專利名稱：制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于制做被用作為金屬印刷板的支座的鋁支座的方法。
本發(fā)明還涉及一種制做鋁支座，包括被用作為金屬印刷板的支座的鋁支座的表面粗糙化的方法，本發(fā)明具體涉及適用于易于生成稱為條紋的涌現(xiàn)的叢團(tuán)(rush mat)樣皺紋(歸因于晶粒的取向的差異)或生成稱為平面質(zhì)量不均勻性的顆粒狀處理不均勻性(它們?nèi)菀壮霈F(xiàn)在常規(guī)的化學(xué)蝕刻處理中)的鋁板的表面粗糙化的方法。
而且，本發(fā)明涉及一種制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其可取得包含許多雜質(zhì)且具有差的顆粒化性質(zhì)的鋁板的一致的表面粗糙化。
用于金屬印刷板的表面粗糙化通常通過一AC蝕刻法被執(zhí)行，在該AC蝕刻法中，一普通的正弦AC電流或一特殊交變波形電流例如矩形波形電流被使用。使用一適合的電極例如石墨作為反電極，該鋁板的表面粗糙化通常通過一次處理被執(zhí)行。然而，獲得的坑的深度通常是淺的且得到的鋁支座具有短的擠壓壽命。因此，至今為止已建議有各種不同的方法以使獲得具有適合于印刷板的顆粒化的表面的鋁板，其中具有大于其直徑的深度的坑被均勻地且致密地呈現(xiàn)。已知的這些方法的例子包括使用一特殊的電解電源波形(見JP-A-53-67507(這里所用的術(shù)語“JP-A”是指一“未審查的公開的日本專利申請”))、使用AC的一電解表面粗糙化中的在陽極時間的電量與在陰極時間的電量之間的比例(見JP-A-54-65607)、電源波形(見JP-A-56-25381)、和每單位面積通過的電流量的組合(見JP-A-56-29699)的一種表面粗糙化方法。
另一方面，相對于制做一鋁支座的方法，如下被制備的一鋁支座已被用作為用于金屬印刷板的支座。一熔化且裝納的鋁錠被澆鑄成一扁錠(厚度從400至600mm；寬度從1,000至2,000mm，長度從2,000至6,000mm)。該獲得的扁錠被進(jìn)行表面切削處理，其中使用表面切削機(jī)將該扁錠表面上的一雜質(zhì)結(jié)構(gòu)部分且掉3至10mm且然后進(jìn)行一浸泡處理，其中該扁錠被放置在一浸泡坑中，溫度為480℃至540℃，時間達(dá)6至12小時以使去除該扁錠內(nèi)部的應(yīng)力且使結(jié)構(gòu)均勻一致。然后，該扁錠在480℃至540℃的溫度下被熱軋成5至40mm厚度且然后在室溫下被冷軋成一預(yù)定的厚度。而且，為了具有均勻一致的結(jié)構(gòu)，該扁錠被退火，從而均勻化該被壓軋的結(jié)構(gòu)。這樣處理的扁錠然后被冷軋成一預(yù)定的厚度并被修正以獲得具有良好的平坦性的板。
從節(jié)約能源及有效使用資源的觀點，期望使用一通用鋁板或通過省略該鋁板的制做過程中的中間退火處理或浸泡處理所獲得的一鋁板作為用于金屬印刷板的鋁支座。
然而，使用上述鋁板制備用于金屬印刷板的鋁支座，容易生成條紋或稱為平面質(zhì)量不均勻性的處理不均勻性。這被認(rèn)為是因為鋁熔解率根據(jù)化學(xué)分解反應(yīng)的進(jìn)程中的晶體取向而改變或鋁的反應(yīng)根據(jù)電化學(xué)點蝕反應(yīng)的進(jìn)程中的晶體取向而變化所出現(xiàn)的。
換言之，由于根據(jù)晶體取向的化學(xué)分解反應(yīng)中的熔解率的差異或點蝕反應(yīng)中變化所致形成的不規(guī)則性被看成為條紋或平面質(zhì)量不均勻性。
本發(fā)明涉及一種制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其不會生成稱為條紋或平面質(zhì)量不均勻性的故障，且還涉及一種制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其在表面形狀上被改善。
而且，本發(fā)明涉及一種制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其具有不會生成稱為條紋或平面質(zhì)量不均勻性的故障的表面形狀。
還有，本發(fā)明涉及一種用于表面粗糙化具有不會生成稱為條紋或平面質(zhì)量不均勻性的故障的改善的表面形狀的金屬印刷板鋁支座的方法，且還涉及一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法。
作為延伸的調(diào)研的結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)當(dāng)經(jīng)過一電化學(xué)表面粗糙化處理的鋁板(其處于一狀態(tài)中以使在該表面上形成主要包括鋁氫氧化物的污點(smut))被熱處理時，在以后的蝕刻處理中難以出現(xiàn)條紋。
而且，本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)當(dāng)在一含水硝酸溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理之前一鋁板在一鹽酸溶液中被預(yù)先進(jìn)行表面粗糙化時，形成均勻一致的蜂窩狀坑。本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)當(dāng)在一含水硝酸溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理之后在一鹽酸溶液中預(yù)先進(jìn)行表面粗糙化時，可獲得具有優(yōu)良的印刷能力的用于金屬印刷板的鋁板。本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)盡管在使用AC的電化學(xué)表面粗糙化處理中使用一輔助電極以使防止主電極溶解，當(dāng)在使用該輔助電極的一半中使用含水中性鹽溶液作為電解液時，發(fā)生鋁板的溶解且相比于包含化學(xué)蝕刻的常規(guī)的體系，處理步驟可被減少。
還有，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)當(dāng)使用具有50至500Hz的頻率的AC，以1至300C/dm2的電量對鋁板進(jìn)行預(yù)先地表面粗糙化處理且然后進(jìn)行電化學(xué)表面處理，在以后的蝕刻處理中難以出現(xiàn)條紋。
還有，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)當(dāng)使用具有50至500Hz的頻率的AC，以1至300C/dm2的電量對鋁板進(jìn)行預(yù)先地表面粗糙化處理且然后進(jìn)行去污點(desmut)處理且還進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，在以后的蝕刻處理中難以出現(xiàn)條紋。本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)在其中在主要包括鹽酸的一水溶液中預(yù)先對一鋁支座進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理且然后在一酸性水溶液中進(jìn)行去污點處理的方法中，當(dāng)執(zhí)行去污點處理同時使用一電化學(xué)表面粗糙化設(shè)備的一輔助電極電解槽通過陰極電解對該鋁板進(jìn)行處理時，可用良好的效率執(zhí)行該去污點處理。本發(fā)明是基于這些發(fā)現(xiàn)被實現(xiàn)的。
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法的實踐實施例。
實施例1一鋁板被進(jìn)行以下處理(1)表面粗糙化處理，(2)加熱處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(4)陽極化處理，從而在陽極化處理之前執(zhí)行的該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理中難以生成條紋。
上述表面粗糙化處理是通過將機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理、拋光處理、在含水酸性或堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理、使用該鋁板作為陽極在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理、使用該鋁板作為陽極或陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理、和使用DC或AC在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理中的一或多個進(jìn)行組合而被實現(xiàn)的。
實施例2一鋁板被進(jìn)行以下處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)加熱處理，(4)該鋁板的0.01至5g/m2的蝕刻的處理，且然后(5)陽極化處理，從而在陽極化處理之前執(zhí)行的該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理中難以生成條紋。
實施例3
一鋁板被進(jìn)行以下處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至3g/m2蝕刻的處理，(4)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)加熱處理，(6)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理從而在陽極化處理之前執(zhí)行的該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理中難以生成條紋。而且，通過在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理之前以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中預(yù)先執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理，可在酸性水溶液中形成均勻一致的坑且還難以看到條紋且可獲得改善的印刷能力。
實施例4一鋁板被進(jìn)行以下處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，(4)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)加熱處理，(6)該鋁板的0.01至3g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理，從而在陽極化處理之前執(zhí)行的該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理中難以生成條紋。而且通過在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理之后以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理，難以看到條紋且可獲得改善的印刷能力。
在實施例1至4中，1)最好執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃，2)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理最好是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理，3)在用堿性水溶液進(jìn)行蝕刻后，在含水堿溶液中進(jìn)行電拋光處理或使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理后，最好在酸性水溶液中對該鋁板進(jìn)行去污點。
4)在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前，最好執(zhí)行一機(jī)械表面粗糙化處理、一磨光處理，或磨光處理及機(jī)械表面粗糙化處理兩者；在陽極化處理之前，最好執(zhí)行一磨光處理；且在該陽極化處理后，最好執(zhí)行一親水化(hydrophilization)處理。
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的表面粗糙化方法的實踐實施例。
實施例5按以下步驟順序處理一鋁板(1)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(2)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(3)陽極化處理。
實施例6按以下步驟順序處理一鋁板(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理，(4)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(6)陽極化處理。
實施例7按以下步驟順序處理一鋁板(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，(4)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理，(6)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理。
實施例8按以下步驟順序處理一鋁板(1)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，，(2)加熱處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(4)陽極化處理。
在實施例5至8中，1)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理最好是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理，
2)在用堿性水溶液進(jìn)行蝕刻后，在含水堿性溶液中進(jìn)行電拋光處理或使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理后，最好在酸性水溶液中對該鋁板進(jìn)行去污點。
3)在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前，最好執(zhí)行一機(jī)械表面粗糙化處理，或拋光處理及機(jī)械表面粗糙化處理兩者；在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前，最好執(zhí)行一磨光處理；在陽極化處理之前，最好執(zhí)行一拋光處理且在該陽極化處理后，最好執(zhí)行一親水化處理，及4)最好執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃。
