專利名稱：陽離子轉(zhuǎn)化納米研磨的碳酸鈣的方法
陽離子轉(zhuǎn)化納米研磨的碳酸鈣的方法
背景技術(shù)：
個人電腦和打印機的廣泛應(yīng)用導(dǎo)致了對于高質(zhì)量印刷介
質(zhì)需求的增加。此外，數(shù)碼相機產(chǎn)生了能夠由普通消費者打印的圖像， 而不要求專業(yè)的顯影服務(wù)，并且其同樣也產(chǎn)生了對于便利的、高質(zhì)量 印刷性能的另外的需求。雖然印刷工藝已經(jīng)取得了許多的進展，但是 一直存在著對于更佳的解析度、成色性、圖像穩(wěn)定性等等的需要。印刷介質(zhì)通常是紙基的，但是也可以包括塑料、金屬、復(fù) 合材料、織物等。已經(jīng)發(fā)展了用于許多不同用途的專業(yè)印刷介質(zhì)，包 括照相高級紙、高光和柔光紙、無光紙、影印紙、彩色相紙等等。這 些印刷介質(zhì)充當了用印刷裝置所產(chǎn)生的圖像的圖像接收體。在噴墨打 印機的情況中，印刷介質(zhì)接收來自墨盒的油墨滴，這產(chǎn)生了期望的圖 像。印刷文件的質(zhì)量傳統(tǒng)上受限于印刷介質(zhì)的特性。因此，為 了提高圖像質(zhì)量，印刷介質(zhì)經(jīng)常包括在印刷介質(zhì)表面上的涂層。傳統(tǒng) 上，印刷介質(zhì)是用聚合物或者顏料組合物和其他配置來促進油墨轉(zhuǎn)移 和/或圖像形成的功能材料來涂覆的。此外，使用常規(guī)的印刷介質(zhì)涂層 和方法來提高未涂覆的印刷介質(zhì)的光澤度和表面光滑度。不同的印刷


了本發(fā)明的系統(tǒng)和方法的不同的實施方案，并且 其是說明書的 一部分。附圖與下面的描述一起舉例說明和解釋了本發(fā) 明系統(tǒng)和方法的原理。所說明的實施方案是本發(fā)明系統(tǒng)和方法的例 子，并且不限制其范圍。圖1是根據(jù)一種示例性實施方案的印刷介質(zhì)的橫截面圖。圖2是根據(jù)一種示例性實施方案的流程圖，說明了形成陽 離子接收層的方法。圖3是一幅圖，其顯示了根據(jù)此處所述的原理，使用不同 的陽離子轉(zhuǎn)化劑對納米研磨的碳酸4丐進行陽離子轉(zhuǎn)化。
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圖4是一幅圖，其顯示了根據(jù)此處所述的原理，使用不同 的陽離子轉(zhuǎn)化劑對納米研磨的碳酸4丐進行陽離子轉(zhuǎn)化。在整個附圖中，同樣的附圖標記表示了類似的、但是不必 相同的元件。
發(fā)明詳述如上所述，為了提高印刷圖像的質(zhì)量，印刷介質(zhì)經(jīng)常包括 在印刷介質(zhì)表面上的涂層。 一些這樣的涂層混入有碳酸鈣，并且是專 門制造來接收來自打印機或者其他印刷裝置的油墨。但是，當陰離子性帶電的碳酸4丐用于這些油墨接收性涂層 中時，其經(jīng)常阻礙陰離子油墨恰當?shù)馗街?affix)到涂層上。為此原因， 這些涂層被轉(zhuǎn)化為帶有陽離子電荷，這有助于油墨恰當?shù)卣掣?adhere) 或附著(affix)到涂層上。本說明書描述了涂層和在期望的基底上形成涂層的方法 的例子，該涂層將充當具有提高的表面光潔度(finish)，例如提高的光 澤度的印刷介質(zhì)。此處所述的涂層包括例如納米研磨的碳酸鈣粒子并 且表現(xiàn)出較低的絮凝和/或團聚傾向。