專利名稱：用于制造液體噴出頭的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于加工硅基板的方法和用于制造液體噴出頭用的基板的方法。
背景技術：
作為噴出液體的液體噴出頭的一個代表性示例，可以提及適用于噴墨記錄方法的噴墨記錄頭，其中該噴墨記錄頭通過將墨噴出至記錄介質(zhì)而執(zhí)行記錄。通常，以噴墨記錄頭為代表的液體噴出頭包括流路、設置在相應流路中的能量產(chǎn)生部以及用于利用能量產(chǎn)生部中所產(chǎn)生的能量來噴出液體的微小的噴出口。為了制造該液體噴出頭，考慮到精密加工等，經(jīng)常采用利用感光性材料的平版印刷法。在日本特開2006-044237號公報(專利文獻1)公開的方法中，利用感光性材料使用于流路的模具的圖案化層形成在具有噴出能量產(chǎn)生部的基板上，隨后，形成為流路壁形成構件的覆蓋層設置在圖案化層上。在用作噴出口的開口形成在用于流路的模具的圖案化層上的覆蓋層中并且形成在與能量產(chǎn)生部的能量產(chǎn)生面相面對的位置之后，移除圖案化層，從而形成均起到流路作用的空間。然而，當利用專利文獻1公開的方法制造液體噴出頭時，在一些情況下，可能產(chǎn)生下列不利情況。例如，因為沿著用于流路的模具的圖案化層形成覆蓋層，所以覆蓋層易于受到圖案化層的形狀的影響。因此，覆蓋層的在圖案化層的中央部附近的厚度可能與覆蓋層的在圖案化層的端部附近的厚度不同，結果，可能產(chǎn)生覆蓋層的厚度的分布。另外，當在硅晶片上進行液態(tài)感光性樹脂的溶劑涂覆以形成覆蓋層時，在感光性樹脂的溶劑蒸發(fā)時，感光性樹脂擴散以越過圖案化層。因此，不利地，覆蓋層的位于晶片的中央側(cè)的厚度與覆蓋層的位于沿著晶片的外周部的位置處的厚度不同。因為圖案化層上的覆蓋層的厚度決定噴出口部的流路的長度，所以當發(fā)生覆蓋層的厚度變化時，噴出口面與能量產(chǎn)生部(元件)的能量產(chǎn)生面之間的距離可能變化。因為該距離是對待噴出的液體的量具有重大影響的因素，所以在發(fā)生以上變化時，難以穩(wěn)定地噴出具有均一液體體積的液滴。這由于下列原因而成為噴墨記錄方法的領域中的嚴重問題。在噴墨記錄方法的領域中，已經(jīng)逐年不斷要求圖像品質(zhì)的進一步改進。因此，要求噴出的液滴最小化，并且還不斷要求液體噴出頭滿足以上要求。引用文件列表專利文獻專利文獻1 日本特開2006-044237號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種用于以良好的產(chǎn)量制造液體噴出頭的方法，液體噴出頭能夠抑制噴出液滴的液體體積的變化并且能夠穩(wěn)定且重復地噴出具有均一液體體積的液滴。根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種用于制造液體噴出頭的方法，所述液體噴出頭包括噴出液體的噴出口以及與所述噴出口連通的流路，所述方法包括第一步驟，準備基板，其中第一層和第二層按第一層和第二層這樣的順序平坦地層疊在所述基板上；第二步驟，由所述第二層形成用于形成所述噴出口的構件(A)；第三步驟，由所述第一層形成用于形成所述流路的模具；第四步驟，以第三層覆蓋所述模具并且與所述構件(A)緊密接觸的方式設置所述第三層；以及第五步驟，移除所述模具，以形成所述流路。根據(jù)本發(fā)明，能夠以良好的產(chǎn)量制造液體噴出頭，該液體噴出頭能夠抑制噴出液滴的液體體積的變化并且能夠穩(wěn)定且重復地噴出具有均一液體體積的液滴。


