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激光標(biāo)刻標(biāo)記的制作方法

文檔序號(hào):2442629閱讀:489來源:國知局

專利名稱::激光標(biāo)刻標(biāo)記的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及用激光進(jìn)行記錄的顯示用標(biāo)記(label)。
背景技術(shù)
:作為在部件或產(chǎn)品上顯示信息的方法,眾所周知的有直接印刷的方法、刻印的方法、貼標(biāo)記的方法等。由于制品材質(zhì)和印刷油墨材質(zhì)的組合存在制約、或者難以在各種形狀的制品上印刷、難以可變信息印刷等原因,直接印刷的方法只能在限定的情況下才能使用。對(duì)于刻印的方法來說,近年來實(shí)現(xiàn)了稱為激光標(biāo)刻(lasermarking)的利用激光直接在制品上刻印信息的方法,但是,在不想因強(qiáng)度或外觀上的問題而導(dǎo)致制品損傷的情況下,或者想更換顯示信息的情況下不能使用。因此,最常用的是貼標(biāo)記的方法(專利文獻(xiàn)1)。作為針對(duì)標(biāo)記的構(gòu)圖的方法,使用各種印刷方法,但是,由于存在現(xiàn)場(chǎng)發(fā)行性、容易維護(hù)、印刷機(jī)比較便宜等原因,所以,熱轉(zhuǎn)印方式得到普及。但是,熱轉(zhuǎn)印方式存在如下缺點(diǎn)耐久性不足、分辨率尤其是二維碼的分辨率不好、不易在黑底畫白線條圖案等。由于這些原因,利用激光標(biāo)刻在標(biāo)記上印刷的方式也得到普及。另一方面,考慮到設(shè)計(jì)性或防止光學(xué)傳感器的誤操作等方面的理由,有遮擋制品的圖案或開口部的遮光帶,此外,需要兼有顯示功能的遮光標(biāo)記。在熱轉(zhuǎn)印中,尤其是在黑底;f艮難顯示白線條,并且表現(xiàn)不充足的耐久性,在單元尺寸較小的二維碼等中表現(xiàn)不充足的分辨率,所以,優(yōu)選使用激光標(biāo)刻標(biāo)記,但是,沒有足夠的遮光性。專利文獻(xiàn)1:日本特開2006-206910號(hào)^^艮
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的課題是相對(duì)于設(shè)計(jì)性或防止光學(xué)傳感器的誤操作,提供一種能夠遮擋制品的圖案或開口部并且能夠兼有顯示功能、即在畫線部、非畫線部都有良好的遮光性的激光標(biāo)刻標(biāo)記。.即,本發(fā)明涉及如下激光標(biāo)刻標(biāo)記。(1)一種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地破壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體層、基底層、遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間接地層疊而成。(2)—種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地破壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體兼基底層、遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間接地層疊而成。(3)—種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地破壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體層、基底兼遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間接地層疊而成。根據(jù)本發(fā)明的激光標(biāo)刻標(biāo)記,對(duì)于設(shè)計(jì)性或防止光學(xué)傳感器的誤操作,能夠遮擋制品的圖案或開口部并且能夠兼有顯示功能,即能夠在畫線部、非畫線部都提供良好的遮光性。