專利名稱：：阻隔膜及元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有可適用于電子設(shè)備材料、光學(xué)材料等用途的優(yōu)異氣體阻隔性能的氣體阻隔性層疊膜(本申請中僅稱作阻隔膜)及其制造方法。
背景技術(shù)：
：以往，在塑料薄膜表面上形成有氧化鋁、氧化鎂、氧化硅等金屬氧化物薄膜的阻隔性薄膜被廣泛用于需要阻斷水蒸氣或氧等各種氣體的物品的包裝，或者用于防止食品、工業(yè)用品和藥品等的變質(zhì)的包裝用途中。近年來，在液晶顯示元件或有機(jī)EL元件等領(lǐng)域中，開始采用塑料薄膜基板來代替沉重、易于破碎的玻璃基板。塑料薄膜基板可以適用于輥對輥(rolltoroll)方式，因此在成本方面有利。但是，塑料薄膜基板與玻璃基板相比，具有水蒸汽阻隔性差的問題。因此，在液晶顯示元件中使用塑料薄膜基板吋，水蒸汽侵入液晶單元內(nèi)，發(fā)生顯示缺陷。為了解決該問題，已知有使用在塑料薄膜上形成了有機(jī)無機(jī)層疊型的水蒸汽阻隔層的阻隔膜作為基板。例如日本特開2003-53881號公報中公開了在塑料薄膜上層疊有0.01lpm厚度的有機(jī)層和無機(jī)層的阻隔膜。日本特開2003-53881號公報中列舉了丙烯酸酯的聚合物作為有機(jī)層的材料，記載了有機(jī)層在真空內(nèi)成膜。另外，日本特開2003-53881號公報記載了即便阻隔膜彎曲，阻隔性能也不會劣化。日本特開2005-313560號公報中公開了在撓性基材上層疊有0.110pm厚度的有機(jī)層和20~100nm厚度的無機(jī)層的阻隔膜。日本特開2005-313560號公報中列舉了丙烯酸酯的聚合物作為有機(jī)層的材料，記載了用SiO、SiN、SiON來構(gòu)成無機(jī)層。日本特開2005-279974號公報中公開了在塑料薄膜上層疊了有機(jī)層和無機(jī)層的阻隔膜。日本特開2005-279974號公報中記載了使無機(jī)層表面和有機(jī)層表面的Ra為0.7nm以下，并在有機(jī)層中使用丙烯酸酯的聚合物。另外，日本特開2005-279974號公報中記載了阻隔膜具有耐彎曲性。但是，日本特開2003-53881號公報所記載的阻隔膜如果不在真空內(nèi)形成有機(jī)層，則具有不僅無法達(dá)成0.1g/m2，day以下的高度阻隔性、而且彎曲至曲率半徑為15mm以下時無法維持阻隔性的問題。另夕卜，日本特開2005-313560號公報所記載的阻隔膜的水蒸汽透過度為0.09g/n^day以上，具有阻隔性不充分的問題。另外，日本特開2005-279974號公報所記載的阻隔膜具有無法達(dá)成0.01g/mMay以下的高度阻隔性或充分耐彎曲性的問題。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明人等為了解決這些現(xiàn)有技術(shù)的問題，將本發(fā)明的目的設(shè)定為提供一種即便彎曲也可以維持較高的水蒸汽阻隔性的阻隔膜。本發(fā)明人等進(jìn)行深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過在含有使聚氨酯丙烯酸酯聚合而成的樹脂的有機(jī)層和塑料薄膜之間設(shè)置易粘接層、并將有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)的粗糙度算術(shù)平均偏差值(日文原文為中心線平均粗S)抑制得較低，從而可以解決現(xiàn)有技術(shù)的問題。即，作為解決問題的方法，提供了以下的本發(fā)明。(1)阻隔膜，其具有在塑料薄膜的單面或兩面上依次層疊有易粘接層、有機(jī)層和無機(jī)層的結(jié)構(gòu)，所述有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下，且有機(jī)層含有以在同一分子內(nèi)具有至少2個丙烯酰基和至少2個氨基甲酸酯基的丙烯酸系單體為聚合成分并使其固化而得到的樹脂。(2)上述(1)所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層含有聚酯樹脂作為粘合劑。(3)上述(1)所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層由接觸于支撐體的第一層和形成于其上的第二層構(gòu)成。(4)上述(1)所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層由接觸于支撐體的第一層和形成于其上的第二層構(gòu)成，所述第一層含有聚酯樹脂作為粘合劑，所述第二層含有丙烯酸樹脂或聚氨酯樹脂作為粘合劑。(5)上述(1)所述的阻隔膜，其中，所述易粘接層含有碳化二亞胺化合物。(6)上述(1)所述的阻隔膜，其特征在于，將所述阻隔膜彎曲至曲率半徑為5mm后的水蒸汽透過度為0.01g/m2'day以下。(7)上述(1)所述的阻隔膜，其中，所述丙烯酸系單體具有下述通式(1)所示的結(jié)構(gòu)。通式(1)L1■(NH(jJ-〇-L2~(O-Acr)n)2〇(通式(1)中，Acr表示丙烯?；蚣谆；?、n表示l5的整數(shù)、L'表示2價的連接基團(tuán)、！^表示(n+)價的連接基團(tuán)。)(8)上述(1)所述的阻隔膜，其中，所述丙烯酸系單體具有下述通式(1)所示的結(jié)構(gòu)，且該通式(1)中的L'和I^為選自下述基團(tuán)中的任一個。通式(1)IIn2〇(通式(1)中，Acr表示丙烯酰基或甲基丙烯?；?、n表示l5的整數(shù)、L'表示2價的連接基團(tuán)、L^表示(n+l)價的連接基團(tuán)。)H3C、H3CCH2CH3一CH2CH3<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(9)上述(1)所述的阻隔膜，其中，作為所述有機(jī)層的聚合成分，還含有單官能單體。(10)上述(1)所述的阻隔膜，其中，所述有機(jī)層的厚度為50謹(jǐn)5000nm。(11)上述(l)所述的阻隔膜，其中，所述無機(jī)層的厚度為10~300nm。(12)使用了上述(1)~(11)任一項所述的阻隔膜的元件。(13)使用了上述(1)~(11)任一項所述的阻隔膜的有機(jī)EL元件。本發(fā)明的阻隔膜即便彎曲也可以維持較高的水蒸汽阻隔性。另外，本發(fā)明的元件的持久性高。圖1表示CIGS系薄膜太陽電池單元的一般設(shè)備的截面圖。具體實施例方式以下詳細(xì)地說明本發(fā)明的阻隔膜和有機(jī)EL元件。以下所記載的構(gòu)成要件的說明有時是依據(jù)本發(fā)明的代表實施方式，但本發(fā)明并非局限于該實施方式。另外，本說明書中使用""表示的數(shù)值范圍是指將""前后所記載的樹脂作為下限值和上限值而包括在內(nèi)的范圍。<阻隔膜及其制造方法>(特征)本發(fā)明的阻隔膜具有在塑料薄膜的單面或兩面上依次層疊有易粘接層、有機(jī)層和無機(jī)層的結(jié)構(gòu)，所述有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下，且有機(jī)層含有以在同一分子內(nèi)具有至少2個丙烯?；椭辽?個氮基甲酸酯基的丙烯酸系單體作為聚合成分并使其固化而得到的樹脂。'(塑料薄膜)本發(fā)明中的阻隔膜通常使用塑料薄膜作為支撐體。所用的塑料薄膜只要是可以保持易粘接層、有機(jī)層、無機(jī)層等的層疊體，對其材質(zhì)、厚度等就沒有特別限制，可以根據(jù)使用目的等適當(dāng)選擇。作為上述塑料薄膜，具體地可以舉出聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸-馬來酸共聚物、聚苯乙烯樹脂、透明氟樹脂、聚酰亞胺樹脂、氟化聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰胺酰亞胺樹脂、聚醚酰亞胺樹脂、酰化纖維素樹脂、聚氨酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碳酸酯樹脂、脂環(huán)式聚烯烴樹脂、聚芳酯樹脂、聚醚砜樹脂、聚砜樹脂、環(huán)烯烴共聚物、芴環(huán)改性聚碳酸酯樹脂、脂環(huán)改性聚碳酸酯樹脂、芴環(huán)改性聚酯樹脂、丙烯酰基化合物等熱塑性樹脂。將本發(fā)明的阻隔膜作為后述的有機(jī)EL元件等元件的基板使用時、優(yōu)選塑料薄膜由具有耐熱性的材料形成。具體來說，優(yōu)選由玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)為100以上及/或線熱膨脹系數(shù)為40ppm以下、耐熱性高的透明材料形成。Tg或線膨脹系數(shù)可以通過添加劑等來調(diào)節(jié)。作為這樣的熱塑性樹脂，可舉出例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PEN:120°C)、聚碳酸酯(PC:140°C)、脂環(huán)式聚烯烴(例如日本ZEON株式會社制ZEONOR1600:160°C)、聚丙烯酸酯(PAr:210°C)、聚醚砜(PES:220°C)、聚砜(PSF:190°C)、環(huán)烯烴共聚物(COC:特開2001-150584號公報的化合物162°C)、聚酰亞胺(例如三菱氣體化學(xué)株式會社氺才7。ii厶260°C)、芴環(huán)改性聚碳酸酯(BCF-PC:特開2000-227603號公報的化合物225°C)、脂環(huán)改性聚碳酸酯(IP-PC:特開2000-227603號公報的化合物205°C)、丙烯?