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實踐實施例。
實施例9一種用于制作用于金屬印刷板的鋁板的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(5)進(jìn)行一陽極化處理。
實施例10一種用于制作用于金屬印刷板的鋁板的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，
(3)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(4)進(jìn)行加熱處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
實施例11一種用于制作用于金屬印刷板的鋁板的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
實施例12一種用于制作用于金屬印刷板的鋁板的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)進(jìn)行加熱處理，
(6)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(7)進(jìn)行一陽極化處理。
在本發(fā)明的實施例9至12中，在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理或磨光處理與機(jī)械表面粗糙化處理兩者，以使可獲得更加適合的用于金屬印刷板的鋁支座。
最好執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃。
在本發(fā)明的實施例9至12中，該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理包括這些處理中的兩個或更多個的一蝕刻處理。
當(dāng)在陽極化處理之前執(zhí)行拋光處理時，可獲得一更加適合的用于金屬印刷板的鋁支座。
而且，在陽極化處理之后，最好執(zhí)行一親水化處理。
本發(fā)明的實施例13是一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括在主要包括鹽酸的水溶液中執(zhí)行預(yù)先的表面粗糙化處理且然后在酸性水溶液中執(zhí)行一去污點處理，其中該去污點處理被執(zhí)行的同時通過使用一電化學(xué)表面粗糙化處理設(shè)備的輔助電極電解槽進(jìn)行陰極電解來處理該鋁板。
本發(fā)明的實施例14是一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中通過陰極電解處理該鋁板的同時進(jìn)行一去污點處理，
(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
在本發(fā)明的實施例13和14中，其是一種在主要包括鹽酸的水溶液中執(zhí)行預(yù)先的表面粗糙化處理且然后在酸性水溶液中執(zhí)行一去污點處理的方法，最好在通過使用一電化學(xué)表面粗糙化處理設(shè)備的輔助電極電解槽進(jìn)行陰極電解來處理該鋁板的同時執(zhí)行該去污點處理。
而且，在本發(fā)明的實施例13和14中，在該去污點處理中使用的溶液最好是一主要包括鹽酸、硫酸或硝酸的水溶液，或他們的混合溶液。
還有，在本發(fā)明的實施例13和14中，最好以1至800C/dm2電量在一酸性水溶液中執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。
還有，在本發(fā)明的實施例13和14中，當(dāng)在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理或磨光處理與機(jī)械表面粗糙化處理兩者時，可獲得更加適合的用于金屬印刷板的鋁支座。
還有，在本發(fā)明的實施例13和14中，最好執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃。
以下詳細(xì)描述本發(fā)明的方法的實施例13和14。
在本發(fā)明的方法中，該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理最好是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理或包括這些處理中的兩個或更多個的一蝕刻處理。
當(dāng)在陽極化處理之前執(zhí)行一拋光處理時，可獲得一更加適合的用于金屬印刷板的鋁支座。
而且，在本發(fā)明中，最好在該陽極化處理后執(zhí)行一親水化處理。
最好在這樣的條件下執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為100至200g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是30至40℃。
可替換地，最好在這樣的條件下執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為50至125g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是40至70℃。


圖1是在本發(fā)明的電化學(xué)表面粗糙化中使用的電解設(shè)備的一例子的概略性視圖。
圖2是在本發(fā)明的電化學(xué)表面粗糙化中使用的梯形AC電源波形的一例子的波形圖。
圖3是在本發(fā)明的拋光處理中使用的設(shè)備的一例子的概略性視圖。
圖4是在本發(fā)明的電化學(xué)表面粗糙化中使用的電解設(shè)備的一例子的概略性視圖。
圖5是在本發(fā)明的電解氧化處理中使用的設(shè)備的一例子的概略性視圖。
圖6是在本發(fā)明的電解氧化處理中使用的設(shè)備的另一例子的概略性視圖。
本發(fā)明使用的鋁板是從一純鋁板、一主要包括鋁且包含痕量雜質(zhì)元素的合金板、和與鋁層疊或蒸發(fā)的塑料膜中選擇的。這些痕量雜質(zhì)元素是從元素周期表中選擇出的且在該支座中的含量為0.001至1.5wt％。該鋁合金中包含的雜質(zhì)元素的代表性例子包括硅、鐵、鎳、錳、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鈦和釩。通常，可使用在鋁手冊(AluminumHandbook)，第4版，Keikinzoku Kyokai著(1990)中所述的常規(guī)已知的材料，例如JIS A 1050，JIS A 3103，JIS A 3005，JIS A1100和JIS A 3004材料及通過將5wt％或更少的鎂加至這些材料以提高抗拉強(qiáng)度所獲得的合金。在出現(xiàn)由于晶粒的趨向所引起的故障的情況下，本發(fā)明特別適于對一鋁板進(jìn)行表面粗糙化。
該鋁合金中包含的雜質(zhì)元素中的比例是Si為0.03至1.0wt％，F(xiàn)e為0.05至1.0wt％，Cu為0.001至0.2wt％，Ti為0.01至0.1wt％，Mn為0至1.5wt％，Mg為0.0至0.3wt％，及Zn為0至0.1wt％，最好Si為0.05至0.15wt％，F(xiàn)e為0.1至0.3wt％，Cu為0.1至0.02wt％，Ti為0.02至0.03wt％，Mn為0.01至0.03wt％，Mg為0.01至0.03wt％，及Zn為0.01至0.02wt％。
如果包含的該痕量元素的量較大，通過在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化難以形成均勻一致的蜂窩狀坑。如果包含的Si成分量較大，當(dāng)在表面粗糙化處理之后進(jìn)行陽極化處理時，所形成的陽極氧化涂層是有缺陷的，該缺陷部分的水保留性質(zhì)較差，且在印刷時紙張易于被弄臟。如果包含的Cu成分量較大，缺乏形成蜂窩狀坑的面積增大且出現(xiàn)外觀缺陷。當(dāng)包含的Si成分量較大時，該陽極氧化涂層最好具有由3-10g/m2的重量分析法確定的一量。
上述鋁板可通過除普通的DC澆鑄方法以外的一連續(xù)澆鑄—輥壓方法被制造。該連續(xù)的澆鑄—輥壓方法可通過一雙輥方法、一帶式連鑄機(jī)方法或一塊鑄機(jī)方法被執(zhí)行。本發(fā)明中使用的鋁板具有約從0.1至0.6mm的厚度。
因為由于晶粒的趨向的差異所致的鋁的溶解率的變化而傾向于在堿性蝕刻中處理不均勻性的鋁板最好是通過省略DC澆鑄方法中的中間退火、浸泡或中間退火和浸泡兩者所制造的鋁板或通過省略連續(xù)澆鑄方法中的中間退火所制造的鋁板。
在本發(fā)明中使用的術(shù)語“因為由于晶粒的趨向的差異所致的鋁的溶解率的變化而傾向于在堿性蝕刻中處理不均勻性的鋁板”是指其中在堿性蝕刻處理后容易出現(xiàn)稱為條紋的線性處理不均勻性或稱為平面質(zhì)量不均勻性的處理不均勻性的一鋁板。
本發(fā)明的表面粗糙化方法適于對這樣一鋁合金板進(jìn)行均勻一致的表面粗糙化以使當(dāng)一鋁板被拋光以具有一反射鏡表面光潔度，在含水氫氧化鈉溶液中被堿性蝕刻以溶解15g/m2的鋁板且然后在一酸性水溶液中被去污點且其表面通過AMF被觀察到時，由于蝕刻率的差異所致生成的粗糙度為0.01至0.5μm，最好從0.02至0.2μm。
當(dāng)被拋光且用氫氟酸被蝕刻的一鋁板的表面被觀察時，沿被輥壓的方向的晶粒全長具有約0.01至10mm的寬度和0.5至300mm的長度。該沿被輥壓的方向的晶粒全長的寬度最好為5mm或更小，3mm或更小則更佳。
本發(fā)明的在電拋光處理或電解處理中使用DC或AC的電化學(xué)表面粗糙化中使用的設(shè)備可以是任何已知的在一金屬薄板的連續(xù)表面處理中使用的設(shè)備。
其表面通過本發(fā)明的方法被粗糙化的鋁板最好被進(jìn)行陽極化處理以使提高該鋁板的表面上的抗磨性。在該陽極化處理后，在沸水或流中進(jìn)行密封處理。
在陽極化處理后或在陽極化處理及親水化處理后，一光敏層或一夾層和一光敏層兩者被涂覆且被干燥，從而可獲得具有優(yōu)良的印刷性能的一PS板。在該光敏層上，可設(shè)置一消光層以使獲得在真空印刷時得到對金屬印刷膜的良好的粘附性。為了防止鋁在顯影時溶解掉，可在背表面上設(shè)置一背涂層。本發(fā)明可應(yīng)用于制做單面處理的PS板以及雙面處理的PS板。
而且，本發(fā)明不僅可應(yīng)用于對用于金屬印刷板的鋁板進(jìn)行表面粗糙化處理而且可應(yīng)用于所有種類的鋁板。鋁板的采用陰極電解的去污點處理在含水鹽酸溶液中進(jìn)行的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理完成后，主要包括氫氧化鋁的污點成分(電化學(xué)表面粗糙化所生成的)被去除，以使可均勻一致地進(jìn)行后續(xù)的在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理。
在此時，最好進(jìn)行去污點處理同時通過陰極電解處理該鋁板。當(dāng)執(zhí)行該去污點處理同時通過陰極電解處理該鋁板時，生成氫氣并提供一攪動效果或電流在該鋁界面上生成熱量，從而可容易溶解或消除主要包括氫氧化鋁的污點成分。對于鋁板的采用陰極電解的去污點處理，可提供一獨(dú)立的電解設(shè)備，然而，最好使用如圖4所示的一已知的電化學(xué)表面粗糙化設(shè)備的一輔助陽極電解槽執(zhí)行該陰極電解。
通過參照圖4在下面對此進(jìn)行描述。在裝有一輔助陽極的一輔助陽極電解槽中，電解溶液被從不同于一主電解槽的一循環(huán)箱被循環(huán)。當(dāng)使用該輔助陽極電解槽對該鋁板施加陰極電解時，該去污點處理被執(zhí)行。
對于該輔助陽極，可使用鉛、氧化銥、鉑和鐵氧體。
被循環(huán)進(jìn)該輔助陽極電解槽的溶液最好不同于被循環(huán)進(jìn)用于在一或多個種類、溫度或組分的溶液中執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化的主電解槽中的水溶液。相對于該種溶液，可使用一酸性、堿性或中性鹽的水溶液，然而，鑒于在該處理期間的質(zhì)量穩(wěn)定性，最好使用一酸性水溶液。對于該酸性水溶液，可使用一鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、鉻酸或其兩或更多種的混合物。該液體溫度為25至90℃且濃度是0.1至40wt％。該液體溫度最好為35至80℃。在此溶液中，0至10g/l，最好0.5至8g/l量的鋁離子可被溶解。不用說，該鋁板中包含的痕量元素可在該溶液中被溶解，盡管它的量很小。
在上述酸性水溶液中，鹽酸、硫酸或硝酸是較佳的。
在執(zhí)行去污點處理同時通過使用鹽酸的陰極電解處理該鋁板的情況下，該使用的酸性溶液具有1至100g/l，最好5至75g/l的鹽酸濃度。對于與該鋁板相對的陽極，最好使用氧化銥或鐵氧體。
在執(zhí)行去污點處理同時通過使用硫酸的陰極電解處理該鋁板的情況下，該使用的酸性溶液具有80至400g/l，最好100至350g/l的硫酸濃度。對于與該鋁板相對的陽極，最好使用鉛、氧化銥、鉑或鐵氧體。
在執(zhí)行去污點處理同時通過使用硝酸的陰極電解處理該鋁板的情況下，該使用的酸性溶液具有5至400g/l，最好10至350g/l的硝酸濃度。對于與該鋁板相對的陽極，最好使用鐵氧體或鉑。
在執(zhí)行去污點處理同時通過陰極電解處理該鋁板中，使用一連續(xù)或脈沖DC。按照電流的峰值的電流密度最好為1至100A/dm2。電解時間最好為0.1至60秒且在一連續(xù)處理中，從設(shè)備的觀點最好為0.5至10秒。
當(dāng)通過該去污點處理同時采用陰極電解不能完全去除該污點時，可使用一已知的在含水酸性或堿性溶液中的化學(xué)去污點處理作為輔助。使用AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化在本發(fā)明中使用的主要包括鹽酸的該酸性溶液可以是在普通的使用DC或AC的電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的酸性溶液。該酸性溶液可通過將1g/l至飽和的具有硝酸離子的例如硝酸鋁、硝酸鈉和硝酸銨，或鹽酸離子例如氯化鋁、氯化鈉和氯化銨的一或多種鹽酸或硝酸復(fù)合物加至1至100g/l的含水鹽酸溶液。在主要包括鹽酸的含水鹽酸溶液中，該鋁合金中包含的金屬，例如鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂和二氧化硅可被溶解。還可以加上次氯酸。
對于使用AC在主要包括鹽酸的一酸性溶液中預(yù)先形成細(xì)密的不均勻性，該酸性溶液最好通過將一鋁鹽加至在15至45℃的液體溫度的包含5至15g/l的鹽酸的一水溶液以具有3至50g/l的鋁離子濃度。
相對于對主要包括鹽酸的水溶液的外加物，設(shè)備、電源、電流密度、流速和溫度，這些在已知電化學(xué)表面粗糙化處理中被使用的可被使用。主要包括硝酸或鹽酸的一水溶液是較佳的。在電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的電源可以是AC或DC，但AC是較佳的。
在主要包括鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理中，在鋁板的陽極反應(yīng)中參與的電量是1至300C/cm2的范圍，較佳地是5至150C/cm2，最好是10至100C/cm2。