因此，此處所述涂層的例子提供 了 一種透明的/半透明的光澤的涂層，該涂層與傳統(tǒng)的高不透明性的碳 酸鉀應(yīng)用相反，該傳統(tǒng)的碳酸鈣應(yīng)用需要流延或者壓延來獲得光澤 度。根據(jù)此處公開的一種示例性的實施方案，低吸收性/非吸 收性紙漿基介質(zhì)是在具有至少 一層的含有納米研磨的碳酸鈣的圖像 接收涂層的至少 一 側(cè)上進行涂覆的。該涂層表現(xiàn)出相對低的絮凝傾 向，同時提供了光澤的表面光潔度。本發(fā)明的配方和另外的示例性的 實施方案的進一步細節(jié)將在下面進行更詳細的描述。在公開和描述本發(fā)明的系統(tǒng)和方法的具體的實施方案之 前，應(yīng)當理解本發(fā)明的系統(tǒng)和方法不限于此處公開的具體的方法和材 料。還應(yīng)當理解此處所用的術(shù)語僅僅被用于描述具體的實施方案的目 的，而非意圖是限制性的。本發(fā)明的系統(tǒng)和方法的范圍僅僅通過附加 的權(quán)利要求及其等價物進行限定。濃度、數(shù)量和其他的數(shù)值數(shù)據(jù)可以在此以范圍的形式來表 示。應(yīng)當理解的是這樣的范圍形式僅僅是用于方便和簡潔的目的，并且應(yīng)當被靈活解釋為包括不僅如該范圍的界限明確所述的數(shù)值，而且 還包括包含于該范圍內(nèi)的全部的單個的數(shù)值或者子范圍，好像每個數(shù)
值和子范圍纟皮明確表述一樣。例如，大約lwt。/。-大約20wt。/。的重量范 圍應(yīng)當被解釋為包括不僅lwt。/。-大約20wty。的明確所示的濃度界限， 而且還包括單個的濃度例如2wt%, 3wt%， 4wt%,以及子范圍例如 5wt%-15wt%， 10wt%-20wt%,等等。在下面的說明書中，出于解釋的目的，闡述了許多具體的 詳細內(nèi)容，目的是提供對于本發(fā)明的系統(tǒng)和方法(用于形成包含陽離 子性帶電的、納米研磨的碳酸鉤的可印刷的涂層，其表現(xiàn)出通常低的 絮凝傾向)的徹底的理解。但是，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯而易見
在本說明書中提及的"一種實施方案"或者"一個實施方案"意思是與該 實施方案相關(guān)的所述的具體的特征、結(jié)構(gòu)或者特性被包括在至少一種 的實施方案中。在說明書的不同地方出現(xiàn)的短語"在一種實施方案中" 不必全部指的是相同的實施方案。
示例性的整體結(jié)構(gòu)雖然本發(fā)明的系統(tǒng)和方法可以通過許多的方法，在許多表 面上付諸實施，但是本發(fā)明的系統(tǒng)和方法僅僅是為了便于解釋而在基 底上形成可印刷的涂層的上下文中進行描述。圖l舉例說明了根據(jù)此 處所述的原理的一種示例性的實施方案的印刷介質(zhì)(100)的一部分的 橫截面圖。如圖1所示，該示例性的印刷介質(zhì)(100)包括至少兩個部件 基底(110)和布置在該基底(110)上的可印刷的涂層(120)。在圖1所示的例子中，印刷介質(zhì)(100)包括布置在基底(110) 兩側(cè)上的可印刷的涂層(120)。但是，根據(jù)另外一種示例性的實施方案， 該可印刷的涂層(120)可以僅僅在基底(110)的 一側(cè)上形成。根據(jù)本發(fā)明 的示例性的實施方案，印刷介質(zhì)(100)的抗團聚性能至少部分地歸因于 可印刷的涂層(120)的組成?，F(xiàn)在將在下面對基底(110)和可印刷的涂層 (120)進行進一步詳細的描述。
