專利名稱：一種超低速流漿箱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及制漿造紙技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及ー種超低速流漿箱裝置。
背景技術(shù)：
勻漿輥是中、低速造紙機(jī)流漿箱中最常用的消能和整流元件，當(dāng)流漿箱中漿料流速比較低時(shí)，通過勻漿輥的轉(zhuǎn) 動作用，能起到消除橫流、勻整漿流、分散纖維絮聚的作用。但勻漿輥在應(yīng)用過程中，必須浸沒在流漿箱的漿料中，否則如果勻漿輥露出漿面，會由于勻漿輥的轉(zhuǎn)動帶入空氣、產(chǎn)生氣泡，同時(shí)也容易掛漿。根據(jù)漿網(wǎng)速比的要求，一定的紙機(jī)網(wǎng)速必須有一個(gè)對應(yīng)的流漿箱噴漿速度，流漿箱的噴漿速度是由下式來確定的V1 = KV2 = μ^2§(Η + Ρ)式中=V1是流漿箱的噴漿速度，V2是紙機(jī)的網(wǎng)速，K是漿速對網(wǎng)速的滯后系數(shù)，μ是流漿箱唇ロ噴漿系數(shù)，g是重力加速度，H為流漿箱內(nèi)液面高度，即流漿箱堰池中漿位最高點(diǎn)與下唇板之間的高度，P是氣墊壓力，H+P即流漿箱的總壓。顯然當(dāng)紙機(jī)的車速很低時(shí)，流漿箱必須有ー個(gè)很低的噴漿速度，以滿足漿網(wǎng)速比的要求，當(dāng)噴漿速度低于70m/min時(shí)，流漿箱堰池中的液位高度小于100_，而一般勻漿輥的直徑不小于100_，顯然一般的敞開式流漿流沒法滿足勻漿輥對于液位的要求，現(xiàn)有的技術(shù)是采用抽真空的方式，即P〈0，從而能提高流漿箱的液位高度，滿足勻漿輥的要求。但真空流漿箱需要配套真空系統(tǒng)、抽風(fēng)管路及相應(yīng)的控制系統(tǒng)，顯然比敞開式流漿箱成本更高，同時(shí)紙機(jī)車速變化較小時(shí)，所需要真空度的變化也很小，這對于控制系統(tǒng)的精度有非常高的要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)和不足，提供ー種超低速流漿箱裝置，既能使勻漿輥完全浸沒在漿料中，滿足勻漿輥流漿箱的エ藝要求，又能降低流漿箱下唇板上的堰池液位，無須通過真空就可滿足漿網(wǎng)速比對超低速流漿箱中液位要求。本發(fā)明通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)ー種超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管、布漿元件、流漿箱底板、上唇板、下唇板、整流勻漿輥，其特征在于所述流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。還包括一根設(shè)置于布漿元件出口的消能勻漿輥。所述流漿箱底板向上傾斜與水平面成10° 30°角。當(dāng)整流勻漿輥半徑為RO時(shí)，圓弧過渡的半徑Rl=R0+3mm 5mm。與現(xiàn)有技術(shù)相比本發(fā)明的有益效果在于本發(fā)明超低速流漿箱裝置，沿漿料的流動方向，流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。從而可以降低整流勻漿輥的高度，在紙機(jī)車速很低，流漿箱中下唇板上的液位較低時(shí)，滿足整流勻漿輥浸沒的エ藝要求，通過這種結(jié)構(gòu)，流漿箱在敞開條件下就能滿足紙機(jī)超低速(如30m/min)抄造的要求，而無須配置真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，降低了設(shè)備成本。紙機(jī)車速一定范圍的變化通過調(diào)節(jié)流漿箱內(nèi)的液位就能實(shí)現(xiàn)，調(diào)節(jié)方式簡單、可靠。本發(fā)明技術(shù)手段簡便 易行，具有積極的技術(shù)效果與推廣應(yīng)用價(jià)值。


圖I是本發(fā)明裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖I的局部放大圖。圖3圖I的另ー種結(jié)構(gòu)示意圖。上圖中進(jìn)漿總管I、布漿元件2、消能勻漿輥3、堰池4、閘板5、整流勻漿輥6、唇ロ區(qū)7、上唇板8、下唇板9、微調(diào)裝置10、上唇板提升裝置11、流漿箱底板12。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)ー步具體詳細(xì)描述，但本發(fā)明的實(shí)施方式不限于此，對于未特別注明的エ藝參數(shù)，可參照常規(guī)技術(shù)進(jìn)行。