化并也為了盡可能增加光路長度的目的。根據(jù)實(shí)施例，如上所述，從波長選擇性的寬范圍、能夠使設(shè)備小型化，這是因?yàn)榧す馄鞅旧磔^小并且能夠降低成本的角度來看，在所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16中使用半導(dǎo)體激光器。所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16發(fā)射的激光的波長優(yōu)選700nm或更大；更優(yōu)選地，720nm或更大，再優(yōu)選地，750nm或更大。作為所述激光波長的上限，可以根據(jù)預(yù)定目的選擇，但優(yōu)選1500nm或更小,更優(yōu)選地，1300nm或更小,再優(yōu)選地，1200nm或更小。當(dāng)激光波長短于700nm時(shí)，處于可見光區(qū)域，會(huì)發(fā)生在熱可逆記錄材料(可重寫標(biāo)簽RL)上記錄圖像時(shí)對(duì)比度降低的問題或熱可逆記錄材料(可重寫標(biāo)簽RL)著色的問題。當(dāng)激光波長更短的紫外線區(qū)域，所述熱可逆記錄材料容易出現(xiàn)降解的問題。對(duì)于要添加到熱可逆記錄介質(zhì)的光熱轉(zhuǎn)化材料，為了確保反復(fù)圖像處理的耐久度，需要較高的分解溫度。在有機(jī)顏料用于光熱轉(zhuǎn)化材料的情況下，難于獲得具有高分解溫度和長吸收波長的光熱轉(zhuǎn)化材料。所以，對(duì)于激光的波長，優(yōu)選為1500nm或更低。CO2激光器發(fā)射的激光波長為10.6 μ m,處于遠(yuǎn)紅外區(qū)域，即使不添加吸收激光并產(chǎn)生熱量的添加劑，介質(zhì)表面也會(huì)吸收激光。由于即使使用具有近紅外區(qū)域的激光，添加劑也會(huì)吸收可見光部分，通過使用不需要添加劑的CO2激光器，可以避免圖像對(duì)比度的降低。從而，已經(jīng)描述了該情況(第一布局)，其中所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16位于傳輸單元10的-Y側(cè)。但所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16設(shè)于傳輸單元10的+Y側(cè)的情況(也稱為第二布局)大致相同，除了激光發(fā)射方向相反而已(參見圖2A)。在其上附著記錄了圖像的可重寫標(biāo)簽RL的容器C已經(jīng)被滾軸傳輸器RC傳輸?shù)綀D像擦除設(shè)備14的+Y(或-Y)側(cè)時(shí)，所述激光可重寫設(shè)備100通過圖像擦除設(shè)備14執(zhí)行擦除操作重寫圖像；并且當(dāng)同樣的容器C通過滾軸傳輸器RC被傳輸?shù)綀D像記錄設(shè)備16的+Y側(cè)(或-Y側(cè))時(shí)，由圖像記錄設(shè)備16進(jìn)行圖像記錄步驟。再具體地，當(dāng)附著到所述容器C上的可重寫標(biāo)簽RL已經(jīng)抵達(dá)圖像擦除設(shè)備14的+Y側(cè)(或-Y側(cè))的指定位置，即正對(duì)光發(fā)射孔15a的位置(下文簡稱為擦除位置)時(shí)，圖像擦除設(shè)備14發(fā)射激光，并擦除可重寫標(biāo)簽RL上的圖像。要指出的是，所述圖像擦除設(shè)備14具有傳感器(圖中未示出)，其用來檢測容器C是否處于擦除位置。在收到該傳感器的檢測信號(hào)后，主控制部將容器C減速后停下。要指出的是，制動(dòng)器可以提供給所述傳輸單元10，用于將容器C快速而精確地停在所述擦除位置，并也是的該傳輸單元10產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)容器C的影響更小。這種情況下，當(dāng)容器C停下時(shí)，可以控制容器C的移動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)可重與標(biāo)簽RL的聞精度擦除操作。當(dāng)附著于所述容器C上的可重疊標(biāo)簽RL抵達(dá)圖像記錄設(shè)備16的+Y(或-Y)側(cè)的預(yù)定位置，即，正對(duì)光發(fā)射孔17a的位置(下文簡稱為記錄位置)時(shí)，圖像記錄設(shè)備16發(fā)射激光，在可重寫標(biāo)簽RL上記錄新圖像。要指出的是，在一個(gè)實(shí)施例中，所述圖像記錄設(shè)備16具有傳感器(圖中未示出)，其用來檢測容器C是否抵達(dá)記錄位置。在已經(jīng)收到該傳感器的檢測信號(hào)后，主控制部將容器C減速后停下。