專利名稱：電磁波屏蔽用薄片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種遮蔽電磁波(也稱作屏蔽)用的薄片，更詳細的說，涉及一種配置在CRT、PDP等的顯示器前面，遮蔽由顯示器產(chǎn)生的電磁波，而且，能夠良好的辨別顯示器顯示的圖像，使用了金屬箔(薄膜)網(wǎng)的電磁波屏蔽用薄片。
背景技術(shù)：
技術(shù)概況近年來，隨著電器電子儀器的性能高度化及應用的廣泛化，電磁噪音干擾(Electro Magnetic Interference；EMI)正在增加。電磁噪音大致分為傳導噪音和輻射噪音。防止傳導噪音的方法是使用噪音過濾器等的方法。另一方面，防止輻射噪音有如下方法為了使空間電磁絕緣，可將箱體做成金屬，或?qū)⒔饘侔宀迦腚娐坊逯g，或用金屬箔纏繞電纜等。這些方法盡管對電路或功率區(qū)塊的電磁波屏蔽有效，但是因為不透明，所以不適合用于屏蔽CRT、等離子顯示屏(也稱作PDP)等從顯示器前面發(fā)出的電磁波。
等離子體顯示屏是一種具有數(shù)字電極和熒光屏的玻璃，和具有透明電極的玻璃的組合體，當使用等離子體面板時，則產(chǎn)生大量的電磁波、近紅外線及熱。通常，為了屏蔽電磁波，在等離子體顯示屏的前面設(shè)置前面板。為了屏蔽由顯示器發(fā)出的電磁波，要求前面板必須在30MHz～1GHz范圍的30dB以上具有屏蔽性能。另外，由顯示器前面發(fā)出的波長800～1,100nm的近紅外線因為使其它的VTR、空調(diào)的遠距離操作(遙控)裝置等儀器產(chǎn)生誤操作，所以也必須進行屏蔽。而且，為了容易識別顯示器的顯示圖像，需要使電磁波屏蔽用的金屬網(wǎng)框(線部)部分難以看到，并且使電磁波屏蔽用薄片具有適當?shù)耐该餍?可見光透明性、可見光透過率)。
而且，等離子體顯示屏以大型畫面為特征，例如有37寸、42寸、甚至還有更大的尺寸。為此，電磁波屏蔽用薄片的線條數(shù)通常在縱向和橫向達到上千條，并設(shè)置被線包圍的多個開口部。但是，在該開口部，由于粘接劑層暴露，產(chǎn)生如下問題，即，在蝕刻時受到蝕刻液的侵蝕，使粘接劑層著色，或剝離蝕刻后的抗蝕膜的堿性剝離液使粘接劑層劣化。
在先技術(shù)為了提高顯示圖像的可視性，要求這個前面板有電磁屏蔽和適當?shù)耐该餍?可見光透過率)，并且不產(chǎn)生所希望以外的著色，不產(chǎn)生剝離的均勻穩(wěn)定的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
在具有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的物體中，特開平5-283889號公報公開了電磁波屏蔽材料，該材料由基板/透明底層/網(wǎng)格圖案形狀的非電解鍍覆層構(gòu)成。另外，特開平09-293989號公報公開了一種用光致抗蝕膜法形成電磁波屏蔽薄片的金屬網(wǎng)的方法。而且，特開平10-335885號公報公開了一種電磁波屏蔽構(gòu)成體，即，利用光致抗蝕膜法在銅箔上形成幾何圖案，將得到的帶有銅箔的塑料薄膜層壓在塑料板上形成。但是，在所述的任何一種方法中都沒有暗示雖然電磁波屏蔽片也具有網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，但即使具有防銹層，也只能在金屬層的網(wǎng)格部，但不能在基材及粘接劑層的整個面上形成層，并且，也不會全面形成。另外，通常由于電磁波屏蔽用薄片的基材側(cè)構(gòu)成觀測側(cè)，故也具有難于從接地用電極部接地的缺點。
而且，在特開平11-29118585號公報中公開了具有透明基體/黑色層/圖案狀金屬層/防銹層的電磁波屏蔽材料，其包括利用圖案(相當于本發(fā)明的網(wǎng)格)形成法在圖案狀抗蝕層上設(shè)置黑色層和圖案狀金屬層，并在抗蝕劑一起清洗流出后設(shè)置有防銹層。但是，由于不能在透明基體和黑色層或金屬層之間、及開口部設(shè)置防銹層，并且，圖案(網(wǎng)格)的形成不是蝕刻法，故不能形成高精度的網(wǎng)格。由于進行(腐蝕)工序時的蝕刻液的作用，而使開口部露出并形成透光部的粘接劑層或基材產(chǎn)生發(fā)黃等著色，并影響顯示器圖像的色調(diào)，或者使粘接劑層的粘結(jié)力降低。另外，從蝕刻液中滲透至粘接劑層或基材中的金屬離子(Fe3+等)也使在色修正用時向粘接劑中添加的色素或近紅外線吸收用色素劣化。另外，如圖7所示，在通過粘接劑將電磁波遮蔽用片與其它透明基材或顯示器層壓時，在網(wǎng)格開口部的凹部殘留氣泡B，由于氣泡和粘接劑的界面的光散射，產(chǎn)生煙霧(霧價)上升的問題。在特開2000-227515中公開的技術(shù)中指出，在這種電磁波屏蔽用片上進一步層壓近紅外線吸收濾波層，得到具有電磁波屏蔽性和近紅外線屏蔽性兩種性能的濾波器。
但是，在電磁波屏蔽用片的制造工序中，需要再通過粘接劑層壓近紅外線吸收濾波器的工序，增加了工序數(shù)、材料費用。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明是為了解決上述問題點而進行的。其目的在于提供一種不增加層壓工序數(shù)廉價的電磁波屏蔽用薄片，將該薄片配置在CRT、PDP等顯示器的前面，屏蔽來自顯示器的電磁波及近紅外線這兩種波，而且，也沒有氣泡殘留在粘接劑層中引起的霧值上升，顯示器圖像的可視性優(yōu)良。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，包括透明的基材；設(shè)于基材一面上的透明防銹層；設(shè)在防銹層上，且具有形成開口部的線部的網(wǎng)格狀金屬層，其中，防銹層被設(shè)置在線部和對應開口部的部分這兩部分。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，該薄片被配置在PDP等顯示器前面，屏蔽從顯示器發(fā)出的電磁波，而且，網(wǎng)的線部分看不見，滿足電磁波屏蔽性、透明性這兩特性，而且也可以將任意面作為觀察側(cè)，在蝕刻或抗蝕膜剝離等制造工序時，基材或粘接劑層的變色、剝離等劣化或變質(zhì)少，可以長期地良好地識別圖像。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，金屬層線部的線寬為5～25μm，線和線的節(jié)距為150～500μm。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，其網(wǎng)的線部分看不見，滿足電磁波屏蔽性，透明性這兩特性。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在金屬層一面上設(shè)置著黑化處理層。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其網(wǎng)的線部分看不見，可良好地識別圖像。