專利名稱：附有硬涂膜的基材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有與基材的粘附性好、耐擦惕性、膜硬度等均優(yōu)，同時(shí)靜電防止性能、透明性、霧度等得到改良的附有硬涂膜的基材。
背景技術(shù)：
為了提高玻璃、塑料片材、塑料透鏡等基材表面的耐擦傷性，已知可在基材表面形成硬涂膜，該膜通過(guò)在玻璃、塑料等表面形成有機(jī)樹(shù)脂膜或無(wú)機(jī)樹(shù)脂膜而制得。還通過(guò)在有機(jī)樹(shù)脂膜或無(wú)機(jī)膜中摻和樹(shù)脂粒子或二氧化硅等無(wú)機(jī)粒子，進(jìn)一步提高耐磨傷性。
此外，為了防止玻璃、塑料片材、塑料透鏡等基材表面的反射性，已知有在其表面形成防反射膜的方法，例如，用涂層法、蒸著法、CVD(化學(xué)蒸氣淀積)法等，在玻璃或塑料的基材表面形成如氟樹(shù)脂、氟化鎂等低折射率物質(zhì)的涂膜以及在基材表面塗布含有二氧化硅微粒子等低折射率微粒子的塗布液，形成反射防止涂膜的方法(例如，參照特開(kāi)平7-133105號(hào)公報(bào)等)。此外，為了使基材具有靜電防止性能、電磁波屏蔽性能，還采用了形成含有金屬微粒子、導(dǎo)電性的氧化物微粒子的導(dǎo)電性涂膜的方法。
如上述，在形成有防反射膜及/或?qū)щ娦酝磕さ那闆r下，為了提高耐擦傷性，還采用了在基材和防反射膜及/或?qū)щ娦酝磕ぶg形成硬涂膜的方法。
但是，迄今為止的硬涂膜，特別是基材為樹(shù)脂制的基材時(shí)，存在著和基材的粘附性或膜自身的耐擦傷性不理想的問(wèn)題。
此外，在硬涂膜上，形成有防反射膜及/或?qū)щ娦酝磕さ那闆r下，迄今為止的硬涂膜總會(huì)由于在硬涂膜形成后產(chǎn)生擦傷、由靜電引起的灰塵附著而出現(xiàn)最終制成的附有導(dǎo)電性涂膜的基材其透明性或霧度變差、制品的合格率下降的問(wèn)題。
因此，渴望開(kāi)發(fā)附有一種既可進(jìn)一步提高與基材的粘附性、耐擦傷性，又可防止灰塵等附著的硬涂膜的基材。
就此類迄今為止使用的硬涂膜而言，如果增加其膜厚，則降低了經(jīng)濟(jì)性及膜的透明性，PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)等柔軟的基材，還出現(xiàn)翹曲或彎曲等變形。硬涂膜的膜厚在約5μm以下時(shí)，根據(jù)膜中使用的粒子，例如，樹(shù)脂粒子、無(wú)機(jī)粒子、導(dǎo)電性粒子等種類的不同，出現(xiàn)了涂料用樹(shù)脂難以硬化的情況，還可用膜厚而不能硬化的情況。
該狀況下，為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明者進(jìn)行了深入的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，如果在硬涂膜中摻和導(dǎo)電性粒子，產(chǎn)生的靜電通過(guò)導(dǎo)電性粒子除去，從而可抑制灰塵等的附著。
特別是導(dǎo)電性粒子通過(guò)使用具有特定粒徑的五氧化銻粒子，令人驚奇地發(fā)現(xiàn)，可制得上述問(wèn)題均可得到解決的硬涂膜。
此外還發(fā)現(xiàn)，如果使用五氧化銻，則在形成硬涂膜時(shí)，可促進(jìn)塗布液中所含的涂膜成分的硬化，對(duì)于特定厚度的硬涂膜可進(jìn)行極有效的涂膜硬化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供附有硬涂膜的附有涂膜的基材，該硬涂膜具有下述特征既具有與基材的粘附性、耐擦惕性、膜硬度等優(yōu)良的特性，又具有優(yōu)良的生產(chǎn)性等，且灰塵等附著少。
本發(fā)明是關(guān)于附有硬涂膜的基材，它由基材和基材上形成的硬涂膜組成，其特征在于，該硬涂膜含有母料成分和五氧化銻(Sb2O5)粒子，該五氧化銻粒子的平均粒徑在2-100nm的范圍，硬涂膜中的五氧化銻粒子的含量在5-95重量％的范圍。
上述母料成分以熱固性樹(shù)脂或紫外線固性樹(shù)脂為宜。
上述硬涂膜的膜厚較好是在0.1-20μm的范圍。
上述硬涂膜的膜厚更好是在0.2-10μm的范圍。
以在上述硬涂膜上還形成有防反射膜為宜。
在上述硬涂膜和反射膜之間還可形成有中間膜。
實(shí)施發(fā)明的最佳方式以下對(duì)本發(fā)明的附有硬涂膜的基材進(jìn)行說(shuō)明。
本發(fā)明的附有硬涂膜的基材是由基材和基材上形成的硬涂膜組成。
基材本發(fā)明所使用的基材，公知的物質(zhì)可沒(méi)有特別限定地使用，可列舉玻璃、聚碳酸酯、丙烯酸樹(shù)脂、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、TAC(三聚氰酸三烯丙酯)等塑料片材、塑料膜等、塑料板等。其中，樹(shù)脂系基材可較好地被使用。硬涂膜硬涂膜的特征為，它含有母料成分和五氧化銻粒子。五氧化銻粒子的平均粒徑在2-100nm的范圍，硬涂膜中的五氧化銻粒子的含量在5-95重量％的范圍。
五氧化銻粒子本發(fā)明使用的五氧化銻粒子，其平均粒徑在2-100nm的范圍，以在5-80nm的范圍為宜。
五氧化銻粒子的平均粒徑低于上述范圍時(shí)，達(dá)不到提高與基材的粘附性或耐擦傷性、膜硬度的效果，根據(jù)情況還可能降低其效果，此外，由于粉體的抗力變大而達(dá)不到獲得理想的帶電防止性能的目的。
五氧化銻粒子的平均粒徑超過(guò)上述范圍的上限時(shí)，與五氧化銻粒子的含量也有一定的關(guān)系，但一般情況下會(huì)降低膜的透明性、發(fā)生膜的著色、霧度變高。
硬涂膜中五氧化銻粒子的含量作為Sb2O3較好是在5-95重量％、更好是在10-80重量％的范圍。
硬涂膜中五氧化銻粒子的含量作為Sb2O3如果不到上述范圍的下限時(shí)，則達(dá)不到理想的提高與基材的粘附性或耐擦傷性、膜硬度的效果，由于不具有理想的帶電防止性能而導(dǎo)致在得到的附有硬涂膜的基材上容易附著灰塵。因此，在下述設(shè)置有防反射膜及/或中間膜(導(dǎo)電膜、折射率調(diào)整膜)的基材的制造中，得到的基材透明性、霧度差，制品的合格率降低。