對(duì)于圖像記錄設(shè)備16，和所述圖像擦除設(shè)備14 一樣，制動(dòng)器可以設(shè)置給所述傳輸單元10，以用于繁殖容器C的運(yùn)動(dòng)影響圖像的記錄。如上所述，在第一布局中，如圖1A所示，所述圖像擦除設(shè)備14的光發(fā)射孔15a形成于外罩15的+Y側(cè)的側(cè)壁+X側(cè)的端部處，且所述圖像記錄設(shè)備16的光發(fā)射孔17a形成于第一外罩17的+Y側(cè)的側(cè)壁的+X側(cè)的端部處。在第二布局中，如圖2A所示，所述圖像擦除設(shè)備14的光發(fā)射孔15a形成于外罩15的-Y側(cè)的側(cè)壁的-X側(cè)的端部處，而所述圖像記錄設(shè)備16的光發(fā)射孔17a形成于第一外罩17的-Y側(cè)的側(cè)壁的-X側(cè)的端部處。與光發(fā)射孔形成于外罩X軸方向中部相比(當(dāng)所述光發(fā)射孔的中心位于外罩X軸方向的中部時(shí))，通過將所述光發(fā)射孔如此設(shè)置于外罩X軸方向的端部上，可以很容易增加外罩內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的光路。S卩，根據(jù)第一、第二布局，相對(duì)于傳輸方向(X軸方向)，所述兩個(gè)光發(fā)射孔15a和17a位于圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16同側(cè)的端部處。“所述兩個(gè)光發(fā)射孔15a和17a位于圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備同側(cè)的端部處”是兩個(gè)光發(fā)射孔15a和17a的中心的X軸位置(相對(duì)于X軸方向的位置)分別位于相應(yīng)外罩X軸的中部的+X側(cè)上，或者分別位于相應(yīng)外罩的中部的X位置的-X側(cè)。在這種情況下，(見圖1A),第一布局中,兩個(gè)所述光發(fā)射孔15a、17a相對(duì)于X軸方向的各自中心之間的距離Xa與外罩15、17相對(duì)于X軸方向的各自中心之間的距離T (下文中稱為“外罩中心距離”T)大致相等。而且(見圖2A)，在第二布局中，兩個(gè)所述光發(fā)射孔15a、17a相對(duì)于X軸方向的各自中心之間的距離Xb也與外罩中心距離T大致相等。也就是說，Xa-T較小，且|Xb-T|也較小。為方便起見，下文中將兩個(gè)所述光發(fā)射孔15a和17a相對(duì)于X軸方向(即傳輸方向)的中心之間的距離稱為“光發(fā)射孔中心距離”。對(duì)比來說，假定兩個(gè)光發(fā)射孔15a，17a位于圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16相對(duì)于傳輸方向(X軸方向)的相反兩側(cè)的端部處，第一布局下光發(fā)射孔中心距離Xe會(huì)比外罩中心距離T明顯要大(見圖5A)。類似地，第二布局下光發(fā)射孔中心距離Xd會(huì)比外罩中心距離T明顯要小(見圖5B)。要指出的是“所述兩個(gè)光發(fā)射孔15a，17a位于相反兩側(cè)的端部”是指兩光發(fā)射孔15a，17a之一的中心的X軸位置位于相應(yīng)外罩中心的X軸方向的+X偵彳，而另一個(gè)光發(fā)射孔位于相應(yīng)外罩中心的X軸方向的-X側(cè)。接下來要介紹所述激光可重寫設(shè)備100的操作的一個(gè)實(shí)例。要指出的是，現(xiàn)在將描述的操作都由主控制部全面控制。該主控制部內(nèi)包括的存儲(chǔ)單元(圖中未示出)中，存儲(chǔ)要在可重寫標(biāo)簽RL上記錄的圖像的信息，即，容器C中當(dāng)前裝載的貨物的內(nèi)容，傳輸目的地，可重寫標(biāo)簽RL已使用次數(shù)等信息。具體地，滾軸傳輸器RC上的擦除位置的上游(-X側(cè))上，例如，其中裝載有貨物并在其外側(cè)壁上貼有可重寫標(biāo)簽的許多容器C均沿X軸方向排列。要指出的是，在圖中，由于圖示的限制，只在圖中描繪了相對(duì)于X軸方向的滾軸傳輸器Re的中間部分。為簡便起見，下文中將所述許多容器C分別稱為“第一容器” Cl...及第N個(gè)容器Cn,它們從+X側(cè)到-X側(cè)沿所陳述的順序排列。要指出的是，所述容器C位于滾軸傳輸器RC上，使得其上貼有可重寫標(biāo)簽的側(cè)壁能夠面向所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16的相應(yīng)光發(fā)射孔15a，17a。首先，用戶操作主控制部的操作者控制面板(圖中未示出)，向主控制部傳遞傳輸開始信號(hào)。已經(jīng)如此接收到傳輸開始信號(hào)的主控制單元獨(dú)立控制滾軸傳輸器RC多個(gè)滾軸組，以由滾軸傳輸器RC以很小間隔傳輸各容器C。