基礎(chǔ)介質(zhì)如圖l所示，基底(110)形成了印刷介質(zhì)的基礎(chǔ)。本發(fā)明的示例性的印刷介質(zhì)，僅僅是為了便于解釋，此處將在造紙原料基(paper stock based)介質(zhì)，例如低吸收性/非吸收性的紙漿基介質(zhì)的上下文中進 行描述。但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解本發(fā)明的系統(tǒng)和方法可使用許 多的基礎(chǔ)介質(zhì)材料，包括但絕不限于紙基材、著色的(pigmented)紙基 材、流延涂覆的(cast-coated)紙基材、箔片、聚乙烯擠出的基材和薄膜。 另外的示例性的基礎(chǔ)介質(zhì)可以包括膠印涂層(offset coating)或者樹脂 涂層。備選地，該示例性的基礎(chǔ)介質(zhì)還可以是非紙基的基底例如薄膜、 箔片、紡織品等等。
可印刷的涂層根據(jù)一種示例性的實施方案，布置在基底(110)上的可印刷 的涂層(120)配方包括大約80-100份的陽離子轉(zhuǎn)化的、納米研磨的碳 酸鈣(帶有或者不帶有另外的陰離子分散劑)和至多20份的基料 (binder)，其中基料與碳酸釣和分散劑(如果存在的話)是相容的。分散劑的作用是降低混合物和/或溶液中的物質(zhì)的表面能 或者化學(xué)勢(chemical potential)。較低的化學(xué)勢或者表面能典型地增加 了物質(zhì)保持分布在混合物和/或溶液中的傾向。許多相容的陰離子或者 非離子分散劑可以用于本發(fā)明的示例性的系統(tǒng)和方法。例如，分散劑 可以是4旦不限于市售可得的陰離子分散劑Darvan7、 Darvan C或者 Acumer 9300。當任何的這樣的陰離子或者非離子分散劑存在于所述 的系統(tǒng)中時，小的納米研磨的碳酸4丐粒子具有提高的保持為小的、分 散的粒子的傾向。
這是因為與^他的傳統(tǒng)的無機顏、料相比i本低。碳、酸鈣能夠以許多的 方式制備來用于可印刷的涂層中。本發(fā)明的示例性的實施方案使用納米研磨的碳酸鉤。納米 研磨的碳酸4丐具有比傳統(tǒng)的獲自天然研磨的碳酸釣(GCC)和化學(xué)沉淀 的碳酸4丐(PCC)更小的初級并立度(primary particle sizes )。作為此處和附加的權(quán)利要求中使用的，用于粒度的術(shù)語 "初級，，指的是單個粒子的尺寸。因此，"初級粒子"是單個的粒子。相 反，術(shù)語"團聚粒度"將指的是許多已經(jīng)團聚成為更大的結(jié)構(gòu)的單個或 者初級粒子的粒度，該結(jié)構(gòu)也可以稱為"粒子"。
碳酸4丐初級粒度和團聚粒度有助于控制所得的可印刷涂 層的功能特征例如亮度(brightness)、透明度(clarity)和光澤度(gloss)。 具體地說，越小的粒度通常涉及到提高的亮度、色度(shade)、透明度 和光澤度。在此處所述的方法中所產(chǎn)生的和在此處所述的產(chǎn)品中的納 米研磨的碳酸鉤粒子可以是球形、近似球形或者可以具有其他的形 狀。這些納米研磨的碳酸釣粒子在初級形式的長度或者直徑典型的是 10-20納米或者更小，并且團聚成為長度或者直徑是大約70-200納米 的形成物(formations)。如上所述，使用小的碳酸4丐粒子的缺陷是過多的絮凝或者 團聚。