此外，在形成膜厚約在10μm以下、更進(jìn)一步在5μm以下、特別是在2μm以下的薄硬涂膜時(shí)，也會(huì)有諸如使涂料用樹(shù)脂硬化之類的硬化促進(jìn)效果不充分的情況。
硬涂膜中五氧化銻粒子的含量作為Sb2O3如果超過(guò)上述范圍的上限時(shí)，則會(huì)降低與基材的粘附性，產(chǎn)生孔隙，使硬涂層的硬度降低。得到的附有硬涂膜的基材的透明性、霧度不理想。此外，也不能使促進(jìn)涂料用樹(shù)脂硬化的效果得到進(jìn)一步提高。
硬涂膜中五氧化銻粒子的含量作為Sb2O3如果是上述范圍時(shí)，除可達(dá)到提高與基材的粘附性或耐擦傷性、膜硬度的效果及促進(jìn)膜硬化的效果之外，還可提高膜自身的折射率(Sb2O3的折射率為2.0)，即使在基材的折射率例如為1.55以下這樣的低折射率的情況下，或硬涂膜的母料的折射率例如為1.55以下這樣的低折射率的情況下，由于可增大硬涂膜和基材以及和根據(jù)需要形成的防反射膜的折射率差，因此可形成反射防止性能優(yōu)良的附有涂膜的基材。
上述五氧化銻粒子只要是公知的制造方法制造的，即可加以使用，沒(méi)有特別限定，作為具體的制造方法，只要是可得到平均粒徑在上述范圍、與基材具有充分的粘附性或硬度以及耐擦傷性的五氧化銻粒子即可，沒(méi)有特別限定，本申請(qǐng)的申請(qǐng)人申請(qǐng)的在特開(kāi)平2-180717號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的五氧化銻溶膠的制造方法，由于其粒徑均勻，可得到穩(wěn)定性、透明性等優(yōu)良的五氧化銻溶膠，因此該方法可較好地被采用。
詳細(xì)地說(shuō)，可用在特定摩爾比的三氧化銻和堿性物質(zhì)的混合物中以所定速度添加所定量的過(guò)氧化氫的方法進(jìn)行制造。
如本發(fā)明所述，使硬涂膜中含有五氧化銻粒子，可形成與基材的粘附性優(yōu)良，且具有優(yōu)良的耐擦傷性、膜硬度的硬涂膜。該效果即使在導(dǎo)電性氧化物粒子中，也只是五氧化銻粒子所特有的，氧化銦、摻錫氧化銦、低次氧化鈦等導(dǎo)電性氧化物粒子、三氧化銻粒子、金屬微粒子等沒(méi)有發(fā)現(xiàn)該效果。
其理由還不明確，可認(rèn)為是當(dāng)母料是熱固性樹(shù)脂時(shí)，五氧化銻粒子可促進(jìn)樹(shù)脂的硬化。
五氧化銻粒子以外的粒子，會(huì)延緩?fù)苛嫌脴?shù)脂的硬化或使其不硬化。這可認(rèn)為是五氧化銻粒子以外的粒子具有阻礙硬化的作用，而五氧化銻粒子具有抑制該作用的效果。
母料成分硬涂膜中所含的母料成分以樹(shù)脂母料為好。
該樹(shù)脂母料，具體可用作為涂料用樹(shù)脂的公知的熱固性樹(shù)脂、熱塑性樹(shù)脂等。
該樹(shù)脂例如可列舉，迄今為止使用的聚酯樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、聚苯醚樹(shù)脂、熱塑性丙烯酸樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、氟樹(shù)脂、乙酸乙烯酯樹(shù)脂、硅橡膠等熱塑性樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、密胺樹(shù)脂、有機(jī)硅樹(shù)脂、丁醛樹(shù)脂、反應(yīng)性硅樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、熱固性丙烯酸樹(shù)脂等熱固性樹(shù)脂。還可以是上述樹(shù)脂的2種以上的共聚物或變性物。
這些樹(shù)脂可以是乳液樹(shù)脂、水溶性樹(shù)脂、親水性樹(shù)脂。此外，熱固性樹(shù)脂的情況下，可以是紫外線固化型的，也可以是電子射線固化型的，熱固性樹(shù)脂的情況下，可含有固化催化劑。
本發(fā)明中，特別是在熱固性樹(shù)脂的情況下，摻和五氧化銻粒子后，效果(與基材的粘附性、耐擦傷性的提升效果)顯著。
硬涂膜的膜厚較好在0.1-20μm、更好在0.2-10μm、特好在0.2-5μm的范圍。
如果在該厚度的范圍內(nèi)，由于硬涂膜中含有五氧化銻粒子，因此，可獲得涂膜充分得到硬化且與基材的粘附性、耐擦傷性、膜硬度等優(yōu)良的、經(jīng)濟(jì)性也優(yōu)良的附有硬涂膜的基材。
硬涂膜的厚度不到上述范圍的下限時(shí)，由于硬涂膜薄，施加于硬涂膜表面的壓力不能充分吸收，因此，鉛筆硬度不理想。
硬涂膜的厚度超過(guò)上述范圍的上限時(shí)，由于涂布時(shí)難以使膜厚均勻，也難以進(jìn)行均勻的干燥，因此，發(fā)生龜裂或孔隙，得到的硬涂膜的強(qiáng)度、透明性不夠理想。
可通過(guò)形成上述母料成分的母料形成成分和含有上述五氧化銻粒子的塗布液進(jìn)行涂布、形成該硬涂膜。
為了調(diào)制處于均勻分散狀態(tài)的塗布液，在調(diào)制塗布液時(shí)，以使五氧化銻粒子分散于分散介質(zhì)中的溶膠的形式使用為好。
分散溶膠可為水分散溶膠、也可為分散于醇等有機(jī)溶劑的有機(jī)溶劑分散溶膠。
此外，五氧化銻粒子也可為其表面用公知的有機(jī)硅耦聯(lián)劑處理過(guò)的物質(zhì)。
將用上述方法調(diào)制的分散溶膠和母料形成成分用適當(dāng)?shù)娜軇┫♂?，可制得硬涂膜形成用塗布液。此外，為了提高塗布液的分散性、穩(wěn)定性，也可添加表面活性劑。
塗布液中還可含有既可溶解母料形成成分，又易揮發(fā)的溶劑，母料形成成分為熱固性樹(shù)脂時(shí)，根據(jù)需要還可摻和固化劑。
將該塗布液用浸涂法、噴霧法、旋轉(zhuǎn)器法、輥式涂布法等公知的方法涂布于基材上、進(jìn)行干燥，如果是熱固性樹(shù)脂時(shí)，可在硬化之后，熱塑性樹(shù)脂時(shí)，再根據(jù)需要用不到基材軟化點(diǎn)的溫度進(jìn)行加熱處理后，形成硬涂膜。
本發(fā)明的附有硬涂膜的基材，在硬涂膜上也可設(shè)置防反射膜。
防反射膜本發(fā)明使用的防反射膜，只要有反射防止性能即可，沒(méi)有特別限定，可使用迄今為止公知的防反射膜。具體來(lái)說(shuō)，如果是比上述硬涂膜的折射率低的防反射膜即具有反射防止性能。
