專利名稱：機臺滾輪清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型關(guān)于一種機臺滾輪清洗設(shè)備，尤其是指一種能夠確實的 將制作如雷射光面貼紙等物品的機臺滾輪加以清洗，避免其上產(chǎn)生對于 后續(xù)作業(yè)不良影響的雜質(zhì)、水漬的機臺滾輪清洗設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的雷射光面貼紙、防偽標簽等具有雷射光面花樣的物品均是利 用精密陶瓷雷射雕刻網(wǎng)目輥輪(以下簡稱滾輪)所壓制或印刷而成，其 通常是采全自動加工制造，在制造特定花紋時，(1)首先需要經(jīng)由研磨
步驟將滾輪表面加以研磨，將其表面上的不光滑物質(zhì)加以去除；(2)而 后再經(jīng)由拋光步驟，此步驟可以讓滾輪表面呈現(xiàn)出略鏡面的效果；(3) 當滾輪呈現(xiàn)出略鏡面效果后，再于滾輪表面以雷射雕刻出所欲轉(zhuǎn)印的花 紋；(4)當所有花紋均雕刻完畢后，再于滾輪表面進行細部拋光步驟， 此步驟是讓滾輪表面在經(jīng)由雕刻之后，能夠?qū)⑵湟虻窨趟a(chǎn)生的突起部 分以及顆粒粉塵加以去除，使得滾輪表面能夠呈現(xiàn)出產(chǎn)品所要求的亮面、 鏡面效果；(5)最后再進行清洗步驟，使得滾輪表面保持所需的干凈度 以避免影響后續(xù)產(chǎn)品制造時質(zhì)量。
然而，由于滾輪在制造過程中，往往會產(chǎn)生陶瓷粉末殘留、臟污， 因此依照目前既有及一般實務(wù)上的清洗步驟時，多是利用碳酸氫鈉配合 壓力噴出來清洗滾輪表面，此一清洗方法雖然可以清除陶瓷粉末，但是 卻會殘留白色碳酸氫鈉的粉末而卡嵌在滾輪表面的網(wǎng)目中，進而對后續(xù)
加工造成不良影響。
為了解決上述問題，在清洗步驟時，另有人將滾輪整支的浸泡在超 音波水槽或溶劑槽，利用超音波震蕩的原理配合水或溶劑的表面活性效 果，讓陶瓷粉末脫離滾輪網(wǎng)目而沉淀至槽底，然而此種清洗方法多須配 合干燥步驟，因而會導(dǎo)致作業(yè)成本的增加，再者水或溶劑等液體干燥時， 多會在滾輪表面產(chǎn)生水漬痕跡，使得滾輪表面上存在產(chǎn)品所不需要的痕 跡，對于后續(xù)產(chǎn)品的制造仍會產(chǎn)生不良的影響。
雖本創(chuàng)作人曾發(fā)想利用高壓氣體直接沖擊滾輪表面來達到清洗效 果，然而氣體對于陶瓷粉末等固體并不具有優(yōu)異的沖擊效果，亦即高壓 氣體并無法給予卡嵌在網(wǎng)目中的陶瓷粉末有一個良好的動能，使得其可 以由網(wǎng)目中容易脫落，因此上述的清洗方法仍極待改進。

實用新型內(nèi)容
本創(chuàng)作人有鑒于上述清洗方法的種種問題，乃積極從事研發(fā)，以期 可解決上述既有清洗步驟中所產(chǎn)生的問題與缺點，經(jīng)過不斷的試驗及努 力，終于研發(fā)出本實用新型。
本實用新型的主要目的在于提供一種可以確實的將滾輪表面卡嵌在 網(wǎng)目中的雜質(zhì)、陶瓷粉末加以去除且不留痕跡的機臺滾輪清洗設(shè)備。
為了達到上述創(chuàng)作目的，本實用新型采取以下的技術(shù)手段予以達成: 其中本實用新型提供一種機臺滾輪清洗設(shè)備，包括有干冰儲存裝置， 其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳；接續(xù)管，其一端連接于干冰儲存裝置；壓力噴
出裝置，設(shè)置在接續(xù)管的一端，用以將干冰儲存裝置中的二氧化碳加以 噴出以進行清洗作業(yè)。
本實用新型還提供一種機臺滾輪清洗設(shè)備，包括有干冰儲存鋼桶，
是用以儲存高壓液態(tài)氣體的容器，其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳；接續(xù)管，為
可耐低溫的管體，其一端連接于干冰儲存鋼桶，且其外側(cè)可以包覆有防
止操作人員凍傷的保護套；壓力控制裝置，連接于接續(xù)管與干冰儲存鋼 桶之間，控制二氧化碳由干冰儲存鋼桶輸出時的壓力在15 30kg / cm2; 錐形高壓噴嘴，設(shè)置在接續(xù)管的一端，用以將干冰儲存鋼桶中的二氧化 碳加以噴出以進行清洗作業(yè)，其擴散角度為小于30。
，固定裝置，其設(shè) 置在近預(yù)清洗物體的一側(cè)用以固定錐形高壓噴嘴。
藉由上述的裝置，本實用新型能夠直接提供設(shè)有上述滾輪的機臺良 好的清洗效果，由于二氧化碳在噴出瞬間是呈固體狀態(tài)，因此可以提供 卡嵌在網(wǎng)目中的固體陶瓷粉末極佳的動能，讓陶瓷粉末經(jīng)由沖擊而由網(wǎng) 目脫落，而固態(tài)二氧化碳在沖擊陶瓷粉末后，會立刻升華成為氣態(tài)二氧 化碳，因此不會有水漬等痕跡殘留的問題，故可達到極佳的清洗效果。


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實用新型欲使用清洗的機臺示意圖。
圖3為本實用新型應(yīng)于在圖2基臺上的清洗狀態(tài)示意圖。
主要組件符號說明 10干冰儲存裝置 11接續(xù)管 12壓力控制裝置 13壓力噴出裝置 14固定裝置20機臺 21滾輪 22驅(qū)動裝置
具體實施方式
請參看圖1所示，本實用新型機臺滾輪清洗設(shè)備，包括有 干冰儲存裝置10，即一可以儲存高壓液態(tài)氣體的容器，可以為鋼瓶、