接著，第一容器Cl停在擦除位置，圖像擦除設(shè)備14在第一容器Cl的可重寫標(biāo)簽RL上進(jìn)行擦除操作(如圖ΙΑ, 2A)。擦除操作如此結(jié)束后，第一容器Cl被傳輸至并停止在記錄位置。第2容器C2被傳輸至并停止在擦除位置。然后并行進(jìn)行在第一容器Cl上的可重寫標(biāo)簽RL上的記錄操作和在第2容器C2的可重寫標(biāo)簽RL上的擦除操作(如圖1B，2B)。所述記錄操作如此完成后，第一容器Cl傳送至下一過程(例如，傳輸準(zhǔn)備過程)。第2容器C2在擦除操作完成后傳送至并停止在記錄位置。然后對(duì)第2容器C2上的可重寫標(biāo)簽RL進(jìn)行記錄操作，同時(shí)對(duì)第3容器C3上的可重寫標(biāo)簽RL進(jìn)行擦除操作。這樣，在各個(gè)容器C上的可重寫標(biāo)簽RL進(jìn)行圖像擦除和圖像記錄，并且圖像被重與。為了快速進(jìn)行在可重寫標(biāo)簽RL上的圖像重寫并提高產(chǎn)量，優(yōu)選地盡可能減少容器C從擦除位置向記錄位置傳輸所需時(shí)間周期(下文中稱為“容器C傳輸時(shí)間”)。也就是，盡可能減小所述光發(fā)射孔中心距離。但如果光發(fā)射孔中心距離過短，將有可能導(dǎo)致擦除操作和記錄操作無法并行進(jìn)行。要指出的是，所述“擦除操作和記錄操作無法并行進(jìn)行”的具體實(shí)例是:取決于容器C的尺寸，不可能同時(shí)一個(gè)容器C位于擦除位置而另一個(gè)容器C位于記錄位置；所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16發(fā)射的激光相互干擾等類似情況。為了并行實(shí)施擦除操作和記錄操作而又不減少產(chǎn)量，優(yōu)選地是將光發(fā)射孔中心距離設(shè)定為一個(gè)適度的長度(例如，在外罩中心距離T的數(shù)量級(jí)上)。根據(jù)第一實(shí)施例的上述激光可重寫設(shè)備100位于傳輸單元10的+Y或-Y側(cè)，傳輸單元10沿著+X方向傳輸其上貼有可重寫標(biāo)簽RL的容器C。所述激光可重寫設(shè)備100包括:圖像擦除設(shè)備14，其發(fā)射激光并擦除在可重寫標(biāo)簽RL上記錄的圖像；圖像記錄設(shè)備16，其位于圖像擦除設(shè)備14的+X側(cè)(傳輸方向的下游側(cè))，發(fā)射激光，并在其上圖像已經(jīng)被圖像擦除設(shè)備14擦除的可重寫標(biāo)簽RL上記錄新圖像。圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16具有發(fā)射激光的光發(fā)射孔(光發(fā)射部)15a，17a，其位于傳輸方向(X軸方向)的同側(cè)的端部處。這種情況下，在激光可重寫設(shè)備100中，無論激光可重寫設(shè)備100位于傳輸單元10的+Y側(cè)還是-Y側(cè)(無論采用第一和第二布局)，光發(fā)射孔中心距離大致和外罩中心距離相等。進(jìn)而可以避免產(chǎn)量降低，且并行實(shí)現(xiàn)擦除操作和記錄操作。結(jié)果，無論所述激光可重寫設(shè)備100位于傳輸單元10的+Y側(cè)還是-Y側(cè)，其都可以充分發(fā)揮設(shè)備性能。對(duì)比來說，在采用第一、第二布局中的一種布局的情況下，假定圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16在傳輸方向的不同側(cè)具有光發(fā)射孔15a，17a，光發(fā)射孔中心距離會(huì)比外罩中心距離T明顯要大(容器C傳輸時(shí)間邊長)，產(chǎn)量有可能降低。而當(dāng)采用第一和第二布局中另一種布局時(shí)，由于光發(fā)射孔中心距離明顯短，就很難并行實(shí)施擦除操作和記錄操作。因此，無論采用第一布局或第二布局，所述記錄裝置都可能無法充分發(fā)揮性能。進(jìn)一步地，根據(jù)激光可重寫設(shè)備100，無論采用第一或第二布局，光發(fā)射孔中心距離都約等于外罩中心距離T。從而，即便在所述圖像擦除設(shè)備14和圖像記錄設(shè)備16兩者之間的距離M減小時(shí)，也很可能并行實(shí)施擦除操作和記錄操作。即，無論采用第一或第二布局，激光可重寫裝置100可充分發(fā)揮其設(shè)備性能，同時(shí)實(shí)現(xiàn)該裝置的體積最小化。因此，根據(jù)激光可重寫設(shè)備100，無論采用第一、第二哪種布局，都可以確保設(shè)備性能。進(jìn)而，根據(jù)設(shè)備的安裝環(huán)境(例如，是否有足夠的安裝空間，安裝起來的難易程度，維修起來的難易程度，和/或類似條件)，可以方便地確定該激光可重寫設(shè)備100定位在傳輸單元10的+Y側(cè)還是-Y側(cè)。