該防反射膜是由防反射膜用母料和根據(jù)需要添加的低折射率成分組成。
防反射膜用母料為可形成防反射膜的成分，可從與基材的粘附性、硬度及涂工性等方面考慮、進(jìn)行選擇使用。
具體來(lái)說(shuō)，可使用與上述硬涂膜形成成分相同的母料成分。
母料也可使用水解性有機(jī)硅化合物。具體來(lái)說(shuō)，例如，在烷氧基硅烷和醇的混合物中加入水及作為催化劑的酸或堿而得到的烷氧基硅的部分水解物可較好地被使用。
水解性有機(jī)硅化合物可使用通式RnSi(OR’)4-n〔R、R′烷基、芳基、乙烯基、丙烯基等烴基、n＝0，1，2或3〕表示的烷氧基硅烷。特別是四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷等四烷氧基硅烷可較好地被使用。
可任意含有的低折射率成分除CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等低折射率的物質(zhì)之外，還可列舉二氧化硅系粒子(二氧化硅粒子、二氧化硅中空粒子、二氧化硅·氧化鋁復(fù)合氧化物粒子)、多孔二氧化硅系粒子等。
例如，根據(jù)本申請(qǐng)人的申請(qǐng)，通過(guò)使用將特開(kāi)平7-133105號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的多孔性無(wú)機(jī)氧化物微粒子的表面用二氧化硅包覆所得到的的復(fù)合氧化物微粒子，可得到折射率低、反射防止性能優(yōu)良的防反射膜。
防反射膜中的低折射率成分的含有量較好在90％以下，更好在50％以下。如果低折射率成分的含有量超過(guò)90％，則會(huì)引起涂膜的強(qiáng)度降低、與硬涂層(下述形成中間膜情況下則為中間層)等基材的粘附性不足。
防反射膜的厚度較好在50-300nm，更好在80-200nm的范圍。
防反射膜的厚度不到上述范圍時(shí)，會(huì)使膜的強(qiáng)度、反射防止性能等差。
防反射膜的厚度超過(guò)上述范圍時(shí)，膜會(huì)發(fā)生龜裂，從而使膜的強(qiáng)度不夠，此外，由于膜太厚而使反射防止性能不理想。
該防反射膜的折射率根據(jù)低折射率成分和樹(shù)脂等母料的混合比例及使用的樹(shù)脂等的折射率不同而有所差異，但一般較好在1.28-1.50的范圍。防反射膜的折射率超過(guò)1.50時(shí)，當(dāng)然也與基材的折射率有一定的關(guān)系，但一般會(huì)造成反射防止性能不理想，折射率不到1.28的防反射膜難以得到。
防反射膜是用上述防反射膜形成用母料和根據(jù)需要含有低折射率成分、溶劑的防反射膜形成用塗布液進(jìn)行涂布而形成的。
使用的溶劑只要是容易蒸發(fā)、對(duì)得到的防反射膜沒(méi)有不良影響，就沒(méi)有特別限定。對(duì)防反射膜形成用塗布液沒(méi)有特別限定，可與上述硬涂膜的形成相同，用浸涂法、噴霧法、旋轉(zhuǎn)器法、輥式涂布法等公知的方法涂布于基材上、進(jìn)行干燥，特別是如果形成成分是熱硬化性樹(shù)脂時(shí)，也可通過(guò)加熱處理、紫外線照射處理、電子線照射處理等促進(jìn)硬涂膜的硬化，此外，如果形成成分中含有水解性有機(jī)硅化合物時(shí)，也可對(duì)水解性有機(jī)硅化合物的水解·縮聚進(jìn)行促進(jìn)。
本發(fā)明在還可在硬涂膜和防反射膜之間設(shè)置中間膜。
中間膜作為中間膜，設(shè)置折射率為1.6以上的中間膜。
特別是基材或硬涂膜的折射率在1.55以下時(shí)，與防反射膜的折射率之差小，會(huì)有反射防止性能不理想的情況，因此，較好是形成折射率為1.6以上的中間膜。
中間膜是由折射率高的金屬氧化物和根據(jù)需要添加的中間膜形成用母料組成。
中間膜形成用母料是指在硬涂膜的表面可形成中間膜的成分，可從符合與硬涂膜的粘附性及涂工性等條件的樹(shù)脂中選擇使用，具體可使用上述硬涂膜形成用母料以及上述反射膜所例示的烷氧基硅烷等水解性有機(jī)硅化合物等。
作為折射率高的金屬氧化物微粒子，較好是使用折射率在1.60以上的金屬氧化物微粒子。更好是折射率在1.70以上。作為上述金屬氧化物微粒子可列舉氧化鈦(2.50)、氧化鋅(2.0)、氧化鋯(2.20)、氧化鈰(2.2)、氧化錫(2.0)、氧化鉈(2.1)、鈦酸鋇(2.40)、氧化鋁(1.73)、氧化鎂(1.77)、氧化釔(1.92)、氧化銻(2.0)、氧化銦(2.0)等。(括號(hào)內(nèi)為折射率)
其中，從得到的附有防反射膜的基材除有反射防止性能外，又增加了帶電防止效果、電磁波屏蔽性能方面來(lái)看，氧化鈦、氧化鈰、氧化錫、氧化銻、氧化鋯、氧化銦等導(dǎo)電性微粒子以及在這些微粒子中摻入銻、錫、氟等異種元素的導(dǎo)電性微粒子比較好。
金屬氧化物微粒子的折射率不到1.60時(shí)，得到的中間膜的折射率達(dá)不到1.60以上，由于與防反射膜的折射率之差小，因此，反射防止性能不理想，不能充分發(fā)揮設(shè)置中間膜的效果。
金屬氧化物微粒子的平均粒徑較好在5-100nm、更好在10-60nm的范圍。根據(jù)金屬氧化物的種類平均粒徑不到5nm的粒子難以得到，超過(guò)100nm時(shí)，則可視光線的散射變得顯著，降低涂膜的透明性，使用不理想。
中間膜中的金屬氧化物微粒子的含有量，只要可得到折射率在1.6以上的中間膜，就沒(méi)有特別限定，根據(jù)中間膜形成用母料或金屬氧化物微粒子的折射率的不同而有所差異，但一般較好在30-100重量％、更好在50-95重量％的范圍。此外，中間膜也可不含母料，而僅由金屬氧化物微粒子組成。
中間膜中的金屬氧化物微粒子的含有量不足30重量％時(shí)，與金屬氧化物微粒子的種類也有一定關(guān)系，但一般會(huì)使中間膜的折射率達(dá)不到1.60以上，從而達(dá)不到設(shè)置中間膜的效果。
該中間膜是通過(guò)將高折射率的金屬氧化物微粒子和根據(jù)需要含有中間膜形成用母料、溶劑的中間膜形成用塗布液進(jìn)行涂布而形成的。