[圖IA至圖1J]圖IA至圖IJ均是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的用于制造液體噴出頭的方法的示意性截面圖。[圖2A至圖2G]圖2A至圖2G均是示出根據(jù)本發(fā)明的第三實施方式的用于制造液體噴出頭的方法的示意性截面圖。[圖3A至圖3E]圖3A至圖3E均是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的用于制造液體噴出頭的方法的示意性截面圖。[圖4A至圖4B]圖4A和圖4B均是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的用于制造液體噴出頭的另一方法的示意性截面圖。[圖5]圖5是示出通過根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的用于制造液體噴出頭的方法獲得的液體噴出頭的示意性截面圖。[圖6A至圖6B]圖6A和圖6B是相應地示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的用于制造液體噴出頭的另一方法以及由此獲得的液體噴出頭的示意性截面圖。[圖7]圖7是示出通過本發(fā)明的用于制造液體噴出頭的方法獲得的液體噴出頭的一個示例的示意性立體圖。[圖8A至圖8F]圖8A至圖8F均是示出根據(jù)比較例的用于制造液體噴出頭的方法的示意性截面圖。
具體實施例方式在下文中，將參照附圖描述本發(fā)明。液體噴出頭可以安裝于諸如打印機、復印機、具有通信系統(tǒng)的傳真機、具有打印機單元的文字處理機等設備，以及還可以安裝于與各種處理裝置一體地組合的工業(yè)記錄設備。液體噴出頭還可以用于例如生物芯片生產(chǎn)、電子電路的印刷以及化學藥品的噴霧。圖7是示出本發(fā)明的液體噴出頭的一個示例的示意性立體圖。圖7示出的本發(fā)明的液體噴出頭具有基板1，能量產(chǎn)生元件2以預定節(jié)距形成于基板1，各能量產(chǎn)生元件2均產(chǎn)生能量以噴出諸如墨等液體。供給液體的供給口 3在基板1中形成在兩列能量產(chǎn)生元件2之間。在基板1，形成有在能量產(chǎn)生元件2上方開口的噴出口 5以及使墨供給口 3與各噴出口 5連通的液體流路6。形成使供給口 3與各噴出口 5連通的流路6的壁的流路壁構件4與設置有噴出口5的噴出口構件一體地形成。
第一實施方式接下來，將參照圖IA至圖IJ描述本發(fā)明的用于制造液體噴出頭的方法的第一實施方式。圖7是第一實施方式中制造的液體噴出頭的局部剖切示意性立體圖。圖IA至圖IJ是沿圖7的線I-I垂直于基板1截取的、示出每個步驟中的截面的示意性截面圖。如圖IA所示，第一層7和第二層8按第一層7和第二層8這樣的順序在基板1上平坦地層疊于彼此。首先，準備設置有上述層疊體的該基板1(第一步驟)。至于準備方法，在將第一層7設置在基板1上之后，可以將第二層8層疊在第一層7上，或者可以將由第一層7和第二層8組成的層疊體設置在基板1上，使得第一層7位于基板1側(cè)，其中可以將該層疊體預先準備成膜狀。因為在用于流路的模具形成于第一層7之前將第二層8設置在第一層7上，所以第二層8平坦地形成在基板1的表面上。用于流路的模具10由第一層7形成，并且噴出口形成構件(A)9由第二層8形成。因為最后移除基板1上的各模具10，所以第一層7可以由能夠利用溶劑來容易地移除的材料形成。由于以上描述的原因，第一層7可以由正型感光性樹脂形成。雖然用作噴出口的通孔設置在噴出口形成構件(A) 9中，但是可以通過照相平版印刷法以高的位置精度形成具有微小尺寸的通孔。另外，噴出口形成構件(A) 9均要求具有作為結構構件的機械強度。由于以上描述的原因，第二層8可以由負型感光性樹脂形成。作為用于第一層的正型感光性樹脂，例如聚(甲基異丙烯基酮)以及甲基丙烯酸和甲基丙烯酸酯的共聚物可以被描述為合適樹脂。原因在于，可以通過常用的溶劑容易地移除以上化合物，并且因為以上化合物具有簡單成分，所以以上化合物的組成成分對第二層8僅具有小影響。作為用于第二層8的負型感光性樹脂，例如包含具有環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、乙烯基等的樹脂以及與以上樹脂對應的聚合引發(fā)劑的組合物可以描述為合適組合物。原因在于，因為具有以上官能團的樹脂具有高聚合反應性，所以可以獲得具有高機械強度的構件(A)9?？梢赃m當?shù)貑为毜卮_定第一層7的厚度以及第二層8的厚度。