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在金屬層的基材和相反側(cè)設(shè)有追加防銹層。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其中，也可以將基材面朝PDP側(cè)設(shè)置，連接電極的工序數(shù)減少，也不需要印刷黑框，圖像的可視性好，不晃眼。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，向網(wǎng)格狀金屬層的開口部填充透明樹脂，金屬層和透明樹脂構(gòu)成平坦狀。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，其中，埋沒開口部的凹凸，操作性優(yōu)良。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，向網(wǎng)格狀金屬層開口部填充的透明樹脂含有吸收可見光中波長570～605nm區(qū)域的光的色調(diào)修正用光線吸收劑和/或吸收近紅外線波長800～1100nm區(qū)域的光的近紅外線吸收劑。
本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在基材或追加防銹層的任意一外側(cè)設(shè)置了吸收可見光中570～605nm區(qū)域的光的色調(diào)修正用光線吸收劑層和/或吸收近紅外線波長800～1100nm區(qū)域的光的近紅外線吸收劑層。
本發(fā)明提供一種電磁波屏蔽用薄片，該薄片屏蔽由PDP發(fā)出的近紅外線及電磁波這兩種波，防止上述兩種波帶來的弊端，而且，可見光線透過，且吸收源于由PDP產(chǎn)生的氖原子發(fā)光光譜的黃～橙色的光，防止圖像的色調(diào)著色成橙色，可以良好地識別顯示器圖像。


圖1是本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的平面圖。
圖2是顯示本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的一部分的示意性斜視圖。
圖3A是圖2的AA剖面圖，圖3B是圖2的BB剖面圖。
圖4是說明導電材料層的構(gòu)成的剖面圖。
圖5A是說明在滾筒狀卷取時進行加工的平面圖。
圖5B是說明在滾筒狀卷取時進行加工的剖面圖。
圖6是向顯示器面粘貼的本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的剖面圖。
圖7是顯示具有被覆體的電磁波屏蔽用薄片的剖面圖。
圖8是顯示電磁波屏蔽用薄片制造方法的圖。
具體實施例方式
參考附圖，詳細說明本發(fā)明的第一實施方式。
但是，本發(fā)明不限于該實施方式。
圖1是本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的平面圖。
圖2是顯示本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的一部分的示意性斜視圖。
整體構(gòu)成如圖1所示，本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1由透明的基材11、設(shè)于基材11上的網(wǎng)格部103和包圍網(wǎng)格部103的接地用框部101構(gòu)成。其中，網(wǎng)格部103如圖2所示，由具有多個開口部(也稱cell)105的線部107構(gòu)成。接地用框部101設(shè)置在顯示器時，安裝地線。
另外，線部107通過粘接劑層13與基材11的一面粘接，該線部107由層壓結(jié)構(gòu)的導電材料層109構(gòu)成。另外，在基材11上通過非電解電鍍、蒸鍍等能夠形成直接導電材料層109時，也可以省略粘接劑層13。線部107構(gòu)成開口部105在平面內(nèi)緊密鄰接排列的格子狀的網(wǎng)。
通過線部107和開口部105構(gòu)成網(wǎng)格部103。線部107的寬度如圖2所示被稱為線寬W，線與線的間隔稱為節(jié)距P。
圖3A及圖3B是圖2的從剖面圖、及BB剖面圖。
圖4是說明導電材料層的構(gòu)成的剖面圖。
導電材料層的構(gòu)成圖3(A)表示橫切開口部的剖面，開口部105和線107形成交替地構(gòu)成，圖3(B)顯示縱剖線107的剖面，由導電材料層109構(gòu)成的線107連續(xù)地形成著。如圖3A、圖3B、圖4所示，導電材料層109具有金屬層21、和優(yōu)選至少在金屬層21的觀察面上設(shè)置的黑化處理層23A或23B。更優(yōu)選設(shè)置防銹層23A和/或23B，使其覆蓋黑化處理23A和/或23B。不過防銹層至少可以設(shè)置在黑化處理側(cè)。另外，在網(wǎng)格部的開口部105上存在的的防銹層25A構(gòu)成透明的層。僅向網(wǎng)格部的線部107上設(shè)置的防銹層25B可以透明也可以不透明。
該防銹層25A、25B具有金屬層21和黑化處理23A、23B的防銹機能，而且也防止黑化處理層23A、23B的脫落。另外，令人驚奇的是，因為該防銹層25A、25B通過粘接劑層13和基材11層壓之后，保護該粘接劑層13。如上所述，根據(jù)需要也可以向金屬層21的另外的一面設(shè)置黑化處理23B和防銹層25B(追加防銹層25B)，也可以向金屬層21的兩面設(shè)置黑化處理23A、23B及防銹層25A、25B。最優(yōu)選的方式是向觀察側(cè)設(shè)置黑化處理23A和防銹層25A。
發(fā)明要點在現(xiàn)有技術(shù)中，進一步在防銹層上進行金屬層21的蝕刻，僅在線107部保留防銹層25A。但是，在本發(fā)明中發(fā)現(xiàn)，在蝕刻除去金屬層21整個層的時間使蝕刻停止，在基材11側(cè)的網(wǎng)格開口部105上保留防銹層25A，即，通過在整個面上設(shè)置防銹層25A，使該防銹層25A保護粘接劑層13。也就是，在現(xiàn)有的開口部105上，由于粘接劑層13露出，在蝕刻時受到蝕刻液的侵蝕而著色，或者由于剝離蝕刻后的抗蝕膜的堿性剝離液使粘接劑層劣化、變質(zhì)，導致粘結(jié)力降低，但采用本發(fā)明的防銹層25A時，可防止該現(xiàn)象，而且可以進一步防止蝕刻液的鐵或鈉產(chǎn)生的污染，及金屬(離子)使光線吸收劑產(chǎn)生的變褪色。
另外，通常電磁波屏蔽用薄片1多數(shù)將該基材11側(cè)作為觀察側(cè)，但在本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1中，由于在黑化處理層23A面，或根據(jù)需要在黑化處理層23A、23B上設(shè)置同物質(zhì)的防銹層25A、25B，即使在與基材11的相反面設(shè)置黑化處理層23B，也可以利用防銹層25B進行保護，因此，由于黑化處理層23B的粒子掉落等難于產(chǎn)生，故任何一側(cè)都容易作為觀察側(cè)。當將金屬層21作為觀察側(cè)時，由于接地用框部101(在功能上是電極部)露出，故容易接地線。另外，由于防銹層(追加防銹層)25B、黑化處理層23B是極薄的層，故不妨害地線接地。而且，接地用框部101通過黑化處理形成，可以借用形成黑化處理層23A或23B時的黑化處理，這在縮短工序、成本這方面有利。