；衔?特開2002-80616號公報的化合物30(TC以上)(括號內(nèi)表示Tg)。在要求透明性的情況下，優(yōu)選使用脂環(huán)式聚烯烴等。本發(fā)明的阻隔膜與偏振片組合使用時，優(yōu)選使阻隔膜的阻隔層面(形成了含有至少一層的無機(jī)層和至少一層的有機(jī)層的層疊體的面)面向單元的內(nèi)偵IJ，并在最內(nèi)側(cè)(與元件鄰接)配置。此時為了在比偏振片更靠單元的內(nèi)側(cè)配置阻隔膜，阻隔膜的延遲值變得重要。在這種形式下的阻隔膜的使用形式優(yōu)選為將使用了延遲值在10nm以下的支持體的阻隔膜和圓偏振片(1/4波長板+(1/2波長板)+直線偏振片)進(jìn)行層疊后來使用，或者將可用作1/4波長板、使用了延遲值100nm180nm的支持體的阻隔膜與直線偏振片組合使用。作為延遲為10nm以下的支撐體，可以列舉出纖維素三醋酸酯(富士膠片株式會社Fujitac)、聚碳酸酯(帝人化成株式會社匕。二7工一7、株式會社Kaneka:工》乂y夕)、環(huán)烯烴共聚物(JSR株式會社Arton、曰本ZEON株式會社ZEONOR)、環(huán)烯烴共聚物(三井化學(xué)株式會社7《^(顆粒)、Polyplastics株式會社:卜/"(顆粒))、聚芳酯(Unitika株式會社U100(顆粒))、透明聚酰亞胺(三菱氣體化學(xué)株式會社才、才y];厶)等。另外，作為1/4波長板，可以使用通過適當(dāng)拉伸上述薄膜而調(diào)節(jié)至所需的延遲值的薄膜。本發(fā)明的阻隔可以作為有機(jī)EL元件等的元件來利用，因此塑料薄膜是透明的，也就是說，光線透射率通常在80%以上，優(yōu)選在85%以上，更優(yōu)選在90%以上。通過JIS-K7105中記載的方法來計算光線透射率，即用積分球式光線透射率測定裝置來測定總光線透射率和散射光量，從總光線透射率減去擴(kuò)散透射率，從而可以算出光線透射率。即使將本發(fā)明的阻隔膜用于顯示器用途的情況下，不設(shè)置在觀察側(cè)的情況等也未必要求透明性，因此，在這種情況下，也可以使用不透明的材料作為塑料薄膜。作為不透明的材料，可以舉出例如聚酰亞胺、聚丙烯腈、公知的液晶聚合物等。本發(fā)明的阻隔膜中所用的塑料薄膜的厚度可以根據(jù)用途適當(dāng)選擇，沒有特別的限制，但典型的為1800nm，優(yōu)選為10200pm。這些塑料薄膜也可以具有透明導(dǎo)電層、底漆層等功能層。關(guān)于功能層，在特開2006-289627號公報的段落號00360038中有詳細(xì)記載。作為除此以外的功能層的例子，可以舉出消光劑層、保護(hù)層、防靜電層、平滑化層、粘附改良層、遮光層、防反射層、硬涂層、應(yīng)力緩和層、防霧層、防污層、被印刷層等。(易粘接層)本發(fā)明中易粘接層可以是單層構(gòu)成，也可以是2層構(gòu)成。即便是單層構(gòu)成，粘附性也可以充分地達(dá)成，但通過制成2層結(jié)構(gòu)，可以達(dá)成更為牢固的粘附性，且耐彎曲性提高。(1)單層易粘接層本發(fā)明的易粘接層為單層時，是直接層疊于塑料薄膜上的層。該層必須含有粘合劑，更優(yōu)選含有在2層構(gòu)成的易粘接層時所說明的碳化二亞胺系交聯(lián)劑。該層還可以根據(jù)需要含有消光劑、表面活性劑、防靜電劑、用于控制折射率的微粒等。本發(fā)明的單層易粘接層的粘合劑并無特別限定，可以使用丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、橡膠系樹脂等。丙烯酸樹脂是以丙烯酸、甲基丙烯酸及它們的衍生物為成分的聚合物。具體地例如是以丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酰胺、丙烯腈、羥基丙烯酸酯等為主成分、將能夠與它們共聚的單體(例如苯乙烯、二乙烯基苯等)進(jìn)行共聚而得到的聚合物。聚氨酯樹脂是指主鏈上具有尿烷鍵的聚合物的總稱，通常通過聚異氰酸酯與多元醇的反應(yīng)而獲得。聚異氰酸酯有TDI、MDI、NDI、TODI、HDI、IPDI等，多元醇有乙二醇、丙二醇、甘油、己三醇等。而且，本發(fā)明中還可以使用對通過聚異氰酸酯與多元醇的反應(yīng)而獲得的聚氨酯聚合物進(jìn)行鏈延長處理、從而使分子量增大的聚合物。以上所述的聚異氰酸酯、多元醇和鏈延長處理例如記載于《聚氨酯樹脂手冊》(磐田經(jīng)時編、日刊工業(yè)新聞社、昭和62年發(fā)行)中。聚酯樹脂是指主鏈上具有酯鍵的聚合物的總稱，通常通過聚羧酸與多元醇的反應(yīng)而獲得。聚羧酸例如有富馬酸、衣康酸、己二酸、癸二酸、對苯二甲酸、間苯二甲酸等，多元醇例如有上述多元醇。聚酯樹脂及其原料例如記載于《聚酯樹脂手冊》(滝山榮一郎著、日刊工業(yè)新聞社、昭和63年發(fā)行)中。本發(fā)明的橡膠系樹脂是指合成橡膠中的二烯系合成橡膠。具體例子有聚丁二烯、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯-二乙烯基苯共聚物、丁二烯-丙烯腈共聚物、聚氯丙烯等。本發(fā)明的橡膠系樹脂例如記載于《合成橡膠手冊》(神原周等編、朝倉書店、昭和42年發(fā)行)中。從與聚酯支撐體的粘接性的方面出發(fā)，特別優(yōu)選使用聚酯樹脂作為本發(fā)明的單層易粘接層的粘合劑。作為本發(fā)明單層易粘接層的粘合劑使用的聚合物特別優(yōu)選的是上述聚合物中分子內(nèi)具有羧基的聚合物。使用本發(fā)明的單層易粘接層的粘合劑時，可以將上述聚合物溶解于有機(jī)溶劑中后使用，也可以使用水分散物。但是，由于環(huán)境負(fù)擔(dān)小，因此優(yōu)選使用水分散物來進(jìn)行水系涂覆。水分散物可以使用下述市售聚合物。Superflex830、460、870、420、420NS(第一工業(yè)制藥株式會社制聚氨酯)、求乂X一、乂夕1370NS、1320NS、HydranAPX陽101H、AP40(F)(大曰本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制聚氨酯)、JURYMERE丁325、ET410、SEK301(日本純藥株式會社制丙烯酸)、求乂〕一卜AN117、AN226(大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制丙烯酸)、，、乂夕7夕一DS616、DS807(大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制苯乙烯-丁二烯橡膠)、Nipo1LX110、LX206、LX426、LX433(日本ZEON株式會社制苯乙烯-丁二烯橡膠)、NipolLX513、LX1551、LX550、LX1571(日本ZEON株式會社制丙烯腈-丁二烯橡膠)、77,乂亍、乂夕7Es650、Es2200(大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制聚酯)、VylonalMD1400、MD1480(東洋紡株式會社制聚酯)。作為本發(fā)明單層易粘接層的粘合劑使用的聚合物可以單獨使用1禾中，還可以根據(jù)需要混合2種以上使用。作為本發(fā)明單層易粘接層的粘合劑使用的聚合物的分子量并無特別限定，通常優(yōu)選重均分子量為3000~1000000左右。當(dāng)使用重均分子量為3000以上的聚合物時，有易于充分獲得涂覆層的強(qiáng)度的傾向；使用重均分子量為1000000以下的聚合物時，有易于獲得良好的涂覆面狀的傾向。本發(fā)明的單層易粘接層中優(yōu)選添加后述的碳化二亞胺系交聯(lián)劑。碳化二亞胺交聯(lián)劑在相對于單層易粘接層的粘合劑優(yōu)選為1100質(zhì)量％、更優(yōu)選為550質(zhì)量％的范圍內(nèi)添加。添加量為1質(zhì)量％以上時，有易于充分防止微粒剝落的傾向；為100質(zhì)量°/。以下時，有易于獲得良好的涂覆面狀的傾向。作為可以在本發(fā)明的單層易粘接層中使用的消光劑，可以是有機(jī)或無機(jī)微粒的任一種。例如可以使用聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、有機(jī)硅樹脂、苯并胍胺樹脂等聚合物微粒、二氧化硅、碳酸鈣、氧化鎂、碳酸鎂等無機(jī)微粒。其中，從潤滑性改良效果、成本的觀點出發(fā)，優(yōu)選聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅。本發(fā)明所用消光劑的平均粒徑優(yōu)選為0.312pm、更優(yōu)選為0,59pm的范圍。使用平均粒徑為0.3pm以上者時，有易于獲得充分的潤滑性改良效果的傾向；使用12pm以下者時，有易于獲得顯示品位優(yōu)異的顯示裝置的傾向。本發(fā)明的消光劑的添加量根據(jù)平均粒徑的不同而不同，優(yōu)選為0.1~30mg/m2、更優(yōu)選為0.5~20mg/m2的范圍。添加量為0.1mg/m2以上時，有易于獲得充分的潤滑性改良效果的傾向，為30mg/n^以下時，有易于獲得顯示品位優(yōu)異的顯示裝置的傾向。作為本發(fā)明的單層易粘接層中可以使用的表面活性劑，可以舉出公知的陰離子系、非離子系、陽離子系的表面活性劑。表面活性劑例如記載于《表面活性劑便覽》(西一郎、今井怡知郎、笠井正威編、產(chǎn)業(yè)圖書株式會社、1960年發(fā)行)中。表面活性劑的添加量優(yōu)選為0.1~30mg/m2、更優(yōu)選為0.2~10mg/m2的范圍。