此外,同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)黑底的白線條顯示、足夠的耐久性及足夠的分辨率。圖1是表示一實(shí)施例的以剖面示出激光標(biāo)刻標(biāo)記的圖。圖2是表示另一實(shí)施例的以剖面示出激光標(biāo)刻標(biāo)記的圖。具體實(shí)施方式5敫光才示刻才示"i己1.記錄層對(duì)于記錄層來說,優(yōu)選對(duì)應(yīng)于白畫線或黑畫線分別是黑底(黑色層)或白底(白色層)。例如,在黑底畫白線條的情況下,記錄層為黑色層。此處,白畫線或黑畫線指的是以激光標(biāo)刻破壞記錄層之后、由下層顯示的畫線。作為記錄層所使用的材質(zhì),可列舉為丙烯樹脂、聚酯樹脂、氯乙烯醋酸乙烯共聚物、聚亞胺酯樹脂、環(huán)氧樹脂、醇酸樹脂、環(huán)化橡膠、氯化聚烯烴樹脂等。并且,優(yōu)選記錄層使用已知的印刷或涂敷方法,在記錄層所使用的材質(zhì)上形成,或者在其它層(例如,支持體層)上直接形成,更優(yōu)選在其它層直接形成。用于形成記錄層的方法優(yōu)選黑色印刷、白色印刷或白色涂敷,更優(yōu)選色黑或白色的凹版印刷。對(duì)于這種印刷或涂敷中使用的材料來說,例如,優(yōu)選使用凹版油墨等。記錄層的厚度優(yōu)選為0.1~10|tim,更優(yōu)選為0.3~5pm,進(jìn)一步優(yōu)選為0.5~2pm。在小于0.1pm的情況下,作為圖像的對(duì)比度變低,此外,針孔(pinhole)等圖像缺陷容易混入。在大于10pm的情況下,激光標(biāo)刻所需的能量增大,畫線的邊緣的銳度降低,標(biāo)刻的分辨率下降。2.支持體層對(duì)于支持體層來說,優(yōu)選具有作為標(biāo)記的支持體的強(qiáng)度或剛性的材質(zhì)或厚度。作為材質(zhì),可列舉為紙、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯等。其中,優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。支持體層的厚度優(yōu)選為5~500nm,更優(yōu)選為10~200pm,進(jìn)一步優(yōu)選為20-100pm。在小于5pm的情況下,剛性或強(qiáng)度變小,作為標(biāo)記難以處理。另外,例如,利用激光破壞記錄層(黑色層)時(shí),使支持體層、更下層的基底層(白色層)、遮光層損傷,得不到高對(duì)比度的黑白圖像,或者得不到遮光性。另夕卜,在大于500(Lim的情況下,作為標(biāo)記的剛性過大,當(dāng)貼到曲面上時(shí),端部由于反作用力而懸空,或者貼后的臺(tái)階差過大,或者不能貼在厚度有制約的制品上。對(duì)于支持體層來說,從任意選擇成為基底的顏色的基底層的著色劑(例如,油墨)的角度考慮,優(yōu)選是透明的,優(yōu)選使用12100pm的透明PET膜,更優(yōu)選是2575pm的透明PET膜。3.基底層在記錄層是黑底(黑色層)的情況下,優(yōu)選基底層是白色層,在記錄層是白底(白色層)的情況下,優(yōu)選基底層是黑色層。優(yōu)選基底層所使用的材質(zhì)與記錄層相同。優(yōu)選基底層使用已知的印刷或涂敷方法,在基底層的材質(zhì)上形成,或者在其它層(例如,支持體層)上直接形成,更優(yōu)選在其它層上直接形成。對(duì)于用于形成基底層的印刷來說,優(yōu)選黑色印刷或白色印刷,更優(yōu)選色黑或白色的凹版印刷。優(yōu)選基底層的厚度為0.5~20pm,更優(yōu)選為l~15pm,進(jìn)一步優(yōu)選為3~10(im。在小于0.5nm的情況下,作為圖像的對(duì)比度降低,此外,容易混入針孔等圖像缺陷。另外,在大于20^m的情況下需要成本。另外,從減少制造工時(shí)的方面考慮,支持體層與基底層也可以兼用(在本發(fā)明中也稱為"支持體兼基底層")。優(yōu)選支持體兼基底層的材質(zhì)與支持體相同。