在本說明書中，以CRT、PDP等的顯示器用的為主體記載本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1，當然，也可以用于顯示器以外的電磁波屏蔽。
另外，PDP以大型畫面為特征，電磁波屏蔽用薄片1的大小(外形尺寸)例如在37寸型號時為620×830mm左右，在42寸型號時為580×980mm左右，另外還有更大型的尺寸。因此，電磁波屏蔽用薄片的線條數(shù)隨網(wǎng)格的大小而不同，通常在縱向及橫向達到數(shù)千條。該線的寬度必須以“μm”單位的精度在一定范圍內(nèi)形成。當開口部105進行要求以外的著色時，則人們在觀察顯示器圖像時會感到極強的不適感。也就是說，本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片通過在包括開口部105的整個面上形成透明的防銹層25A，使粘接劑層13或基材11不著色，并且具有電磁波屏蔽性和適當?shù)耐该餍裕蕡D像的可視性好。另外，防銹層25A和粘接劑層13或后述的平坦化層29的折光率存在差值，相對的防銹層25A的折光率高，粘接層13或后述的平坦化層29的折光率低，并且也可以得到防止反射、對比度提高等的光學作用效果。
本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1的導電材料層109，在金屬層21的至少一面設(shè)置黑化處理23A和/或23B，而且，至少在該導電材料部109的基材11側(cè)的面上、在線部及開口部的任意一個位置也設(shè)置防銹層25A和/或25B。
在通過粘接劑層13層將該導電材料部109和透明的基材11層壓后，通過光致抗蝕膜法構(gòu)成網(wǎng)格狀。然后，向開口部105內(nèi)填充透明樹脂，作為平坦化層29，將金屬層側(cè)平坦化，另外，根據(jù)需要，設(shè)置吸收特定波長的近紅外線或吸收近紅外線和特定波長的可見光的光線吸收劑層31A、31B。當將這樣的電磁波屏蔽用薄片配置在顯示器前面時，屏蔽由顯示器發(fā)出的電磁波及近紅外線，消除粘接劑層內(nèi)的氣泡產(chǎn)生的霧、白化，消除網(wǎng)格的濃淡不均，黑或白的點狀線狀的缺點非常少，且具有適度的透明性，可良好地識別在顯示器上顯示的圖像。
制造方法的概述本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1中，首先，至少在觀察側(cè)，準備在黑化處理及基材11側(cè)設(shè)置了防銹層的導電材料層109，通過粘接劑向透明的薄膜狀基材11的一面層壓該導電材料層109后，向?qū)щ姴牧蠈?09面網(wǎng)格圖案狀地設(shè)置抗蝕層109a。在除去防銹層25A，利用蝕刻除去抗蝕層109a未覆蓋部分的導電材料層109后，也可以利用除去抗蝕層109a的光致抗蝕膜法進行制造。而且，可使用現(xiàn)有的設(shè)備，通過連續(xù)地進行所述的多個制造工序，可以高效率地生產(chǎn)高質(zhì)量的、合格率高的產(chǎn)品(圖8)。
對本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1的各層的材料及形成進行說明。
導電材料層屏蔽電磁波的導電材料層109具有金屬層21，該金屬層具有例如金、銀、銅、鐵、鎳、鉻等可以充分地屏蔽電磁波的導電性。金屬層21也可以不是單質(zhì)，可以是合金或多層。金屬層21是鐵的情況下，優(yōu)選低碳沸騰鋼及低碳鋁鎮(zhèn)靜鋼等的低碳鋼、Ni-Fe合金、殷鋼合金，另外，在進行陰極電沉積電鍍時，從容易進行電鍍考慮，優(yōu)選銅或銅合金箔。該銅箔可以使用輥軋銅箔、電解銅箔，從其厚度的均勻性、黑化處理和/或鉻酸鹽(處理)層的密封性、以及可以做成10m以下的薄膜等方面考慮，優(yōu)選電解銅箔。該金屬層21的厚度為1～100μm左右，優(yōu)選5～20μm。在該以下厚度時，容易利用光致抗蝕膜法進行網(wǎng)格加工，但是，金屬的電阻值增加，電磁波屏蔽效果受到影響。在該以上厚度時，不能得到希望的高精細的網(wǎng)格的形狀，結(jié)果，實際上開口率變低，光線透過率降低，而且視角也降低，圖像的可視性降低。這些金屬層21通過粘接劑層13將通常預先做成金屬層的物質(zhì)粘接在基材11上，層壓。但是，也可以利用非電解電鍍(或也可以在非電解電鍍層上進一步進行電解電鍍)、蒸鍍等方法直接在基材11上形成。此時，也可以省略粘接劑層13。
金屬層21的表面粗細度優(yōu)選Rz值為0.5～10μm。在該值以下時，即使進行黑化處理，外光也進行鏡面反射，使圖像的可視性劣化。在該值以上時，在涂布粘接劑或抗蝕劑等時，有時不能向整個表面涂布，有時產(chǎn)生氣泡。表面粗細度Rz是根據(jù)JIS-B0601測定的10點的平均值。
黑化處理為了使射向電磁波屏蔽用薄片1的外光吸收、提高顯示器圖像的可視性，需要對網(wǎng)格狀的導電材料部109的金屬層21的觀察側(cè)進行黑化處理，使其出現(xiàn)對比感。該黑化處理只要對金屬層面進行粗化和/或黑化處理就可以，可以使用金屬氧化物、金屬硫化物的形成及各種方法。在使用鐵的情況下，通常在水蒸氣中，在450℃～470℃左右的溫度下，暴露10～20分鐘，形成1～2μm程度的氧化膜(黑化膜)，也可以利用濃硝酸等試劑處理得到氧化膜(黑化膜)。另外，在采用銅箔的情況下，優(yōu)選進行陰極電沉積，使銅箔在硫酸、硫酸銅和硫酸鈷等構(gòu)成的電解液中進行陰極電解處理，使陽離子性粒子附著。通過設(shè)置該陽離子性粒子，使其進一步粗化，同時得到黑色。可以使用銅粒子、銅和其它的金屬的合金粒子作為該陽離子性粒子，優(yōu)選銅-鈷合金的粒子。
本說明書中是將粗化和黑色化一起稱作黑化處理。該黑化處理優(yōu)選的黑濃度為0.6以上。另外，黑濃度的測定方法使用COLOR CONTROLSYSTEM的GRETAG SPM100-11(Kimoto公司制、商品名)，作為觀察視角10度、觀察光源D50、照明類型設(shè)定為濃度標準ANSI T，在進行白色校準之后，測定樣品。另外，該黑化處理的光線反射率優(yōu)選5％以下。光線反射率根據(jù)JIS-K7105標準，使用霧計HM150(村上色彩公司制、商品名)進行測定。