添加量為0.1mg/m2以上時，有易于抑制涂膜凹陷發(fā)生的傾向；為30mg/ir^以下時，有易于獲得良好面狀的傾向。本發(fā)明的單層易粘接層中有必要控制折射率時，根據(jù)需要可以添加用于控制折射率的微粒，例如添加以二氧化錫、氧化鋯、氧化鈦等為主成分的微粒。另外，還可以添加日本特開2005-97571號公報記載的鈦螯合物等。氧化錫優(yōu)選為具有Sn02組成的氧化錫(IV)。特別優(yōu)選摻雜有銻等的氧化錫，其原因在于其具有導(dǎo)電性、可以降低層疊薄膜的表面電阻率、且可以防止廢料的附著。這種氧化錫微粒也可以使用FS-10D、SN-38F、SN-100F、TDL-S、TDL-1(均為石原產(chǎn)業(yè)株式會社制銻掾雜氧化錫微粒)等市售的微粒。氧化鋯可以使用具有Zr02的組成、例如NZS-20A、NZS-30A(均為日產(chǎn)化學(xué)株式會社制)等。13氧化鈦優(yōu)選為具有TI02組成的氧化鈦(IV)。氧化鈦可以是金紅石型，也可以是銳鈦礦型的任一種。另外還可以經(jīng)過表面處理。氧化鈦例如可以使用出光二氧化鈦IT-S、IT-O、IT-W(均為出光興產(chǎn)株式會社制)等。作為本發(fā)明的單層易粘接層中可以使用的防靜電劑，可以舉出聚苯胺、聚吡咯等電子傳遞系聚合物，分子鏈中具有羧基或磺酸基的離子傳遞系聚合物、導(dǎo)電性微粒等。其中，從導(dǎo)電性和透明性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選上述銻摻雜氧化錫微粒。防靜電劑的添加量優(yōu)選按照25°C、相對濕度30%的氣氛下測定的表面電阻率達(dá)到lxl()Slxl(^左右的方式來添加。表面電阻率為lxl()S以上時，有易于避免防靜電劑的添加量增大所導(dǎo)致的層疊薄膜的透明性降低的傾向；為"1013以下時，有難以發(fā)生廢料附著等不良情況的傾向。本發(fā)明的單層易粘接層的厚度優(yōu)選為10500nm、更優(yōu)選為30~150nm的范圍。膜厚為10nm以上時，有易于充分獲得與聚酯支撐體的粘接性的傾向；為500nm以下時，有易于獲得良好面狀的傾向。涂覆設(shè)置本發(fā)明的單層易粘接層的方法并無特別限定，可以使用棒涂機(jī)涂布、滑動涂布機(jī)涂布等公知的方法。涂覆溶劑也可以使用水、甲苯、甲醇、異丙醇、丁酮等及它們的混合體系等的水系、有機(jī)溶劑系的涂覆溶劑。其中，使用水作為涂覆溶劑的方法在考慮到成本、制造的簡便性吋是優(yōu)選的。(2)2層構(gòu)成易粘接層接著說明本發(fā)明的2層構(gòu)成易粘接層。接近于2層構(gòu)成的支撐體的層(第一層)與上述單層易粘接層相同。本發(fā)明的第二層為相比較于第一層涂設(shè)于更遠(yuǎn)離聚酯支撐體的位置上的層。該層除了粘合劑和交聯(lián)劑之外，還可以根據(jù)需要含有消光劑、潤滑劑、表面活性劑、防靜電劑、用于控制折射率的微粒等。本發(fā)明的第二層的粘合劑可以使用丙烯酸樹脂或聚氨酯樹脂。作為粘合劑使用的聚合物特別優(yōu)選分子內(nèi)具有羧基。丙烯酸樹脂或聚氨酯樹脂可以使用在單層易粘接層中說明的樹脂。使用本發(fā)明的第二層的粘合劑時，可以將上述聚合物溶解于有機(jī)溶劑中后使用，也可以使用水分散物。但是，由于環(huán)境負(fù)擔(dān)小，因此優(yōu)選使用水分散物來進(jìn)行水系涂覆。水分散物可以使用上述的市售聚合物。作為本發(fā)明第二層的粘合劑使用的聚合物可以單獨使用1種，也可以根據(jù)需要混合2種以上使用。作為粘合劑使用的聚合物的分子量并無特別限定，通常優(yōu)選重均分子量為3000~1000000左右。使用重均分子量為3000以上者時，有易于獲得涂覆層的強(qiáng)度的傾向；使用1000000以下者時，有易于獲得良好的涂覆面狀的傾向。可以添加于本發(fā)明第二層中的交聯(lián)劑并無特別限定，優(yōu)選為碳化二亞胺系或環(huán)氧系的交聯(lián)劑。本發(fā)明中使用的"碳化二亞胺系交聯(lián)劑(以下有時表示為碳化二亞胺化合物。)"只要是分子內(nèi)具有碳化二亞胺基的化合物，則可以沒有特別限定地使用。碳化二亞胺化合物通常通過有機(jī)二異氰酸酯的稠合反應(yīng)來合成。這里，分子內(nèi)用于碳化二亞胺化合物合成的有機(jī)二異氰酸酯的有機(jī)基團(tuán)并無特別限定，也可以使用芳香族系、脂肪族系的任一種，或者它們的混合系，但從反應(yīng)性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選脂肪族系。另夕卜，本發(fā)明中可以使用的碳化二亞胺系交聯(lián)劑例如也可以以CarbodiliteV-02-L2(商品名，日清紡公司制)等市售品的形式獲得。本發(fā)明中使用的"環(huán)氧系交聯(lián)劑"只要是分子內(nèi)具有2個以上環(huán)氧基的化合物，則可以沒有特別限定地使用。環(huán)氧系交聯(lián)劑的例子有fV十〕—乂kEX614B、EX521、EX512、EX301、EX313、EX314、EX810、EX81]等本發(fā)明的交聯(lián)劑在相對于粘合劑優(yōu)選為1100質(zhì)量％、更優(yōu)選在550質(zhì)量％的范圍內(nèi)添加。添加量為1質(zhì)量°/。以上時，有易于充分獲得與上層的粘接性的傾向；為100質(zhì)量％以下時，有易于獲得良好涂覆面狀的傾向。本發(fā)明的第二層中可以使用的消光劑、表面活性劑、防靜電劑、用于控制折射率的微粒的種類或它們的添加量與上述單層易粘接層相同。本發(fā)明的第二層的厚度并無特別限定，優(yōu)選為105000nm、更優(yōu)選為201500rnn的范圍。膜厚為lOnm以上時，有易于充分獲得與上層的粘接性的傾向，為5000nm以下時，有易于獲得良好面狀的傾向。涂覆設(shè)置本發(fā)明的第二層的方法也并無特別限定，可以使用棒涂機(jī)涂布、滑動涂布機(jī)涂布等公知的方法。本發(fā)明的第二層可以通過與單層易粘接層相同的方法涂覆、也可以用不同的方法涂覆。本發(fā)明的第二層可以與單層易粘接層同時地涂覆并干燥，還可以在涂覆單層易粘接層并干燥之后進(jìn)行涂覆。用于涂覆本發(fā)明的第二層的涂覆溶劑也可以使用水、甲苯、甲醇、異丙醇、丁酮等及它們的混合系等水系、有機(jī)溶劑系的涂覆溶劑。涂覆溶劑可以與第一層相同，也可以不同。本發(fā)明的第二層的涂覆溶劑從成本、制造簡便性的方面出發(fā)，也優(yōu)選使用水的方法。(有機(jī)層)有機(jī)層含有以在同一分子內(nèi)具有至少2個(甲基)丙烯?；椭辽?個氨基甲酸酯基的丙烯酸系單體(以下稱為本發(fā)明的丙烯酸系單體)為聚合成分并使其固化而得到的樹脂。本發(fā)明的丙烯酸系單體例如可以舉出具有下述通式(1)所示結(jié)構(gòu)的單體。通式(1)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>通式(1)中，Acr表示丙烯?；蚣谆；?、n表示l5的整數(shù)、匸表示2價的連接基團(tuán)、1^2表示(n+l)價的連接基團(tuán)。L1的例子可以舉出鏈狀的亞烷基、脂環(huán)式亞垸基、亞芳基、亞芳垸基。以下舉出L1的具體例子，但本發(fā)明中可以采用的L1并非局限于這些例子。L2的例子可以舉出鏈狀亞垸基或從上述鏈狀亞烷基除去14個任意氫原子而得到的36價基團(tuán)、亞芳烷基。以下舉出l7的具體例子，但本發(fā)明中可以采用的I^并非局限于這些例子。另外，通式(1)中的兩個1^可以相同也可以不同。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>通式(1)所示的丙烯酸系單體中，優(yōu)選2官能6官能的丙烯酸系單體,以下舉出本發(fā)明中可以使用的丙烯酸系單體的具體例子，但本發(fā)明中可以使用的丙烯酸系單體并非局限于這些例子。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>本發(fā)明的丙烯酸系單體優(yōu)選分子量為100~5000、更優(yōu)選為2002000、進(jìn)一步優(yōu)選為3001000。本發(fā)明的丙烯酸系單體可以僅單獨使用1種，還可以組合2種以上使用。本發(fā)明的阻隔膜的有機(jī)層中可以使用僅聚合本發(fā)明的丙烯酸系單體而得到的樹脂，但優(yōu)選使用將本發(fā)明的丙烯酸系單體和除其以外的單體進(jìn)行共聚而得到的樹脂。作為可以與本發(fā)明的丙烯酸系單體共聚的單體，可以舉出本發(fā)明的丙烯酸系單體以外的丙烯酸系單體、苯乙烯系單體、乙烯酯系單體、丙烯酰胺系單體、馬來酸系單體。優(yōu)選單官能單體、更優(yōu)選單官能的丙烯酸酯單體或單官能的甲基丙烯酸酯單體。單官能的丙烯酸酯單體或單官能的甲基丙烯酸酯單體的分子量并無特別限定，通常使用150~600的單體。共聚的單體可以僅單獨使用1種，也可以組合2種以上使用。以下舉出單官能單體的優(yōu)選具體例子，但本發(fā)明中可以使用的單官能單體并非局限于此。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>本發(fā)明的丙烯酸系單體與本發(fā)明以外的單體的摩爾比并無特別限定。優(yōu)選使相對于本發(fā)明的丙烯酸系單體i摩爾為o20摩爾的除其以外的單體共聚、更優(yōu)選共聚010摩爾、進(jìn)一步優(yōu)選共聚05摩爾。