在通過電化學(xué)表面粗糙化形成該細(xì)密不均勻性后，污點或氧化物被生成，因此，為了均勻一致地執(zhí)行后續(xù)的電化學(xué)表面粗糙化，最好在一含水酸性或堿性溶液中執(zhí)行該鋁板的從0.01至5g/dm2，較佳地從0.01至1.5g/dm2的溶解的小量蝕刻處理。
最好執(zhí)行使用AC在主要包括鹽酸的水溶液中以1至300C/dm2的電量的電化學(xué)表面粗糙化以使一未蝕刻部分完全沒有了并在整個表面上形成均勻一致的坑或以使即使存在一未蝕刻的部分，這些未蝕刻的部分被均勻一致地分布。
在預(yù)先表面粗糙化中，使用的AC最好具有50至500Hz，較佳地50至250Hz，最好100至250Hz的頻率。
通過使用一具有高于商業(yè)頻率的頻率的AC，所獲得的用于金屬印刷板的該鋁支座是白色的且能具有優(yōu)良的對于板檢驗的適配性。在含水堿性溶液中的電拋光處理該在含水堿性溶液中的電拋光處理是使用一單一堿性材料例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉和磷酸鈉的水溶液，或這些材料的混合物、堿性材料與氫氧化鋅或氫氧化鋁的混合物、或該堿性材料與例如氯化鈉或氯化鉀的鹽的混合物的水溶液被執(zhí)行的一處理，其中該鋁被用作為一陽極并用具有這樣一組分、溫度和濃度以使給出一電去氧化材料的電解溶液被電解。為了穩(wěn)定地產(chǎn)生一均勻一致的氧化物膜，可加上濃度為1wt％或更小的過氧化氫或磷酸鹽?？墒褂迷陔姃伖庵惺褂玫囊灰阎乃芤?，然而，較佳地是主要包括氫氧化鈉的水溶液，更好地是包含2至30wt％的氫氧化鈉的水溶液，最好是包含3至20wt％的氫氧化鈉的水溶液。該液體溫度是10至90℃(較佳地是35至60℃)，電流密度是1至200A/dm2(較佳地是20至80A/dm2)，且電解時間是1至180秒。使用的電流可以是DC、脈沖DC或AC，但一連續(xù)的DC是較佳的。使用的電解處理設(shè)備可以是已知的用于電解處理的設(shè)備，例如平坦型電解槽或徑向型電解槽。
在完成電拋光處理后，最好執(zhí)行通過壓軋輥壓榨溶液并通過噴射進(jìn)行水洗以使不將該處理溶液代入下一步驟。
最好在電拋光處理之前或之后或之前及之后兩者，在含水酸性或堿性溶液中執(zhí)行該鋁板的從0.01至3g/dm2的溶解的化學(xué)蝕刻處理。在含水酸性溶液中的電拋光處理在本發(fā)明中，對于在含水酸性溶液中的電拋光處理，在電拋光中使用的一已知的水溶液可被使用但較佳地是一主要包括硫酸或磷酸的水溶液，且更好是包含20至90wt％(最好是40至80wt％)硫酸或磷酸的水溶液。該液體溫度是10至90℃(最好是50至80℃)，電流密度是1至200A/dm2(最好是5至80A/dm2)，且電解時間是1至180秒。在該水溶液中，1至50wt％量的硫酸、磷酸、鉻酸、過氧化氫、檸檬酸、氫氟酸、酞酸酐或類似物可被加入。而且，該水溶液可包含，鋁不用說，0至10wt％的該鋁合金中包含的合金成分。最好從即使在通常的溫度下不會導(dǎo)致結(jié)晶的范圍中選擇各硫酸鹽離子或磷酸鹽離子濃度和鋁離子濃度。
使用的電流可以是DC、脈沖DC或AC，但一連續(xù)的DC是較佳的。使用的電解處理設(shè)備可以是已知的用于電解處理的設(shè)備，例如平坦型電解槽或徑向型電解槽。在完成電拋光處理后，最好執(zhí)行通過壓軋輥壓榨溶液并通過噴射進(jìn)行水洗以使不將該處理溶液代入下一步驟。
最好在電拋光處理之前或之后或之前及之后兩者，在含水酸性或堿性溶液中執(zhí)行該鋁板的從0.01至3g/dm2的溶解的化學(xué)蝕刻處理。使用鋁板作為陽極或陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理在本發(fā)明中使用的含水中性鹽溶液是在JP-A-52-26904和JP-A-59-11295中所述的一鹽的水溶液。該鹽包括堿金屬鹵化物或堿金屬硝酸鹽。在這些中，氯化鈉和硝酸鈉是較佳的，且硝酸鈉是更佳的。pH是5至9，最好是6至8。然而，該鋁板或電極界面附近的pH是5至9。
濃度最好是1至40％。對于在本發(fā)明的電解中使用的與鋁板相對的電極，陰極可使用碳鋼或不銹鋼，陽極可使用鉑、鐵氧體和氧化銥。在使用鋁板作為陽極或陰極的電解中使用的DC最好具有1至200A/dm2的電流密度，電解時間最好是0.1至90秒且液體溫度最好是35至75℃。
在具體的較佳的6至8的pH的含水鹽溶液中，溶解的鋁離子以氫氧化鋁或氧化鋁水合物的形式沉淀出來。然而，通過過濾或離心作用從含水中性鹽溶液中連續(xù)去除這些沉淀物。
在執(zhí)行溶解鋁板的處理同時使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理的情況下，最好使用在使用AC的電化學(xué)表面粗糙化處理中所用的圖1中所示的一輔助陽極電解槽。在含水酸性或堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理該含水堿性溶液最好具有1至30wt％的濃度且可包含，鋁不用說，0至10wt％的鋁合金中包含的合金成分。該含水的堿性溶液最好是主要包含氫氧化鈉的含水的溶液。該處理最好在30至95℃的液體溫度被進(jìn)行1至120秒。
可在酸性水溶液中使用的酸的例子包括磷酸、硝酸、硫酸、鉻酸、鹽酸和包含這些酸中的兩種或更多的一混合酸。該酸性水溶液最好具有0.5至65wt％的濃度且可包含，鋁不用說，該鋁合金中包含的0至10wt％的合金成分。該處理最好在30至95℃的液體溫度被進(jìn)行1至120秒。該酸性水溶液最好是含水硫酸溶液。最好從即使在通常的溫度下不會導(dǎo)致結(jié)晶的范圍中選擇硫酸和鋁濃度。
在完成蝕刻處理后，最好執(zhí)行通過壓軋輥壓榨溶液并通過噴射進(jìn)行水洗以使不將該處理溶液代入下一步驟。在酸性水溶液中的去污點處理在使用含水堿性溶液執(zhí)行化學(xué)蝕刻的情況下，在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中執(zhí)行電解處理的情況下，或在含水堿性溶液中執(zhí)行電拋光處理的情況下，在鋁表面上生成污點。在此情況下，使用磷酸、硝酸、硫酸、鉻酸、鹽酸或包含這些酸中的兩種或更多種的一混合酸執(zhí)行去污點處理。該酸性水溶液最好具有0.5至60wt％的濃度。而且，在該酸性水溶液中，該鋁合金中包含的0至10wt％的合金成分，鋁不用說，可被包含。液體溫度為從常溫到95℃且處理時間最好從1至120秒。在完成去污點處理后，最好執(zhí)行通過壓軋輥壓榨溶液并通過噴射進(jìn)行水洗以使不將該處理溶液代入下一步驟。機(jī)械表面粗糙化處理在本發(fā)明中，最好使用具有0.2z至1.61mm的硬毛尺寸的一轉(zhuǎn)動尼龍刷輥執(zhí)行機(jī)械表面粗糙化處理同時將稀漿溶液饋送給鋁板表面。磨料可以是已知的材料，然而，石英、石英砂、氫氧化鋁和它們的混合物是較佳的。這些在JP-A-6-135175和JP-B-50-40047(這里所用的術(shù)語“JP-B”是指“審查的日本專利申請”)。該稀漿溶液最好具有1.05至1.3的比重。
自然，也可使用一種噴射稀漿溶液的方法、一種使用鋼絲刷的方法或一種將一滾動輥的不均勻表面形狀傳送到該鋁板上的方法。其他的方法在JP-A-55-074898、JP-A-61-162351和JP-A-63-104889。主要包括硝酸的水溶液本發(fā)明使用的主要包括硝酸的水溶液可以是在使用DC或AC的普通電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的主要包括硝酸的水溶液?？赏ㄟ^將1g/l至飽和的具有硝酸離子的例如硝酸鋁、硝酸鈉和硝酸銨，或鹽酸離子例如氯化鋁、氯化鈉和氯化銨的一或多種鹽酸或硝酸復(fù)合物加至1至400g/l的含水硝酸溶液而獲得。在主要包括硝酸的水溶液中，該鋁合金中包含的金屬，例如鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂和二氧化硅可被溶解。通過將氯化鋁或硝酸鋁加至包含5至20g/l的硝酸的水溶液以具有3至50g/l的鋁離子濃度所獲得溶液是較佳的。溫度較佳地是10至95℃，最好是40至80℃。使用AC的電化學(xué)表面粗糙化本發(fā)明使用的酸性水溶液可以是在使用DC或AC的普通電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的酸性水溶液。該酸性水溶液最好從上述主要包括硝酸或鹽酸的水溶液中選擇。
可在該電化學(xué)表面粗糙化中使用的AC電源波形包括正弦波、矩形波、梯形波和三角波。在這些波形中，矩形波和梯形波是較佳的，而梯形波最好。頻率最好為0.1至500Hz。
在梯形波的情況下，電流從0開始至到達(dá)峰值所需的時間tp較佳地是0.1至10毫秒，最好是0.3至2毫秒。如果tp小于0.1毫秒，因為電源電路的阻抗的影響，可能在該電流波形的上升處需要大電源電壓，這樣提高了該電源的設(shè)備成本，而如果tp超過10毫秒，該處理容易受到該電解溶液中的痕量成分的影響且難以獲得均勻一致的表面粗糙化。
在電化學(xué)表面粗糙化中使用的AC的一循環(huán)中的條件最好是使鋁板的陽極反應(yīng)時間(ta)與陰極反應(yīng)時間(tc)的比例(tc/ta)為1至20，當(dāng)鋁板在陽極時間中的電量(Qc)與在陰極時間中的電量(Qa)的比例(Qc/Qa)為0.3至20，且陽極反應(yīng)時間(ta)是5至1000毫秒。Tc/ta最好是2.5至15且Qc/Qa最好是2.5至15。
按照梯形波的峰值，在該電流的陽極循環(huán)側(cè)(Ia)和陰極循環(huán)側(cè)(Ic)兩者的電流密度最好是10至200A/dm2，Ic/Ia最好是0.3至20。
在完成電化學(xué)表面粗糙化處理后，在該鋁板的陽極反應(yīng)中參與的總電量最好是1至1000C/dm2。
對于在根據(jù)本發(fā)明的使用AC的電化學(xué)表面粗糙化中使用的電解槽，可使用在表面處理中使用的已知的電解槽，例如垂直型電解槽、平坦型電解槽和徑向型電解槽，然而，在JP-A-195300中公開的徑向型電解槽是較佳的。通過該電解槽的電解溶液可與鋁薄板的行進(jìn)平行地或反向地流動。也可能使用兩或更多個電解槽。
對于使用AC的電化學(xué)表面粗糙化，可使用圖1中所示的設(shè)備。當(dāng)使用兩或更多個電解槽時，它們之間的電解條件可以是相同的或不同的。
一鋁板W被纏繞在一徑向滾筒輥上，該徑向滾筒輥被配置凹陷在一主電解槽50中且在傳送路徑上，通過連接至一AC電源51的主電極53a和53b被電解。通過一縫隙56，電解溶液被從一電解溶液提供端口54饋送給在該徑向滾筒輥與該主電極53a和53b之間的電解溶液路徑57。在主電解槽50中被處理的鋁板W接著在一輔助陽極電解槽60中被電解。在該輔助陽極電解槽60中，一輔助陽極58被配置與該鋁板W相對且該電解溶液55被饋送以流過在該輔助陽極58和該鋁板W之間的空間。使用DC電化學(xué)表面粗糙化根據(jù)本發(fā)明的使用DC的電化學(xué)表面粗糙化是指一種在一鋁板和與其相對的電極之間施加一DC電流以執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。電解溶液可以是在使用DC或AC的已知的電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的電解溶液，但主要包含硝酸或鹽酸的一水溶液、或含水中性鹽溶液是較佳的。
溫度最好是10至80℃。在使用DC的電化學(xué)表面粗糙化中使用的處理設(shè)備可以是一已知的使用DC的設(shè)備，然而，最好使用在JP-A-1-141094中描述的其中交替配置有一或多對陽極和陰極的一設(shè)備，已知的設(shè)備的例子在JP-A-6-328867、JP-A-8-67078、JP-B-57-44760中被描述。該電化學(xué)表面粗糙化處理也可通過使用鋁板作為陽極，在與該鋁板接觸的一導(dǎo)體輥和一與其相對的陰極之間施加DC電流而被執(zhí)行。在完成電解后，最好執(zhí)行通過壓軋輥壓榨溶液并通過噴射進(jìn)行水洗以使不將該處理溶液代入下一步驟。在該電化學(xué)表面粗糙化處理中使用的DC最好是具有20％或更小的脈動比的DC。電流密度最好是10至200A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極反應(yīng)時間的電量最好是1至1000C/dm2?？蓮囊阎挠糜谏裳醯碾姌O，例如鐵氧體、氧化銥、鉑和被包覆或鍍至一電子管金屬(例如鈦、鈮、鋯)的鉑中選擇該陽極?？蓮挠米鳛槿剂想姵氐年帢O，例如石墨、鉑、鈦、鈮、鋯和不銹鋼中選擇該陰極。加熱處理在本發(fā)明中，該加熱處理是指將該鋁板從70℃加熱至700℃且從而在該鋁表面上生成酸性或堿性不溶解的物質(zhì)。該生成的不溶解的物質(zhì)在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行蝕刻時用作為保護(hù)膜，從而形成細(xì)密的不均勻性以干擾清楚地看到條紋。加熱時間最好是0.01秒至120分鐘。該鋁板在空氣中的溫度最好是200至600℃。
用于生成不溶解物質(zhì)的方法包括(1)在空氣或惰性氣體中，加熱其上連有由電化學(xué)表面粗糙化處理產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分的一鋁板以生成不溶解物質(zhì)的方法；(2)在純凈水中，加熱其上連有由電化學(xué)表面粗糙化處理產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分的一鋁板以生成不溶解物質(zhì)的方法；(3)在純凈水中，加熱其上沒有由電化學(xué)表面粗糙化處理產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分的一鋁板以生成不溶解物質(zhì)的方法。
加熱方法的例子包括(1)吹送加熱的氣體的方法；(2)通過將鋁薄板卷繞在一加熱的傳送軋輥上來加熱其的方法；(3)感應(yīng)加熱鋁的方法；(4)在沸水中加熱的方法；及(5)組合使用(1)至(4)的方法。
另外，可使用已知的加熱方法。拋光處理在本發(fā)明中，拋光處理意味著機(jī)械、電、化學(xué)或熱拋光處理。
機(jī)械拋光處理包括射流—噴射磨料、射流—噴射水、噴射磁磨料、磁拋光、砂帶磨光、刷光及液體研磨。電拋光包括超聲拋光。熱拋光包括通過等離子、放電加工和激光加工。在工業(yè)上，機(jī)械拋光是較佳的且最好使用由橡膠、布、無紡織品、尼龍織品、海綿、氈、皮革或磨光布來拋光鋁表面。因為難以發(fā)生大到足以出現(xiàn)外觀缺陷的擦痕，最好在濕系統(tǒng)中而非在干系統(tǒng)中進(jìn)行該機(jī)械拋光處理。最好在噴射能蝕刻鋁的水或溶液的同時或在能蝕刻鋁的水或溶液中進(jìn)行該濕機(jī)械拋光。不管濕或干，因為可用小的能量有效地轉(zhuǎn)動該表面，最好一同使用一磨料進(jìn)行該拋光處理。
在拋光處理后，為了去除切削碎片或磨料，最好執(zhí)行一水洗處理或在一含水酸性或堿性溶液中的溶解0.01至1g/m2的鋁板的化學(xué)蝕刻處理。
當(dāng)在機(jī)械拋光處理之前使用含水酸性或堿性溶液溶解0.01至30g/m2，最好0.1至3g/m2的鋁板時，該鋁板的表面被軟化且從而易于進(jìn)行機(jī)械拋光。