當進行配制時，小的碳酸4丐粒子傾向于絮凝，并形成更大的聚 集體粒子。碳酸4丐粒子的過多絮凝對于其中使用碳酸鈣粒子的可印刷 涂層的亮度、色度、透明度、光澤度和其他特性產(chǎn)生了不利的影響。使得碳酸鈞粒子帶電限制了這種不期望的絮凝。典型地， 該碳酸鈣是陰離子性帶電的。但是，陰離子電荷同樣會阻止陰離子油 墨恰當?shù)馗街?affix)到涂層上。這產(chǎn)生了差的成像或者定影(fixation)。因此，將陰離子性帶電的碳酸釣進一步與陽離子轉(zhuǎn)化劑結(jié) 合，然后沉積到基底(110)上。該陽離子轉(zhuǎn)化劑從以前是陰離子性帶電 的涂層產(chǎn)生了陽離子性帶電的涂層。許多相容的陽離子轉(zhuǎn)化劑可以用于本發(fā)明的示例性的方 法中。例如，該陽離子轉(zhuǎn)化劑可以是但不限于Silquest 1110, Silquest 1120, Glascol F-lll(多胺)，Glascol F-207(有機聚合物電解質(zhì))，或者 Glascol F-21 l(DADMAC)。但是，在碳酸鈣涂料的電荷轉(zhuǎn)化過程中存在著某些絮凝問 題。為了解決這樣的問題，本發(fā)明的示例性的系統(tǒng)和方法可以進一步 引入混合器例如高剪切混合器，其中該碳酸鈣涂料從陰離子性(帶電的) 轉(zhuǎn)化為陽離子性帶電的?；旌掀鞯淖饔孟拗屏嗽陔姾赊D(zhuǎn)化過程中的絮 凝。如圖l所示，可印刷的涂層(120)粘附(adhere)到基底(110) 上。基料可以用來保持可印刷的涂層的凝聚(cohesion),即將粒子保持 在一起，并且還可以幫助涂層(120)粘附(adhesion)到基底(110)上。根 據(jù)一種示例性的實施方案，該可印刷的涂層(120)配方包含至多20%的基料。
將該基料保持在堿性pH來與碳酸鈣和分散劑相容。堿性 pH通過阻止碳酸釣溶解來影響粒度，以及對印刷介質(zhì)的性能例如光 澤度、表面電荷和容量(capacity)產(chǎn)生積極的影響?；蠎?yīng)當與分散劑 和碳酸釣相容，目的是保持分散劑和納米研磨的碳酸鈣粒子二者的功 能性。用于本發(fā)明的示例性配方的 一些合適的基料的例子包括 但絕不限于基于下面的基料聚氨酯，陰離子或者非離子晶格 (lattices),以及可溶脹的聚合物例如聚乙烯吡咯烷酮/聚乙烯基咪唑共 聚物，聚乙烯醇，聚乙酸乙烯酯和纖維素。當形成并施用到期望的基底上時，前述的涂層配方表現(xiàn)出 有限的納米研磨的碳酸鈣的絮凝或者團聚。該結(jié)果是涂層的提高的亮 度、透明度和光澤度。
示例性的實施和操作圖2舉例說明了根據(jù)一種示例性的實施方案的形成印刷 介質(zhì)(例如圖1的100)的方法。如圖2所示，該示例性的方法首先通 過提供陰離子性帶電的碳酸鈣(步驟200)而開始。能夠用于本發(fā)明示 例性方法的可能的PCC和/或GCC的例子包括但絕不限于市售可得的 Hydrocarb 60, Mu畫ex MM或者Opacarb A 40。碳酸鈣(250)可以帶有一些陰離子電荷。備選或者另外地， 碳酸鈣可以混合有陰離子分散劑來增加材料的總陰離子電荷。接下來，將碳酸4丐(和如果存在的話，分散劑)在合適的納 米磨(260)中進行納米研磨(步驟210)。如下面將更詳細描述的，進行 該研磨來產(chǎn)生碳酸釣初級或者單個粒子，該粒子的長度或者直徑測量 為10-20nm或者更低。在印刷介質(zhì)中使用碳酸鈣的傳統(tǒng)方法已經(jīng)局限 于并且依賴于大得多的碳酸鈣粒子。在隨后的加工過程中碳酸釣粒子團聚成更大的結(jié)構(gòu)，例如 70-200nm。但是，在可能的情況下，采取措施將團聚限制到那個范圍 內(nèi)。如上所述，碳酸鉀的陰離子性帶電在限制團聚或者絮凝中 是有用的。但是，因為該碳酸釣是陰離子性帶電的，因此它會阻止或 者防止在介質(zhì)上的最佳油墨定影(fixation)。