下面，將基于圖6A，6B對(duì)本發(fā)明第二實(shí)施例進(jìn)行描述。第二實(shí)施例中，對(duì)于與上述第一實(shí)施例中相同或相似結(jié)構(gòu)的組件，賦予相同的附圖標(biāo)記，省去重復(fù)描述，并主要闡述其與第一實(shí)施例中不同之處。如圖6A，6B所示，在根據(jù)第二實(shí)施例的激光可重寫設(shè)備200中，與第一實(shí)施例相同，圖像擦除設(shè)備14的光發(fā)射孔15a和圖像記錄設(shè)備16的光發(fā)射孔17a形成于傳輸方向的同一側(cè)(+X或-X側(cè))的端部處。此外，根據(jù)第二實(shí)施例，所述圖像擦除設(shè)備14的中心與其上的光發(fā)射孔15a中心相對(duì)于X軸方向(傳輸方向)的距離，和所述圖像記錄設(shè)備16中心與其上的光發(fā)射孔17a中心相對(duì)于X軸方向(傳輸方向)的距離被設(shè)定為相等距離D。這樣,第一布局下的光發(fā)射孔中心距離Xe和外罩中心距離T相等(如圖6A)。相應(yīng)地，第二布局下光發(fā)射孔中心距離Xf和外罩中心距離T也相等(如圖6B)。根據(jù)第二實(shí)施例，第一和第二布局中的光發(fā)射孔中心距離相等，并于是在第一和第二布局中，容器C傳輸時(shí)間也會(huì)相等。因此，兩種布局也將實(shí)現(xiàn)相同產(chǎn)量。接下來，將基于圖7對(duì)本發(fā)明第三實(shí)施例進(jìn)行描述。第三實(shí)施例中，對(duì)于與前述第一和第二實(shí)施例中相同或相似結(jié)構(gòu)的組件，賦予相同的附圖標(biāo)記，省去重復(fù)描述，并主要闡述其與前述第一和第二實(shí)施例中不同之處。根據(jù)第三實(shí)施例，如圖7所示，除了第一、二實(shí)施例外，圖像擦除設(shè)備14的外罩15的-X側(cè)的側(cè)表面(傳輸方向上游的側(cè)表面)與圖像記錄設(shè)備16的第一外罩17的+X側(cè)的側(cè)表面(傳輸方向下游的側(cè)表面)之間相對(duì)于X軸方向的距離L(下文中稱為并排距離L)被設(shè)定為小于容器C沿X軸方向的長度K的2倍(L < 2K)。這種情況下，當(dāng)多個(gè)相同尺寸的容器C被滾軸傳輸器RC連續(xù)傳輸時(shí)，滾軸傳輸器RC上位于外罩15的-X側(cè)的側(cè)表面和第一外罩17的+X側(cè)的側(cè)表面之間的各位置上(下文中稱為滾軸傳輸器RC上的并排位置)的容器C的數(shù)目是I或2。要指出的是在具有不同尺寸的容器C以混合狀態(tài)連續(xù)傳輸時(shí),相對(duì)于X軸方向具有最大長度的容器C被作為長度K的基礎(chǔ)。此時(shí)，處于每個(gè)擦除位置和記錄位置的容器C的數(shù)量為O或I。在這種情況下，與前述第一和第二實(shí)施例相同，在對(duì)容器C的可重寫標(biāo)簽RL的擦除操作結(jié)束后，容器C從擦除位置被傳至記錄位置，并進(jìn)行記錄操作。另一方面，假設(shè)所述并排距離L大于或等于容器C沿X軸方向長度K的2倍(L ^ 2K)，在具有相同尺 寸的多個(gè)容器C被滾軸傳輸器RC連續(xù)傳輸?shù)那闆r下，滾軸傳輸器RC上的并排位置處的容器C的數(shù)量是2個(gè)或更多。在這種情況下，如圖8所示，所述并排距離L相對(duì)于容器C沿X軸方向的長度K的比增大時(shí)，在所述擦除位置和記錄位置可以插入至少一個(gè)容器C。結(jié)果，將處于擦除位置和記錄位置之間的該容器C傳輸?shù)剿鲇涗浳恢玫木嚯x小于所述擦除位置和記錄位置之間的距離，并且從增加產(chǎn)量的角度看這種狀態(tài)是優(yōu)選的。但是，當(dāng)為了增大所述并排距離L相對(duì)于容器C沿X軸方向長度K的比而加大所述并排距離L時(shí)，整個(gè)裝置的尺寸也會(huì)增大。而為了相同目的而減小容器C沿X軸方向的長度K時(shí)，容器C的容積可能不足。從而，根據(jù)第三實(shí)施例，如上所述，所述并排距離L被設(shè)定成小于容器C沿X軸方向的長度K的2倍(L < 2K)。從而在使得整個(gè)裝置最小化的同時(shí)確保容器C的體積足夠大。接下來，將基于圖9對(duì)本發(fā)明第四實(shí)施例進(jìn)行描述。在第四實(shí)施例中，對(duì)于與前述第一、第二和第三實(shí)施例中相同或相似結(jié)構(gòu)的組件，賦予相同的附圖標(biāo)記，省去重復(fù)描述，下文將主要闡述其與前述第一、第二和第三實(shí)施例中不同之處。