通過機(jī)械拋光該鋁板，在表面粗糙化處理后的該鋁支座上的凸起被切除，結(jié)果，在印刷時幾乎不出現(xiàn)捕捉油墨且印刷的物品幾乎不被弄臟或造提供一噴泉(fountain)溶液時，該海綿不容易被鉤住。
可用機(jī)械拋光中使用的尼龍刷、海綿、無紡織品或皮革水平地摩擦該鋁板。一輥材料可被轉(zhuǎn)動。在準(zhǔn)備一輥材料并轉(zhuǎn)動其的情況下，該鋁板和該輥的外周之間的轉(zhuǎn)速最好不同。最好使用具有0.001至0.1μm的平均顆粒尺寸的一磨料作為一拋光工具執(zhí)行機(jī)械拋光。還有，可使用0.1至5mm平均直徑的玻璃或氧化鋯球作為一工具。該磨料最好具有帶最少磨尖角的一弄圓的形狀。可在該濕系統(tǒng)或干系統(tǒng)中獲得該拋光效果，然而，就難以形成擦痕的觀點看，濕系統(tǒng)是較佳的。在一濕系統(tǒng)中，液體具有潤滑作用和清除切削碎片的作用，因此，幾乎不會出現(xiàn)擦痕。為此目的的液體最好是水，因為它無害，然而，可使用包含0至10wt％的鋁離子并具有0.01至30wt％的濃度的含水酸性或堿性溶液。該含水酸性或堿性溶液的特殊例子包括氫氧化鈉、硫酸或磷酸的水溶液。
在使用包含磨料的液體的情況下，具有0.01至50wt％的濃度的水溶液是較佳的。該磨料最好是礬土、硅石或氫氧化鋁。在-30至90℃的液體溫度及0.001至100kg/cm2的壓力下執(zhí)行濕機(jī)械拋光，且與鋁板的轉(zhuǎn)速相差0.001至100m/秒。對于用于拋光的輥的轉(zhuǎn)動方向，最好組合使用對于鋁板的行進(jìn)方向沿向前方向轉(zhuǎn)動的一輥和沿相反方向轉(zhuǎn)動的一輥。更佳地是交替配置一至三對沿向前方向轉(zhuǎn)動的一輥和沿相反方向轉(zhuǎn)動的一輥的。轉(zhuǎn)數(shù)最好是150至300rpm且用于拋光的輥直徑最好是300至600mm。
可組合使用多個用于該拋光的輪、輥或節(jié)。
在拋光時在通過在該鋁板上噴水或酸性或堿性液體或通過將該鋁板浸入該液體中執(zhí)行拋光處理的情況下，該液體較佳地具有1至200cp，最好是1.5至50cp的粘度。當(dāng)該液體的粘度被提高時，易于在鋁表面上形成一液體膜且防止該鋁表面出現(xiàn)擦痕。為提高該粘度，增加增稠劑。該增稠劑最好是聚合復(fù)合物?？赏ㄟ^增加0.01至60wt％的聚乙二醇或通過增加在水處理或廢水處理中使用的0.01至5wt％的高分子凝結(jié)劑來增加粘度。該高分子凝結(jié)劑包括非離子的、陰離子的和聚丙烯酸基促凝劑?？墒褂玫那铱少彽玫拇倌齽┌ㄓ蒏urita Kogyo K.K公司生產(chǎn)的PN-161、PN-162、PN-133、PN-171、PA-328、PA-371、PA-322、PA-331、PA-349、PA-372、PA-318、PA-362、PA-363、PA-364、PA-365、PA-374、PA-375、PA-376、PA-377、PA-378、PA-379、PA-312、LC-541和LC-551。陽極化處理采用陽極化處理以使提高鋁板表面的耐磨性。在該鋁板的陽極化處理中使用的電解液可以是任何電解液只要它形成多孔的氧化膜。概括地說，可使用硫酸、磷酸、草酸、鉻酸或它們的混合溶液。該電解液的濃度可根據(jù)其種類而被適當(dāng)?shù)卮_定。陽極化處理的條件依據(jù)使用的電解液而改變且不能被定義性地規(guī)定，然而，適當(dāng)?shù)臈l件是普通的以使電解液的濃度是1至80wt％，液體溫度是5至70℃，電流密度是1至60A/dm2，電壓是1至100V且電解時間是10至300秒。
硫酸方法經(jīng)常使用DC而被執(zhí)行，然而，AC也可被使用。
陽極氧化涂層的量適當(dāng)?shù)厥?至10g/m2，最好是1至5g/m2。如果該陽極氧化涂層的量小于1g/m2，印刷耐久性是不足的，金屬印刷板的非圖象區(qū)易于有劃痕且在同時，油墨對該被劃痕的附著，所謂的劃痕變形易于發(fā)生。而如果該陽極氧化涂層的量增大，該氧化膜易于濃縮在鋁邊緣部分中。在該鋁板的邊緣部分和中央部分之間的該陽極氧化涂層的量的差異最好是1g/m2或更小。
在JP-A-54-128453和JP-A-48-45303中詳細(xì)描述了在含水硫酸溶液中的陽極化。該硫酸濃度最好是10至300g/l且鋁離子濃度最好是1至25g/l。通過將硫酸鋁加至50至200g/l的含水硫酸溶液而使該鋁離子濃度更佳地被調(diào)整至2至10g/l。液體溫度最好是30至60℃。在使用DC方法的情況下，電流密度是1至60A/dm2，最好是5至40A/dm2。在連續(xù)陽極化一鋁板的情況下，最好在5至10A/dm2的電低流密度開始該陽極化處理以使防止稱為鋁板燒傷的電流濃縮，且在后面的階段中，逐步地提高電流密度直至30至50A/dm2或?qū)㈦娏髅芏仍O(shè)置大于該值。該電流密度最好通過5至15步被逐漸地估算。在各步中，設(shè)置一單獨(dú)的電源電解槽且電流密度通過該電源電解槽的電流值被控制。該供電最好通過一不使用導(dǎo)體輥的供液系統(tǒng)被執(zhí)行。圖5和6是示出該陽極化處理的概略性視圖。為了電源損耗最小化，稱為一供電槽的一電解槽的液體濃度和溫度通常被設(shè)置得高于陽極化處理電解槽中的液體濃度和溫度。對于該供電槽的電極，使用氧化銥或鉛而對于該陽極化處理電解槽中的電極，使用鋁。
圖5示出在本發(fā)明中使用的用于執(zhí)行陽極化處理的設(shè)備的一個例子。在該例子中，設(shè)置若干供電槽以夾住一用于形成一陽極氧化涂層的陽極化處理電解槽。圖6示出類似設(shè)備的另一例子，其中在該鋁板的傳送方向的上游配置一供電箱并在下游配置一陽極化處理電解槽。
在這些設(shè)備中，在該供電槽中設(shè)置一陽極且該鋁板經(jīng)受一陰極反應(yīng)。因此，在該鋁板表面上形成一陽極氧化涂層。該鋁板與該陰極之間的距離最好是50至200mm。對于該陰極，使用鋁。對于各連接至DC電源的陰極，不使用具有大面積的一電極以使便于逸散生成的氫氣但該陰極最好被分成垂直于該鋁片的傳送方向的幾部分。
在供電槽和陽極化處理電解槽之間，稱為一中間槽的不允許電解溶液停留的一電解槽被設(shè)置。通過設(shè)置該中間槽，可防止電流不經(jīng)過該鋁板而從陽極旁通到陰極。在該中間槽中，最好設(shè)置壓軋輥以壓榨該溶液并盡可能多地減少旁通電流。在該供電箱中，設(shè)置電解溶液以具有比陽極化處理電解槽中更高的溫度和更高的濃度，以使減少電壓損耗。該陽極化處理電解槽中的電解溶液的組分和溫度通過考慮陽極氧化涂層的形成的效率、陽極氧化涂層上的微孔的形狀、陽極氧化涂層的硬度、電壓、電解溶液的成本等而被選擇的。至于該供電槽或該陽極化處理電解槽，該電解溶液通過將其從一液體饋送嘴噴射而被饋送。該液體饋送嘴被設(shè)計成具有一縫隙且從而平靜該被噴射的液體流以在橫向上是恒定的，以使獲得該電解溶液的一恒定的分布并防止該陽極化處理電解槽中的在該鋁板上電流的局部濃縮。在該陽極化處理電解槽中，在與該電極的相對側(cè)設(shè)置一屏蔽板，中間插入有該鋁板以防止電流沿相對于期望形成一陽極氧化涂層的表面的一側(cè)流動。該鋁板與該屏蔽板之間的距離最好是5至30mm。最好通過將它們的正側(cè)共同相連而使用多個DC電源。這樣，該陽極化處理電解槽中的電流分布可被控制。
在含水酸性溶液中，該鋁板中包含的少量的痕量元素自然可被溶解。
在陽極化處理期間，鋁溶解到該含水硫酸溶液中，因此，該硫酸濃度和鋁離子濃度必須被控制以控制該處理。如果鋁離子濃度被設(shè)置至一低水平，用于陽極化的含水硫酸溶液必須經(jīng)常被更新且廢水量增多，致使產(chǎn)生有利性及環(huán)境方面的問題。另一方面，如果鋁離子濃度被設(shè)置至高水平，需要高電壓用于電解且電功率的成本增高，這樣，不是有利的。
陽極化中的硫酸濃度、鋁離子濃度和液體溫度最好如下(情況1)硫酸濃度100至200g/l(最好是130至180g/l)鋁離子濃度2至10g/l(最好是3至7g/l)液體溫度30至40℃(最好是33至38℃)(情況2)硫酸濃度50至125g/l(最好是80至120g/l)鋁離子濃度2至10g/l(最好是3至7g/l)
液體溫度40至70℃(最好是50至60℃)在陽極化處理后，如果期望的話，該鋁板表面被進(jìn)行親水化處理。本發(fā)明中使用的親水化處理的例子包括在美國專利2,714,066，3,181,461，3,280,734和3,902,734中描述的堿金屬硅酸鹽(例如含水硅酸鈉溶液)方法。在該方法中，該支座被浸入含水硅酸鈉溶液并被電解。由熒光X線裝置測量的Si量較佳地是0.1至100mg/m2，最好是1至50mg/m2。除了這個，可使用JP-B-36-22063公開的氟鋯酸鉀或用美國專利3,276,868、4,153,461和4,689,272中公開的聚乙烯基磺酸處理鋁板的方法。
而且，在使表面粗糙及陽極化處理后，該鋁板最好還進(jìn)行密封處理。該密封處理通過將該鋁板浸入熱水中或包含無機(jī)鹽或有機(jī)鹽的熱水溶液中，或使用一蒸汽槽或類似方法而被執(zhí)行。
例子以下通過若干例子對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述例1通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.295mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的ΦP300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。使用三個轉(zhuǎn)動的刷。在各刷的下部，以300mm的距離設(shè)置兩個保持輥(Φ200mm)。根據(jù)這些刷輥被按壓至該鋁板之前的負(fù)載，這些刷輥被加壓直至用于轉(zhuǎn)動該刷的驅(qū)動電機(jī)的負(fù)載達(dá)到+4.5kw。該刷以與該鋁板被運(yùn)送的方向相同的方向被轉(zhuǎn)動。然后，用水洗該鋁板。該鋁板的轉(zhuǎn)速是50m/分。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解10g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中10秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形(trapezoidal square)波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.3g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點處理然后通過將該鋁板浸入含水1wt％的35℃的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的鋁離子)達(dá)10秒。然后，，用水清洗該鋁板。
(7)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的鋁離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是210C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(8)加熱處理其上附連有主要包括在水溶液(主要包括硝酸)中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘(例1-1)，持續(xù)30分鐘(例1-2)或持續(xù)1分鐘(例1-3)，或在空氣中被熱處理，在100℃的溫度下持續(xù)90分鐘(例1-4)或在空氣中被熱處理，在300℃的溫度下持續(xù)1分鐘(例1-5)。
(9)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的45℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(10)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點。然后，用水清洗該鋁板。
(11)陽極化處理使用2A/dm2的電流密度的DC電壓在55℃的液體溫度下在具有100g/l的硫酸濃度(包含7g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。使用PS板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例2為了親水化的目的，在例1中的陽極化處理(11)后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例3以與例1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例1的(8)的熱處理中使用感應(yīng)加熱外。感應(yīng)加熱時間是0.1秒。估計鋁板的溫度被升高至500℃。這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
例4以與例1中同樣的方式處理該鋁板，除了替換例1的(9)中的在含水堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理，在使用該鋁板作為陽極的電流密度為20A/dm2且溫度為35℃的包含9wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的水溶液中執(zhí)行電拋光處理以溶解1g/m2的鋁板外。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例5通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.295mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的Φ300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。使用三個轉(zhuǎn)動的刷。在各刷的下部，以300mm的距離設(shè)置兩個保持輥(Φ200mm)。根據(jù)這些刷輥被按壓至該鋁板之前的負(fù)載，這些刷輥被加壓直至用于轉(zhuǎn)動該刷的驅(qū)動電機(jī)的負(fù)載達(dá)到+4kw。該刷以與該鋁板被運(yùn)送的方向相同的方向被轉(zhuǎn)動。然后，用水洗該鋁板。該鋁板的轉(zhuǎn)速是50m/分。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的硝酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水硝酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％硝酸溶液(包含0.5％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且該液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是210C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.3g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液達(dá)5秒。然后，，用水清洗該鋁板。