合金粒子上述陽離子性粒子可以使用銅粒子、銅和其它的金屬的合金粒子，優(yōu)選銅-鈷合金粒子。當使用銅-鈷合金粒子時，黑化程度明顯提高，很好地吸收可見光。評價電磁波屏蔽用薄片的可視性的光學特性用JIS-Z8729標準中的表色系“L*、a*、b*、ΔE*”表示色調(diào)。該a*和b*的絕對值越小，導電材料部109越不能識別，圖像的對比感越提高，結(jié)果圖像的可視性越好。當使用銅-鈷合金粒子時，和銅粒子比較，可以使a*和b*減小至接近于0。
另外，銅-鈷合金粒子的平均粒子直徑優(yōu)選0.1～1μm。當粒子直徑超過該值時，增大銅-鈷合金粒子的平均粒子直徑，金屬層21的厚度變薄，在和基材11層壓的工序中，有時銅箔斷裂，使加工性惡化，另外，密集粒子的外觀的致密性缺乏，斑點狀明顯。在粒子直徑在上述值以下時，由于粗化不夠，使圖像的可視性變差。
防銹層為了在金屬層21和/或黑化處理中，防止防銹機能和黑化處理的脫落及變形，至少在使黑化處理過金屬層21的黑化處理層23A、23B上，設(shè)置防銹層25A和/或25B。該防銹層25A和25B可以使用鎳和/或鋅和/或銅的氧化物、或者鉻酸鹽處理層?？梢岳霉腻兏卜ㄐ纬涉嚭?或鋅和/或銅的氧化物，厚度為0.001～1μm左右，優(yōu)選0.001～0.1μm。
鉻酸鹽處理鉻酸鹽處理通過向被處理材料涂布鉻酸鹽處理液進行處理。該涂布方法可以使用輥涂法、簾幕法、擠壓涂布、靜電霧化法、浸漬法等，涂布后可以不水洗進行干燥。在單面處理鉻酸鹽處理時，利用輥涂法等涂布在單面，在兩面涂布時，可以用浸漬法。鉻酸鹽處理液通常使用含有3g/l CrO2的水溶液。另外，也可以向鉻酸酐水溶液中添加不同的羥基羧酸化合物，也可以使用將一部分6價鉻還原為3價的鉻酸鹽處理液。另外，根據(jù)6價鉻的附著量的多少使其由淡黃色變?yōu)楹稚?價鉻無色，通過控制3價和6價鉻，可以得到具有實用性的透明性。羥基羧酸化合物可以單獨使用或混合使用酒石酸、丙二酸、檸檬酸、乳酸、乙醇酸、丙三醇酸、托品酸、二苯基乙醇酸、羥基戊酸等。其還原性因化合物而異，通過控制向3價鉻的還原進行添加量的控制。
具體地說，例如有AlsurF 1000(日本顏料社制、鉻酸鹽處理劑商品名)PM-284(日本Parkerizing社制、鉻酸鹽處理液商品名)等。另外，在進一步提高黑化處理的效果方面，特別優(yōu)選鉻酸鹽處理。
只要黑化處理層23A、23B至少設(shè)置在觀察側(cè)，或防銹層25A、25B至少設(shè)置在基材11側(cè)就可以提高對比感，顯示器的圖像可視性優(yōu)良。另外，在另外一面，也就是在顯示器面一側(cè)也可以設(shè)置，可以抑制顯示器發(fā)出的迷光，因此進一步提高圖像的可視性。
然后，利用粘接劑13將透明的基材11層壓在防銹層25A上。
基材基材11的材料如果具有透明性，并且具有滿足使用條件或制造中的透明性、絕緣性、耐熱性、機械強度等，可以使用各種材料。例如有聚對苯二甲酸乙二酯·聚對苯二甲酸丁二酯·聚萘二甲酸乙二酯·聚對苯二甲酸乙二酯-間苯二甲酸酯共聚物·聚對苯二甲酸-環(huán)己烷二甲醇-乙二醇共聚物酯·聚對苯二甲酸乙二酯/聚萘二甲酸乙二酯的共擠壓膜等的聚酯系樹脂；尼龍6·尼龍66·尼龍610等聚酰胺系樹脂、聚丙烯·聚甲基戊烯等聚烯烴系樹脂、聚氯乙烯等乙烯系樹脂；聚丙烯酸酯·聚甲基丙烯酸酯·聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂；聚酰亞胺·聚酰胺酰亞胺·聚醚酰亞胺等酰亞胺系樹脂；多芳化樹脂·聚砜·聚醚砜·聚苯醚·聚苯硫醚(PPS)·聚芳酰胺·聚醚酮·聚醚腈·聚醚醚酮·聚醚硫化物等工程樹脂；聚碳酸酯、聚苯乙烯等苯乙烯系樹脂等。
基材11可以是以上述樹脂為主成分的共聚樹脂、或混合體(含有合金)，或者由多層構(gòu)成的層壓體。該基材可以是拉伸膜、也可以是未拉伸膜。為了提高強度，優(yōu)選單軸方向或雙軸方向拉伸的膜。該基材的厚度通常可以使用12～1000μm左右，優(yōu)選采用50～700μm，更優(yōu)選采用100～500μm。該厚度小于上述值時，機械強度不夠，產(chǎn)生彎曲或下沉，超過上述值時，性能過高，成本上浪費。
基材11使用上述樹脂的至少一層構(gòu)成的膜、薄片、板狀物。本說明書中將上述形狀通稱為膜。通常因為聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系的膜透明性、耐熱性好，成本也便宜，優(yōu)選使用，最優(yōu)選使用聚對苯二甲酸乙二酯。另外，透明性越高越好，優(yōu)選可見光線透過率為80％以上。
基材11也可以在涂布之前，向涂布面進行電暈放電處理、等離子體處理、臭氧處理、火焰處理、底(也稱作錨涂、增粘劑、易粘劑)涂處理、預熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、堿處理等易粘接處理。該樹脂膜根據(jù)需要也可以添加填充劑、增塑劑、防靜電劑等添加劑。
層壓法層壓法(也稱復合)是對基材11或?qū)щ姴牧蠈?09之一，根據(jù)需要涂布粘接劑或粘合劑，干燥，加熱或不加熱條件下進行加壓，通過粘接劑13粘接基材11和導電材料層109。然后，根據(jù)需要也可以在30-80℃的溫度下進行老化(熟化)。另外，基材11本身或基材11為多層，層壓面如果是熱粘接性的樹脂如離子鍵聚合物樹脂，乙烯-乙酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物等，只要在加熱下進行加壓就可以。
粘接劑粘接劑13沒有特別限定，例如可以使用丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物樹脂等。另外，優(yōu)選操作者稱作干式復合法(也稱作干復合)的方法，該方法中蝕刻液引起的染色或劣化少，并且使用加工特性好的熱硬化型樹脂。而且，也優(yōu)選由紅外線(UV)、電子線(EB)等電離放射線進行硬化(反應)的電離放射線固化型樹脂。電離放射線硬化型樹脂使用例如聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環(huán)氧酯等預聚物(乃至低聚物)、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等單體、或者這些混合物(在此(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯)。
干式復合重疊干式復合法是使粘接劑分散或溶解在涂布溶劑中，涂布該粘接劑使其干燥，將粘貼基材重疊層壓之后，在30～120℃進行數(shù)小時～數(shù)日老化，使粘接劑硬化，將兩種材料層壓。另外，也可以使用改進該層合法的無溶劑干式復合法，不向溶劑中分散或溶解，直接涂布粘合劑，使其干燥，將粘貼基材反復層壓之后，在30～120℃進行數(shù)小時～數(shù)日老化，使粘接劑硬化，由此，將兩種材料層壓。
干式復合法或無溶劑干式復合法中使用的粘接層的粘接劑可以使用由熱或紫外線·電子線等電離放射線硬化的粘接劑。熱硬化粘接劑具體的可以使用例如2液固化型的粘接劑、聚酯聚氨酯系樹脂、聚醚聚氨酯系樹脂或丙烯酸聚氨酯系樹脂等聚氨酯系粘接劑；丙烯酸系粘接劑；聚酯系粘接劑；聚酰胺系粘接劑；聚乙酸乙烯系粘接劑；環(huán)氧系粘接劑；橡膠系粘接劑等，優(yōu)選使用2液硬化型聚氨酯系粘接劑。