根據(jù)第四實(shí)施例，如圖9所示，除了前述第一、二或三實(shí)施例外，所述圖像擦除設(shè)備14中的光發(fā)射孔15a的-X側(cè)的邊緣(沿傳輸方向上游側(cè)的邊緣)和所述圖像記錄設(shè)備16中的光發(fā)射孔17a的+X側(cè)的邊緣(沿傳輸方向下游側(cè)的邊緣)之間的距離N(下文中稱為“光發(fā)射孔最大距離” )N被設(shè)定成大于X軸方向的長度K (N > K)。作為要通過滾軸傳輸器RC傳輸?shù)膫鬏斎萜?即，上述的容器C)，可以使用各種情況。具體地，有各種材質(zhì)的傳輸容器比如:瓦楞紙板，聚丙烯(PP)，不銹鋼等，其上印有公司名稱等的傳輸容器，簽字筆標(biāo)記的傳輸容器，粘有顏料或染料的傳輸容器，為顏色編碼(用不同顏色區(qū)別)目的將顏料或染料揉入材料的傳輸容器，等等。當(dāng)向這種傳輸容器發(fā)射激光時(shí)，根據(jù)其材質(zhì)和/或顏料/染料，激光可能會(huì)被吸收并產(chǎn)生熱量。當(dāng)反復(fù)向這種傳輸容器發(fā)射激光時(shí)，傳輸容器會(huì)變形，破損或類似情況，反復(fù)使用的傳輸容器的時(shí)間周期(使用壽命)可能會(huì)縮短。假設(shè)所述光發(fā)射孔最大距離N小于等于容器C沿X軸方向長度K (N彡K)，單個(gè)容器可以同時(shí)面對(duì)15a，17a兩個(gè)光發(fā)射孔。從而，在通過圖像擦除設(shè)備14在這個(gè)可重寫標(biāo)簽RL上進(jìn)行擦除操作的過程中，激光可能錯(cuò)誤地從圖像記錄設(shè)備16發(fā)射到附有可重寫標(biāo)簽RL的容器C上；或者在通過圖像記錄設(shè)備16在這個(gè)可重寫標(biāo)簽RL上進(jìn)行圖像記錄的過程中，激光會(huì)被圖像擦除設(shè)備14發(fā)射到其上附著可重寫標(biāo)簽RL的容器C上。此外，為了避免上述情況發(fā)生，擦除操作和記錄工序不同時(shí)進(jìn)行而是分別進(jìn)行，就會(huì)降低產(chǎn)量。下面著重描述前述第一、二、三、四實(shí)施例中所使用的可重寫標(biāo)簽RL，S卩，熱可逆記錄介質(zhì)。熱可逆記錄介質(zhì)中的圖像擦除和記錄機(jī)理包括其色調(diào)可通過熱量進(jìn)行可逆地變化。這種方式是通過無色染料和可逆顯影劑(下文中稱為顯影劑)實(shí)現(xiàn)的，且色調(diào)在透明狀態(tài)和顏色形成 狀態(tài)之間可逆地轉(zhuǎn)化。圖1OA示出熱可逆記錄介質(zhì)的溫度-顏色光學(xué)密度變化的曲線的實(shí)例，該熱可逆記錄介質(zhì)具有在樹脂中含有無色染料和顯影劑的熱可逆記錄層。圖1OB示出熱可逆記錄介質(zhì)顏色形成和擦除的原理圖，其通過熱量可以在透明狀態(tài)和顏色形成狀態(tài)之間可逆地轉(zhuǎn)化。當(dāng)處于顏色擦除狀態(tài)(A)的所述記錄層的溫度升高，在融化溫度Tl時(shí)，所述無色染料和顯影劑融化并混合，從而形成顏色，從而，該記錄層進(jìn)入融化和顏色形成狀態(tài)(B)。當(dāng)處于所述融化和顏色形成狀態(tài)(B)的記錄層快速冷卻時(shí)，可以在保持顏色形成狀態(tài)時(shí)將記錄層溫度降至室溫。進(jìn)而，穩(wěn)定了該顏色形成狀態(tài)，得到固定的顏色形成狀態(tài)(C)。能否達(dá)到顏色形成狀態(tài)取決于從所述融化狀態(tài)的溫度冷卻下來的速度。在緩慢冷卻的狀態(tài)下，冷卻過程中顏色會(huì)被擦除。所述記錄層就恢復(fù)到顏色擦除狀態(tài)(A)，與初始狀態(tài)相同；或者通過快速冷卻，所述記錄層會(huì)成為比顏色形成狀態(tài)(C)的密度要淺的狀態(tài)。另一方面，處于顏色形成狀態(tài)(C)的記錄層被再次加熱時(shí)，在低于所述彩色形成溫度的溫度T2(從D到E)下，彩色被擦除。當(dāng)此種狀態(tài)下的記錄層溫度被降低時(shí)，就會(huì)返回到顏色擦除狀態(tài)(A)，與初始狀態(tài)相同。從融化狀態(tài)通過快速冷卻獲得的顏色形成狀態(tài)(C)是所述無色染料和顯影劑在能夠發(fā)生分子的催化效應(yīng)的狀態(tài)下混合到一起的狀態(tài)。此種狀態(tài)可以是許多情況的固態(tài)。此種狀態(tài)是無色染料和顯影劑的融化混合物(上述顏色形成混合物)結(jié)晶的狀態(tài)，從而維持如此的顏色形成狀態(tài)。認(rèn)為是此種結(jié)構(gòu)的形成使得所述顏色形成狀態(tài)穩(wěn)定。另一方面，顏色擦除狀態(tài)(A)是所述無色染料和顯影劑相位分離的狀態(tài)。