(7)在含水鹽酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的鹽酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子)且液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是75C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(8)加熱處理其上附連有主要包括在水溶液(主要包括鹽酸)中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘。
(9)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的45℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.3g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(10)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(11)陽極化處理使用2A/dm2的電流密度的DC電壓在50℃的液體溫度下在具有100g/l的硫酸濃度(包含7g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有1.8g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例6為了親水化的目的，在例5中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例7通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)含水堿性溶液中的蝕刻處理通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(2)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(3)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的0.5毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(4)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.3g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(5)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的硝酸的35℃的水溶液達(dá)5秒。然后，，用水清洗該鋁板。
(6)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是70℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有從0開始到達(dá)到峰值的電流值所需的0.8毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是230C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(7)加熱處理其上附連有主要包括在水溶液(主要包括硝酸)中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘。
(8)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含5wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(9)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸(包含0.5wt％的鋁離子)的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(10)陽極化處理使用2A/dm2的電流密度的DC電壓，在35℃的液體溫度下在具有170g/l的硫酸濃度(包含3g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該P(yáng)S板被證明是良好的印刷板。
例8為了親水化的目的，在例7中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例9以與例7中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例7的(1)的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行一磨光處理外。這樣處理的鋁板的表面幾乎沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在獲得的該鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該P(yáng)S板被證明是良好的印刷板。
例10為了親水化的目的，在例9中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例11以與例1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了替換例1的(11)陽極化處理之前執(zhí)行一拋光處理且例1中的該陽極氧化涂層的量被改至1.2g/m2外，對于該拋光處理，圖3中所示的設(shè)備被使用。使用4個輥來執(zhí)行該拋光處理，各輥由紋理緊密的尼龍無紡織品制成且這些輥各具有300mm的直徑并以200rpm的轉(zhuǎn)速被轉(zhuǎn)動。
這些無紡織品輥和該鋁板被埋沒在水中且通過加入增稠劑而將粘度調(diào)整至17CP。為了避免粘附灰塵，該溶液在使用前被通過一過濾器。
該金屬印刷板在一上膠機(jī)(proofing machine)中被使用。當(dāng)一操作人用海綿提供噴泉(fountain)溶液時，不會出現(xiàn)海綿的鉤住，這樣，該板被證明是不容易允許生成海綿碎片的良好的印刷板。而且，不生成條紋和平面質(zhì)量不均勻性，因此，該鋁板在平面上沒有不均勻性并呈現(xiàn)良好的對板檢驗的適配性。
例12在例1中的陽極化處理后的該基底被浸入70℃的一含水0.2％的聚乙烯基磺酸中達(dá)5秒。在這樣處理的鋁板上，涂覆一光敏層并干燥以制備一PS板，然后獲得一良好的印刷板。
比較例1以與例1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了不執(zhí)行例1中的熱處理外。在該鋁板上，與例1相比，歸因于晶粒的取向的條紋幾乎不產(chǎn)生。
例13通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.295mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的Φ300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。使用三個轉(zhuǎn)動的刷。在各刷的下部，以300mm的距離設(shè)置兩個保持輥(Φ200mm)。根據(jù)這些刷輥被按壓至該鋁板之前的負(fù)載，這些刷輥被加壓直至用于轉(zhuǎn)動該刷的驅(qū)動電機(jī)的負(fù)載達(dá)到+4.5kw。該刷以與該鋁板被運(yùn)送的方向相同的方向被轉(zhuǎn)動。然后，用水洗該鋁板。該鋁板的轉(zhuǎn)速是50m/分。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中10秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.5毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
(5)使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理對于以上(4)的輔助陽極，使用液體溫度為70℃，濃度為100g/l的含水氯化鈉溶液對該鋁板進(jìn)行電解。
對于該電極，使用鐵氧體。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的硝酸(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)的35℃的水溶液中10秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(7)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是210C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(8)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的45℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(9)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(10)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在55℃的液體溫度下在具有80g/l的硫酸濃度(包含2g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例14以與例13中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例13中的(7)的電化學(xué)表面粗糙化后，其上附連有主要包括在電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘外。這樣處理的鋁板的表面被觀察及看到?jīng)]有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
例15為了親水化的目的，在例13中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例16通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.48mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的Φ300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。使用三個轉(zhuǎn)動的刷。在各刷的下部，以300mm的距離設(shè)置兩個保持輥(Φ200mm)。根據(jù)這些刷輥被按壓至該鋁板之前的負(fù)載，這些刷輥被加壓直至用于轉(zhuǎn)動該刷的驅(qū)動電機(jī)的負(fù)載達(dá)到+4kw。該刷以與該鋁板被運(yùn)送的方向相同的方向被轉(zhuǎn)動。然后，用水洗該鋁板。該鋁板的轉(zhuǎn)速是50m/分。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的硝酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水硝酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且該液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是210C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理對于以上(4)的輔助陽極，使用液體溫度為70℃，濃度為160g/l的含水氯化鈉溶液對該鋁板進(jìn)行電解。
對于該電極，使用鐵氧體。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(7)在含水鹽酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的鹽酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子)且液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是75C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(8)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.3g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(9)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的45℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.5g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(10)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸(包含0.5wt％的鋁離子)的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(11)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在55℃的液體溫度下在具有100g/l的硫酸濃度(包含7g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有1.2g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的用于膠印的一正PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例17為了親水化的目的，在例16中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例18如下所述地對具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 3103鋁板進(jìn)行連續(xù)處理。
(1)含水堿性溶液中的蝕刻處理通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(2)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(3)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(4)使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理對于以上(3)的輔助陽極，使用液體溫度為70℃，濃度為100g/l的含水氯化鈉溶液對該鋁板進(jìn)行電解。
對于該電極，使用鐵氧體。然后，用水清洗該鋁板。