本發(fā)明的丙烯酸系單體或含有本發(fā)明以外的單體的單體混合物中，為了改善粘附性，也可以含有磷酸系的(甲基)丙烯酸酯單體或具有硅烷偶聯(lián)基的(甲基)丙烯酸酯單體。以下舉出磷酸系單體或含硅烷偶聯(lián)基的單體的優(yōu)選具體例，但本發(fā)明中可以使用的并非局限于這些。有機(jī)層的形成方法可以舉出通常的溶液涂覆法或真空制膜法等。溶液涂覆法例如可以通過浸涂法、氣刀涂覆法、簾式淋涂法、輥涂法、繞線棒涂覆法、凹版涂覆法、滑動涂覆法、或美國專利第2681294號說明書中記載的使用料斗的擠壓涂覆法來進(jìn)行涂覆。真空制膜法并無特別限定，優(yōu)選美國專利4842893號、4954371號、5032461號各說明書所記載的閃蒸蒸鍍法。單體聚合法并無特別限定，優(yōu)選使用加熱聚合、光(紫外線、可見光線)聚合、電子束聚合、等離子體聚合或它們的組合。其中，特別優(yōu)選光聚合。進(jìn)行光聚合時，并用光聚合引發(fā)劑。光聚合引發(fā)劑的例子可以舉出由CibaSpecialtyChemicals公司出售白勺Irgacure系歹iJ(例如Irgacure651、Irgacure754、Irgacure184、Irgacure2959、Irgacure907、Irgacure369、Irgacure379、Irgacure819等)、Darocure系列(例如DarocureTPO、Darocure1173等)、QuantacurePDO、由Sartomer公司出售的Ezacure系歹U(例如Ezacui'eTZM、EzacureTZT等)等。照射的光通常為利用高壓水銀燈或低壓水銀燈照射的紫外線。照射能量優(yōu)選為0.5J/cmS以上、更優(yōu)選為2J/cn^以上。丙烯酸酯、甲基T，烯酸酯由于因空氣中的氧而受到聚合阻礙，因此優(yōu)選降低聚合時的氧濃度i氧分壓。通過氮置換法來降低聚合時的氧濃度時，氧濃度優(yōu)選為2%以下、更優(yōu)選為0.5%以下。利用減壓法來降低聚合時的氧分壓時，優(yōu)選總壓為1000Pa以下、更優(yōu)選為100Pa以下。另夕卜，特別優(yōu)選在100Pa以下的減壓條件下照射2J/cm2以上的能量來進(jìn)行紫外線聚合。單體的聚合優(yōu)選在通過涂覆單體混合物等而配置在塑料薄膜上之后進(jìn)行。有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5mn以下。優(yōu)選為0.4nm以下、更優(yōu)選為0.3nm以下。有機(jī)層的膜厚并無特別限定，過薄時則難以獲得膜厚的均勻性；過厚時由于外力而發(fā)生裂縫、阻隔性易于降低。從此觀點出發(fā)，有機(jī)層的厚度優(yōu)選為505000nm、更優(yōu)選為2002000nm。本發(fā)明的阻隔膜由于具有在易粘接層上層疊了含有以具有氨基甲酸酯基的丙烯酸系單體為聚合成分并使其固化而得到的樹脂的有機(jī)層的結(jié)構(gòu)，因此粘附性有所改善，即便彎曲也難以剝離。因此，本發(fā)明的阻隔膜的水蒸汽阻隔性高、即便彎曲也可以維持其較高的阻隔性。(無機(jī)層)無機(jī)層通常是由金屬化合物構(gòu)成的薄膜的層。無機(jī)層的形成方法只要是可以形成目標(biāo)薄膜的方法，則可以使用任何方法。例如有蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等物理氣相生長法(PVD)、各種化學(xué)氣相生長法(CVD)、鍍覆或溶膠-凝膠法等液相生長法。其中，從可以避免無機(jī)層形成時熱量對塑料薄膜的影響、生產(chǎn)速度快、易于獲得均一薄膜層的方面出發(fā)，優(yōu)選使用物理氣相生長法(PVD)或化學(xué)氣相生長法(CVD)。無機(jī)層所含的成分只要是能夠滿足上述性能則無特別限定，例如可以使用含有選自Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce或Ta等中的l種以上金屬的氧化物、氮化物或氧氮化物等。其中，優(yōu)選選自Si、Al、In、Sn、Zn、Ti中的金屬的氧化物、氮化物或氧氮化物，特別優(yōu)選Si或Al的金屬氧化物、氮化物或氧氮化物。這些成分也可以含有其它元素作為副成分。本發(fā)明中，由于在平滑的有機(jī)層上形成無機(jī)層，因此可以形成平滑性高的無機(jī)層。通過本發(fā)明形成的無機(jī)層的平滑性以10]im見方的平均粗糙度(Ra值)計，優(yōu)選為0.5nm以下、更優(yōu)選為0.3nm以下、進(jìn)一步優(yōu)選為O.lnm以下。無機(jī)層的厚度并無特別限定，優(yōu)選為10300nm的范圍內(nèi)、更優(yōu)選為10200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為20100nm、特別優(yōu)選為3070nm。無機(jī)層也可以2層以上層疊。此時，各層可以是相同組成也可以是不同的組成。另外，2層以上層疊時，優(yōu)選按照各個無機(jī)層在上述優(yōu)選范圍內(nèi)的方式來設(shè)計。(有機(jī)層和無機(jī)層的層疊)本發(fā)明的阻隔膜只要具有在塑料薄膜上依次設(shè)有易粘接層、有機(jī)層、無機(jī)層的結(jié)構(gòu)即可，也可以在無機(jī)層上形成任何層。例如，優(yōu)選例子可以舉出在無機(jī)層上交替層疊有機(jī)層和無機(jī)層的結(jié)構(gòu)。最上層可以是無機(jī)層也可以是有機(jī)層。有機(jī)層和無機(jī)層的層疊可以根據(jù)所需的層構(gòu)成，通過將有機(jī)層和無機(jī)層依次反復(fù)制膜而進(jìn)行。利用濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍法、等離子休CVD法等真空制膜法形成無機(jī)層時，優(yōu)選也通過上述閃蒸蒸鍍法等真空制膜法來形成有機(jī)層。制作阻隔膜的期間，特別優(yōu)選在過程中不返回至大氣壓、而是在1000Pa以下的真空中層疊有機(jī)層和無機(jī)層。壓力更優(yōu)選為100Pa以下、進(jìn)一步優(yōu)選為50Pa以下、特別優(yōu)選為20Pa以下。本發(fā)明的阻隔膜可以優(yōu)選作為各種元件的基板或密封薄膜來使用。例如還可以作為有機(jī)EL元件或太陽電池元件的基板或密封薄膜來使用。這里，本發(fā)明的阻隔膜優(yōu)選按照易粘接層側(cè)接近元件側(cè)的方式進(jìn)行密封。另外，可以設(shè)置在元件的兩面，也可以設(shè)置于單面。本發(fā)明的顯示元件可以舉出圓偏振片、液晶顯示元件、接觸面板、有機(jī)EL元件等。本發(fā)明中使用的太陽電池元件可以使用作為太陽電池元件而通常使用的元件。例如可以舉出單晶硅系太陽電池元件、多晶硅系太陽電池元件、單接合型或串聯(lián)結(jié)構(gòu)型等所構(gòu)成的非晶形硅系太陽電池元件、砷化鎵(GaAs)或磷化銦(InP)等ni-V族化合物半導(dǎo)體太陽電池元件、碲化鎘(CdTe)等II-VI族化合物半導(dǎo)體太陽電池元件、銅/銦/硒系(所謂的CIS系)、銅/銦/鎵/硒系(所謂的CIGS系)、銅/銦/鎵/硒/硫系(所謂的CIGSS系)等I-III-VI族化合物半導(dǎo)體太陽電池元件、色素敏化型太陽電池元件、有機(jī)太陽電池元件等。其中，本發(fā)明中的上述太陽電池元件優(yōu)選銅/銦/硒系(所謂的CIS系)、銅/銦/鎵/硒系(所謂的CIGS系)、銅/銦/鎵/硒/硫系(所謂的CIGSS系)等i-m-vi族化合物半導(dǎo)體太陽電池元件?！从袡C(jī)EL元件〉本發(fā)明的阻隔膜可以優(yōu)選作為有機(jī)EL元件的基板來使用。因此，說明使用了本發(fā)明的阻隔膜的有機(jī)EL元件(以下稱為本發(fā)明的有機(jī)EL元件)。本發(fā)明的有機(jī)EL元件在基板上具有陰極和陽極、在兩電極間具有含有機(jī)發(fā)光層(以下有時僅稱作"發(fā)光層"。)的有機(jī)化合物層。從發(fā)光元件的性質(zhì)考慮，優(yōu)選陽極和陰極中的至少一個電極為透明的。本發(fā)明的有機(jī)化合物層的層疊方式優(yōu)選從陽極側(cè)依次層疊空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層的方式。而且，還可以在空穴輸送層和發(fā)光層之間、或者發(fā)光層和電子輸送層之間具有電荷阻斷層等。在陽極和空穴輸送層之間還可以具有空穴注入層、在陰極和電子輸送層之間還可以具有電子注入層。另外，各層也可以分為多個次生層(日語原文為二次層)。(陽極)陽極通常只要具有作為向有機(jī)化合物層供給空穴的電極的功能即可，其形狀、結(jié)構(gòu)、大小等并無特別限定，可以根據(jù)發(fā)光元件的用途、目的，從公知的電極材料中適當(dāng)選擇。如上所述，陽極通常作為透明陽極設(shè)置。陽極的材料例如可以優(yōu)選舉出金屬、合金、金屬氧化物、導(dǎo)電性化合物、或它們的混合物。陽極材料的具體例子可以舉出摻雜有銻或氟等的氧化錫(ATO、FTO)、氧化錫、氧化鋅、氧化銦、氧化銦錫(ITO)、氧化鋅銦(IZO)等導(dǎo)電性金屬氧化物、金、銀、鉻、鎳等金屬、這些金屬與導(dǎo)電性金屬氧化物的混合物或?qū)盈B物、碘化銅、硫化銅等無機(jī)導(dǎo)電性物質(zhì)、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯等有機(jī)導(dǎo)電性材料、它們與ITO的層疊物等。