例如,記錄層為黑底(黑色層)而畫白線條的情況下,可以使用揉進(jìn)優(yōu)選25~200nm、更優(yōu)選50~100pm的顏料(即,揉進(jìn)如氧化鈦這樣的白色顏料)的白色PET膜作為支持體兼基底層,在記錄層為白底(白色層)而畫黑線條的情況下,可使用揉進(jìn)優(yōu)選25~200pm、更優(yōu)選50~100(im的顏料的黑色PET膜作為支持體兼基底層。支持體層或支持體兼基底層相對(duì)于記錄層的厚度,優(yōu)選為5倍以上,更優(yōu)選為IO倍以上,且優(yōu)選為200倍以下,更優(yōu)選為IOO倍以下。在厚度小于5倍的情況下,例如,當(dāng)記錄層為2pm而支持體層為5pm(2.5倍)時(shí),若以穩(wěn)定地破壞記錄層的能量進(jìn)行激光標(biāo)刻,則支持體層上也開孔,更下層受到損傷的情況較多。另夕卜,在厚度大于200倍的情況下,相對(duì)于記錄層,支持體層充分厚,因此不存在開孔等的問題,但是,因不必要地加厚而難以貼到曲面上,并且會(huì)增加成本。4.遮光層一般地,由成為基底層的白色層或黑色層單獨(dú)得不到充分的遮光性。因此,在本發(fā)明中,層疊遮光層而成,但是,作為遮光層,優(yōu)選使用例如使用了金屬粉顏料(例如,鋁、不銹鋼、鎳)這樣的遮光性較高的顏料的銀色油墨涂敷層、鋁蒸鍍層等。在前者的情況下,在遮光層的形成中,優(yōu)選使用已知的印刷或涂敷方法,其中優(yōu)選絲網(wǎng)印刷。對(duì)于遮光層的厚度來說,在印刷的情況下,優(yōu)選為0.5~30pm,更優(yōu)選為1~20(am,再優(yōu)選為1.5~10|im。在小于0.5pm的情況下,不能充分得到遮光性。在大于30pm的情況下,遮光性充分,但不僅會(huì)增加成本,而且出現(xiàn)保護(hù)膜破損等問題。在鋁蒸鍍的情況下,優(yōu)選遮光層的厚度為100nm以下,更優(yōu)選為30-50nm。另外,當(dāng)支持體兼基底層是白色PET膜或黑色PET膜時(shí),從生產(chǎn)性的方面考慮,優(yōu)選遮光層為鋁蒸鍍層。另外,從生產(chǎn)性的方面來看,基底層和遮光層可以兼用(在本發(fā)明中也稱為"基底兼遮光層")。優(yōu)選基底兼遮光層的材質(zhì)與記錄層的材質(zhì)相同。基底兼遮光層與遮光層同樣地,優(yōu)選使用印刷或涂敷方法,在基底兼遮光層的材質(zhì)上形成,或者在其它層(例如,支持體層)上直接形成,更優(yōu)選在其它層(例如,支持體層)上直接形成。優(yōu)選基底兼遮光層是鋁蒸鍍層或銀色油墨涂敷層,更優(yōu)選為銀色油墨涂敷層。但是,在黑底畫銀色的線條時(shí),特別是在用掃描器或CCD相機(jī)讀取條形碼或二維碼中,由于鏡面反射的影響,難以得到對(duì)比度,從這方面來看,優(yōu)選將基底層和遮光層分開。優(yōu)選基底兼遮光層的厚度為0.5~50(am,更優(yōu)選為l30^im,進(jìn)一步優(yōu)選為1.5~20pm。在小于0.5pm的情況下,不能充分地得到遮光性。另外,在大于50^m的情況下,充分地得到遮光性,但是,不僅成本增加,而且還產(chǎn)生保護(hù)膜等破裂等問題。5.粘接劑層、剝離襯墊等關(guān)于粘接劑層、剝離襯墊,優(yōu)選使用已知的粘接劑層、剝離襯墊。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中,如圖1所示,激光標(biāo)刻標(biāo)記10至少包括記錄層2、支持體層3、基底層4、遮光層5、粘接劑層6以及剝離襯墊7。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式中,如圖2所示,激光標(biāo)刻標(biāo)記IO至少包括記錄層2、支持體兼基底層8、遮光層5、粘接劑層6以及剝離襯墊7。在本發(fā)明的又一實(shí)施方式中,激光標(biāo)刻標(biāo)記至少包括記錄層、支持體層、基底兼遮光層、粘接劑層以及剝離襯墊。此外,所述各層以該順序直接或間接地層疊而成,但也可以任意設(shè)置其它層。6.激光標(biāo)刻標(biāo)記的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明的激光標(biāo)刻標(biāo)記能夠如下制作,例如,在成為支持體或支持體兼基底層的基體材料的塑料膜上,通過凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、涂敷方法、鋁蒸鍍、層壓等方法,對(duì)各層進(jìn)行層疊。