(5)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的硝酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(6)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是70℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.8毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是260C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(7)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含5wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(8)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸(包含0.5wt％的鋁離子)的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(9)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在35℃的液體溫度下在具有15wt％的硫酸濃度(包含0.5wt％的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面被觀察且看到實現(xiàn)了均勻一致的表面粗糙化。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例19為了親水化的目的，在例18中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例20
以與例19中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例18的(1)的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行一磨光處理外。這樣處理的鋁板的表面被觀察且看到實現(xiàn)了均勻一致的表面粗糙化且沒有產(chǎn)生處理不均勻性。在這樣處理的該鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該P(yáng)S板被證明是良好的印刷板。
例21為了親水化的目的，在例20中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例22以與例13中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例13的陽極化處理之前執(zhí)行一拋光處理外。對于該拋光處理，使用圖3中所示的設(shè)備，使用4個輥來執(zhí)行該拋光處理，各輥由紋理緊密的尼龍無紡織品制成且這些輥各具有300mm的直徑并以200rpm的轉(zhuǎn)速被轉(zhuǎn)動。
這些無紡織品輥和該鋁板被埋沒在水中且通過加入增稠劑而將粘度調(diào)整至17CP。為了避免粘附灰塵，該溶液在使用前被通過一過濾器。
該金屬印刷板在一上膠機(jī)中被使用。當(dāng)一操作人用海綿提供噴泉溶液時，不會出現(xiàn)海綿的鉤住，這樣，該板被證明是不容易允許生成海綿碎片的良好的印刷板。而且，不生成條紋和平面質(zhì)量不均勻性，因此，該鋁板在平面上沒有不均勻性并呈現(xiàn)良好的對板檢驗的適配性。
例23通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.295mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的Φ300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。三個轉(zhuǎn)動刷被使用并被轉(zhuǎn)動以在該機(jī)械表面粗糙化處理后具有0.35μm的平均表面粗糙度。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解8g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中10秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.5毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz(例23-1)、120Hz(例23-2)或240Hz(例23-3)的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.8毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是210C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(6)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的45℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(7)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點。然后，用水清洗該鋁板。
(8)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在50℃的液體溫度下在具有10wt％的硫酸濃度(包含0.5wt％的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
實踐中，例23-2和23-3的支座呈現(xiàn)出對于板檢驗的良好的適配性。
在這樣獲得的各鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。使用各PS板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例24為了親水化的目的，在例23-1、23-2和23-3中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例25以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例23-1中的(4)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中10秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理重產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例26以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例23-1中的(4)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含5wt％的鹽酸的50℃的水溶液中10秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理重產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例27以與例23-2中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了替換例23-2中的(6)的在含水堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理，在使用鋁板作為陽極的電流密度為20A/dm2的包含9wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的35℃的水溶液中執(zhí)行電拋光處理以溶解1g/m2的鋁板。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例28(例28-1)以與例23-3中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了例23-2的(5)中的其上附連有主要包括在水溶液(主要包括硝酸)中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘外。這樣獲得的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
(例28-2)例23-3的(5)中的其上附連有主要包括在水溶液(主要包括硝酸)中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板被進(jìn)行感應(yīng)熱處理。
該感應(yīng)加熱時間是0.1秒。估計該鋁板的溫度升高到500℃。這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例29為了親水化的目的，在例28中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例30如下所述地對具有0.3mm厚度的一JIS A 3103鋁板進(jìn)行連續(xù)處理。
(1)含水堿性溶液中的蝕刻處理通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的70℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(2)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(3)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.3毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz(例30-1)、120Hz(例30-2)、240Hz(例30-3)或480Hz(例30-4)的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。
然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(4)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.8毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是230C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含5wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸(包含0.5wt％的鋁離子)的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(7)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在40℃的液體溫度下在具有10wt％的硫酸濃度(包含0.5wt％的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的各鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該些板被證明是良好的印刷板。
例31為了親水化的目的，在例30-3中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例32以與例30-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例30-1中的(1)的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行一磨光處理外。這樣處理的各鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例33為了親水化的目的，在例30-1中的陽極化處理后的該基底被浸入包含0.2wt％的聚乙烯基磺酸的60℃的水溶液中達(dá)20秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例34以與例30-2中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例30-2中的(3)中的電量被改變至25C/dm2(例34-1)、100C/dm2(例34-2)或300C/dm2(例34-3)。這樣處理的各鋁板的表面幾乎沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。在這樣獲得的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例35為了親水化的目的，在例34-1、34-2和34-3中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例36為了親水化的目的，在例32中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例37以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例23-1中的(4)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中5秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理中產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。為了親水化的目的，在陽極化處理后的該鋁支座被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)5秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備一PS板。在該光敏層上，設(shè)置一網(wǎng)層以使獲得使用一石膜(lith film)進(jìn)行印刷時的良好的真空粘著力。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例38以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例23-1中的(4)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中5秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理中產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。為了親水化的目的，在陽極化處理后的該鋁支座被浸入包含0.2wt％的聚乙烯基磺酸的60℃的水溶液中達(dá)30秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備一PS板。在該光敏層上，設(shè)置一網(wǎng)層以使獲得使用一石膜(lith film)進(jìn)行印刷時的良好的真空粘著力。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例39以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例30中的(3)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中5秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理中產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。為了親水化的目的，在陽極化處理后的該鋁支座被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)5秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備一PS板。在該光敏層上，設(shè)置一網(wǎng)層以使獲得使用一石膜(lith film)進(jìn)行印刷時的良好的真空粘著力。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例40以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例30中的(3)的在主要包含鹽酸的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中5秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理中產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。為了親水化的目的，在陽極化處理后的該鋁支座被浸入包含0.2wt％的聚乙烯基磺酸的60℃的水溶液中達(dá)30秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。在該光敏層上，設(shè)置一網(wǎng)層以使獲得使用一石膜(lithfilm)進(jìn)行印刷時的良好的真空粘著力。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