其中優(yōu)選導(dǎo)電性金屬氧化物，從生產(chǎn)率、高導(dǎo)電性、透明性等方面出發(fā)，特別優(yōu)選ITO。陽極可以考慮到與構(gòu)成陽極的材料的適合性，按照從例如印刷方式、涂覆方式等濕式方式、真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等物理方式、CVD、等離子體CVD法等化學(xué)方式等中適當(dāng)選擇的方法而形成在上述基板上。例如，陽極的材料選擇ITO時，陽極的形成可以按照直流或高頻率濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍法等進(jìn)行。本發(fā)明的有機(jī)EL元件中，陽極的形成位置并無特別限定，可以根據(jù)發(fā)光元件的用途、目的來適當(dāng)選擇，但優(yōu)選形成在上述基板上。此時，陽極可以形成在基板的整個一個表面上，還可以形成在其一部分上。另外，形成陽極時的布圖可以通過利用光刻法等的化學(xué)蝕刻來進(jìn)行，還可以通過利用激光等的物理蝕刻來進(jìn)行，另外還可以重疊掩模后進(jìn)行真空蒸鍍或濺射等來實施，還可以通過剝離法(liftoff)或印刷法來進(jìn)行。陽極的厚度可以根據(jù)構(gòu)成陽極的材料適當(dāng)選擇，無法一概而論，但通常為10nm50,左右、優(yōu)選為50nm20(im。陽極的電阻值優(yōu)選為103^/口以下、更優(yōu)選為1020/口以下。陽極為透明時，可以是無色透明，也可以是有色透明。為了獲得來自透明陽極側(cè)的發(fā)光，其透射率優(yōu)選為60%以上、更優(yōu)選為70%以上。另外，對于透明陽極，在澤田豐監(jiān)修《透明電極膜的新進(jìn)展》、>一工厶、>一刊(1999)中有詳細(xì)敘述，可以將其所記載的事項適用于本發(fā)明。使用耐熱性低的塑料薄膜時，優(yōu)選使用ITO或IZO、并在15(TC以下的低溫下制膜而成的透明陽極。(陰極)陰極通常只要具有作為向有機(jī)化合物層注入電子的功能即可，其形狀、結(jié)構(gòu)、大小等并無特別限定，可以根據(jù)發(fā)光元件的用途、目的，從公知的電極材料中適當(dāng)選擇。構(gòu)成陰極的材料例如可以舉出金屬、合金、金屬氧化物、導(dǎo)電性化合物、它們的混合物等。具體例子可以舉出堿金屬(例如Li、Na、K、Cs等)、堿土類金屬(例如Mg、Ca等)、金、銀、鉛、鋁、鈉-鉀合金、鋰-鋁合金、鎂-銀合金、銦、鐿等稀土類金屬等。這些物質(zhì)可以單獨使用l種，但從兼顧穩(wěn)定性和電子注入性的觀點出發(fā)，可以優(yōu)選并用2種以上。其中，從電子注入性的方面出發(fā)，構(gòu)成陰極的材料優(yōu)選堿金屬或堿土類金屬，從保存安定性優(yōu)異的方面出發(fā)，優(yōu)選以鋁為主體的材料。以鋁為主體的材料是指單獨的鋁、鋁和0.0110質(zhì)量％的堿金屬或堿土類金屬的合金或它們的混合物(例如鋰-鋁合金、鎂-鋁合金等)。另外，陰極的材料詳述于日本特開平2-15595號公報、日本特開平5-121172號公報中，記載于這些公報中的材料在本發(fā)明中也可以適用。陰極的形成方法并無特別限定，可以根據(jù)公知的方法進(jìn)行。例如可以考慮與構(gòu)成上述陰極的材料的適合性，按照從印刷方式、涂覆方式等濕式方式、真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等物理方式、CVD、等離子體CVD法等化學(xué)方式等中適當(dāng)選擇的方法來形成。例如，陰極的材料在選擇金屬等時，可以按照將其1種或2種以上同時或依次進(jìn)行濺射的方法等來進(jìn)行。形成陰極時的布圖可以通過利用光刻法等的化學(xué)蝕刻來進(jìn)行，也可以通過利用激光等的物理蝕刻來進(jìn)行，還可以重疊掩模后進(jìn)行真空蒸鍍或濺射等來實施，還可以通過剝離法或印刷法來進(jìn)行。本發(fā)明中，陰極形成位置并無特別限定，可以形成在整個有機(jī)化合物層上，還可以形成在其一部分上。另外，也可以在陰極和上述有機(jī)化合物層之間以0.15nm的厚度插入堿金屬或堿土類金屬的氟化物、氧化物等所形成的電介質(zhì)層。該電介質(zhì)層也可以看作一種電子注入層。電介質(zhì)層例如可以通過真空蒸鈹法、濺射法、離子鍍法等來形成。陰極的厚度可以根據(jù)構(gòu)成陰極的材料來適當(dāng)選擇，不能一概而論，但通常為10nm5nm左右、優(yōu)選為50nm1,。另外，陰極可以是透明的也可以是不透明的。透明的陰極可以如下形成將陰極材料薄薄地制膜，達(dá)到110nm的厚度，進(jìn)而層疊ITO或IZO等透明導(dǎo)電性材料，從而形成。(有機(jī)化合物層)說明本發(fā)明的有機(jī)化合物層。本發(fā)明的有機(jī)EL元件具有含有發(fā)光層的至少一層有機(jī)化合物層，作為有機(jī)發(fā)光層以外的其它有機(jī)化合物層，可以舉出如上所述的空穴輸送層、電子輸送層、電荷阻斷層、空穴注入層、電子注入層等各層。本發(fā)明的有機(jī)EL元件中，構(gòu)成有機(jī)化合物層的各層也優(yōu)選可以通過蒸鍍法、濺射法等干式制膜法、轉(zhuǎn)印法、印刷法等任一個方法來形成。(1)有機(jī)發(fā)光層有機(jī)發(fā)光層具有下述功能在施加電場時從陽極、空穴注入層或空穴輸送層獲取空穴，從陰極、電子注入層或電子輸送層獲取電子，并提供空穴和電子的再結(jié)合場所，從而使其發(fā)光。本發(fā)明的發(fā)光層可以僅由發(fā)光材料構(gòu)成，還可以是基質(zhì)材料和發(fā)光材料的混合層的構(gòu)成。發(fā)光材料可以是蛍光發(fā)光材料也可以是磷光發(fā)光材料，摻雜劑可以是1種也可以是2種以上?；|(zhì)材料優(yōu)選為電荷輸送材料?；|(zhì)材料可以是1種也可以是2種以上，例如可以舉出混合有電子輸送性的基質(zhì)材料和空穴輸送性的基質(zhì)材料的構(gòu)成。而且，發(fā)光層中也可以含有沒有電荷輸送性、不發(fā)光的材料。另外，發(fā)光層可以是1層也可以是2層以上，各個層也可以以不同的發(fā)光色發(fā)光。作為本發(fā)明中可以使用的熒光發(fā)光材料的例子，例如可以舉出苯并噁唑衍生物、苯并咪唑衍生物、苯并噻唑衍生物、苯乙烯基苯衍生物、聚苯基衍生物、二苯基丁二烯衍生物、四苯基丁二烯衍生物、萘酰亞胺衍生物、香豆素衍生物、稠合芳香族化合物、紫環(huán)酮衍生物、噁二唑衍生物、噁嗪衍生物、醛連氮衍生物、pymlidine衍生物、環(huán)戊二烯衍生物、雙苯乙烯基蒽衍生物、喹吖酮衍生物、吡咯并吡啶衍生物、噻二唑并吡啶衍生物、環(huán)戊二烯衍生物、苯乙烯基胺衍生物、二氧代吡咯并吡咯衍生物、芳香族二次甲基化合物、以8-羥基喹啉衍生物的金屬絡(luò)合物或甲撐吡咯衍生物的金屬絡(luò)合物為代表的各種金屬絡(luò)合物等，聚噻吩、聚苯撐、聚苯撐乙烯撐等聚合物化合物、有機(jī)硅垸衍生物等化合物等。另外，本發(fā)明中可以使用的磷光發(fā)光材料例如可以舉出含有過渡金屬原子或鑭系原子的絡(luò)合物。過渡金屬原子并無特別限定，優(yōu)選釕、銠、鈀、鎢、錸、鋨、銥和鉑，更優(yōu)選錸、銥和鉑。鑭系原子可以舉出鑭、鈰、鐠、釹、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、镥。這些鑭系原子中優(yōu)選釹、銪和釓。絡(luò)合物的配體例如可以舉出G.Wilkinson等著、ComprehensiveCoordinationChemistry,PergamonPress4土1987年發(fā)《亍，H.Yersin著、「PhotochemistryandPhotophysicsofCoordinationCompounds」Springer-Verlag社1987年發(fā)行，山本明夫著「有機(jī)金屬化學(xué)-基礎(chǔ)和應(yīng)用」裳華房社1982年發(fā)行等所記載的配體等。具體的配體優(yōu)選為鹵素配體(優(yōu)選氯配體)、含氮雜環(huán)配體(例如苯基吡啶、苯并喹啉、羥基喹啉、聯(lián)二吡啶、菲繞啉等)、二酮配體(例如乙酰丙酮等)、羧酸配體(例如乙酸配體等)、一氧化碳配體、異腈配體、氰基配體，更優(yōu)選含氮雜環(huán)配體。上述絡(luò)合物可以是化合物中具有一個過渡金屬原子、也可以是化合物中具有2個以上過渡金屬原子的所謂多核絡(luò)合物。還可以同時含有不同種類的金屬原子。磷光發(fā)光材料在發(fā)光層中優(yōu)選含有0.140質(zhì)量％、更優(yōu)選含有0.520質(zhì)量°/。。另外，本發(fā)明的發(fā)光層所含的基質(zhì)材料例如可以舉出具有咔唑骨架的材料、具有二芳胺骨架的材料、具有吡啶骨架的材料、具有吡嗪骨架的材料、具有三嗪骨架的材料和具有芳基硅垸骨架的材料、或者在后述的空穴注入層、空穴輸送層、電子注入層、電子輸送層的項中例示的材料。發(fā)光層的厚度并無特別限定，通常優(yōu)選為lnm500nm、更優(yōu)選為5nm200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為10nm100nm。(2)空穴注入層、空穴輸送層空穴注入層、空穴輸送層是具有從陽極或陽極側(cè)獲得空穴并輸送至陰極側(cè)的功能的層?？昭ㄗ⑷雽?