7.5敫光一示刻的方法對(duì)這樣形成的激光標(biāo)刻標(biāo)記上的記錄層照射激光束,由此,該照射部分被標(biāo)刻。所照射的激光的能量沒有特別地限定,但是,若考慮到下層破壞的可能性,則照射能量范圍優(yōu)選為2~50J/cm2、更優(yōu)選為5~20J/cm2的范圍內(nèi)。另外,作為進(jìn)行照射的激光器,優(yōu)選使用脈沖型激光器或掃描型激光器,作為激光器的種類,可以是例如氣體激光器、受基準(zhǔn)分子激光器、半導(dǎo)體激光器的任一種,具體地說,可列舉二氧化碳激光器、混合氣體激光器、YAG激光器、紅寶石激光器等。作為以所希望的形狀部分地照射激光束的方法可列舉出隔著金屬掩模對(duì)記錄層照射激光束,使與金屬掩模的空隙部的形狀相當(dāng)?shù)募す馐丈涞接涗泴拥姆椒?,或者預(yù)先向計(jì)算機(jī)輸入作為目標(biāo)的所希望的形狀,并按照該形狀,使激光束以所謂一筆書寫的要領(lǐng)進(jìn)行照射的方法等。8.遮光性的評(píng)價(jià)方法在光源前放置對(duì)激光標(biāo)刻標(biāo)記的記錄層照射激光束后的完成記錄的激光標(biāo)刻標(biāo)記,并目視觀察光源的光是否泄漏。作為光源,能夠使用看版臺(tái)、熒光燈、手電筒、便攜電話的攝影燈等。(實(shí)施例)實(shí)施例1對(duì)于成為支持體層的透明PET膜(Toray,lumirrorS10,厚度50pm)兩面,在一個(gè)面上利用黑色凹版油墨(大日精化社制NB-300)的凹版印刷(東芝機(jī)械抹式會(huì)社制)形成2^m的記錄層,在另一面利用白色凹版油墨(大日精化社制NB-300)的凹版印刷形成2pm的基底層,并且在基底層側(cè)利用市售的銀色絲網(wǎng)油墨的絲網(wǎng)印刷(NEWLONG精密工業(yè)抹式會(huì)社制)形成10pm的遮光層后,進(jìn)一步在遮光層側(cè)粘貼粘接劑(丙烯系,厚度為50pm)/隔離物(PET,厚度為75pm)(日東電工制,兩面/TLA-50)作為粘接劑層以及剝離襯墊,制作激光標(biāo)刻標(biāo)記。對(duì)于該激光標(biāo)刻標(biāo)記,利用基恩士(KEYENCE)公司的激光標(biāo)刻機(jī)MD-V9610在10J/cn^的激光照射條件下,打印出單元尺寸為120pm的二維碼。并且,對(duì)于遮光性來說,在光源(描圖臺(tái)(ARTYPRO),IC林式會(huì)社制)之前放置打印后的激光標(biāo)刻標(biāo)記,以目視確認(rèn)泄漏光還是未泄漏光。實(shí)施例2對(duì)于成為支持體兼基底層的白色PET膜(Tomy,lumirrorE20,厚度為38|iim)的兩面,在一個(gè)面上利用黑色凹版油墨(東洋油墨制,F(xiàn)inestar)的凹版印刷,形成2nm的記錄層,在另一面上利用鋁蒸鍍(使用抹式會(huì)社ULVAC制的巻繞式真空蒸鍍裝置)形成遮光層(厚度為50nm),除此以外與實(shí)施例1相同地實(shí)施。實(shí)施例3對(duì)于成為支持體層的透明PET膜(Toray,lumirrorS10,厚度為50pm)的兩面,在一個(gè)面上利用白色凹版油墨(大日賴-化社制NB-300)的凹版印刷形成2pm的記錄層,在另一面上利用黑色凹版油墨(大日精化社制NB-300)的凹版印刷,形成2pm的基底層,并且在基底層側(cè)利用鋁蒸鍍形成遮光層(厚度為50nm),除此以外與實(shí)施例1同樣地實(shí)施。實(shí)施例4對(duì)于成為支持體兼基底層的黑色PET膜(Toray,lumirrorX30,厚度38(iim)的兩面,在一個(gè)面利用白色凹版油墨(東洋油墨制,F(xiàn)inestar)的凹版印刷,形成3pm的記錄層,在另一面上利用鋁蒸鍍形成遮光層(厚度為50nm),除此以外與實(shí)施例1同樣地實(shí)施。