比較例2以與例23-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了不執(zhí)行例23中的(4)在含水鹽酸溶液中的預(yù)先表面粗糙化處理外。該鋁板幾乎不生成條紋。
例41通過省略DC鑄造法中的中間退火及浸泡來制備具有0.24mm厚度及1,030mm寬度的一JIS A 1050鋁板以提供一狀態(tài)以使在一含水酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻時容易出現(xiàn)條紋或平面質(zhì)量不均勻性，且然后如下繼續(xù)處理。
(1)機(jī)械表面粗糙化處理通過轉(zhuǎn)動輥尼龍刷對鋁板的表面進(jìn)行機(jī)械地粗糙化同時將作為磨料稀漿溶液的具有1.12比重的，水中的懸浮的石英砂饋送給該鋁板的表面。該尼龍刷由6·10尼龍形成且具有50mm長度的硬毛和0.48mm的硬毛直徑。該尼龍刷是通過將硬毛致密地固定至不銹鋼制的Φ300mm的圓柱上開的孔中而獲得的。通過交替地使用沿向前方向轉(zhuǎn)動的一刷和沿與該鋁板的行進(jìn)方向的相反方向轉(zhuǎn)動的一輥執(zhí)行該表面粗糙化處理。在該機(jī)械表面粗糙化處理后，平均表面粗糙度為0.45μm。
(2)含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含27wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的75℃的水溶液中來蝕刻該鋁板以溶解8g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(3)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中10秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(4)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.3毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。通過該輔助電解槽所化的時間是2.4秒。
饋送給裝有一輔助陽極的該電解槽的電解溶液在表1中被示出。在該輔助電解槽中，執(zhí)行一去污點處理同時通過陰極電解處理該鋁板。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的1毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是180C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(6)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含26wt％的氫氧化鈉和6.5wt％的鋁離子的60℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.6g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(7)去污點然后通過將該鋁板浸入包含10wt％的硫酸的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點。然后，用水清洗該鋁板。
(8)陽極化處理使用DC電壓同時以約5A/dm2的增量逐步地將電流密度從5A/dm2增加到35A/dm2，在55℃的液體溫度下在具有100g/l的硫酸濃度(包含5g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的鋁板的表面沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。在這樣獲得的各鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。使用各PS板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
表1
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例42為了親水化的目的，在表1中所示的例41-2、41-3和41-7中的陽極化處理后的各基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。
在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例43為了親水化的目的，在表1中所示的例41-2、41-3和41-7中的陽極化處理后的各基底被浸入包含0.2wt％的聚乙烯基磺酸的60℃的水溶液中達(dá)30秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該板被證明是良好的印刷板。
例44
以與例41中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在去污點處理同時在例41-3中的(4)的在主要包含鹽酸的水溶液中通過陰極電解處理鋁板后，該鋁板被浸入包含25wt％的硫酸的60℃的水溶液中10秒以去除在電化學(xué)表面粗糙化處理重產(chǎn)生的主要包括氫氧化鋁的污點成分且然后用水噴射進(jìn)行清洗。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例45以與例41-2中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了替換例41-3中的(6)的在含水堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理，在使用鋁板作為陽極的電流密度為20A/dm2的包含9wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的35℃的水溶液中執(zhí)行電拋光處理以溶解1g/m2的鋁板。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例46以與例41中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例41-3中的(5)的其上附連有主要包括在電化學(xué)表面粗糙化的步驟中形成的氫氧化鋁的污點的該鋁板在空氣中被熱處理，在200℃的溫度下持續(xù)90分鐘外。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例47該基底在例41-3中的陽極化之前在通過加入增稠劑而將粘度調(diào)整至17CP的一水溶液中，通過使用圖3中所示的設(shè)備被拋光。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有1.2g/m2的干燥厚度的一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。而且，在該印刷板上幾乎不出現(xiàn)用于提供噴泉溶液的海綿的鉤住，因此，這也被證明是用于膠印的良好的印刷板。
例48以與例41-3中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例41-3中的(1)中的機(jī)械表面粗糙化處理之前執(zhí)行一磨光處理外。這樣處理的各鋁板的表面幾乎沒有歸因于晶粒的取向的條紋的出現(xiàn)，和平面質(zhì)量不均勻性的產(chǎn)生。
在這樣獲得的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例49在例41-3的(8)中的陽極化處理中使用的含水硫酸溶液的條件被改變，如表2所示。該陽極氧化涂層的量通過改變電流密度而被改變。
由于在陽極化步驟的電流的濃縮，獲得的鋁板不生成過燒。
表2<
。
(2)去污點處理然后通過將該鋁板浸入包含1wt％的鹽酸的35℃的水溶液中5秒對其進(jìn)行去污點處理。然后，用水清洗該鋁板。
(3)在含水鹽酸溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理使用圖2中所示的AC電壓和圖4中所示的設(shè)備的一電解槽，連續(xù)執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化處理。在此時，使用的電解溶液是含水的1wt％鹽酸溶液(包含0.5％的鋁離子)且該液體溫度是35℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.3毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz(例50-1)、120Hz(例50-2)或240Hz(例50-3)的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是50C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。通過該輔助電解槽所化的時間是2.4秒。
饋送給裝有一輔助陽極的該電解槽的電解溶液是具有50g/l的鹽酸濃度和4g/l的鋁離子濃度的液體溫度為40℃的水溶液。在該輔助電解槽中，執(zhí)行一去污點處理同時通過陰極電解處理該鋁板。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(4)在含水硝酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化使用圖2中所示的AC電壓和圖1中所示的設(shè)備的兩電解槽，連續(xù)地執(zhí)行電化學(xué)表面粗糙化。在此時，使用的電解溶液是含水1wt％的硝酸溶液(包含0.5wt％的鋁離子和0.007wt％的銨離子)且液體溫度是50℃。使用的AC電源波形是一梯形矩形波形AC，該波形具有電流值從0開始到達(dá)到峰值所需的0.8毫秒的時間TP，1∶1的占空比和60Hz的頻率。而且，石墨電極被用于反電極而鐵氧體被用于輔助陽極。
依據(jù)電流峰值的電流密度是50A/dm2且當(dāng)該鋁板處于陽極時間時依據(jù)總電量的電量是230C/dm2。來自電源的電流被劃分5％到該輔助陽極中。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
(5)在含水堿性溶液中的蝕刻處理然后通過將該鋁板浸入包含5wt％的氫氧化鈉和0.5wt％的鋁離子的40℃的水溶液中對其進(jìn)行蝕刻以溶解0.1g/m2的鋁板。然后，用水清洗該鋁板。
(6)去污點然后通過將該鋁板浸入包含25wt％的硫酸(包含0.5wt％的鋁離子)的60℃的水溶液中來對該鋁板進(jìn)行去污點達(dá)5秒。然后，用水清洗該鋁板。
(7)陽極化處理使用在2A/dm2的電流密度的DC電壓在35℃的液體溫度下在具有150g/l的硫酸濃度(包含5g/l的鋁離子)的水溶液中對該鋁板進(jìn)行陽極化以具有2.4g/m2的陽極氧化涂層的量。然后，通過噴射用水清洗該鋁板。
這樣處理的各鋁板具有良好的平面質(zhì)量。
在這樣獲得的鋁板上，一夾層和一光敏層被涂覆并被干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一正PS板。該些板被證明是良好的印刷板。
例51為了親水化的目的，在例50-1中的陽極化處理后的該基底被浸入包含2.5wt％的硅酸鈉的70℃的水溶液中達(dá)14秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一負(fù)光敏層并干燥以制備一PS板。使用該P(yáng)S板，進(jìn)行印刷，結(jié)果，該些板被證明是良好的印刷板。
例52以與例50-1中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例50-1中的(1)的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行一磨光處理外。這樣處理的各鋁板具有良好的平面質(zhì)量。在各這樣處理的鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例53以與例50-3中同樣的方式執(zhí)行表面粗糙化處理，除了在例50-3中的(3)中的在含水鹽酸溶液中的預(yù)先電化學(xué)表面粗糙化中的電量，按照該鋁板處于陽極時間是的一總電量，被改變至25C/dm2(例53-1)、100C/dm2(例53-2)或300C/dm2(例53-3)。這樣處理的各鋁板具有良好的平面質(zhì)量。在這樣獲得的各鋁板上，涂覆一夾層和一光敏層并干燥以制備具有2.0g/m2的干燥厚度的一PS板。該板被證明是良好的印刷板。
例54為了親水化的目的，在例50-1中的陽極化處理后的該基底被浸入包含0.2wt％的聚乙烯基磺酸的60℃的水溶液中達(dá)30秒。然后，用水噴射進(jìn)行清洗并干燥。在各處理及水洗后，用壓軋輥壓榨該溶液。在這樣處理的鋁板上，涂覆一光敏層并干燥以制備一印刷板，該板被證明是良好的印刷板。