、空穴輸送層具體優(yōu)選為含有咔唑衍生物、三唑衍生物、噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、聚芳基垸烴衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啉酮衍生物、苯二胺衍生物、芳胺衍生物、氨基取代查爾酮衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、二苯乙烯衍生物、硅氨烷衍生物、芳香族叔胺化合物、苯乙烯基胺化合物、芳香族二次甲基系化合物、卟啉系化合物、有機(jī)硅烷衍生物、碳等的層。從降低驅(qū)動電壓的觀點出發(fā)，空穴注入層、空穴輸送層的厚度優(yōu)選分別為500nm以下?？昭ㄝ斔蛯拥暮穸葍?yōu)選為lnm500nm、更優(yōu)選為5nm200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為10nm100nm。另外，空穴注入層的厚度優(yōu)選為0.1nm200nm、更優(yōu)選為0.5nm100nm、進(jìn)一步優(yōu)選為lnm100nm?？昭ㄗ⑷雽?、空穴輸送層可以是由上述材料的1種或2種以上所構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)、也可以是由相同組成或不同種類組成的多個層所構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)。(3)電子注入層、電子輸送層電子注入層、電子輸送層是具有從陰極或陰極側(cè)獲得電子并輸送至陽極側(cè)的功能的層。電子注入層、電子輸送層具體地優(yōu)選為含有三唑衍生物、噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、芴酮衍生物、蒽醌二甲烷衍生物、蒽酮衍生物、二苯基苯醌衍生物、二氧化噻喃衍生物、碳化二亞胺衍生物、亞芴基甲垸衍生物、二苯乙烯基吡嗪衍生物、萘、茈等芳香環(huán)四羧酸酐、酞菁衍生物、以8-羥基喹啉衍生物的金屬絡(luò)合物或金屬酞菁、苯并噁唑或苯并噻唑為配體的金屬絡(luò)合物為代表的各種金屬絡(luò)合物、有機(jī)硅烷衍生物等的層。從降低驅(qū)動電壓的觀點出發(fā)，電子注入層、電子輸送層的厚度優(yōu)選分別為50nm以下。電子輸送層的厚度優(yōu)選為lnm500nm、更優(yōu)選為5nm200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為10nm100nm。另外，電子注入層的厚度優(yōu)選為0.1nm200nm、更優(yōu)選為0.2nm100nm、進(jìn)一步優(yōu)選為0.5nm50nm。電子注入層、電子輸送層可以是由上述材料的1種或2種以上構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)，也可以是由相同組成或不同種類組成的多個層構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)。(4)空穴阻斷層空穴阻斷層是具有防止從陽極側(cè)輸送至發(fā)光層的空穴穿過陰極側(cè)的功能的層。本發(fā)明中，可以設(shè)置空穴阻斷層作為在發(fā)光層和陰極側(cè)相鄰接的有機(jī)化合物層。構(gòu)成空穴阻斷層的有機(jī)化合物的例子可以舉出BAIq等鋁絡(luò)合物、三唑衍生物、BCP等菲繞啉衍生物等?？昭ㄗ钄鄬拥暮穸葍?yōu)選為lnm500nm、更優(yōu)選為5nm200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為10nm100nm?？昭ㄗ钄鄬涌梢允怯缮鲜霾牧系?種或2種以上構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)，也可以是由相同組成或不同種類組成的多個層構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)。(保護(hù)層)本發(fā)明中，整個有機(jī)EL元件可以由保護(hù)層保護(hù)。保護(hù)層中所含的材料優(yōu)選為具有平坦化作用的材料、具有抑制水分或氧進(jìn)入元件內(nèi)的功能的材料。具體例子可以舉出In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等金屬，MgO、SiO、Si02、A1203、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe203、Y203、Ti02等金屬氧化物，SiNx等金屬氮化物、SiNxOy等金屬氮氧化物，MgF2、LiF、A1F3、CaF2等金屬氟化物，聚乙烯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亞胺、聚脲、聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚二氯二氟乙烯、氯三氟乙烯和二氯二氟乙烯的共聚物、將含有四氟乙烯和至少1種共聚用單體的單體混合物進(jìn)行共聚而獲得的共聚物、共聚主鏈上具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的含氟共聚物、吸水率為1%以上的吸水性物質(zhì)、吸水率為0.1°/。以下的防濕性物質(zhì)等。其中，優(yōu)選金屬的氧化物、氮化物、氮氧化物，特別優(yōu)選硅的氧化物、氮化物、氮氧化物。保護(hù)層的形成方法并無特別限定，例如可以使用真空蒸鍍法、濺射法、反應(yīng)性濺射法、MBE(分子射線外延)法、離子束法、離子鍍法、等離子體聚合法(高頻激發(fā)離子鍍法)、等離子體CVD法、激光CVD法、熱CVD法、氣體源CVD法、真空紫外CVD法、涂覆法、印刷法、轉(zhuǎn)印法。本發(fā)明中，保護(hù)層也可以作為導(dǎo)電性層使用。(密封)另外，本發(fā)明的有機(jī)EL元件還可以使用密封容器來將整個元件密封。此外，還可以在密封容器和發(fā)光元件之間的空間中封入水分吸収劑或惰性液體。水分吸収劑并無特別限定，例如可以舉出氧化鋇、氧化鈉、氧化鉀、氧化朽、硫酸鈉、硫酸鈣、硫酸鎂、五氧化二磷、氯化鈣、氯化鎂、氯化銅、氟化銫、氟化鈮、溴化鈣、溴化釩、分子篩、沸石、氧化鎂等。惰性液體并無特別限定，例如可以舉出石蠟類、液體石蠟類、全氟烷烴或全氟胺、全氟醚等氟系溶劑、氯系溶劑、有機(jī)硅油類。作為其它的密封法，還可以使用所謂的固體密封法。固體密封法是在有機(jī)EL元件上形成保護(hù)層后，重疊粘接劑層、阻隔性支撐體層并將其固化的方法。粘接劑并無特別限定，可以舉出熱固化性環(huán)氧樹脂、光固化性丙烯酸酯樹脂等。阻隔性支撐體可以是玻璃，還可以是本發(fā)明的阻隔膜。進(jìn)而，作為其它的密封法，還可以使用所謂的膜密封法。膜密封法是在有機(jī)EL元件上設(shè)置無機(jī)層、有機(jī)層的交替層疊體的方法。設(shè)置交替層疊體之前，可以用保護(hù)層覆蓋有機(jī)EL元件。本發(fā)明的有機(jī)EL元件通過在陽極和陰極之間施加直流(根據(jù)必要也可以含有交流成分)電壓(通常2伏特15伏特)或直流電流，可以獲得發(fā)光。本發(fā)明的有機(jī)EL元件的驅(qū)動方法可以適用記載于日本特開平2-148687號、日本特開平6-301355號、日本特開平5-29080號、日本特開平7-134558號、日本特開平8-234685號、日本特開平8-241047號的各公報、日本專利第2784615號公報、美國專利5828429號、美國專利6023308號的各說明書等中的驅(qū)動方法。<太陽電池〉接著說明太陽電池元件。通過在干燥后的太陽電池用基板上形成優(yōu)選由Ib族元素和IIIb族元素及VIb族元素構(gòu)成的半導(dǎo)體(I-III-VI族半導(dǎo)體)層的光電轉(zhuǎn)換層，可以獲得太陽電池單元。然后，粘貼在本發(fā)明的阻隔膜上而制成太陽電池模塊。光電轉(zhuǎn)換層優(yōu)選為含有選自銅(Cu)、銀(Ag)、鎵(Ga)、銦(In)、硫(S)、硒(Se)和碲(Te)中的至少1個元素而成的半導(dǎo)體層。另外，光電轉(zhuǎn)換層優(yōu)選為使用硒化法、硒化流化法、3階段法等的CIGS系半導(dǎo)體，但也可以是Si等IVb族元素所形成的半導(dǎo)體(IV族半導(dǎo)體)、GaAS等IIIb族元素和Vb族元素所形成的半導(dǎo)體(III-V族半導(dǎo)體)、CdTe等lib族元素和VIb族元素所形成的半導(dǎo)體(II-VI族半導(dǎo)體)或它們的組合。另外，本說明書中元素的族的記載基于短周期型周期表。由Si構(gòu)成半導(dǎo)體的情況下，非晶硅、微晶硅薄膜層、它們中含有Ge的薄膜、以及它們的兩層以上的串聯(lián)結(jié)構(gòu)可以作為光電轉(zhuǎn)換層使用。成膜使用等離子體CVD等。以下舉出一例表示CIGS的光電轉(zhuǎn)換層。將由Ib族元素、IIIb族元素、VIb族元素構(gòu)成的黃銅礦構(gòu)造的半導(dǎo)體薄膜CuInSe2(CIS系薄膜)、或者將在其中固溶了Ga的Cu(In，Ga)Se2(CIGS系薄膜)用于光吸收層的薄膜太陽電池具有顯示高能量轉(zhuǎn)換效率、光照射等導(dǎo)致的效率劣化少的優(yōu)點。圖1(a)(d)是用于說明CIGS系薄膜太陽電池的單元的一般制造方法的設(shè)備的截面圖。