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一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法

文檔序號:2490414閱讀:212來源:國知局
專利名稱:一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法,具體是涉及修正由不同墨水、紙張、溫度和空氣濕度等打印環(huán)境變化引起的光譜特征化模型精度降低的方法。
背景技術(shù)
打印機(jī)光譜特征化模型通常包括正和反兩個(gè)方向。正向光譜特征化模型是指建立從與設(shè)備相關(guān)的墨水配方(如,青、品紅、黃、黑的數(shù)字化設(shè)備驅(qū)動(dòng)值)到與設(shè)備無關(guān)的光譜反射比之間的關(guān)系;反之,則稱為反向光譜特征化模型。由于人們常常希望通過打印可以獲得某一種顏色,因此反向模型一般更為實(shí)用。打印機(jī)光譜特征化模型的建立往往需要打印并測量幾百甚至幾千個(gè)訓(xùn)練樣本。然而,所建立的模型僅僅適用于建模時(shí)的打印環(huán)境,包括墨水、紙張、溫度以及空氣濕度等。一旦改變墨水(即使是同一型號的墨水)、紙張、打印時(shí)的溫度和空氣濕度,模型的精度會(huì)急劇地降低,需要再次建模。但是,建模需重新打印大量的訓(xùn)練樣本,這又是對墨水、紙張等耗材的浪費(fèi),也不符合節(jié)能環(huán)保的理念。對于上述問題,目前學(xué)術(shù)界和工業(yè)界都還沒有提出由于墨水、紙張、溫度已經(jīng)空氣濕度等打印環(huán)境變化所導(dǎo)致光譜特征化模型精度降低的修正方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決背景技術(shù)中所述的問題,提供一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法。打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法,其特征在于包括正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正和反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正,其中
正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下
1)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域的不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其墨水配方作為輸入墨水配方,經(jīng)原正向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的光譜反射比
2)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出得到修正樣本的硬拷貝,并測得其正向目標(biāo)光
譜反射比/Ptarget,正;
3)采用最小二乘法,分別用截距為0的線性方程,擬合所有修正樣本的和/Ptoget,正在各波長的數(shù)據(jù),并計(jì)算得出正向波長修正系數(shù)α λ ;
4)對于任一輸入墨水配方,先利用原正向光譜特征化模型進(jìn)行預(yù)測,然后用正向波長修正系數(shù)〃 λ修正原正向光譜特征化模型所預(yù)測的光譜反射比,得到基于新打印環(huán)境的預(yù)測光譜反射比;
反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下
5)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域且不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其光譜反射比作為目標(biāo)光譜反射比ZPtawt, &,通過原反向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的墨水配方;
6)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出預(yù)測的墨水配方而得到修正樣本的硬拷貝,并測得復(fù)現(xiàn)光譜反射比Wmp ;7)采用最小二乘法,分別用,其截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的/Ptoget,^WRrep 在各波長的對應(yīng)關(guān)系,并計(jì)算得出反向波長修正系數(shù)β Λ ;
8)對于任一輸入目標(biāo)光譜反射比,以反向波長修正系數(shù)βλ來修正目標(biāo)光譜反射比 /Ptarget, &,求得修正后的目標(biāo)光譜反射比/ ’ target, &,并將作為原反向特征化模型的輸入目標(biāo)光譜反射比,再經(jīng)原反向光譜特征化模型預(yù)測在新打印環(huán)境下的墨水配方,實(shí)現(xiàn)原反向光譜特征化模型在新的打印環(huán)境下的準(zhǔn)確復(fù)現(xiàn)。本發(fā)明通過打印并測量20-50個(gè)修正樣本以獲得相應(yīng)的波長修正系數(shù),然后再對打印機(jī)光譜特征化模型的輸入或輸出參數(shù)進(jìn)行修正,即可有效地補(bǔ)償因打印環(huán)境變化所造成的打印機(jī)光譜特征化模型精度之降低,克服了重新建立特征化模型所造成的浪費(fèi)與不便。


圖1是正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正流程圖; 圖2是反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正流程圖3是波長400nm的正向波長修正系數(shù)計(jì)算示意圖。
具體實(shí)施例方式打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法包括正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正和反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正、其中
正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下
1)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域的不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其墨水配方作為輸入墨水配方,經(jīng)原正向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的光譜反射比Wpre ;
2)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出得到修正樣本的硬拷貝,并測得其正向目標(biāo)光
譜反射比/Ptarget,正;
3)采用最小二乘法,分別用截距為0的線性方程,擬合所有修正樣本的和/Ptoget,正在各波長的數(shù)據(jù),并計(jì)算得出正向波長修正系數(shù)α λ ;
4)對于任一輸入墨水配方,先利用原正向光譜特征化模型進(jìn)行預(yù)測,然后用正向波長修正系數(shù)α λ修正原正向光譜特征化模型所預(yù)測的光譜反射比,得到基于新打印環(huán)境的預(yù)測光譜反射比;
反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下
5)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域且不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其光譜反射比作為目標(biāo)光譜反射比ZPtawt, &,通過原反向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的墨水配方;