儲槽、鋼桶，其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳，本實用新型實施例為了移動上的
方便性，是采用鋼桶結(jié)構(gòu)；
接續(xù)管ll，其一端連接于干冰儲存裝置10，其為可耐低溫的管體，
可為金屬管、塑化管，且其外側(cè)可以包覆有防止操作人員凍傷的保護套 (圖中未示)；
壓力控制裝置12，用于接續(xù)管11與干冰儲存裝置10的連接，可以 控制二氧化碳由干冰儲存裝置IO輸出時的壓力，其輸出壓力較佳是控制 在15 30kg/cm2;
壓力噴出裝置13，設(shè)置在接續(xù)管11的一端，用以將干冰儲存裝置 10中的二氧化碳加以噴出以進行清洗作業(yè)，本實施例中所使用者為錐形 高壓噴嘴，其擴散角度為小于30。；
固定裝置14，其設(shè)置在近預(yù)清洗物體的一側(cè)用以固定壓力噴出裝置 13，使得壓力噴出裝置13得以穩(wěn)定的噴出二氧化碳，其可以為一分離式 的固定架，或與所欲清洗的機臺20—體設(shè)置。
請參看圖2所示，此為本實用新型所使用清洗的具滾輪的機臺20， 該機臺20兩端設(shè)置有可供滾輪21以圖示的左右方向移動的驅(qū)動裝置22。
配合參看圖3所示，本實用新型使用時，是設(shè)置在機臺20—側(cè)，利
用壓力噴出裝置13來針對基臺20上的滾輪21進行清洗作業(yè)，由于二氧 化碳在噴出瞬間是呈固體狀態(tài)，因此可以提供卡嵌在網(wǎng)目中的固體陶瓷 粉末極佳的動能，讓陶瓷粉末經(jīng)由沖擊而由網(wǎng)目脫落，而固態(tài)二氧化碳 在沖擊陶瓷粉末后，會立刻升華成為氣態(tài)二氧化碳，因此不會有水漬等 痕跡殘留的缺點，故可達到極佳的清洗效果。
權(quán)利要求1.一種機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于，包括有干冰儲存裝置，其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳；接續(xù)管，其一端連接于干冰儲存裝置；壓力噴出裝置，設(shè)置在接續(xù)管的一端，用以將干冰儲存裝置中的二氧化碳加以噴出以進行清洗作業(yè)。
2、 如權(quán)利要求1所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于另包括有 一設(shè)置于接續(xù)管與干冰儲存裝置間的壓力控制裝置。
3、 如權(quán)利要求2所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于該壓力控 制裝置控制輸出壓力在15 30kg / cm2。
4、 如權(quán)利要求1所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于另包括有 一設(shè)置在近預(yù)清洗物體的一側(cè)，用以固定壓力噴出裝置的固定裝置。
5、 如權(quán)利要求1所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于該壓力噴出裝置為一錐形高壓噴嘴。
6、 如權(quán)利要求5所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于該錐形高壓噴嘴的擴散角度為小于30。。
7、 如權(quán)利要求1所述的機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于該接續(xù)管外側(cè)包覆有防止操作人員凍傷的保護套。
8、 一種機臺滾輪清洗設(shè)備，其特征在于，包括有干冰儲存鋼桶，是用以儲存高壓液態(tài)氣體的容器，其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳；接續(xù)管，為可耐低溫的管體，其一端連接于干冰儲存鋼桶，且其外側(cè)可以包覆有防止操作人員凍傷的保護套；壓力控制裝置，連接于接續(xù)管與干冰儲存鋼桶之間，控制二氧化碳 由干冰儲存鋼桶輸出時的壓力在15 30kg / cm2;錐形高壓噴嘴，設(shè)置在接續(xù)管的一端，用以將干冰儲存鋼桶中的二氧化碳加以噴出以進行清洗作業(yè)，其擴散角度為小于30。
，固定裝置，其設(shè)置在近預(yù)清洗物體的一側(cè)用以固定錐形高壓噴嘴。
專利摘要本實用新型提供一種機臺滾輪清洗設(shè)備，包括有干冰儲存裝置，其內(nèi)部設(shè)置有二氧化碳，并設(shè)有一端連接于干冰儲存裝置的接續(xù)管；壓力噴出裝置，設(shè)置在接續(xù)管的一端，用以將干冰儲存裝置中的二氧化碳加以噴出以進行清洗作業(yè)。藉此能夠提供設(shè)有滾輪的機臺良好的清洗效果，由于二氧化碳在噴出瞬間是呈固體狀態(tài)，因此可以提供卡嵌在網(wǎng)目中的固體陶瓷粉末極佳的動能，讓陶瓷粉末經(jīng)由沖擊而由網(wǎng)目脫落，而固態(tài)二氧化碳在沖擊陶瓷粉末后，會立刻升華成為氣態(tài)二氧化碳，因此不會有水漬等痕跡殘留，故可達到極佳的清洗效果。
文檔編號B41C1/02GK201195157SQ20082011052
公開日2009年2月18日 申請日期2008年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月16日
發(fā)明者李大章 申請人:李大章