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因此，將碳酸鉤進行陽離子性轉(zhuǎn)化來更好地允許油墨定影 (fixation)。將陽離子轉(zhuǎn)化劑加入到該陰離子性帶電的碳酸鈣(步驟 220)。陽離子轉(zhuǎn)化劑(280)可以在納米研磨的碳酸鈣在例如高剪切混合 器(270)中進行攪拌或者混合的同時加入。通過混合器(270)賦予到納米 研磨的碳酸鈣上的運動和動能有助于限制在電荷轉(zhuǎn)化過程中的團聚。在陽離子轉(zhuǎn)化后，將碳酸鈣混合物與基料混合(步驟230) 來完成可印刷的涂層配方。如上所述，基料促進了所形成的涂層的凝 聚(cohesion)以及涂層粘附(adhere)到印刷介質(zhì)的基底的能力。然后使用涂覆器(290)將所得的可印刷涂層配方沉積到基 底的至少一個表面(步驟240)來產(chǎn)生所期望的印刷介質(zhì)。前述方法的 不同步驟現(xiàn)在將在下面進一步詳細描述。如圖2所示，本發(fā)明示例性方法的第一步是制備陰離子性 帶電的碳酸鉤(步驟200)。在本發(fā)明的實例中，這種帶電的碳酸4丐是 作為漿體來制備的。如上所述，在一些實施方案中，石友酸4丐漿體可以包括陰離 子分散劑來增加漿體的陰離子電荷。用于本發(fā)明示例性方法中的合適 的分散劑包括但絕不限于Darvan 7, Darvan C和/或Acumer 9300。根 據(jù)一種示例性的實施方案，示例性的漿體包含在水中大約40%的固體 和至多2.5%的分散劑。接下來，將該碳酸鈣和分散劑(如果存在的話)進行納米研 磨(步驟210)。根據(jù)一種示例性的實施方案，將該示例性的漿體加載 到再循環(huán)槽中，并泵送通過加載有釔穩(wěn)定的鋯(YTZ， Yttrium Stabilized Zirconium)珠的研磨室。適用于本發(fā)明示例性的實施方案的YTZ珠典 型的直徑范圍是0.1-0.3mm。該納米研磨方法能夠，但是不必，產(chǎn)生 小到70nm或者更低的碳酸鈞粒子。表1列出了由類似于此處所述那些的幾種納米研磨方法所 產(chǎn)生的碳酸4丐粒子的性能。表1
材料表面 活性劑最終固 體％最終表面 活性劑°/0珠 (mm)最終粒度(體積 中值微米)最終粒度 (數(shù)值中值)
Hydrocarb 60D3rv3n 了732.500.20.1930.107
Hydrocarb 60D3n/3n 了24.31.200.10.1420.0907
Hydrocarb 60Acumsr 930012.50.30.1930.093
MultiflexMMAcumsr 930012.50.30.1260.08
M函exMMD3n/3n "7402.800.20.1380.073
MultiflexMMD3rvsn 了271.100.10.1280.0776
MultiflexMMAcumsr 930026.43.000.10.0820.071
OpcarbA40D3rv3n 了431.600.20.1740.076