認(rèn)為這種狀態(tài)是需要至少一種上述化合物的分子聚集而形成域或結(jié)晶的狀態(tài)，并從而是所述無色燃料和顯影劑由于聚集或結(jié)晶而彼此分離的穩(wěn)定狀態(tài)。許多情況下，以這種方式的無色燃料和顯影劑的相位分離以及顯影劑的結(jié)晶，都會(huì)使顏色完全消褪。要指出的是，如圖1OA所示，無論是從融化狀態(tài)進(jìn)行緩慢冷卻的顏色擦除，還是從顏色形成狀態(tài)升溫的顏色擦除，所述聚合結(jié)構(gòu)在T2溫度時(shí)變化，相位分離，顯影劑結(jié)晶。進(jìn)一步，在圖1OA中，如果所述記錄層的溫度反復(fù)升到大于或等于融化溫度的溫度T3，即使加熱到所述擦除溫度，也可能出現(xiàn)擦除失敗的情況。認(rèn)為這是因?yàn)轱@影劑熱分解并所以很難聚合或結(jié)晶，進(jìn)而，所述顯影劑很難從無色染料中分離出來。在對(duì)所述熱可逆記錄介質(zhì)進(jìn)行加熱時(shí)，通過減少圖1OA中所述融化溫度Tl和溫度T3的差，可以減少該熱可逆記錄介質(zhì)因反復(fù)使用引起的降解效果。該熱可逆記錄介質(zhì)可以根據(jù)需要進(jìn)行適當(dāng)選擇而沒有任何限制。該熱可逆記錄介質(zhì)優(yōu)選包括支撐元件和位于支撐元件上的熱可逆記錄層，該熱可逆記錄層可含有光熱轉(zhuǎn)換材料。此外，該熱可逆記錄材料優(yōu)選地還具有另一層(或多層)，該另一層可以根據(jù)需求適當(dāng)選擇，例如:光熱轉(zhuǎn)換層，第一氧氣阻隔層，第二氧氣阻隔層，紫外線吸收層，背面層，保護(hù)層，中間層，基底層，粘結(jié)劑層，膠粘層(tackiness layer),著色層，空氣層,光反射層,和/或類似層。這些層中的每一個(gè)可以是單層結(jié)構(gòu)，也可以是多層結(jié)構(gòu)。但是，對(duì)于設(shè)置在該光熱轉(zhuǎn)化層之上的層(各層)，為了減少發(fā)射的特定波長的激光束的能量損失，優(yōu)選地，它們各自由吸收該特定波長激光較少的材料形成。所述熱可逆記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)并沒有特別的限定。例如圖1lA所示的，可選擇如下結(jié)構(gòu):熱可逆記錄介質(zhì)100具有支撐元件101和設(shè)置在支撐元件101上并含有光熱轉(zhuǎn)化材料的熱可逆記錄層102。此外，如圖1lB所示，可以采用如下層結(jié)構(gòu)的模式:熱可逆記錄介質(zhì)100具有支撐元件101，以及在支撐元件101上按照所描述的順序的第一熱可逆記錄層103，光熱轉(zhuǎn)化層104和第二熱可逆記錄層105。此外，如圖1lC所示，可以采用如下層結(jié)構(gòu)的模式:熱可逆記錄介質(zhì)100具有支撐元件101，以及在支撐元件101上按照所描述順序的第一氧氣阻隔層106，含有光熱轉(zhuǎn)化材料的熱可逆記錄層102，第二氧氣阻隔層107以及紫外線吸收層108。此外，如圖1lD所示，可以采用如下層結(jié)構(gòu)的模式:熱可逆記錄介質(zhì)100具有支撐元件101，以及在支撐元件101上的按照所描述順序的含有光熱轉(zhuǎn)化材料的熱可逆記錄層102，第二氧氣阻隔層107以及紫外線吸收層108，并進(jìn)一步具有在所述支撐元件101的不具有熱可逆記錄層一側(cè)的表面上的第一氧氣阻隔層106。要指出的是，盡管圖中未示出，還可以在圖1lA熱可逆記錄層102上、圖1lB第二熱可逆記錄層105上、圖1lC紫外線吸收層108上以及圖1lD紫外線吸收層108上形成保護(hù)層，每個(gè)保護(hù)層設(shè)置為最外層。-支撐元件-可以根據(jù)需要無限制的選擇該支撐元件的形狀、結(jié)構(gòu)、尺寸等等。形狀的實(shí)例包括板狀形狀；結(jié)構(gòu)可以是單層結(jié)構(gòu)或者多層結(jié)構(gòu)；具體尺寸可以根據(jù)熱可逆記錄介質(zhì)的尺寸來選擇；等等。該支撐元件的材料的實(shí)例包括而不限于:例如，無機(jī)材料和有機(jī)材料。
該無機(jī)材料的實(shí)例包括而不限于:玻璃，石英，硅，氧化硅，氧化鋁，SiO2和各類金屬。該有機(jī)材料的實(shí)例包括而不限于:紙張，三乙酸纖維素類的纖維素衍生物，合成紙，和聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯，聚碳酸酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯制成的薄膜或類似物。所述無機(jī)材料和有機(jī)材料各自可以單獨(dú)使用或者兩個(gè)以上組合使用。