當形成噴出幾皮升的微小液滴的噴出口和與以上噴出口對應的液體流路時，第一層7的厚度優(yōu)選地設定在3X 10_6m到15X 10_6m的范圍內(nèi)，并且第二層8的厚度優(yōu)選地設定在3X 10_6m到IOX 10_6m的范圍內(nèi)。在該情況下，為了將防液功能賦予設置有噴出口的表面，可以將感光性防液材料設置于第二層8的預定表面。接下來，由第二層8形成噴出口形成構件(A) 9 (第二步驟)。首先，如圖IB所示，對第二層8進行圖案曝光。進行該曝光以形成噴出口形成構件(A)9。通過掩模201對層疊在具有平坦上表面的第一層7上的第二層8進行曝光，并且固化曝光部分21。如有必要，可以通過加熱促進固化。隨后，如圖IC所示，使第二層8顯影，并且移除第二層8的未曝光部分，從而形成噴出口形成構件(A) 9。在該情況下，如圖IC所示，同時形成開口 23，開口 23的一部分用作噴出口。還可以在通過移除第二層8的未曝光部分而形成構件(A) 9之后利用噴出口形成掩模來形成開口 23。雖然開口 23可以形成在與能量產(chǎn)生元件2的相應能量產(chǎn)生面相面對的位置處，但是位置關系不限于以上描述的位置關系。因為第一步驟和第二步驟按第一步驟和第二步驟這樣的順序進行，所以當在第一層被加工成用于流路的模具之前第一層的表面是平坦的時，可以由第二層8獲得厚度基本上不變化的構件(A)9。如圖IC所示，考慮到過程的簡化，合適的是，在形成構件(A)9時同時形成開口 23。另一方面，在獲得不在第二步驟中形成開口 23的構件(A) 9之后，可以在后面將要說明的第三步驟之后并且在第四步驟之前通過干蝕刻法等使部分地用作噴出口的開口 23形成在構件(A)9中，其中在第三步驟中獲得用于流路的模具，在第四步驟中形成第三層。即使在以上描述的情況下，因為在第二步驟中平坦地形成構件(A) 9，并且在進行第三步驟之后維持構件(A) 9的平坦度，所以所獲得的開口 23的(在構件(A) 9的厚度方向上的)長度(液路)在基板內(nèi)是均一的。另外，當防液材料施加在第二層8的表面上時，各構件(A) 9的上表面(各構件(A)9的位于基板1所在側(cè)的相反側(cè)的表面)具有防液性，并且因為諸如墨等液體不附著于構件(A)9的上表面，所以這是方便的。當包括顏料或染料的墨用作噴出液體時，可以相信，水的前進接觸角為大約80度以上的程度的防液性是足夠的。因為可以進一步抑制液體到構件(A) 9的附著，所以大約90度以上的水的前進接觸角是更優(yōu)選的。隨后，由第一層7形成具有流路形狀的模具10(第三步驟)。如圖ID所示，為了形成用于形成流路的模具，通過掩模202對第一層7進行曝光。被曝光處理的部分22中的樹脂的分子量減小，因此，曝光的樹脂可能溶解在顯影溶液中。在該實施方式中，對第一層7的位于構件(A) 9外側(cè)的部分(曝光部分22)進行曝光。隨后，如圖IE所示，利用合適的顯影溶液對第一層7進行顯影，以移除曝光部分22，從而形成模具10?？梢杂傻谝粚?獲得至少兩個模具10。隨后，如圖IF所示，設置如下的第三層11，該第三層11與模具10和構件(A)9緊密接觸并且具有比模具10的上表面M的高度(厚度)大的高度(厚度)(第四步驟)。第三層11形成為距基板1的上表面的厚度比模具10的距基板1的上表面的厚度大，以覆蓋模具10并且與構件(A) 9緊密接觸。由于以上描述的原因，在第一層7具有3\10、到15X10_6m的厚度，并且第二層8具有3X 10_6m到IOX 10_6m的厚度時，第三層11形成為距能量產(chǎn)生面具有大于3X 10_6m的厚度。除了以上描述的內(nèi)容之外，考慮到在第三層11內(nèi)部所產(chǎn)生的應力的強度，第三層11的厚度優(yōu)選地設定為40X10_6m以下。關于第三層11的厚度，第三層11的上表面位置可以高于(大于)、等于或低于(小于)構件(A) 9的上表面13的位置。例如，如圖6A所示，第三層11的厚度可以形成為使得第三層11的上表面位置比構件(A) 9的上表面13的位置低。在圖6A示出的情況下，第三層11部分地填充在用作噴出口的開口 23中。第三層11可以由具有與第二層8的組成相同的組成的負型感光性樹脂形成，并且合適地，包含在第三層11中的化合物與包含在第二層8中的化合物相同。然而，組成比不必相同。