盡管參照具體實施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)地說明，顯然在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，本領(lǐng)域的熟練技術(shù)人員可作出多種改型和變化。
本申請是基于1999年4月22日遞交的日本專利申請No.11-115112、1999年4月27日遞交的日本專利申請No.11-120452、1999年6月24日遞交的日本專利申請No.11-178624、1999年6月24日遞交的日本專利申請No.11-178625，這些申請的全部內(nèi)容被結(jié)合在此作為參考。
權(quán)利要求
1.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)表面粗糙化處理，(2)加熱處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(4)陽極化處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中該表面粗糙化處理是通過將機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理、拋光處理、在含水酸性或堿性溶液中的化學(xué)蝕刻處理、使用該鋁板作為陽極在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理、使用該鋁板作為陽極或陰極在含水中性鹽溶液中的電解處理、和使用DC或AC在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理中的一或多個進(jìn)行組合而被實現(xiàn)的。
3.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)加熱處理，(4)該鋁板的0.01至5g/m2的蝕刻的處理，且然后(5)陽極化處理。
4.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸溶液中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至3g/m2蝕刻的處理，(4)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)加熱處理，(6)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理。
5.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，(4)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)加熱處理，(6)該鋁板的0.01至3g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃，
7.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在用堿性水溶液進(jìn)行蝕刻后，在含水堿溶液中進(jìn)行電拋光處理或使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理后，在酸性水溶液中對該鋁板進(jìn)行去污點。
9.根據(jù)權(quán)利要求3的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前，執(zhí)行一機(jī)械表面粗糙化處理、一磨光處理，或磨光處理及機(jī)械表面粗糙化處理兩者。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在陽極化處理之前，執(zhí)行一拋光處理。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在該陽極化處理后，執(zhí)行一親水化處理。
12.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理。
13.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(2)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(3)陽極化處理。
14.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理，(4)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(6)陽極化處理。
15.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)化學(xué)蝕刻處理，(2)在酸性水溶液中的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，(4)以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中的預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理，(6)該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理，且然后(7)陽極化處理。
16.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理之前和之后進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，，(2)加熱處理，(3)該鋁板的0.01至5g/m2的溶解的處理，且然后(4)陽極化處理。
17.根據(jù)權(quán)利要求12的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理。
18.根據(jù)權(quán)利要求12的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在用堿性水溶液對該鋁板進(jìn)行蝕刻后，在含水堿溶液中進(jìn)行電拋光處理后或使用鋁板作為陰極在含水中性鹽溶液中進(jìn)行電解處理后，在酸性水溶液中對該鋁板進(jìn)行去污點。
19.根據(jù)權(quán)利要求14的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前，執(zhí)行一機(jī)械表面粗糙化處理，或磨光處理及機(jī)械表面粗糙化處理兩者。
20.根據(jù)權(quán)利要求12的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在陽極化處理之前，執(zhí)行一拋光處理。
21.根據(jù)權(quán)利要求12的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在該陽極化處理后，執(zhí)行一親水化處理。
22.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(5)進(jìn)行一陽極化處理。
23.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(4)進(jìn)行加熱處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
24.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
25.一種用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，包括按以下步驟對一鋁板進(jìn)行處理(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用50至500Hz的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)進(jìn)行加熱處理，(6)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(7)進(jìn)行一陽極化處理。
26.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中使用100至250Hz的AC執(zhí)行在一含水鹽酸溶液中的電化學(xué)表面粗糙化。
27.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理或磨光處理與機(jī)械表面粗糙化處理兩者。
28.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃。
29.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理。
30.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在陽極化處理之前執(zhí)行拋光處理。
31.根據(jù)權(quán)利要求22的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在陽極化處理之后，執(zhí)行一親水化處理。
32.一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括在主要包括鹽酸的水溶液中執(zhí)行預(yù)先的表面粗糙化處理且然后在酸性水溶液中執(zhí)行一去污點處理，其中該去污點處理被執(zhí)行的同時通過使用一電化學(xué)表面粗糙化處理設(shè)備的輔助電極電解槽進(jìn)行陰極電解來處理該鋁板。
33.根據(jù)權(quán)利要求32的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中通過使用一電化學(xué)表面粗糙化處理的輔助電極電解槽進(jìn)行陰極電解來處理該鋁板的同時執(zhí)行的去污點處理中使用的酸性水溶液是主要包括鹽酸、硫酸或硝酸的一水溶液，或它們的一混合溶液。
34.一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括以下對一鋁板進(jìn)行的處理步驟(1)在酸性水溶液中進(jìn)行一蝕刻處理和/或一去污點處理，(2)使用具有50至500Hz頻率的AC以1至300C/dm2電量在含水鹽酸中進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理，(3)在酸性水溶液中通過陰極電解處理該鋁板的同時進(jìn)行一去污點處理，(4)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理，(5)在酸性水溶液中進(jìn)行該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理和/或去污點處理，且然后(6)進(jìn)行一陽極化處理。
35.根據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中通過使用一電化學(xué)表面粗糙化處理設(shè)備的輔助電極電解槽進(jìn)行陰極電解來處理該鋁板的同時執(zhí)行的去污點處理中使用的溶液是主要包括鹽酸、硫酸或硝酸的一水溶液，或它們的一混合溶液。
36.根據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在第一步驟的化學(xué)蝕刻處理之前執(zhí)行機(jī)械表面粗糙化處理、磨光處理或磨光處理與機(jī)械表面粗糙化處理兩者。
37.根據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在一酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理之后。執(zhí)行加熱處理以將該鋁板的溫度從70℃提高到700℃。
38.根據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中該鋁板的0.01至5g/m2蝕刻的處理是在含水酸性或堿性溶液中的一化學(xué)蝕刻處理，使用該鋁板作為陽極的在含水酸性或堿性溶液中的電拋光處理或使用該鋁板作為陰極的在含水中性鹽溶液中的電解處理。
39.據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在陽極化處理之前執(zhí)行一拋光處理。
40.據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在該陽極化處理后執(zhí)行一親水化處理。
41.一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括在這樣的條件下對通過權(quán)利要求32中所述的表面粗糙化方法被表面粗糙化的一鋁板執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為100至200g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是30至40℃。
42.據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在這樣的條件下執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為100至200g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是30至40℃。
43.一種對用于金屬印刷板的鋁支座進(jìn)行表面粗糙化處理的方法，包括在這樣的條件下對通過權(quán)利要求32中所述的表面粗糙化方法被表面粗糙化的一鋁板執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為50至125g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是40至70℃。
44.據(jù)權(quán)利要求34的用于制做用于金屬印刷板的鋁支座的方法，其中在這樣的條件下執(zhí)行陽極化處理以使硫酸濃度為50至125g/l，該含水硫酸溶液中包含的鋁離子的濃度為從2至10g/l且液體溫度是40至70℃。
全文摘要
一種制做金屬印刷板的鋁支座的方法,包括步驟:(1)表面粗糙化處理,(2)加熱處理,(3)溶解處理(4)陽極化處理;另一種方法,包括步驟:(1)在酸性水溶液中進(jìn)行蝕刻處理和/或去污點處理,(2)進(jìn)行預(yù)先的電化學(xué)表面粗糙化處理,(3)在酸性水溶液中進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理,(4)進(jìn)行該鋁板的蝕刻處理和/或去污點處理(5)進(jìn)行一陽極化處理。
文檔編號B41N3/03GK1271652SQ00106249
公開日2000年11月1日 申請日期2000年4月24日 優(yōu)先權(quán)日1999年4月22日
發(fā)明者西野溫夫, 增田義孝, 上杉彰男 申請人:富士攝影膠片株式會社