該2液硬化型聚氨酯系樹脂具體的是例如由多官能異氰酸酯和含有羥基的化合物的反應得到的聚合物；具體的說，例如，多官能異氰酸酯二異氰酸甲苯酯、二異氰酸二苯基甲酯、聚異氰酸聚甲叉聚苯酯等芳香族聚異氰酸酯，或者二異氰酸六甲酯、二異氰酸二甲苯酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂肪族(乃至脂環(huán)式)聚異氰酸酯等多官能異氰酸酯，與聚醚系聚醇、聚酯系聚醇、聚丙烯酸酯聚醇等含有羥基的化合物進行反應而得到的2液型聚氨酯系樹脂。
優(yōu)選的粘合劑是使無蝕刻液引起的染色、劣化的苯乙烯-馬來酸共聚物改性后的聚酯聚氨酯和脂肪族聚異氰酸酯配合使用。
在干式復合法中，將以這些為主成分的粘接劑組合物溶解或分散在有機溶劑中，將其利用涂布法如輥涂法、反轉(zhuǎn)涂布法、凹版涂布法、凹版反轉(zhuǎn)涂布法、凹版膠印涂布法、吻合涂布法、拉絲錠涂布法、刮刀式涂布法、刮板式涂布法、浸漬涂布法、流動涂布法、噴霧涂布法等進行涂布，使溶劑等干燥，可以形成本發(fā)明的干復合用粘接層。優(yōu)選使用輥涂法、反轉(zhuǎn)涂布法。
該粘接層13的膜厚為0.1～20μm(干燥狀態(tài))左右，優(yōu)選1～10μm。在形成該粘接層后，立刻將粘貼基材層壓，之后在30～120℃下老化數(shù)小時～數(shù)日，由此使粘接劑硬化，進行粘接。該粘接劑的涂布面可以是基材側(cè)、導電材料部側(cè)中的任何一種。優(yōu)選在粗化了的銅箔側(cè)，處理整個粗面，抑制層壓體產(chǎn)生氣泡。
無溶劑干式復合法基本和干式復合法相同，在使粘接劑組合物不向有機溶劑溶解或分散的條件下，直接使用粘接劑組合物，根據(jù)需要為了降低粘度，有時可以加熱加溫粘接劑組合物。
粘合劑粘合劑可以使用公知的壓敏型粘接劑。粘接劑沒有特別限定，例如可以使用天然橡膠系、丁基橡膠·聚異戊二烯·聚異丁烯·聚氯丁二烯·苯乙烯-丁二烯共聚樹脂等合成橡膠系樹脂，二甲基聚硅氧烷等硅系樹脂，丙烯酸系樹脂、聚乙酸乙烯·乙烯-乙酸乙烯共聚物等乙酸乙烯系樹脂，聚氨酯系樹脂，丙烯腈，烴樹脂，烷基酚醛樹脂，松香·松香甘油三酸酯·氫化松香等松香系樹脂。
橡膠系粘合劑這里，有效的橡膠系粘接劑是在氯丁橡膠、丁腈橡膠、丙烯酸橡膠、苯乙烯丁二烯橡膠、苯乙烯異戊二烯苯乙烯、苯乙烯丁二烯苯乙烯、苯乙烯乙烯丁二烯苯乙烯、丁基橡膠、聚異丁二烯橡膠、天然橡膠、聚異戊二烯橡膠等粘接橡膠中的一種或多種中，配合如下增粘材料中的一種或多種，即酚醛系樹脂、改性酚醛系樹脂、酮樹脂、醇酸樹脂、松香樹脂、苯并呋喃樹脂、苯乙烯系樹脂、石油樹脂、氯乙烯系樹脂等。
橡膠系粘合劑和丙烯酸系粘接材料相比，其耐試劑性、耐膨潤性、耐溫度性、粘合性以及剝離強度好，所以，粘接部分即使在酸性或堿性物質(zhì)中暴露也不剝離。另外，橡膠系粘接材料在酸性或堿性的試劑中幾乎不水解，粘接壽命長。
通過粘合劑形成粘接劑層將這些樹脂或這些樹脂或這些混合物做成膠乳、水分散液、或者有機溶劑液，利用絲網(wǎng)印刷或刮刀式涂布等公知的印刷或涂布法進行印刷或涂布，根據(jù)需要使其干燥后，可以和另外一種材料重疊加壓。
圖5A及圖5B是說明在滾筒狀卷取時進行加工的平面圖和側(cè)面圖。
具體的層壓方法通常以帶狀連續(xù)地滾筒狀卷取(也稱作卷取輥)進行。圖5(A)是為平面圖，從卷取輥解開，并伸展的狀態(tài)下，電磁波屏蔽用薄片1以特定間隔粘附在面上，圖5B是側(cè)面圖，導電材料層109和基材11被層壓。首先，在卷取輥的金屬層21上形成黑化處理層23A、23B及防銹層25A、25B，得到導電材料層109。其次，在向?qū)щ姴牧蠈?09的防銹層中涂布粘接劑13，使其干燥之后，使基材11重疊、加壓。而且根據(jù)需要，在30～80℃的氣氛中進行數(shù)小時～數(shù)日的老化(熟化、硬化)，做成卷取輥2。
光致抗蝕膜法如圖8，向該層壓體的導電材料層109面網(wǎng)格圖案形狀地設(shè)置抗蝕層19a，利用蝕刻法除去抗蝕層109a未覆蓋部分的導電材料層之后，利用除去抗蝕層109a的光致抗蝕膜法做成網(wǎng)格狀。
掩膜法首先，將基材11和導電材料層109的層壓物的導電材料層109面利用光致抗蝕膜法做成網(wǎng)格狀。該工序也對以帶狀連續(xù)地進行卷取的滾筒狀的層壓體進行加工。將該層壓體連續(xù)地或者間歇地進行運送，同時，在不松馳伸展的狀態(tài)下進行掩膜、蝕刻、抗蝕層剝離。
首先，掩膜在例如向?qū)щ姴牧蠈?09上全面涂布感光性抗蝕層109a，并干燥之后，利用特定的圖案(網(wǎng)格的線部)版(光掩膜)進行印相曝光，曝光成規(guī)定的圖案形狀。在感光性抗蝕劑為負型(曝光部硬化)時，形成開口部遮光、線部透光的圖案。另外，在感光性抗蝕劑為正型(曝光部溶解)時，形成開口部透光、線部遮光的圖案。曝光的光源使用例如水銀燈。進行水顯影，硬膜處理等，烘烤。
抗蝕劑采用如下方法進行涂布，即，將滾筒狀卷取的帶狀層壓體(基材11和導電材料層109)連續(xù)地或者間歇地進行運送，同時向該導電材料層109面上，用浸漬法(浸漬)、簾幕法、溢流法等方法涂布酪蛋白、PVA、明膠等感光性抗蝕劑。另外，也可以不涂布抗蝕劑，可以使用干膜抗蝕劑，提高操作性。在酪蛋白的情況下，在200～300℃下進行烘烤，為了防止層壓板翹起，盡可能優(yōu)選低溫度。
蝕刻掩膜后進行蝕刻(腐蝕)。該蝕刻中使用的蝕刻液，優(yōu)選適合本發(fā)明連續(xù)進蝕刻，連續(xù)蝕刻進行的本發(fā)明中容易循環(huán)使用的氯化鐵、氯化銅溶液。另外，該蝕刻工序與將帶狀且連續(xù)地的鋼材、特別是厚度20～80μm的薄板進行蝕刻，制造彩色電視顯象管用的屏蔽設(shè)備的工序基本相同。也就是，可以使用制造該屏蔽已有的制造設(shè)備，可以從掩膜到蝕刻一起連續(xù)地進行生產(chǎn)，效率非常高。蝕刻后可在水洗、利用堿液進行抗蝕劑剝離、洗凈之后，進行干燥。
防著色效果在進行該蝕刻時，由于向整體上噴附蝕刻液，故金屬層21之外的部分也受到蝕刻液的破壞。尤其是形成開口部105之后，在現(xiàn)在的情況下，粘接劑層13露出，該粘接劑層13受蝕刻液的影響而著色。當著色時，由JIS-Z8729中準備的表色系“L*、a*、b*、ΔE*”表示的色調(diào)中，該L*、a*、b*變大，圖像的可視性降低。
但是，在本發(fā)明中，不僅在線部107，而且在網(wǎng)格的開口部105也殘留存在于基材11側(cè)的防銹層25A。因此，該防銹層25A保護粘接劑層13。因此，該粘接劑層13不受蝕刻液的影響，不被著色，故圖像的可視性未降低。另外，與平坦化層29的粘接性也降低。
防剝離效果由于蝕刻后的抗蝕膜109a的剝離使用堿性剝離液剝離，因此，在現(xiàn)有技術(shù)中，粘接劑層13受堿液的影響而剝離。但是，在本發(fā)明中，由于在網(wǎng)格的開口部105上也殘留有防銹層25A，故該防銹層25A保護粘接劑層13。因此，該粘接劑層13不受堿性的剝離液影響，而未被剝離。