接下來，如圖IG所示，通過掩模203對第三層11進行曝光，并且固化第三層11的曝光部分25。因為必須移除位于用作噴出口的開口 23中的部分沈以及位于部分沈上面的上部27，其中部分沈和上部27是第三層11的一部分，所以部分沈和上部27被掩模203遮蔽。隨后，如圖IH所示，例如通過液體顯影方法移除未進行曝光的部分。當通過溶解來進行移除時，可以根據(jù)負型感光性樹脂的組分而使用諸如二甲苯等合適溶劑。移除第三層11的未曝光部分，即，用作噴出口的開口 23內(nèi)部的部分以及該部分上面的部分。接下來，如圖II所示，通過干蝕刻等使供給口 3形成在基板1中。因此，模具10與外部連通。隨后，如圖IJ所示，例如，用于形成流路的模具10被合適的溶劑溶解，并且液體流路6形成為與噴出口 5連通(第五步驟)。流路壁構件4具有與形成有噴出口 5的面鄰近的壁面12。壁面12和噴出口 5之間的距離設定成使得噴出液體可以在噴出口 5中、即在遠離開口面14的基板側(cè)形成彎月面。例如，當噴出口的直徑是15X10—^1時，從壁面12到噴出口 5的邊緣的距離優(yōu)選為80X 10_6m以上。因為在形成構件(A) 9之后，構件(A) 9的平坦度不被隨后進行的步驟損壞，所以平坦地形成構件(A)9和模具10，因此，在基板內(nèi)，從基板1的能量產(chǎn)生面到噴出口 5的距離D變得均一。因此，可以使從多個噴出口噴出的液體的量恒定。隨后，可以將防液功能賦予噴出口 5的開口面14。第二實施方式將參照圖3A至圖3E、圖4A、圖4B和圖5描述本發(fā)明的第二實施方式。在該實施方式中，對噴出口的表面進行防液處理。 圖3A至圖3E如圖IA至圖IJ示出的情況那樣是示出每個步驟中的截面的截面圖，并且圖4A、圖4B和圖5均是示出制造步驟中的狀態(tài)的截面圖。剖切面的位置與圖IA至圖IJ的剖切面的位置相同。以與第一實施方式中的方式相同的方式進行從開始到圖IA示出的步驟(第一步驟)的步驟。隨后，在形成構件(A) 9的步驟(第二步驟)中進行以下處理。如圖3A所示，用于賦予防液性的防液材料15設置于第二層8的上表面?？梢允狗酪翰牧?5部分或全部地滲透到第二層8中。當待噴出的液體是水性墨或油性墨時，可以通過如下的防液材料來獲得足夠的防液性，該防液材料在與賦予了防液性的基板1垂直的方向上具有2X 10_6m的厚度。如第一層7和第二層8的情況那樣，防液材料15平坦地層疊在基板上。例如，感光性含氟環(huán)氧樹脂膜或含有如下縮合物的組合物可以用于防液材料15，該縮合物是含氟硅烷與含有聚合基團(polymerization group)的硅烷的縮合物。當以上化合物用于防液材料15時，可以通過照相平版印刷術使防液材料15和第二層8共同地圖案化。隨后，如圖:3B所示，通過掩模16對第二層8和防液材料15進行用于形成構件(A)9的曝光。通過調(diào)整掩模的形狀，以防液材料15的一部分被固化而防液材料15的其它部分不被固化的方式進行曝光。特別地，遮蔽部16a設置在掩模16的開口 50中，使得第二層8的與開口 50對應的部分被曝光，而防液材料15的與遮蔽部16a對應的部分不被曝光?？紤]第二層8和防液材料15的溶解來確定遮蔽部16a的寬度。接下來，使曝光部分固化，隨后使曝光部分顯影，從而移除第二層8和防液材料15的未曝光部分。因此，如圖3C所示，具有防液性的防液部17設置在構件(A)9的上表面并且位于用作噴出口的開口 23的周圍。另外，當移除設置在除了開口 23周圍的區(qū)域之外的區(qū)域的防液材料時，防液性不被賦予除了開口 23周圍的區(qū)域之外的區(qū)域。另外，通過適當?shù)卦O計掩模16的形狀，可以如圖4A所示地在構件(A)9中設置通孔18。通過以上描述的結構，設置在構件(A)9的上表面的第三層11部分地填充在孔18中，并且孔18的內(nèi)壁與第三層11相互接觸。因此，能夠增大構件(A)9與第三層11之間的結合強度。另外，通過適當?shù)卦O計掩模16的形狀，可以如圖4B所示地在構件(A) 9中形成槽19，并且槽19的內(nèi)壁與第三層11可以相互接觸。