實(shí)施例5對(duì)于成為支持體層的透明PET膜(Tomy,lumirrorS10,厚度75pm)的兩面,在一個(gè)面利用黑色凹版油墨(大日精化社制NB-300)的凹版印刷,形成5nm的記錄層,在另一面利用市售的銀色絲網(wǎng)油墨的絲網(wǎng)印刷(使用NEWLONG精密工業(yè)抹式會(huì)社制),形成15pm的基底兼遮光層,除此以外與實(shí)施例1同樣地實(shí)施。比4交例1除了不形成遮光層以外,與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行實(shí)施。比專支例2除了不形成遮光層以外,與實(shí)施例2同樣地進(jìn)行實(shí)施。比專支例3除了不形成遮光層以外,與實(shí)施例4同樣地進(jìn)行實(shí)施。在表l中示出實(shí)施例1~5以及比較例1~3中得到的遮光性的評(píng)價(jià)。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>評(píng)價(jià)基準(zhǔn)〇以目視不能看到光透過。x:以目視能看到光透過。根據(jù)表l,實(shí)施例1~5顯示了良好的遮光性。另外,同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)黑底白線條顯示、充分的耐久性以及充分的分辨率。符號(hào)說明l是畫線部,2是記錄層,3是支持體層,4是基底層,5是遮光層,6是粘接劑層,7是剝離襯墊(liner),8是支持體兼基底層,IO是激光標(biāo)刻標(biāo)記。權(quán)利要求1.一種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地破壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體層、基底層、遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間接地層疊而成。2.—種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地石皮壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體兼基底層、遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間"t妾:地層疊而成。3.—種激光標(biāo)刻標(biāo)記,通過利用激光有選擇地破壞記錄層、使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體層、基底兼遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間4妻;也層疊而成。4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的激光標(biāo)刻標(biāo)記,其中,相對(duì)于記錄層的支持體層或支持體兼基底層的厚度在5倍以上。5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的激光標(biāo)刻標(biāo)記,其中,遮光層或基底兼遮光層是鋁蒸鍍層或銀色油墨涂敷層。全文摘要本發(fā)明提供一種激光標(biāo)刻標(biāo)記,利用激光有選擇地破壞記錄層,使下層露出,從而形成圖案,其特征在于至少將記錄層、支持體層、基底層、遮光層、以及粘接劑層,依次直接或間接地層疊而成。從而提供對(duì)于設(shè)計(jì)性或防止光學(xué)傳感器誤操作方面,能夠遮擋制品的圖案或開口部且可兼有顯示功能的,即在畫線部、非畫線部都有良好的遮光性的激光標(biāo)刻標(biāo)記。文檔編號(hào)B32B5/00GK101357553SQ200810129470公開日2009年2月4日申請(qǐng)日期2008年7月31日優(yōu)先權(quán)日2007年8月1日發(fā)明者中平理惠,井元崇,天野恒行申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社
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