在調(diào)制該使用金屬氧化物微粒子的中間膜形成用塗布液時(shí)，較好是使用金屬氧化物微粒子分散于分散介質(zhì)中的溶膠，可將分散于水的水分散溶膠、分散于醇等有機(jī)溶劑中的有機(jī)溶劑分散溶膠或用公知的耦聯(lián)劑處理上述微粒子后、分散于有機(jī)溶劑的有機(jī)溶劑分散溶膠和涂料用樹(shù)脂用適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)溶劑稀釋，形成中間膜形成用的塗布液。此外，為了提高分散性、穩(wěn)定性等，還可在塗布液中添加表面活性劑。
使用的溶劑只要是容易蒸發(fā)、對(duì)得到的防反射膜、中間膜沒(méi)有不良影響，就沒(méi)有特別限定。
作為中間膜形成用塗布液的涂布方法，與防反射膜形成用塗布液的情況相同，沒(méi)有特別限定，可與上述硬涂膜的形成用塗布液相同，用浸涂法、噴霧法、旋轉(zhuǎn)器法、輥式涂布法等公知的方法涂布于基材上、進(jìn)行干燥，特別是如果形成成分是熱固性樹(shù)脂時(shí)，也可通過(guò)加熱處理、紫外線照射處理、電子射線照射處理等促進(jìn)硬涂膜的硬化，此外，如果形成成分中含有水解性有機(jī)硅化合物時(shí)，也可通過(guò)加熱處理，促進(jìn)水解性有機(jī)硅化合物的水解·縮聚。
如上述，形成中間膜時(shí)，首先在基材上形成上述硬涂膜后，涂布中間膜形成用塗布液，然后進(jìn)行干燥，再根據(jù)需要用不到基材的軟化點(diǎn)溫度進(jìn)行加熱處理，可根據(jù)上述防反射膜的形成而得到中間膜。
特別是母料成分為熱固化樹(shù)脂時(shí)，也可在形成各膜(硬涂膜、防反射膜、中間膜)之后，進(jìn)行硬化促進(jìn)處理，也可在硬涂膜的硬化處理之后，形成中間膜、硬化處理后，再形成防反射膜、進(jìn)行硬化促進(jìn)處理。
上述本發(fā)明的附有硬涂膜的基材，由于硬涂膜中含有五氧化銻粒子，該粒子可除去產(chǎn)生的靜電，從而可抑制灰塵等的附著，同時(shí)形成的硬涂膜與基材的粘附性、耐擦傷性、膜硬度等優(yōu)良。此外，涂膜自身的硬度也提高，硬涂膜為由熱固性樹(shù)脂構(gòu)成時(shí)，通過(guò)五氧化銻促進(jìn)涂膜硬化，從而可得到硬度高的涂膜。
本發(fā)明由于在基材的表面設(shè)置的硬涂膜含有五氧化銻粒子，因此，可得到與基材的粘附性、耐擦傷性、膜硬度等優(yōu)良的同時(shí)，還具有帶電防止性能的附有硬涂膜的基材。此外，由于含有五氧化銻粒子，因此可得到硬度高且與基材的粘附性、耐擦傷性、膜硬度等優(yōu)良、經(jīng)濟(jì)性也得到提高的附有硬涂膜的基材。
此外，在制造硬涂膜上設(shè)置有防反射膜或中間膜和防反射膜的附有硬涂膜的基材的過(guò)程中，也可生產(chǎn)出沒(méi)有擦傷、不粘著灰塵等異物、透明性、霧度等優(yōu)良的附有硬涂膜的基材。
〔實(shí)施例〕以下，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行具體說(shuō)明，但本發(fā)明不僅限于此。
實(shí)施例1硬涂膜形成用塗布液(H-1)的調(diào)制在五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；ELCOM PC-14、平均粒徑20nm、Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)200g中，混合紫外線固性樹(shù)脂(大日本油墨(インキ)(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)160g和乙基溶纖劑640g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-1)。附有硬涂膜的基材(F-1)的制造用棒涂(バ一コ一タ一)法將硬涂膜形成用塗布液(H-1)分別涂布于PET膜(厚度188μm、折射率1.65)上，于80℃干燥1分鐘后，用高壓水銀燈(80W/cm)照射1分鐘、使其硬化，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-1-1)及(F-1-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
得到的硬涂膜的表面電阻用電阻測(cè)量?jī)x(スガ試驗(yàn)機(jī)(株式會(huì)社)制；ハイレスタ)，其結(jié)果在表1中表示。
此外，鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性用下述方法及評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
鉛筆硬度的測(cè)定按照J(rèn)IS(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))-K-5400用鉛筆硬度試驗(yàn)器進(jìn)行測(cè)定。
耐擦傷性的測(cè)定用#0000鋼棉、以荷重500g/cm2擦動(dòng)50回。用目視觀察膜的表面，按照下述標(biāo)準(zhǔn)評(píng)價(jià)，該結(jié)果用表表示。
評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)沒(méi)有擦傷痕◎僅有少許擦傷痕○有較多擦傷痕 △整個(gè)面被削×粘附件在防反射膜的基材(F-1)的表面，用刀以縱橫1mm的間隔切11條平行的傷，做出100個(gè)小塊，用粘膠帶(注冊(cè)商標(biāo))粘著，然后，對(duì)剝離粘膠帶セロハン(注冊(cè)商標(biāo))時(shí)未被剝離、依然殘留的小塊進(jìn)行計(jì)數(shù)，按照以下4級(jí)分類、評(píng)價(jià)粘附性。該結(jié)果用表1表示。
殘留的小塊數(shù)在95個(gè)以上◎殘留的小塊數(shù)在90-94個(gè) ○殘留的小塊數(shù)在85-89個(gè) △
殘留的小塊數(shù)在84個(gè)以下×實(shí)施例2硬涂膜形成用塗布液(H-2)的調(diào)制在五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；ELCOM PC-14、平均粒徑20nm、Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)93.3g和乙基溶纖劑706.7g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-2)。