防污染效果在現(xiàn)有發(fā)明中，粘接劑層13被蝕刻液中的鐵或鈉污染，但在本發(fā)明中，由于防銹層25A保護粘接劑層13，也可以防止該污染。若沒有鐵或鈉的污染，當搭載于顯示器上、并在高溫多濕等特殊環(huán)境下暴露時，則不會出現(xiàn)罕有的電磁波屏蔽用薄片1表面的潮濕現(xiàn)象，外觀也優(yōu)良。理由雖尚不清楚，但推測是因為防銹層25A中金屬氧化物為主體，表面張力升高，水的浸潤性好。這樣，在開口部105部分也形成防銹層25A，可得到多種特異性的作用效果。
網(wǎng)格網(wǎng)格部103由多個具有開口部105的線107構(gòu)成。開口部105的形狀沒有特別限制，例如可以使用正三角形、等腰三角形等三角形；正方形、長方形、菱形、梯形等四方形；五邊形、六邊形(龜甲形)、八邊形等多邊形；圓形、橢圓形等。這些多個開口部可以組合形成網(wǎng)格。
從開口率、網(wǎng)格的不可見性，以及圖像的可視性考慮，網(wǎng)格部103的線部107的直線部上的寬度W在特定值±30％的范圍內(nèi)，且連接與透明基板正交的線剖面(橫截面)的形狀中的上底和下底的堤(開口部周圍的側(cè)面)曲率半徑為所述金屬層厚度的1.5～3.0倍。網(wǎng)格部103的線寬W優(yōu)選5～25μm，線與線的節(jié)距設(shè)定為150～500μm。另外，關(guān)于后述的網(wǎng)格部103的外周部附近的1～50網(wǎng)格或0.15～15mm的部分，線部寬度的分布也可以設(shè)定在規(guī)定值±30％的范圍之外。
通常，在大型的等離子體顯示器面板用的電磁波屏蔽用薄板中，形成有數(shù)千條以上的直線，并各自相交。通過抑制該線部107的線寬的偏差，而且，限制連結(jié)線部107的線剖面的形狀上的上底和下底的堤側(cè)面部的曲率半徑。由此，可以得到電磁波屏蔽用薄片1，使該薄片1具有電磁屏蔽性及適當?shù)耐该餍?，網(wǎng)格的濃淡不均勻少，而且，特別是黑和白的點狀及線狀缺陷少，而且顯示光的偏差少，或者可以抑制外部光的反射，具有優(yōu)良的圖像可視性。
例如，線寬設(shè)定為14μm時，線部107的寬W＝14±4.2μm，范圍為W＝9.8～18.2μm，如果是該范圍內(nèi)的值，則不出現(xiàn)網(wǎng)格的濃淡不均勻、黑和/或白的點狀和線狀等缺點。如果線寬寬窄不同，則網(wǎng)格濃淡不均勻。另外，當寬窄差異大時，人們在觀察顯示器圖像時，寬部分形成黑點缺陷，窄的部分形成白點缺陷。當相對整體的圖像出現(xiàn)一個個和白點和/或黑點時，人會有一種非常強的不舒適感。
但是本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片1，利用連續(xù)光致抗蝕膜法來制造，將線寬的誤差設(shè)定在特定的范圍，由此使網(wǎng)格的濃淡不均勻產(chǎn)生的非常少，并且，沒有電磁波屏蔽性和透明性的問題。另外，在涂布抗蝕劑時，即使抗蝕劑液的飛沫粘附在不需要的位置時也發(fā)生網(wǎng)格的濃淡不均勻及黑和/白的點狀和線狀的缺點，但是，通過連續(xù)光致抗蝕膜法制造時，所述缺點非常少。
另外，從控制線寬部107的寬度W考慮，也可以除去與網(wǎng)格部103的外周相連部分的外周部的部分。這是因為有時網(wǎng)格部103結(jié)束，為了形成由整面金屬層21構(gòu)成的接地用框部101而規(guī)律性中斷，另外，在將線寬形成接地用框部101內(nèi)周周長的網(wǎng)格外周部，進行對著接地用框部暫時擴大寬度等另外目的的處理。該外周部距離接地用框部101的內(nèi)周1～50網(wǎng)格，或15～55mm，優(yōu)選1～25網(wǎng)格，或0.3～7.5mm。
如上所述，連結(jié)與線部107的透明基板11直交的線部107剖面形狀中的上底和下底的堤的曲率半徑為所述金屬層厚度的0.15～3.0倍，而且，為了使線寬為特定值±30％，此時通過抗蝕劑的種類及蝕刻工序進行控制。例如，優(yōu)選使用干抗蝕劑或液體抗蝕劑作為抗蝕劑，或者蝕刻條件優(yōu)選蝕刻液的波美度(液體比重單位)為35度以上，或者使用氯化銅或氯化鐵水溶液作為蝕刻液，使蝕刻液的溫度為35度以上，或者將蝕刻液的噴射硫酸設(shè)定為2000ml/分以上，而且，將噴霧噴嘴頭部搖擺，或左右搖動，進行蝕刻。
另外，為了控制線部107的曲率半徑、線寬，利用比欲得制品的線寬更大的前述圖案版的線寬，盡可能加大腐蝕的量，使蝕刻液的蝕刻速度減慢，這樣可以容易地進行曲率半徑、線寬的控制。
另外，將和透明基板直交的線部107用切片機切成薄片，噴濺上鉑鈀之后，用2000倍的電子顯微鏡對該線部107的剖面進行照相，從得到的照片、上底端值和下底端值推斷連結(jié)線部107中上底和下底的堤的曲率半徑。但是，利用蝕刻形成的堤的形狀不一定為真正的圓形，因此，可以是接近大致圓形的圓周線、梯形的斜線的線。
因此，含有上底右端和下底右端、或者上底左端和下底左端的線的部分，可以做成金屬層的厚度的1.5～3.0倍的曲率半徑。另外，曲率半徑不需要一定，也可以變化，可以容納在金屬層厚度的1.5～3.0倍的范圍。
另外，線構(gòu)成電磁波屏蔽用薄片下部面的偏移角，在圖1中例如為4 5度，但不限于此，為了消除莫爾條紋等，可以適當?shù)倪x擇添加顯示器的發(fā)光特性和像素的排列等。
平坦化當形成網(wǎng)格時，網(wǎng)格的線部107有金屬的厚度，開口部105除去金屬箔，形成空洞，其結(jié)果是開口部105相對于線部107形成相對的凹部。導電材料部109形成如上所述的凹凸狀態(tài)。該凹凸在以下工序中涂布粘接劑(或粘合劑)時，用該粘接劑等掩埋。但是，在形成網(wǎng)格后，在立刻向其它部件(例如)顯示器(表面板)貼入時，在露出凹凸的狀態(tài)下，不僅操作性劣化，該開口部105的凹部內(nèi)也殘留氣泡，氣泡和粘接劑的界面發(fā)生光散射，煙霧升高，形成白化的狀態(tài)，因此為了防止這樣的問題，優(yōu)選掩埋該凹部，使之平坦化。
該平坦化是將透明透明樹脂涂布、填充、埋入在凹部。但是，當不進入至凹部的每個角落時，殘留氣泡，透明性變差。為此，用溶劑等稀釋，以低粘度涂布，使之干燥，或者邊脫空氣邊涂布，形成平坦層29。
平坦層29透明性強，和構(gòu)成網(wǎng)格的金屬的粘接性好，只要是和下工序的粘接劑的粘接性好的物質(zhì)就可以。但是，當平坦層29的表面有凸起、凹陷、不均勻時，在平坦層29上涂布粘接劑，并與其它被粘合體32層壓時的粘接劑中的氣泡殘留效果也不完全。另外，將電磁波屏蔽用薄片設(shè)置在顯示器前面時，因為產(chǎn)生真紋、干涉斑點、牛頓環(huán)，故不優(yōu)選。優(yōu)選的方法是利用溶劑稀釋作為樹脂的熱或紅外線硬化樹脂，并在低粘度化的狀態(tài)下進行涂布，使該樹脂流動填充入開口部105的整個凹部內(nèi)，在使溶劑干燥后，用平面性好而且具有剝離性的基材層壓，用熱或紅外線使涂布樹脂硬化，剝離剝離性基材并將其除去。平坦層29的表面被平面性基材的表面轉(zhuǎn)印，形成平滑的面。剝離性基材例如有，例如將硅樹脂作為脫模層在表面涂布兩軸延伸聚乙烯對苯二酸鹽。