OpcarbA40Acumsr 9300251.300.10.15760.11在將該示例性的漿體通過納米研磨方法進行納米研磨(步 驟210)之后，將陽離子轉(zhuǎn)化劑加入到該陰離子性帶電的碳酸4丐漿體中 (步驟220)。如上所述，這些陽離子轉(zhuǎn)化劑可以包括但不限于Silquest 1110, Silquest 1120, Glascol F-l 1 l(多胺)，Glascol F畫207(有機聚合物 電解質(zhì))，或者Glascol F-211 (DADMAC)。該轉(zhuǎn)化劑將與所述的漿體反 應(yīng)來將電荷從陰離子性改變?yōu)殛栯x子性。該陽離子轉(zhuǎn)化可以在高剪切混合器中進行，這限制了在轉(zhuǎn) 化到陽離子電荷過程中的混合物的團聚。如果不限制該團聚，則所形 成的印刷介質(zhì)涂層將傾向于是不透明的(opaque)和非常粘的，這導(dǎo)致 其不太適于高質(zhì)量的印刷介質(zhì)產(chǎn)品。然后加入基料(步驟230)來產(chǎn)生凝聚性(cohesive)的可印刷 涂層配方。根據(jù)一種示例性的實施方案，該可印刷的涂層配方的配制 包括將至多20份的基料與80-100份的分散劑-碳酸4丐混合物進行混 合。當結(jié)合時，基料用來將分散劑-碳酸鈣混合物保持在一起。另外， 該基料還可以將所述的配方粘附(adhere)到基礎(chǔ)介質(zhì)上。在本發(fā)明的示 例性的實施方案中的合適的基料的例子包括但絕不限于基于下面的 基料聚氨酯，陰離子或者非離子晶格，以及可溶脹的聚合物例如聚 乙烯吡咯烷酮/聚乙烯基咪唑共聚物，聚乙烯醇，聚乙酸乙烯酯和纖維
10素。除了上述的成分之外，本發(fā)明的示例性的涂層配方還可以 包括許多的添加劑例如媒染劑(mordents),表面活性劑，粘度改性劑， 表面張力調(diào)節(jié)劑，流變調(diào)節(jié)劑，pH調(diào)節(jié)劑，干燥劑，著色劑等等， 這些都是本領(lǐng)域7〉知的。當該可印刷的涂層配方形成時，可以在基底的一側(cè)或者兩 側(cè)上施涂一層或者多層(步驟240)。所述的(一或多)層可以使用機器 (on-machine)或者非機器(off-machine)涂覆器來施涂到基底上。合適的 涂覆技術(shù)的例子包括但不限于狹縫模口涂覆器，輥涂器，簾涂器，刮 板涂覆器，棒涂器，氣刀涂覆器，凹版印刷施涂，氣刷施涂和本領(lǐng)域 技術(shù)人員已知的其他技術(shù)和設(shè)備。根據(jù)一種示例性的實施方案，可以在基底(110)上形成單層 的顏料涂層(120)。備選地，可以在基底(110)上形成包括顏料涂層(120) 的底層和面層的多個層，來實現(xiàn)期望的印刷介質(zhì)或者印刷介質(zhì)性能。圖3是一幅圖，其顯示了根據(jù)此處所述的原理，使用不同 的陽離子轉(zhuǎn)化劑對納米研磨的碳酸鉀的陽離子轉(zhuǎn)化。圖4是一幅圖，其顯示了根據(jù)此處所述的原理，使用不同 的陽離子轉(zhuǎn)化劑對納米研磨的碳酸4丐的陽離子轉(zhuǎn)化?？傊景l(fā)明的將碳酸4丐陽離子轉(zhuǎn)化來形成可印刷的涂層 的示例性的方法包括將陽離子轉(zhuǎn)化劑加入到納米研磨的、陰離子性 帶電的碳酸釣中，由此與相容的基料和任何其他必需的添加劑來形成 可印刷的涂層。已經(jīng)展示了前述的說明僅僅是用來說明和描述本發(fā)明的 方法和系統(tǒng)。