附有硬涂膜的基材(F-2)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-2)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(F-2-1)及(F-2-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
實(shí)施例3硬涂膜形成用塗布液(H-3)的調(diào)制在五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；ELCOM PC-14、平均粒徑20nm、Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑760g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-3)。
附有硬涂膜的基材(F-3)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-3)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成3個(gè)附有硬涂膜的基材(F-3-1)、(F-3-2)及(F-3-3)。這時(shí)的硬涂膜厚度各為5μm、1μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
實(shí)施例4
硬涂膜形成用塗布液(H-4)的調(diào)制在五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；ELCOM PC-14、平均粒徑20nm、Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑782.9g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-4)。
附有硬涂膜的基材(F-4)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-4)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(F-4-1)及(F-4-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
實(shí)施例5硬涂膜形成用塗布液(H-5)的調(diào)制在五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；ELCOM PC-14、平均粒徑20nm、Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)200g中，混合丙烯酸樹(shù)脂(ヒタロイド 1007、日立化成(株式會(huì)社)制)40g和乙基溶纖劑760g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-5)。
附有硬涂膜的基材(F-5)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-5)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(F-5-1)及(F-5-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
實(shí)施例6硬涂膜形成用塗布液(H-2)的調(diào)制用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器將五氧化銻粒子分散液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；RSB-KU、平均粒徑10nm、Sb2O5濃度1重量％)進(jìn)行溶劑替換并同時(shí)進(jìn)行濃縮，調(diào)制成五氧化銻粒子分散液(Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)。在該分散液200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑760g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-6)。
附有硬涂膜的基材(F-6)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-6)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(F-6-1)及(F-6-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
實(shí)施例7硬涂膜形成用塗布液(H-7)的調(diào)制在五氧化銻膠體溶液(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；RSB-KU、平均粒徑10nm、Sb2O5濃度1重量％)4000g中，添加作為有機(jī)硅耦聯(lián)劑的γ-縮水甘油基丙基三甲氧基硅烷(glycidoxypropyltrimethoxysilane)2g，于60℃攪拌1小時(shí)。之后，用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器進(jìn)行溶劑替換并同時(shí)進(jìn)行濃縮，調(diào)制成五氧化銻粒子分散液(Sb2O5濃度20重量％、分散介質(zhì)乙基溶纖劑/乙醇重量比＝94/66)。在該分散液200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑760g，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(H-7)。