在上述材料中，有機(jī)材料是優(yōu)選的，且聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯，聚碳酸酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯制成的薄膜等是優(yōu)選的，其中特別優(yōu)選地是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。優(yōu)選地，在所述支撐元件上借助于電暈放電，氧化反應(yīng)(比如采用鉻酸)，蝕刻，提高粘性，抗靜電處理或類似處理進(jìn)行表面改性，為了改善涂覆層附著的目的。優(yōu)選地，也可以采用添加諸如氧化鈦之類的白色顏料將該支撐元件著色為白色。該支撐元件可根據(jù)需要不受限制的選擇合適厚度。但是10 μ m-2000 μ m的范圍是優(yōu)選的，50μπι-1000μπι的范圍是更優(yōu)選的。-熱可逆記錄層_該熱可逆記錄層的色調(diào)是可逆地變化的。該熱可逆記錄層包括無色染料和顯影劑和粘結(jié)劑樹脂，無色染料作用為提供電子著色型化合物，顯影劑作用為接收電子化合物。該熱可逆記錄層按需要還可能包括其他化合物。作為提供電子著色型化合物的無色染料和作為接收電子化合物的可逆性顯影劑，其中通過加熱色調(diào)進(jìn)行可逆變化，它是可以展示出通過溫度變化可逆地產(chǎn)生視覺上的變化并且根據(jù)加熱溫度以及加熱后冷卻速度的差異在相對(duì)的顏色形成狀態(tài)或顏色擦除狀態(tài)之間能夠變化的材料。-無色染料-該無色染料是一種本身無色或白色(pale)的染料前體。該無色染料可以從已知的無色染料中適當(dāng)選擇而沒有任何限制，其實(shí)例包括基于以下物質(zhì)的無色化合物:三苯甲烷苯酞，三烯丙基甲烷，熒燒，吩噻嗪，噻吩，兩本駢派侖，靛 )，螺比喃，哌噠苯嗪，色原烯醇吡唑，次甲基，羅丹明乳胺，喹唑啉，二氮烷二本駢派侖，雙內(nèi)酯。其中基于熒烷和苯酞的無色染料由于其在顏色形成和擦除，顏色質(zhì)量和保存質(zhì)量方面的卓越性能而是特別優(yōu)選的。其可以單獨(dú)使用，也可兩個(gè)以上組合使用。該熱可逆記錄介質(zhì)通過層疊形成不同色調(diào)的層而被用于多色和/或全色記錄。-可逆顯影劑-可逆顯影劑可以根據(jù)預(yù)期用途適當(dāng)選擇而沒有限制，只要通過加熱能夠可逆地實(shí)現(xiàn)顏色的形成和擦除即可。其適當(dāng)?shù)膶?shí)例包括:在其分子中至少具有下面結(jié)構(gòu)中的一種:具有顯色性能使得無色染料形成顏色的結(jié)構(gòu)(I)(例如:酚式羥類，羥酸類，磷酸類和類似物)；控制分子之間的粘合力的結(jié)構(gòu)(2)(例如:長鏈烴類鏈接在一起的結(jié)構(gòu))。在鏈接部分，長鏈烴類可通過含有雜原子的二價(jià)或二價(jià)以上連接基團(tuán)鏈接起來。進(jìn)一步地，該長鏈烴類起碼可包含相同或類似鏈接基或芳香類。作為具有促使無色染料形成顏色的顯色性能的結(jié)構(gòu)(I)，酚類是特別適當(dāng)?shù)摹Ｗ鳛榭刂品肿娱g粘合力的結(jié)構(gòu)(2)，優(yōu)選含8個(gè)以上碳原子的長鏈烴類，更優(yōu)選11個(gè)以上碳原子的長鏈烴類。優(yōu)選碳原子數(shù)目的上限是40或更小，更優(yōu)選的碳原子數(shù)目是30或更小。上述可逆性顯影劑中，優(yōu)選下列通用方程式(I)所表示的酚化合物，進(jìn)一步優(yōu)選下述通用方程式(2)所表示的酚化合物。
權(quán)利要求
1.一種激光可重寫設(shè)備，其位于傳輸路徑的一側(cè)或另一側(cè)上，其上附著有熱可逆記錄介質(zhì)的待傳輸物體按預(yù)定傳輸方向通過該傳輸路徑傳輸，該激光可重寫設(shè)備向該熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光并重寫圖像，所述激光可重寫設(shè)備包括: 圖像擦除設(shè)備，該圖像擦除設(shè)備向已記錄圖像的熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光并擦除該圖像； 圖像記錄設(shè)備，該圖像記錄設(shè)備位于所述圖像擦除設(shè)備的預(yù)定傳輸方向的下游，通過向其上圖像已經(jīng)被圖像擦除設(shè)備擦除的熱可逆記錄介質(zhì)照射激光來記錄新圖像； 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備在預(yù)定傳輸方向的相同側(cè)的端部處具有相應(yīng)的激光發(fā)射部，激光通過該激光發(fā)射部發(fā)射。