該平坦層29使用的樹脂沒有特別限定，可以使用各種天然或合成樹脂、熱或電離放射線硬化樹脂等，考慮樹脂的耐久性、涂布性、容易平坦化程度、平面性等，優(yōu)選使用由聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環(huán)氧酯等預聚物(或低聚物)、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等單體，或這些預聚物和單體的混合物構(gòu)成的紫外線硬化樹脂。
近紅外線吸收劑優(yōu)選向平坦層29使用的樹脂內(nèi)，添加吸收近紅外線的特定波長區(qū)域的紅外線吸收劑。通過吸收近紅外線的特定波長區(qū)域，屏蔽由顯示器輻射的近紅外線，可防止該近紅外線對遠距離操作裝置等近紅外線起動設(shè)備引起誤操作。在此，近紅外線的特定波長為780～1200nm左右。特別優(yōu)選吸收800～1100nm波長區(qū)域的80％以上的紅外線。該近紅外線吸收劑(稱為NIR吸收劑)沒有特別限定，可適用近紅外線區(qū)域有強的吸收，可見光區(qū)域的光透過性高，且可見光區(qū)域沒有特定波長大的吸收的色素等。NIR吸收劑使用酞菁系化合物、亞銨(immonium)系化合物、二亞銨(diimmonium)系化合物、二硫醇金屬配合物系化合物等。這些NIR吸收劑可以單獨使用一種，優(yōu)選混合兩種以上。例如有二亞銨系化合物和酞菁系化合物的混合系。另外，作為由PDP發(fā)光的可見光區(qū)域，由于通常作為氖原子的發(fā)光光譜的橙色多，故在可見光中優(yōu)選含有某種程度吸收570～605nm附近區(qū)域的色調(diào)修正用光吸收劑。該色素有菁系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、二硫醇系配合物等。這些近紅外線吸收劑和色調(diào)修正用光線吸收劑根據(jù)需要條件任意一種或兩種。
NIR吸收層NIR吸收層31B、31A分別設(shè)置于平坦層29側(cè)和/或相反側(cè)的基材11側(cè)。在向平坦層29面設(shè)置時，其是圖1所示的NIR吸收層31B，在向基材11面設(shè)置時，其是圖1所示的NIR吸收層31A。NIR吸收層31B及NIR吸收層31A利用粘接劑層壓具有NIR吸收劑的市售薄膜(例如東洋紡績公司制、商品名No2832)，或也可以使粘合劑中含有先前的NIR吸收劑進行涂布。粘合劑可使用聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂，及由熱或紫外線等硬化的、利用環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、異氰酸酯基團等進行反應的硬化型等樹脂。
本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片一般通過粘接劑層與其它被覆體層壓來使用。被覆體32可列舉透明基板(保護B層至增強層)、進一步在該透明基板上形成防止反射層、硬涂布層、防污層、防眩層等而形成的各種功能性薄片、或顯示器主體等。被覆體可具有基材11側(cè)、導電材料部109側(cè)或其兩側(cè)的任意一個。圖7表示的是在導電材料部109側(cè)層壓被覆體32的情況。在此圖中，通過粘接劑層33在導電材料部上層壓被覆體32。此時，若不注意使開口部內(nèi)的空氣被粘接劑充分置換，開口部內(nèi)將殘留氣泡B。此時，粘接劑層33不是直接導電材料部109，如在平坦層29(通過其在)上面涂布粘接材料，則可防止氣泡B在這種粘接劑33中的殘留。
防反射層也可以向電磁波屏蔽用薄片的觀察側(cè)設(shè)置防反射層(稱為AR層)。防反射層因為是用于防止可見光的反射的，市售的其結(jié)構(gòu)多為單層或多層多種。多層的反射層是交替地層壓了高折光率層和低折光率層的反射層，高折光率層由氧化鈮、氧化鈦、氧化鋯、ITO等，低折光率層有硅氧化物、氟化鎂等。另外，有的也具有散射外光的微細的凹凸表面的層。
強化涂層、防污層、防眩層在防反射(AR)層中，也可以設(shè)置強化涂層、防污層、防眩層。強化涂層是通過JIS-K5400的鉛筆硬度試驗具有H以上硬度的層，利用熱或電離放射線，使聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯等多官能團(甲基)丙烯酸酯硬化。防污層是具有疏水性、疏油性的涂層，可以應用硅氧烷系、氟化烷基甲硅烷基化合物等。防眩層是使外部光散射的具有微細凹凸表面的層。
薄片化如上所述，切斷以連續(xù)的帶狀的滾筒狀卷取時制造的部件，得到每一片的電磁波屏蔽用薄片1。將該電磁波屏蔽用薄片1向作為被覆體的玻璃、樹脂等透明的基板粘貼，根據(jù)需要，和AR層、強化涂層、防污層、防眩層組合，形成顯示器前面板。該基板在大型的顯示器上具有厚度為1～10mm的剛性，另外，在數(shù)字顯示管等的小型的顯示器上使用厚度為0.01～0.5mm的樹脂膜，可以根據(jù)顯示器的大小及用途進行適當?shù)剡x擇。也可以直接粘貼在顯示器的前面，進行層壓。
下面是一種向顯示器表面直接層壓本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片的方式。
直接粘貼對直接粘接進行說明。這種情況下，形成網(wǎng)格狀的金屬層側(cè)形成觀察側(cè)，在該金屬層側(cè)至少可以設(shè)置黑化處理層。因為接地用框部101露出表面，使電極容易拉出，容易接地。另外，平坦層不設(shè)置在接地用框部101上。另外，防銹層25B、黑化處理層23B是非常薄的層，因此不妨礙地線接地。另外由于該接地用框部101被黑化處理，黑的面形成觀察側(cè)，因此，不需要前面玻璃板進行設(shè)置成框緣狀的黑色印刷，可以縮短工序，降低成本。
下面，說明具體的實施例。
實施例1作為含有金屬層21的導電材料層109，準備由平均粒子直徑0.3μm的銅-鈷合金粒子構(gòu)成的黑化處理層23A、23B和具有進一步在其上設(shè)置的鉻酸鹽(處理)層25A、25B的厚度10μm的電解銅箔。使將該銅箔鉻酸鹽處理層面?zhèn)群秃穸?00μm的透明雙軸拉伸的PET(聚對苯二甲酸乙二酯)薄膜A4300(東洋紡績公司制、商品名)，用2液硬化型聚氨酯系粘接劑進行疊合后，在56℃下老化4天。粘接劑使用由主劑TAKERAKKU A-310(聚醇)和硬化劑A-10(異氰酸酯)(都是武田藥品工業(yè)公司制、商品名)，以干燥后的厚度為7μm的量進行涂布。鉻酸鹽處理使用0.1％濃度的Alsurf 1000(Nippon Paint公司制，鉻酸鹽處理劑，商品名)，在40℃下浸漬1分鐘，進行處理，在水洗后80℃下進行10分鐘干燥。
