專利名稱：殼體及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制備方法。
背景技術(shù)：
為了使電子裝置的外殼具有吸引力的外觀，目前主要通過陽極氧化、烤漆噴涂等工藝制備裝飾涂層。然而，這些工藝形成的裝飾涂層往往缺乏金屬質(zhì)感，且裝飾涂層往往只能呈現(xiàn)單一的色彩效果，導(dǎo)致產(chǎn)品的競(jìng)爭力不強(qiáng)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種有效解決上述問題的殼體。另外，還有必要提供一種上述殼體的制備方法?！N殼體，其包括基材，依次形成于基材表面的底漆層、金屬層和面漆層，該底漆層為丙烯酸環(huán)氧樹脂層；該金屬層為硅鋁合金層，該金屬層中硅的原子百分含量為10 90%,招的原子百分含量為90 10% ;該面漆層為丙烯酸聚氨脂層。一種殼體的制備方法，其包括如下步驟
提供基材；
在該基材的表面形成底漆層，該底漆層為丙烯酸環(huán)氧樹脂層；
在該底漆層的表面形成金屬層，該金屬層為為硅鋁合金層，該金屬層中硅的原子百分含量為10 90%，鋁的原子百分含量為90 10% ；
在該金屬層的表面形成面漆層，該面漆層為丙烯酸聚氨脂層。本發(fā)明所述殼體通過在基材上依次形成底漆層、金屬層和面漆層，通過底漆層、金屬層和面漆層這三層與光的干涉作用，使所述殼體表面呈現(xiàn)彩虹般的七彩效果，色彩絢麗，且具有良好的金屬質(zhì)感，提高了該殼體的外觀競(jìng)爭力。


圖I為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的殼體的剖視圖2為本發(fā)明一較佳實(shí)施例真空鍍膜機(jī)的俯視示意圖。主要元件符號(hào)說明
權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括基材，依次形成于基材表面的底漆層、金屬層和面漆層，其特征在于該底漆層為丙烯酸環(huán)氧樹脂層；該金屬層為硅鋁合金層，該金屬層中硅的原子百分含量為10 90%,招的原子百分含量為90 10% ;該面漆層為丙烯酸聚氨脂層。
2.如權(quán)利要求I所述的殼體,其特征在于該基材為塑料材質(zhì)。
3.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該底漆層和面漆層的固化度均為509Γ85%。
4.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該底漆層的厚度為5 30μ m。
5.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該金屬層的厚度為l(T80nm。
6.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該面漆層的厚度為5 20μ m。
7.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟提供基材；在該基材的表面形成底漆層，該底漆層為為丙烯酸環(huán)氧樹脂層；在該底漆層的表面形成金屬層，該金屬層為硅鋁合金層，該金屬層中硅的原子百分含量為10 90%，鋁的原子百分含量為90 10% ；在該金屬層的表面形成面漆層，該面漆層為丙烯酸聚氨脂層。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制備方法，其特征在于該基材為塑料材質(zhì)。
9.如權(quán)利要求7所述的殼體的制備方法，其特征在于形成所述金屬層的方法為采用磁控濺射法，使用硅鋁合金靶，該硅鋁合金靶中硅和鋁的原子比介于I : 9和9:1之間，設(shè)置硅鋁合金靶的電源功率為2. (Γ3. 5kw,以氬氣為工作氣體，氬氣流量為8(Tl20sccm，對(duì)基材施加(T-100V的偏壓，濺鍍時(shí)間為I 3min。
全文摘要
一種殼體，其包括基材，依次形成于基材表面的底漆層、金屬層和面漆層，該底漆層為丙烯酸環(huán)氧樹脂層；該金屬層為硅鋁合金層，該金屬層中硅的原子百分含量為10～90%，鋁的原子百分含量為90～10%；該面漆層為丙烯酸聚氨脂層。所述殼體表面呈現(xiàn)七彩效果，色彩絢麗，且具有良好的金屬質(zhì)感。此外，本發(fā)明還提供一種所述殼體的制備方法。
文檔編號(hào)B32B15/092GK102950838SQ201110239230
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2011年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月19日
發(fā)明者姜傳華, 陳甲林 申請(qǐng)人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司