2.如權(quán)利要求1中所述的激光可重寫設(shè)備，其中: 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備具有相應(yīng)的外罩； 該圖像擦除設(shè)備的激光發(fā)射部設(shè)于該圖像擦除設(shè)備的外罩上、在預(yù)定傳輸方向的上游側(cè)的端部處； 該圖像記錄設(shè)備的激光發(fā)射部設(shè)于該圖像記錄設(shè)備的外罩上、在預(yù)定傳輸方向的上游側(cè)的端部處。
3.如權(quán)利要求1所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備具有相應(yīng)的外罩； 該圖像擦除設(shè)備的激光發(fā)射部設(shè)于該圖像擦除設(shè)備的外罩上、在預(yù)定傳輸方向的下游側(cè)的端部處； 該圖像記錄設(shè)備的激光發(fā)射部設(shè)于該圖像記錄設(shè)備的外罩上，在預(yù)定傳輸方向的下游側(cè)的端部處。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備彼此靠近地布置。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像記錄設(shè)備的中心與圖像記錄設(shè)備的激激光發(fā)射部的中心之間相對(duì)于預(yù)定傳輸方向的距離等于所述圖像擦除設(shè)備的中心與該圖像擦除設(shè)備的激激光發(fā)射部的中心之間相對(duì)于預(yù)定傳輸方向的距離。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備沿預(yù)定傳輸方向的最上游側(cè)的邊緣與該圖像記錄設(shè)備沿預(yù)定傳輸方向的最下游側(cè)的邊緣之間的距離小于待傳輸物品沿預(yù)定傳輸方向的長度的2倍。
7.如權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備的激光發(fā)射部的預(yù)定傳輸方向的最上游側(cè)邊緣與該圖像記錄設(shè)備的激光發(fā)射部的預(yù)定傳輸方向的最下游側(cè)的邊緣之間的距離大于待傳輸物品的預(yù)定傳輸方向的長度。
8.如權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備分別具有發(fā)出激光的光源以及將該光源發(fā)出的激光引導(dǎo)至激光發(fā)射部的光學(xué)系統(tǒng)。
9.如權(quán)利要求8所述的可重寫記錄裝置，其中: 該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備分別具有容納相應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的外罩，各外罩具有兩個(gè)鄰近的側(cè)壁；且 至少該圖像擦除設(shè)備或圖像記錄設(shè)備的激光發(fā)射部設(shè)于所述兩個(gè)鄰近側(cè)壁中的一個(gè)上。
10.如權(quán)利要求8或9所述的可重寫記錄裝置，其中: 至少該圖像擦除設(shè)備或圖像記錄設(shè)備的光源包括半導(dǎo)體激光器。
11.如權(quán)利要求1 10中任一項(xiàng)所述的可重寫記錄裝置，其中: 該熱可逆記錄介 質(zhì)包括: 支撐兀件；和 熱可逆記錄層，該熱可逆記錄層設(shè)置于該支撐元件上，包括吸收特定波長的光并將光轉(zhuǎn)化成熱量的光熱轉(zhuǎn)化材料、無色染料和可逆性顯影劑，該熱可逆記錄層具有根據(jù)溫度可逆變化的色調(diào)。
全文摘要
附有熱可逆記錄介質(zhì)的物品按預(yù)定方向傳輸，在傳輸路徑的任意一側(cè)設(shè)置激光可重寫設(shè)備。該激光可重寫設(shè)備向熱可逆記錄介質(zhì)發(fā)射激光從而重寫圖像。該激光可重寫設(shè)備具有一個(gè)圖像擦除設(shè)備和一個(gè)圖像記錄設(shè)備。圖像擦除設(shè)備，通過向熱可逆記錄介質(zhì)上發(fā)射激光對(duì)圖像進(jìn)行擦除；圖像記錄設(shè)備位于圖像擦除設(shè)備沿傳輸方向下游側(cè)，在圖像被圖像擦除設(shè)備擦除后，通過激光照射熱可逆記錄介質(zhì)記錄一個(gè)新圖像。該圖像擦除設(shè)備和圖像記錄設(shè)備各自具有光發(fā)射部，激光通過該光發(fā)射孔在該預(yù)定傳輸方向的同側(cè)的側(cè)壁發(fā)射。
文檔編號(hào)B41J2/435GK103204002SQ20121059929
公開日2013年7月17日 申請(qǐng)日期2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月5日
發(fā)明者淺井敏明, 堀田吉彥, 川原真哉, 石見知三 申請(qǐng)人:株式會(huì)社理光