接下來，以與參照圖IE描述的方法的方式同樣的方式形成模具10 (第三步驟)，隨后，如圖3D所示，使第三層11形成于構件(A)9的上表面(第四步驟)。雖然在構件(A)9的防液部17第三層11可能被排斥，但是在構件(A) 9的上表面的未設置有防液部17的部分第三層11不被排斥，從而第三層11與構件(A) 9的上表面緊密接觸。另外，因為防液性未被賦予構件(A) 9的側(cè)面，所以第三層與該側(cè)面緊密接觸。接下來，在使供給口 3形成在基板1中之后，移除模具10，以形成流路6 (第五步驟)，并且如圖3E所示，獲得液體噴出頭。因為防液性被賦予構件(A) 9的噴出口 5所開口的開口面14，所以填充在流路中的噴出液體30不停留于開口面14 (見圖5)，而是能夠在與噴出口 5的位置近似地等同的位置處可靠地形成彎月面。另外，因為防液性被賦予開口面14，所以即使當噴出液體部分地以霧的形式漂浮并且附著于開口面14時，霧也不固定于開口面14，并且能夠例如通過裝備在噴出設備中的抽吸機構的抽吸而容易地移除霧。第三實施方式將參照圖2A至圖2G描述本發(fā)明的第三實施方式。圖2A至圖2G如圖IA至圖IJ示出的情況那樣是示出每個步驟中的截面的截面圖，并且剖切面的位置與圖IA至圖IJ的剖切面的位置相同。首先，進行第一實施方式所描述的圖IA至圖IC所示的步驟。隨后，在形成用于流路的模具的步驟(第三步驟)中，如圖2A所示，將構件(A) 9用作遮蔽掩模而使由正型感光性樹脂制成的第一層7曝光。當各構件(A) 9均由負型感光性樹脂的固化材料形成時，構件(A)9能夠吸收具有200nm到300nm的范圍內(nèi)的波長的光。另一方面，許多正型感光性樹脂的感光波長是220nm到300nm ；因此，通過將構件(A)9用作遮蔽掩模利用具有220nm到300nm的波長的光使第一層7曝光，曝光的第一層7中的樹脂能夠被分解。當通過顯影移除第一層7的曝光部分時，如圖2B所示，能夠獲得用于流路的模具10。因為在與基板1的表面平行的方向上根據(jù)構件(A)9的形狀來形成用于流路的模具10的形狀，所以必須預先以與流路的形狀對應的方式形成構件(A) 9的輪廓。因為與第一層7接觸的構件(A) 9用作遮蔽掩模，所以能夠改進第一層7與構件(A) 9之間的對齊精度。另外，抑制第一層被由遮蔽掩模所衍射的光曝光。隨后，以第三層11的厚度高于模具10的上表面的方式設置第三層11(第四步驟)。接下來，如圖2D所示，通過掩模203對第三層11進行曝光，并且使第三層11的曝光部分25固化。接下來，如圖2E所示，移除未曝光部分，從而形成開口 23。隨后，如圖2F所示，使供給口 3形成在基板1中。接下來，移除模具10，形成流路6和噴出口 5，從而獲得圖2G所示的狀態(tài)下的液體噴出頭(第五步驟)。在下文中，將參照實施例更詳細地描述本發(fā)明。實施例1參照圖IA至圖1J，將假設基板1是被切成小片之前的基板的一部分，來描述實施例1。首先，準備設置有第一層7和第二層8的基板1 (6英寸晶片)(圖1A)。在通過旋涂法涂布作為正型感光性樹脂的0DUR-1010 (由Tokyo Ohka Kogyo Co. , Ltd.制造)之后，在120攝氏度下進行干燥，從而形成第一層7。形成后的第一層7的平均厚度是7X 10_6m，并且基板1 (6英寸晶片)內(nèi)的第一層7的厚度的標準偏差為0. IXlO-6Hi以下(測量6英寸晶片中的350個位置)。接下來，利用旋涂法將表1中示出的組合物涂布于第一層7并且在90攝氏度下干燥3分鐘，從而形成第二層8。第二層8的平均厚度是5X 10_6m，并且基板(6英寸晶片)內(nèi)的第二層8的厚度的標準偏差是0. 2X 10-6m (測量6英寸晶片中的350個位置)。[表 1]
權利要求
1.一種用于制造液體噴出頭的方法，所述液體噴出頭包括噴出液體的噴出口以及與所述噴出口連通的流路，所述方法包括第一步驟，準備基板，其中第一層和第二層按第一層和第二層這樣的順序平坦地層疊在所述基板上；第二步驟，由所述第二層形成用于形成所述噴出口的構件(A);第三步驟，由所述第一層形成用于形成所述流路的模具；第四步驟，以第三層覆蓋所述模具并且與所述構件(A)緊密接觸的方式設置所述第三層；以及第五步驟，移除所述模具，以形成所述流路。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述第一步驟包括將含有未曝光正型感光性樹脂的所述第一層設置在所述基板上的子步驟；以及將所述第二層設置在所述第一層上的子步驟，并且在所述第二步驟之后，對所述第一層進行曝光以形成所述模具。