意圖并非是排他的或者是將本發(fā)明的系統(tǒng)和方法限制到 任何所公開的精確形式。按照上述的教導(dǎo)許多的改進和變化是可能 的。對前述的實施方案進行選擇和描述來說明所述系統(tǒng)和方法的原理 以及一些實踐應(yīng)用。前述的說明使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠在不同的實 施方案中利用所述的方法和系統(tǒng)，并且進行適于所期望的具體用途的 不同的改進。意圖是通過下面的權(quán)利要求來限定所述方法和系統(tǒng)的范 圍。
權(quán)利要求
1.一種形成印刷介質(zhì)的方法，其包括用陰離子性帶電的納米研磨的碳酸鈣來涂覆(240)基底(110)的至少一側(cè)，該陰離子性帶電的納米研磨的碳酸鈣已經(jīng)與陽離子轉(zhuǎn)化劑(280)進行了混合(220)來將所述的涂層(120)轉(zhuǎn)化為陽離子性帶電的涂層，其中所述的納米研磨的碳酸鈣的初級粒徑是10-20nm或者更低。
2. 權(quán)利要求l的方法，其進一步包括將基料(230)加入到所述的 涂層(120)中。
3. 權(quán)利要求l的方法，進一步包括在混合器(270)中將所述的陽 離子轉(zhuǎn)化劑(220)加入到所述的納米研磨的碳酸鈣中，該操作限制了在 陽離子轉(zhuǎn)化過程中的團聚。
4. 權(quán)利要求l的方法，其中所述的納米研磨的碳酸鈣團聚成 70-200納米的結(jié)構(gòu)。
5. 權(quán)利要求l的方法，其進一步包括將所述的碳酸鈣納米研磨 (210)到10-20nm或者更低的初級粒度。
6. 權(quán)利要求l的方法，其進一步包括通過將碳酸鈣漿體循環(huán)通過 加載有珠的研磨室(260)來納米研磨(210)所述的碳酸4丐。
7. 權(quán)利要求6的方法，其中所述的珠是釔穩(wěn)定的鋯珠。
8. 權(quán)利要求6的方法，其中所述的珠的直徑是0.1-0.3mm。
9. 一種形成印刷介質(zhì)的方法，其包括將碳酸4丐粒子納米研磨(210)到10 - 2 0納米或者更低的初級粒度；和將涂層(120)施用到基底(110)上，所述的涂層(120)包括所述的 納米研磨的碳酸鈣。
10. —種印刷介質(zhì)，其包括 基底(110);和在所述的基底(110)的至少一側(cè)上的涂層(120);其中所述的涂層(120)包括納米研磨的碳酸釣，該碳酸釣混合 (220)有陽離子轉(zhuǎn)化劑(280)來將所述的涂層(120)轉(zhuǎn)化為陽離子性帶電 的涂層，其中所述的納米研磨的碳酸4丐的初級粒度是10-20nm或者更 低。
全文摘要
一種形成印刷介質(zhì)的方法，其包括用陰離子性帶電的納米研磨的碳酸鈣來涂覆(240)基底(110)的至少一側(cè)，該陰離子性帶電的納米研磨的碳酸鈣已經(jīng)與陽離子轉(zhuǎn)化劑(280)進行了混合(220)來將所述的涂層(120)轉(zhuǎn)化為陽離子性帶電的涂層，其中所述的納米研磨的碳酸鈣的初級粒徑是10-20nm或者更低。
文檔編號B41M5/00GK101578182SQ200780043743
公開日2009年11月11日 申請日期2007年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月27日
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