附有硬涂膜的基材(F-7)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(H-7)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(F-7-1)及(F-7-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
比較例1硬涂膜形成用塗布液(RH-1)的調(diào)制將紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)200g和乙基溶纖劑800g混合，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(RH-1)。
附有硬涂膜的基材(RF-1)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(RH-1)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(RF-1-1)及(RF-1-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
比較例2硬涂膜形成用塗布液(RH-2)的調(diào)制將丙烯酸樹(shù)脂(ヒタロイド 1007、日立化成(株式會(huì)社)制)200g和乙基溶纖劑800g混合，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(RH-2)。
附有硬涂膜的基材(RF-2)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(RH-2)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(RF-2-1)及(RF-2-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm和0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
比較例3硬涂膜形成用塗布液(RH-3)的調(diào)制在硅有機(jī)溶膠(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；OSCAL-1432、平均粒徑12nm、SiO2濃度20重量％、分散介質(zhì)異丙醇)200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑760g混合，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(RH-3)。
附有硬涂膜的基材(RF-3)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(RH-3)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成3個(gè)附有硬涂膜的基材(RF-3-1)、(RF-3-2)及(RF-3-3)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm、1μm、0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
比較例4硬涂膜形成用塗布液(RH-4)的調(diào)制將三氧化銻粒子(平均粒徑150nm)分散于異丙醇中，使其濃度為30重量％，用砂磨機(jī)于30℃粉碎5小時(shí)。其中加入異丙醇，調(diào)制成濃度為20重量％的三氧化銻微粒子的分散液(平均粒徑50nm)。在該分散液200g中，混合紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)40g和乙基溶纖劑760g混合，調(diào)制成硬涂膜形成用塗布液(RH-4)。
附有硬涂膜的基材(RF-4)的制造除使用硬涂膜形成用塗布液(RH-4)之外，其它與實(shí)施例1的方法相同，調(diào)制成2個(gè)附有硬涂膜的基材(RF-4-1)及(RF-4-2)。這時(shí)的硬涂膜厚度為5μm、0.3μm。
對(duì)得到的硬涂膜的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表1中表示。
表1

*1實(shí)施例7經(jīng)有機(jī)硅耦聯(lián)劑處理*2比較例3用添加二氧化硅代替五氧化銻*3比較例4用添加三氧化銻代替五氧化銻實(shí)施例8中間膜形成用的塗布液(M-1)的調(diào)制將作為高折射率粒子的氧化鈦膠體(催化劑化成工業(yè)(株式會(huì)社)制；オプトレイク1130Z、折射率2.2、平均粒徑20nm、濃度20重量％)20g、紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)0.44g和異丙醇6.7g充分混合，調(diào)制成中間涂膜形成用的塗布液(M-1)。
防反射膜形成用塗布液(R-1)的調(diào)制〔低折射率的復(fù)合氧化物微粒子分散溶膠的制造〕將甲基甲氧基硅烷27.4g混合于濃度為0.65重量％的氫氧化鈉水溶液872.6g中，于室溫下攪拌1小時(shí)，調(diào)制成CH3SiO3/2計(jì)為1.5重量％的無(wú)水透明的部分水解物。
之后，將作為種粒子的平均粒徑5nm、SiO2濃度20重量％的硅溶膠20g和純水380g的混合物加溫至80℃。該反應(yīng)母液的pH為10.5，以6小時(shí)的時(shí)間向此母液中同時(shí)添加以SiO2計(jì)為1.5重量％的硅酸鈉水溶液900g、上述部分水解物的水溶液900g和以Al2O3濃度為0.5重量％的鋁酸鈉水溶液1800g。該期間反應(yīng)母液的溫度維持在80℃。反應(yīng)母液的pH在剛結(jié)束添加時(shí)上升至12.7，之后幾乎沒(méi)有變化。添加結(jié)束后，將反應(yīng)液冷卻至室溫，用超度過(guò)濾膜洗凈、得到固體成分為20重量％的含有甲基的SiO2·Al2O3的復(fù)合氧化物微粒子(A-1)的分散液。