3.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在所述第二步驟中，在所述構件(A)中形成用作所述噴出口的開口。
4.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述第三層被設置成具有與所述構件(A)的上表面的高度相等的高度或具有比所述構件(A)的上表面的高度小的高度。
5.根據(jù)權利要求3所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在進行所述第四步驟之前，將防液性賦予所述構件(A)的所述開口周邊的部分。
6.根據(jù)權利要求3所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在進行所述第四步驟之前，將防液部和非防液部設置于所述構件(A)的位于所述基板所在側(cè)的相反側(cè)的表
7.根據(jù)權利要求6所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述防液部是所述構件(A)的所述開口周邊的部分，并且所述構件(A)在所述非防液部處與所述第三層接觸。
8.根據(jù)權利要求6所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在所述第二步驟中，在所述第二層上設置具有防液性的材料，通過所述材料將防液性賦予所述開口周邊的部分，并且移除設置在除了所述開口周邊的部分之外的部分的所述材料。
9.根據(jù)權利要求8所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在所述第二步驟中，在移除所述材料時，同時移除所述第二層的位于所移除的所述材料下方的部分。
10.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述第二層包括負型感光性樹脂。
11.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述第二層和所述第三層包括具有相同組成的負型感光性樹脂。
12.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在形成構件(A)的所述第二步驟中，所述構件(A)的形狀形成為與所述流路的形狀對應，并且通過將所述構件(A)用作掩模，通過移除所述第一層的未層疊有所述構件(A)的部分而形成所述模具。
13.根據(jù)權利要求1所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，所述第一層包括正型感光性樹脂，并且在將所述構件(A)用作掩模而使所述第一層曝光之后，通過移除曝光部分而形成所述模具。
14.根據(jù)權利要求3所述的用于制造液體噴出頭的方法，其特征在于，在進行所述第五步驟之后，將防液性賦予所述構件(A)的所述開口周邊的部分。
全文摘要
一種用于制造液體噴出頭的方法，該液體噴出頭具有噴出液體的噴出口以及與噴出口連通的流路，該方法包括第一步驟，準備基板，其中第一層和第二層按第一層和第二層這樣的順序平坦地層疊在基板上；第二步驟，由第二層形成用于形成噴出口的構件(A)；第三步驟，由第一層形成用于形成流路的模具；第四步驟，以第三層覆蓋模具并且與構件(A)緊密接觸的方式設置第三層；以及第五步驟，移除模具，以形成流路。
文檔編號B41J2/16GK102596575SQ2010800507
公開日2012年7月18日 申請日期2010年11月2日 優(yōu)先權日2009年11月11日
發(fā)明者佐藤環(huán)樹, 森末將文, 米山寬乃, 鈴木工 申請人:佳能株式會社