如圖1(a)所示，首先，在基板100上形成作為正極側(cè)下部電極的Mo(鉬)電極層200。然后，如圖1(b)所示，在Mo電極層200上形成通過組成控制而顯示p—型、由CIGS系薄膜構(gòu)成的光吸收層300。然后，如圖1(c)所示，在該光吸收層300上形成CdS等緩沖層400，在該緩沖層400上形成摻雜了雜質(zhì)而顯示n+型、由作為負(fù)極側(cè)的上部電極的ZnO(氧化鋅)構(gòu)成的透光性電極層500。接著，如圖l(d)所示，通過機(jī)械劃線裝置，從由ZnO構(gòu)成的透光性電極層500至Mo電極層200集中地進(jìn)行劃線加工。由此，薄膜太陽電池的各單元被電分離(即各單元被個別化)。用本實施方式的制造裝置可以適宜地成膜的物質(zhì)如下所示。(1)含有常溫下是液態(tài)或者通過加熱變?yōu)橐簯B(tài)的元素、化合物或合金的物質(zhì)(2)硫?qū)倩衔?含有S、Se、Te的化合物)II-VI化合物ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe等I-III-VI2族化合物CuInSe2、CuGaSe2、Cu(In、Ga)Se2、CuInS2、CuGaSe2、Cu(In、Ga)(S、Se)2等I-IIl3-Vl5族化合物CuIn3Se5、CuGa3Se5、Cu(In、Ga)3SeJ(3)黃銅礦型構(gòu)造的化合物以及缺陷SutaKnight(日文原文為欠陥7夕于<卜)型構(gòu)造的化合物I-III-VI2族化合物CuInSe2、CuGaSe2、Cu(In、Ga)Se2、CuInS2、CuGaSe2、Cu(In、Ga)(S、Se)2等等I-ni3-VIs族化合物CuIn3Se5、CuGa3Se5、Cu(In、Ga)3Se5等但是，在上述記載中，(In、Ga)、(S、Se)分別表示(Ini-xGax)、(S,-ySe》(x=0l、y=0l)。(光電轉(zhuǎn)換層以外的構(gòu)成)與I-III-VI族化合物半導(dǎo)體形成接合的n形半導(dǎo)體例如可以使用CdS禾nZnO、ZnS、Zn(O、S、OH)等II-VI族化合物。這些化合物優(yōu)選可以形成沒有光電轉(zhuǎn)換層和載體的再結(jié)合的接合界面。例如可參照特開2002-343987號公報。作為基板，可以使用例如堿石灰玻璃等玻璃板，聚酰亞胺等的薄膜，以及不銹鋼、鈦、鋁和銅等的金屬板。在本發(fā)明中，上述元件用基板特別優(yōu)選薄膜狀或者箔狀。作為背面電極，可以使用鉬、鉻、鎢等金屬，這些金屬材料即使進(jìn)行熱處理也難以與其他層混雜。使用含有由i-ni-vi族化合物半導(dǎo)體構(gòu)成的半導(dǎo)體層(光吸收層)的光電動勢層時，優(yōu)選使用鉬層。另外，在背面電極中，在光吸收層cigs和背面電極的交界面上存在再結(jié)合中心。所以，背面電極和光吸收層的連接面積存在電傳導(dǎo)所需以上的面積時，發(fā)電效率會降低。為了減少接觸面積，例如可以使用在電極層上絕緣材料和金屬以條狀并列的結(jié)構(gòu)(參見特開平9-219530號公報)。透明電極可以使用ITO、Zno:Ga、Zno:Al、Zno:B、Sn02等公知的材料。這些材料由于光透過性高、電阻低、載體移動度高，因此優(yōu)選作為電極材料。例如可參照特開平11-284211號公報。作為層構(gòu)造，可以列舉出超直(日文原文為7—八°一7卜^一卜)型，襯底(日文原文為廿7"7卜^一卜)型。使用含有由I-III-VI族化合物半導(dǎo)體構(gòu)成的半導(dǎo)體層(光吸收層)的光電動勢層時，使用襯底型構(gòu)造的轉(zhuǎn)換效率高，從而優(yōu)選。(緩沖層、窗層、透明電極)作為緩沖層，可使用CdS、ZnS、ZnS(0、OH)、ZnMgO。作為窗層，可使用ZnO、ITO等各種透明導(dǎo)電材料。例如提高CIGS的Ga濃度、擴(kuò)大光吸收層的條帶間隙時，由于使傳導(dǎo)帶過多地大于ZnO傳導(dǎo)帶，因此在緩沖層中優(yōu)選使用傳導(dǎo)帶的能量大的ZnMgO。通過CIGS/緩沖層/窗層(ZnO)的條帶構(gòu)造，可以防止緩沖層的部分變?yōu)獒敔?向上凸)，飽和電流降低，或者防止變?yōu)閼已?日語原文為夕li7)狀(凹狀)，開放電壓、FF降低，從而可以提高條帶間隙大時的發(fā)電效率。實施例以下舉出實施例和比較例，更具體地說明本發(fā)明的特征。以下實施例所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等只要不脫離本發(fā)明的主旨就可以適當(dāng)變更。因此，本發(fā)明的范圍并非由以下具體例所限定。1.阻隔膜的制造和評價<實施例1〉(1-1)支撐體的制備將聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PEN薄膜、帝人Dupont公司制、商品名TeonexQ65FA)裁剪為20cm見方，制成支撐體。在該支撐體的一面上按照以下順序形成各層。(1-2)易粘接層的形成在730J/m2的條件下對支撐體進(jìn)行電暈放電處理，利用棒涂法涂覆下述組成所構(gòu)成的第一層塗覆液1。涂覆量為4.4ml/m2、在18(TC下干燥I分鐘，從而形成膜厚為200nm的易粘接層。<第一層涂覆液1〉-聚酯樹脂粘合劑49.7質(zhì)量份(大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制、77一y亍:y夕7ES-650、固體成分為29%)-表面活性劑八(三洋化成工業(yè)株式會社、卜BL.性)11.4質(zhì)量份固體成分為10°/。、陰離子:份26.8質(zhì)雖w一HN-IOO、固體成分為5%、2.4質(zhì)量份4.6質(zhì)量份28.2質(zhì)量份-表面活性劑B(三洋化成工業(yè)株式會社、于口非離子性)-二氧化硅微粒分散液0(日本Aerosil，ox-50，20%水分散液)"膠體二氧化硅分散液D(日產(chǎn)化學(xué)，SnowtexXL20%水分散液)-碳化二亞胺化合物(日清紡株式會社制、CarbodiliteV-02-L2、固體成分為10%、碳化二亞胺當(dāng)量385)-蒸餾水按照總量達(dá)到1000質(zhì)量份來添加(1-3)有機(jī)層的形成通過棒涂法在上述制作的易粘接面上涂覆由下述組成構(gòu)成的涂覆液。涂覆量為5ml/m2，在通過氮置換法使氧濃度為0.1%的腔室內(nèi)照射高圧汞燈的紫外線(累積照射量約為2J/cm2)以使其固化，從而形成膜厚為500nm士50nm的有機(jī)層。<有機(jī)層涂覆液〉2官能聚氨酯丙烯酸單體(夕、、Yir^廿^亍:y夕制、工^夕U^4858)-紫外線聚合引發(fā)劑(于/《7〃、乂卞！i亍—一X、制、Irgacure907)-2-丁酮<表面粗糙度的測定>使用原子間力顯微鏡(AFM)測定表面粗糙度，從而評價所得有機(jī)層的表面平滑性。此時，平滑性以相對于l[im見方的測定范圍的平均粗糙度Ra(單位為nm)來表示。裝置使用SPI3800N/SPA400(SIINasoTechnology株式會社制)、懸臂使用SI-DF20、測定條件是操作頻率為lHz、X、Y數(shù)據(jù)20g0.6g190g數(shù)為256行。結(jié)果示于表l。(1-4)無機(jī)層的形成使用濺射裝置，在上述有機(jī)層上形成無機(jī)層(氧化鋁層)。使用鋁作為靶、使用氬作為放電氣體、使用氧氣作為反應(yīng)氣體。成膜壓力為0.1Pa、到達(dá)膜厚為40nm。如此制作了有機(jī)無機(jī)層疊型的阻隔性薄膜。所得阻隔性薄膜的特性值(平滑性、水蒸汽透過率)示于表2。<實施例2〉形成2層結(jié)構(gòu)的易粘接層來代替在實施例1的(1-2)中的單層結(jié)構(gòu)的易粘接層。第一層通過與實施例l相同的方法和處方來制作。接著，在該面上通過棒涂法涂覆下述的第二層涂覆液。涂覆量為4.4ml/m2、在17(TC下干燥1分鐘。如此獲得了涂覆有第一層和第二層的層疊薄膜試樣。除了改變(l-2)之外，按照與實施例l相同的工序，制造了具有PEN支撐體/易粘接層(第一層)/易粘接層(第二層)/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的實施例2的阻隔膜。<第二層涂覆液〉■丙烯酸樹脂粘合劑62.7質(zhì)量份(MMAs9-St9-2EHA26-HEMArAA,的膠乳、固體成分濃度為28%)二氧化硅微粒分散液C2.7質(zhì)量份'膠體二氧化硅分散液D4.6質(zhì)量份表面活性劑A9.6質(zhì)量份表面活性劑B26.8質(zhì)量份,碳化二亞胺化合物按照相對于粘合劑的添加量達(dá)到表1的量來添加(日清紡株式會社制、CarbodiliteV-02-L2、固體成分為10%、碳化二亞胺當(dāng)量385)-蒸餾水按照整體達(dá)到1000質(zhì)量份來添加其中，上述中MMA表示甲基丙烯酸甲酯、St表示苯乙烯、2EHA表示丙烯酸2-乙基己酯、HEMA表示羥基甲基丙烯酸酯、AA表示丙烯酸酸。另外，數(shù)字表示重量比。<實施例3>除了使用由下述組成構(gòu)成的第一層涂覆液2來代替實施例1的(1-2)中的第一層涂覆液l之外，按照與實施例l相同的工序，制造了具有PEN支撐體/易粘接層(第一層)/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的實施例3的阻隔膜。<第一層涂覆液2〉丙烯酸樹脂粘合劑62.7質(zhì)量份(MMAs9-St9-2EHA26-HEMArAA,的膠乳、固體成分濃度為28°/。)'