實(shí)施例如圖I所示，本發(fā)明超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管I、布漿元件2、消能勻漿輥3、堰池4、閘板5、整流勻漿輥6、唇ロ區(qū)7、上唇板8、下唇板9、微調(diào)裝置10、上唇板提升裝置11、流漿箱底板12 ;所述流漿箱底板12的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板9并與下唇板9圓弧過渡連接，整流勻漿輥6安裝于該圓弧過渡處，所述消能勻漿輥3設(shè)置于布漿元件2的出口處。如圖3所示，所述進(jìn)漿總管I為方錐總管或者圓錐總管，布漿元件2為孔板、階梯擴(kuò)散器或者管束中的ー種。因?yàn)殡A梯擴(kuò)散器出來的漿料比較均勻穩(wěn)定，因而布漿元件2的出ロ可以不用配置消能勻漿輥3。所述流漿箱底板12向上傾斜與水平面成10° 30°角(優(yōu)選15°，即β =15° )通過布漿元件2進(jìn)入流漿箱中，分別經(jīng)過消能勻漿輥3消能、閘板5 (垂直)阻止?jié){料橫流和整流勻漿輥6勻整漿流，分散纖維絮聚，然后進(jìn)入由上唇板8和下唇板9收斂組成的唇ロ區(qū)7，由微調(diào)裝置10和上唇板提升裝置11調(diào)整流漿箱橫向噴漿厚度后，再從唇ロ區(qū)7噴漿上網(wǎng)。當(dāng)整流勻漿輥6半徑為RO時(shí)，圓弧過渡的半徑Rl=R0+3mm 5mm。如圖2所示。圓弧過渡的圓心與整流勻漿輥6具有相同的圓心，從而確保整流勻衆(zhòng)棍6與流衆(zhòng)箱底板12的間距相同，整流勻衆(zhòng)棍6半徑為50mm,圓弧過渡的半徑54mm。下唇板9與整流勻衆(zhòng)棍6頂點(diǎn)的距離H=20mm,對于車速超過30m/min的紙機(jī)都能滿足要求,此時(shí)，堰池4液位最高點(diǎn)與下唇板9的距離大于25mm，因此完全能滿足勻漿輥(包括消能勻漿輥3、整流勻漿輥6)對流漿箱液位的要求。具體說，如圖2所示，整流勻漿輥6安裝于該圓弧過渡處，可以降低整流勻漿輥6頂點(diǎn)與下唇板9的高度，在紙機(jī)車速很低，下唇板9上的液位較低吋，滿足整流勻漿輥6浸沒的エ藝要求，同時(shí)圓弧過渡與整流勻衆(zhòng)棍6有相同的圓心,半徑比勻衆(zhòng)棍大3mm 5mm,從而確保整流勻漿輥6與流漿箱底板12之間間距的均勻和合理。通過這種方式，流漿箱在敞開條件下就能滿足紙機(jī)超低速(如30m/min)抄造的要求。如上所述便可較好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。上述實(shí)施例為本發(fā)明較佳的實(shí)施方式，但本發(fā)明的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，其他任何未背離本發(fā) 明的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管、布漿元件、流漿箱底板、上唇板、下唇板、整流勻漿輥，其特征在于所述流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于還包括一根設(shè)置于布漿元件出口的消能勻漿輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于所述流漿箱底板向上傾斜與水平面成10° 30°角。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于當(dāng)整流勻漿輥半徑為RO時(shí)，圓弧過渡的半徑Rl=R0+3mm 5mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管、布漿元件、流漿箱底板、上唇板、下唇板、整流勻漿輥，所述流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。沿漿料的流動方向，流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。從而可以降低整流勻漿輥的高度，在紙機(jī)車速很低，流漿箱中下唇板上的液位較低時(shí)，滿足整流勻漿輥浸沒的工藝要求，通過這種結(jié)構(gòu)，流漿箱在敞開條件下就能滿足紙機(jī)超低速(如30m/min)抄造的要求，而無須配置真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，降低了設(shè)備成本。本發(fā)明技術(shù)手段簡便易行，具有積極的技術(shù)效果與推廣應(yīng)用價(jià)值。
文檔編號D21F1/02GK102691224SQ201210169958
公開日2012年9月26日 申請日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月28日
發(fā)明者劉建安, 張 成, 樊慧明, 陳克復(fù) 申請人:華南理工大學(xué)