在得到的復(fù)合氧化物微粒子(A-1)的分散液250g中，加入純水550g、加溫至98℃，在維持該溫度的條件下，用5小時(shí)添加將硅酸鈉水溶液用陽(yáng)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行脫堿后得到的硅酸液(SiO2濃度3.5重量％)1000g，得到用二氧化硅包覆的含有甲基的SiO2·Al2O3復(fù)合氧化物微粒子(B-1)的分散液。然后，用超度過(guò)濾膜洗凈、得到固體成分濃度為13重量％的分散液500g，其中加入純水1125g，再滴入濃鹽酸(濃度35.5重量％)，調(diào)至pH1.0，進(jìn)行將鋁從微粒子中除去的處理。
然后，一邊加入pH3.0的鹽酸水溶液10L和純水5L，一邊用超度過(guò)濾膜將溶解的鋁鹽洗凈除去，同時(shí)進(jìn)行濃縮、得到固體成分濃度為13重量％的用二氧化硅包覆含有甲基的SiO2·Al2O3復(fù)合氧化物微粒子(C-1)的分散液。
將得到的復(fù)合氧化物微粒子(C-1)的分散液1500g和純水500g、乙醇1750g及濃度為28重量％的氨水626g的混合液加溫至35℃后，添加硅酸乙酯(SiO2濃度28重量％)104g，如述二用化硅包覆。用蒸發(fā)器將其濃縮至固體成分濃度為5重量％后，加入濃度為15重量％的氨水，調(diào)至pH10，用壓熱器于180℃加熱處理2小時(shí)，然后，用超度過(guò)濾膜濃縮、得到固體成分濃度為10重量％的用二氧化硅完全包覆的含有甲基的SiO2·Al2O3復(fù)合氧化物微粒子(D-1)的分散液。
該用二氧化硅包覆的復(fù)合氧化物微粒子(D-1)的SiO2·Al2O3摩爾比為278、平均粒徑為34nm、折射率為1.36。
粒子的折射率用下述方法測(cè)定。
(1)對(duì)復(fù)合氧化物微粒子(D-1)的分散液，采用蒸發(fā)機(jī)將分散介質(zhì)蒸發(fā)。
(2)于120℃將其干燥、制成粉末。
(3)將已知折射率的標(biāo)準(zhǔn)折射液滴在玻璃板上2、3滴，將上述粉末混合入其中。
(4)用種種標(biāo)準(zhǔn)折射液進(jìn)行上述(3)的操作，混合液(多數(shù)情況下是漿糊狀)變透明時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)折射液的折射率作為微粒子的折射率。
使上述方法得到的復(fù)合氧化物微粒子(D-1)的分散液通過(guò)超度過(guò)濾膜，分散介質(zhì)的水用乙醇代替。將該乙醇溶膠(固體成分濃度5重量％)50g、紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)3g及異丙醇和正丁醇的1/1(重量比)混合溶劑47g充分混合，調(diào)制成防反射膜形成用塗布液(R-1)。
附有硬涂膜的基材(F-8)的制造在以與實(shí)施例1相同方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-1-1)上，將上述方法調(diào)制的中間涂膜形成用塗布液(M-1)用棒涂布器法涂布，于80℃干燥1分鐘。這時(shí)中間膜的厚度為80nm，折射率為1.80。
然后，將上述方法調(diào)制的發(fā)射防止膜形成用塗布液(R-1)用棒涂布器法涂布，于80℃干燥1分鐘后，用高壓水銀燈(80W/cm)照射1分鐘、使其硬化，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-8-1)。這時(shí)的發(fā)射防止膜的厚度為80nm。
表中所示的硬涂膜、防反射膜的各折射率是將上述各塗布液分別與上述同樣的方法涂布于硅片上，經(jīng)干燥及硬化處理后，用橢圓偏光計(jì)(ULVAC公司制，EMS-1)進(jìn)行測(cè)定的。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例9附有硬涂膜的基材(F-9)的制造在以與實(shí)施例2相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-2-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-9-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例10附有硬涂膜的基材(F-10)的制造在以與實(shí)施例3相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-3-1)、(F-3-2)、(F-3-3)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-10-1)、(F-10-2)、(F-10-3)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例11附有硬涂膜的基材(F-11)的制造在以與實(shí)施例4相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-4-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-11-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例12附有硬涂膜的基材(F-12)的制造在以與實(shí)施例5相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-5-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-12-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例13附有硬涂膜的基材(F-13)的制造在以與實(shí)施例6相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-6-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-13-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例14附有硬涂膜的基材(F-14)的制造在以與實(shí)施例7相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(F-7-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-14-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