6)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出預(yù)測的墨水配方而得到修正樣本的硬拷貝,并測得復(fù)現(xiàn)光譜反射比Wmp ;
7)采用最小二乘法,分別用,其截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的/Ptoget,&和/ _ 在各波長的對應(yīng)關(guān)系,并計(jì)算得出反向波長修正系數(shù)β Λ ;
8)對于任一輸入目標(biāo)光譜反射比,以反向波長修正系數(shù)βλ來修正目標(biāo)光譜反射比 /Ptarget, &,求得修正后的目標(biāo)光譜反射比/ ’ target, &,并將作為原反向特征化模型的輸入目標(biāo)光譜反射比,再經(jīng)原反向光譜特征化模型預(yù)測在新打印環(huán)境下的墨水配方,實(shí)現(xiàn)原反向光譜特征化模型在新的打印環(huán)境下的準(zhǔn)確復(fù)現(xiàn)。 實(shí)施例以一臺CMYK (青、品、黃、黑)四墨打印機(jī)為例,對上述特征化模型修正方法的具體實(shí)施方法進(jìn)行闡述。需要說明的是,本發(fā)明并不局限于四墨打印機(jī),其可適用于各種多墨打印機(jī)基于光譜的特征化模型之修正?;谀骋淮蛴…h(huán)境的打印機(jī)光譜特征化模型的建立是進(jìn)行模型修正的前提。打印機(jī)的正向光譜特征化模型可采用模型法和經(jīng)驗(yàn)法兩類。模型法是通過物理模型模擬設(shè)備的呈色機(jī)理,建立墨水配方與光譜反射比之間的對應(yīng)關(guān)系,如Kubelka-Mimk模型、 Clapper-Yule 模型、Neugebauer 模型禾口 Cellular Yule-Nielsen Neugebauer 模型等,其反向模型往往是基于迭代計(jì)算的。經(jīng)驗(yàn)法則通過數(shù)據(jù)擬合或插值等數(shù)學(xué)方法直接建立設(shè)備相關(guān)色與光譜反射比的對應(yīng)關(guān)系,而不太注重設(shè)備的呈色機(jī)理,主要有多項(xiàng)式模型和三維查找表等,其反向模型也可通過多項(xiàng)式或查找插值的方法建立。在模型修正之前,首先假定基于某一打印環(huán)境的正向和反向打印機(jī)光譜特征化模型已經(jīng)建立,其模型可采用模型法和經(jīng)驗(yàn)法中的任一方法。下面分別對正向和反向光譜特征化模型的修正予以闡述。在新的打印環(huán)境中,對于原正向光譜特征化模型的修正其主要步驟如下
1)選取30個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域的不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,其墨水配方將作為原正向光譜特征化模型的輸入墨水配方以預(yù)測相應(yīng)的光譜反射比/ _。2)通過打印機(jī)輸出修正樣本的硬拷貝,經(jīng)分光光度計(jì)測得正向目標(biāo)光譜反射比R target,正。3)分別用截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的/Ppm ^PZPtarget, ε在各波長的數(shù)據(jù),并計(jì)算得出正向波長修正系數(shù)〃”如以波長400nm為例,其對應(yīng)的正向波長修正系數(shù)
0 400 與 ^pre, 400 和 R target,400 的關(guān)系可表示為
權(quán)利要求
1. 一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法,其特征在于包括正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正和反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正,其中 正向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下1)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域的不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其墨水配方作為輸入墨水配方,經(jīng)原正向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的光譜反射比2)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出得到修正樣本的硬拷貝,并測得其正向目標(biāo)光譜反射比/Ptarget,正;3)采用最小二乘法,分別用截距為0的線性方程,擬合所有修正樣本的和/Ptoget,正在各波長的數(shù)據(jù),并計(jì)算得出正向波長修正系數(shù)α λ ;4)對于任一輸入墨水配方,先利用原正向光譜特征化模型進(jìn)行預(yù)測,然后用正向波長修正系數(shù)〃 λ修正原正向光譜特征化模型所預(yù)測的光譜反射比,得到基于新打印環(huán)境的預(yù)測光譜反射比;反向打印機(jī)光譜特征化模型的修正的步驟如下5)選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域且不同于訓(xùn)練樣本的修正樣本,將其光譜反射比作為目標(biāo)光譜反射比ZPtawt, &,通過原反向光譜特征化模型預(yù)測相應(yīng)的墨水配方;6)在新的打印環(huán)境下,通過打印機(jī)輸出預(yù)測的墨水配方而得到修正樣本的硬拷貝,并測得復(fù)現(xiàn)光譜反射比Wmp ;7)采用最小二乘法,分別用截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的/Prep^PZPtarget, &在各波長的對應(yīng)關(guān)系,并計(jì)算得出反向波長修正系數(shù)β Λ ;8)對于任一輸入目標(biāo)光譜反射比,以反向波長修正系數(shù)βλ來修正目標(biāo)光譜反射比 /Ptarget, &,求得修正后的目標(biāo)光譜反射比/ ’ target, &,并作為原反向特征化模型的輸入目標(biāo)光譜反射比,再經(jīng)原反向光譜特征化模型預(yù)測在新打印環(huán)境下的墨水配方,實(shí)現(xiàn)原反向光譜特征化模型在新的打印環(huán)境下的準(zhǔn)確復(fù)現(xiàn)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種打印機(jī)光譜特征化模型的修正方法。它可顯著改善由不同墨水、紙張、溫度以及空氣濕度等打印環(huán)境變化所引起的光譜特征化模型精度降低的情況,適用于多種打印機(jī)光譜特征化模型。通過選取20-50個(gè)基本覆蓋打印機(jī)色域的修正樣本(墨水配方和光譜反射比),在新的打印環(huán)境下打印并測量,再經(jīng)比較分析,求得相應(yīng)的正向和反向波長修正系數(shù),用于修正原光譜特征化模型的輸入或輸出參數(shù),最終實(shí)現(xiàn)原正向和反向光譜特征化模型在新打印環(huán)境下的準(zhǔn)確預(yù)測。本發(fā)明避免了重新建模所帶來的浪費(fèi)與不便,同時(shí)又克服了由打印環(huán)境變化造成的模型精度顯著降低的問題,且易于實(shí)施。
文檔編號B41J2/00GK102180003SQ201110042430
公開日2011年9月14日 申請日期2011年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月22日
發(fā)明者徐海松, 王彬宇 申請人:浙江大學(xué)
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