然后，利用光致抗蝕膜法，使用彩色TV萌罩用的生產(chǎn)線，從形成掩膜到蝕刻，以連續(xù)的帶狀形成網(wǎng)格。首先，采用溢流法向整個層合膜的導電材料外表涂布由酪蛋白構(gòu)成的感光性抗蝕劑。向下一站運送，使用開口部是正方形，線寬為22μm、線間隔(節(jié)距)為300μm，偏移角度49度、接地用框部的寬度5mm的圖案版(光致掩膜)，使用水銀燈進行密封曝光。然后，一個一個地運送過站，同時進行水顯影，進行硬膜處理，再在80℃下進行烘烤處理。
再向下一站運送，使用40℃下、40°波美的氯化鐵溶液作為蝕刻液，用使側(cè)面蝕刻有效的噴霧法吹氣，蝕刻、除去開口部的電解銅箔、黑化處理層，在位于基材側(cè)的鉻酸鹽處理層殘留的狀態(tài)下，形成網(wǎng)格的開口部。然后，一個一個地將其運送至下一站，同時水洗、剝離抗蝕膜、洗凈，再在80℃干燥，得到實施例1的電磁波屏蔽用薄片。
實施例2在鉻酸鹽(處理)層中含有氧化鋅，除此之外，其它和實施例1相同，得到實施例2的電磁波屏蔽用薄片。
實施例3利用電鍍法使用氧化鎳取代鉻酸鹽(處理)層除此之外，其它和實施例1相同，得到實施例3的電磁波屏蔽用薄片。
實施例4利用電鍍法使用氧化鎳及氧化鋅取代鉻酸鹽(處理)層，除此之外，其它和實施例1相同，得到實施例4的電磁波屏蔽用薄片。
實施例5利用電鍍法使用氧化鎳、氧化鋅及氧化銅取代鉻酸鹽(處理)層，除此之外，其它和實施例1相同，得到實施例5的電磁波屏蔽用薄片。
比較例1不設(shè)置基材側(cè)的鉻酸鹽(處理)層25A，除此之外，其它和實施例1相同，得到比較例1的電磁波屏蔽用薄片。
實施例6向?qū)嵤├?的電磁波屏蔽用薄片的網(wǎng)格部表面涂布下述組成的平坦層組成物，將厚度為50μm的SP-PET20-BU(Tosero公司制、表面脫模處理PET薄膜商品名)進行層合之后，使用高壓水銀燈進行200mj/cm2的曝光(換算成365nm)。并且，當剝離SP-PET20-BU時，利用平坦層組成物填充網(wǎng)格部的開口部，得到平坦化的實施例2的電磁波屏蔽用薄片。
平坦化層組合物使用N-乙烯-2-吡咯烷酮20質(zhì)量份、二環(huán)戊烯基丙烯酸酯25質(zhì)量份、低聚酯丙烯酸酯(東亞合成(株)制、M-8060)52質(zhì)量份、1-羥基環(huán)己基苯基酮(Ciba-Geigy公司制、IRUGACURE184)3質(zhì)量份。
實施例7在實施例6的平坦層組成物中，使其含有硫醇-鎳配合物1質(zhì)量份，除此之外，其它和實施例6相同，得到電磁波屏蔽用薄片。
實施例8利用粘接劑向?qū)嵤├?的平坦層層壓NIR薄膜No2832(東洋紡織公司制，商品名近紅外線吸收薄膜)，除此之外，其它和實施例6相同，得到電磁波屏蔽用薄片。
實施例9直接粘貼使PET薄膜和不是銅-鈷合金粒子的鉻酸鹽(處理)層的面層合，除此之外，其它和實施例1同樣，而且，和實施例6相同形成平坦層，得到實施例9的電磁波屏蔽用薄片。
在PDP屏上搭載實施例及比較例的電磁波屏蔽用薄片，目測觀察顯示圖像的可視性，另外，測定近紅外線吸收性能。
結(jié)果在實施例1～8中，在PDP顯示器上顯示的圖像沒有閃耀，也沒有白和/或黑的點狀、線狀缺陷、霧(白化)，可視性良好。測定光透過率，可知，波長800～1100mm區(qū)域的近紅外線透過率小于20％。在實施例9的電磁波屏蔽用薄片中，利用粘接劑在PDP顯示器上設(shè)置了基材面時，顯示光反射的迷光也少，沒有閃耀，圖像的可視性良好，而且，引出電極的工序數(shù)減少，也不需要設(shè)置在玻璃基板上的框緣狀黑印刷。
另外，利用熒光X線分析裝置(RIX3000、Rigaku公司制，商品名)對實施例1～9的粘接劑層測定了Fe、Na，但未檢測出，開口部也沒有白濁、著色。而且，將其設(shè)置在PDP顯示器上，連續(xù)10小時進行圖像顯示，未見異常。
在比較例1中，開口部呈若干白濁，在PDP顯示器上顯示的圖像上，對比感不好，可視性也不好。
根據(jù)本發(fā)明的電磁波屏蔽用薄片，將薄片配置在CRT、PDP等顯示器的前面，屏蔽由顯示器發(fā)出的電磁波，且網(wǎng)格的線部分看不清，滿足電磁波屏蔽性、透明性的這兩個特性，且也可以將任何面作為觀察面，可良好地識別圖像。
權(quán)利要求
1.一種電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，包括透明的基材，設(shè)于基材一面上的透明的防銹層，和設(shè)于防銹層上、且具有形成開口部的線部的網(wǎng)格狀金屬層；其中，防銹層設(shè)置在對應于線部和開口部的部分這兩部分。
2.如權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，金屬層的線部線寬為5～25μm，線部間的節(jié)距為150～500μm。
3.如權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在金屬層的一側(cè)設(shè)有黑化處理層。
4.如權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在與金屬層的基材相反的面上設(shè)有追加防銹層。
5.如權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，向網(wǎng)格狀金屬層的開口部內(nèi)填充透明樹脂，金屬層和透明樹脂呈平坦狀。
6.如權(quán)利要求5所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，向網(wǎng)格狀金屬層的開口部填充的透明樹脂含有吸收可見光中波長570～605nm區(qū)域的光的色調(diào)修正用光線吸收劑和/或吸收近紅外線波長800～1100nm區(qū)域的光的近紅外線吸收劑。
7.如權(quán)利要求4所述的電磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在基材或追加防銹層的任一外側(cè)，設(shè)有吸收可見光中波長570～605nm區(qū)域的光的色調(diào)修正用光線吸收劑層和/或吸收近紅外線波長800～1100nm區(qū)域的光的近紅外線吸收劑層。
全文摘要
電磁波屏蔽用薄片1具有透明的基材11，和至少向透明的基材一面設(shè)置的粘接劑層13、防銹層25A、網(wǎng)格狀金屬層21。另外，在金屬層21和防銹層25A之間設(shè)置著黑化處理層23A。網(wǎng)格狀金屬層21的至少開口部105用樹脂填充，金屬層21的面實際上處于平坦化狀態(tài)。
文檔編號B32B15/04GK1675973SQ038192
公開日2005年9月28日 申請日期2003年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月8日
發(fā)明者荒川文裕, 石井康英彥, 橋本大祐, 京田享博, 大石英司 申請人:大日本印刷株式會社