比較例5附有硬涂膜的基材(RF-5)的制造在以與比較例1相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(RF-1-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(RF-5-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
比較例6附有硬涂膜的基材(RF-6)的制造在以與比較例2相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(RF-2-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(RF-6-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例15中間膜形成用塗布液(M-2)的調(diào)制將硝酸銦79.9g溶解于686g水中得到的溶液和錫酸鉀12.7g溶解于濃度為10重量％的氫氧化鈉溶液中得到的溶液進(jìn)行調(diào)制，用2小時(shí)將其添加于保持在50℃的1000g的純水中。這期間，體系內(nèi)的pH保持在11，從得到的摻錫氧化銦水合物分散液中將摻錫氧化銦水合物過(guò)濾、洗凈，在空氣中以350℃的溫度燒成3小時(shí)，再在空氣中以600℃的溫度燒成2小時(shí)，從而得到摻錫氧化銦微粒子(Q-3)。將其分散于純水中，使其濃度為30重量％，再用硝酸水溶液將pH調(diào)至3.5后，一邊將該混合液保持在30℃，一邊用砂磨機(jī)粉碎3小時(shí)、調(diào)制成溶膠。然后，將該溶膠用離子交換樹(shù)脂進(jìn)行處理、除去硝酸離子，再用丙醇替換溶劑，調(diào)制成摻錫的氧化銦(ITO)微粒子的分散液(折射率1.90、平均粒徑20nm、濃度20重量％)。
之后，摻錫的氧化銦(ITO)微粒子的分散液20g和紫外線固化樹(shù)脂(大日本油墨(株式會(huì)社)制ユニデツクV5500)0.44g、異丙醇6.7g充分混合，調(diào)制成中間涂膜形成用塗布液(M-2)。
附有硬涂膜的基材(F-15)的制造除使用中間膜形成用塗布液(M-2)之外，其它與實(shí)施例8的方法相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-15-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
實(shí)施例16附有硬涂膜的基材(F-16)的制造除不形成中間膜之外，其它與實(shí)施例8的方法相同，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(F-16-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
比較例7附有硬涂膜的基材(RF-7)的制造在以與比較例3相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(RF-3-1)、(RF-3-2)、(RF-3-3)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(RF-7-1)、(RF-7-2)、(RF-7-3)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
比較例8附有硬涂膜的基材(RF-8)的制造在以與比較例4相同的方法調(diào)制成的附有硬涂膜的基材(RF-4-1)上，與實(shí)施例8相同，形成中間膜及防反射膜，調(diào)制成附有硬涂膜的基材(RF-8-1)。
對(duì)得到的附有硬涂膜的基材的表面電阻、全光線透過(guò)率、霧度、鉛筆硬度、耐擦傷性及粘附性進(jìn)行評(píng)價(jià)，其結(jié)果在表2中表示。
表2

權(quán)利要求
1.附有硬涂膜的基材，它由基材和基材上形成的硬涂膜組成，其特征在于，該硬涂膜含有母料成分和五氧化銻(Sb2O5)粒子，該五氧化銻粒子的平均粒徑在2-100nm的范圍，硬涂膜中的五氧化銻粒子的含量在5-95重量％的范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的附有硬涂膜的基材，其特征在于，所述母料成分為熱固性樹(shù)脂或紫外線固性樹(shù)脂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的附有硬涂膜的基材，其特征在于，所述硬涂膜的膜厚在0.1-20μm的范圍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的附有硬涂膜的基材，其特征在于，所述硬涂膜的膜厚在0.2-10μm的范圍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的附有硬涂膜的基材，其特征在于，在所述硬涂膜上還形成有防反射膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5中任一項(xiàng)所述的附有硬涂膜的基材，其特征在于，在所述硬涂膜和防反射膜之間形成有中間膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及有硬涂膜的涂膜基材，該硬涂膜與基材的粘附性好、耐擦傷性、膜硬度等均優(yōu)，且生產(chǎn)性等也得到提高。附有硬涂膜的基材由基材和基材上形成的硬涂膜組成，它具有下述特征含有母料成分和五氧化銻(Sb
文檔編號(hào)B32B27/18GK1461777SQ031385
公開(kāi)日2003年12月17日 申請(qǐng)日期2003年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月31日
發(fā)明者松田政幸, 平井俊晴, 小松通郎 申請(qǐng)人:觸媒化成工業(yè)株式會(huì)社