二氧化硅微粒分散液C2.7質(zhì)量份'膠體二氧化硅分散液D4.6質(zhì)量份'表面活性劑A9.6質(zhì)量份'表面活性劑B26.8質(zhì)量份'碳化二亞胺化合物按照相對于粘合劑的添加量達(dá)到表1的量來添加(日清紡株式會社制、CarbodiliteV-02-L2、固體成分為10%、碳化二亞胺當(dāng)量385)-蒸餾水按照整體達(dá)到1000質(zhì)量份來添加其中，上述中MMA表示甲基丙烯酸甲酯、St表示苯乙烯、2EHA表示丙烯酸2-乙基己酯、HEMA表示羥基甲基丙烯酸酯、AA表示丙烯酸酸。另外，數(shù)字表示重量比。<比較例1>在按照實施例l的(1-1)制備的支撐體上不形成易粘接層、而是形成了有機(jī)層。除了使用單官能丙烯酸酯(夕、Vir》寸一亍:y夕公司制、ODA-N)來代替2官能聚氨酯丙烯酸酯之外，通過與實施例l的(1-3)相同的方法來形成有機(jī)層。在所形成的有機(jī)層上按照實施例l的(1-4)形成無機(jī)層，從而制造了具有PEN支撐體/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的比較例1的阻隔膜。<比較例2>除了使用2官能聚氨酯丙烯酸酯(夕',ir》廿^于、;/夕公司制、EB4858)來代替單官能丙烯酸酯之外，按照與比較例l相同的方法，制造了具有PEN支撐體/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的比較例2的阻隔膜。<比較例3>除了使用2官能丙烯酸酯(夕、、,ir》，一亍、乂夕公司制、DPGDA)來代替2官能聚氨酯丙烯酸酯之外，按照與實施例l相同的方法，制造了具有PEN支撐體/易粘接層/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的比較例3的阻隔膜。<比較例4〉除了將比較例3中的易粘接層制成與實施例2相同的2層結(jié)構(gòu)之外，按照與比較例3相同的方法，制造了具有PEN支撐體/易粘接層(第一層)/易粘接層(第二層)/有機(jī)層/無機(jī)層的構(gòu)成的比較例4的阻隔膜。<試驗例>使用水蒸汽透過率測定器(MOCON公司制、PERMATRAN-W3/3)來測定上述實施例和比較例中制造的各阻隔膜在40°C、相對濕度90%下的水蒸汽透過率。該測定的檢測限值為0.005g/mV天。將不彎曲各阻隔膜而測定時的結(jié)果、在以曲率半徑為20mm(20mmR)彎曲后測定時的結(jié)果、在以曲率半徑為10mm(lOmmR)彎曲后測定吋的結(jié)果、在以曲率半徑為5mm(5mmR)彎曲后測定時的結(jié)果示于表1中。各阻隔膜的彎曲通過圓筒形心軸法(JISK5600-5-l)來進(jìn)行。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>由表1可知，有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下、且有機(jī)層含有以2官能聚氨酯丙烯酸酯為聚合成分并使其固化而得到的樹脂的實施例13的阻隔膜即便在彎曲后也顯示出較高的水蒸汽阻隔性。特別是使用聚酯樹脂作為易粘接層的粘合劑的實施例1和實施例2，彎曲后的水蒸汽阻隔性顯著地高。與此相對，有機(jī)層的表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值超過0.5nm的比較例1的阻隔膜、不具有易粘接層的比較例2的阻隔膜、有機(jī)層中使用2官能丙烯酸酯來代替2官能聚氨酯丙烯酸酯的比較例3和比較例4的阻隔膜的彎曲后的水蒸汽阻隔性均很差。由以上可知，根據(jù)本發(fā)明，通過在有機(jī)層中選擇使用以特定的聚氨酯丙烯酸酯為聚合成分并使其固化而得到的樹脂、且使有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)的表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下，即便在彎曲后也可以維持較高的水蒸汽阻隔性。2.有機(jī)EL元件的制作及評價(2-1)有機(jī)EL元件的制作利用2-丙醇洗滌具有IT0膜的導(dǎo)電性玻璃基板(表面電阻值為10Q/□)后，進(jìn)行10分鐘的UV-臭氧處理。在該基板(陽極)上使用真空蒸鍍法依次蒸鍍以下的有機(jī)化合物層。(第l空穴輸送層)銅酞菁膜厚為10nm(第2空穴輸送層)N,N'-二苯基-N，N'-二萘基聯(lián)苯胺膜厚為40nm(發(fā)光層兼電子輸送層)三(8-羥基喹啉)鋁膜厚為60nm最后，依次蒸鍍氟化鋰lnm、金屬鋁100nm，制成陰極，通過平行平板CVD法在其上施以厚度為5^im的氮化硅膜，制作了有機(jī)EL元件。(2-2)在有機(jī)EL元件上設(shè)置氣體阻隔層使用熱固化型的粘接劑(Daizonichimoly株式會社制、工求亍、乂夕310)，粘貼實施例1或?qū)嵤├?的阻隔膜，在65"C下加熱3小時以使粘接劑固化。如此分別制作了20個密封的有機(jī)EL元件。(2-3)有機(jī)EL元件發(fā)光面狀的評價使用Keithley公司制SMU2400型源測量單元(SourceMeagreUnit)對剛制作后的有機(jī)EL元件施加7V的電壓，從而使其發(fā)光。使用顯微鏡觀察發(fā)光面狀時，確認(rèn)了各元件均可賦予沒有黑斑的均勻發(fā)光。本發(fā)明的阻隔膜的水蒸汽阻隔性極高。另外，本發(fā)明的阻隔膜即便彎曲也可以維持較高的水蒸汽阻隔性。因此，本發(fā)明的阻隔膜可以有效地用于以撓性有機(jī)EL元件為代表的廣泛用途中。權(quán)利要求1.阻隔膜，其具有在塑料薄膜的單面或兩面上依次層疊有易粘接層、有機(jī)層和無機(jī)層的結(jié)構(gòu)，所述有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下，且有機(jī)層含有以在同一分子內(nèi)具有至少2個丙烯?；椭辽?個氨基甲酸酯基的丙烯酸系單體為聚合成分并使其固化而得到的樹脂。2.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層含有聚酯樹脂作為粘合劑。3.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層由接觸于支撐體的第一層和形成于第一層之上的第二層構(gòu)成。4.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層由接觸于支撐體的第一層和形成于第一層之上的第二層構(gòu)成，所述第一層含有聚酯樹脂作為粘合劑，所述第二層含有丙烯酸樹脂或聚氨酯樹脂作為粘合劑。5.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述易粘接層含有碳化二亞胺化合物。6.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，在將所述阻隔膜彎曲至曲率半徑為5mm后的水蒸汽透過度為0.01g/m2'day以下。7.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其中，所述丙烯酸系單體具有下述通式(1)所示的結(jié)構(gòu)，通式(1)L1■(NH(J_0-L2"(-Acr)n)2〇通式(1)中，Acr表示丙烯?；蚣谆；?、n表示15的整數(shù)、L'表示2價的連接基團(tuán)、！^表示(n+l)價的連接基團(tuán)。8.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其中，所述丙烯酸系單體具有下述通式(1)所示的結(jié)構(gòu)，該通式(1)中的L'和I^為選自下述基團(tuán)的任一個，通式(1)L1<NH(J—O—L2~(〇一Acr)n)20通式(1)中，Acr表示丙烯酰基或甲基丙烯?；表示15的整數(shù)、L'表示2價的連接基團(tuán)、！^表示(n+l)價的連接基團(tuán)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>9.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其中，作為所述有機(jī)層的聚合成分，還含有單官能單體。10.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其中，所述有機(jī)層的厚度為50mn5000nm。11.權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其中，所述無機(jī)層的厚度為10300nm。12.使用了權(quán)利要求111任一項所述的阻隔膜的元件。13.使用了權(quán)利要求卜11任一項所述的阻隔膜的有機(jī)EL元件。全文摘要本發(fā)明提供即便彎曲也可以維持較高的水蒸汽阻隔性的阻隔膜。其特征在于，其具有在塑料薄膜的單面或兩面上依次層疊有易粘接層、有機(jī)層和無機(jī)層的結(jié)構(gòu)，所述有機(jī)層的無機(jī)層側(cè)表面的粗糙度算術(shù)平均偏差值為0.5nm以下，且有機(jī)層含有以在同一分子內(nèi)具有至少2個丙烯酰基和至少2個氨基甲酸酯基的丙烯酸系單體為聚合成分并使其固化而得到的樹脂。文檔編號B32B7/12GK101306589SQ20081009709公開日2008年11月19日申請日期2008年5月14日優(yōu)先權(quán)日2007年5月14日發(fā)明者小林孝史,村上朝雄申請人:富士膠片株式會社