專利名稱：防反射薄膜以及帶防反射層塑料基片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在基體上交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層而形成的防反射薄膜，另外，本發(fā)明還涉及具備防反射層的帶防反射層塑料基片。
背景技術(shù)：
防反射(Anti-Reflection，以下簡(jiǎn)稱為AR。)薄膜是形成在CRT或LCD(液晶顯示元件)的畫面表面，是用來防止外光映入而使得易于看見畫面，增大反差而提高圖像品質(zhì)。另外，因?yàn)锳R薄膜存在導(dǎo)電層，所以，具有防靜電以及電磁屏蔽效果，也有利于防止灰塵的附著和環(huán)境保護(hù)。
作為CRT用途，如特開平11-218603號(hào)公報(bào)、特開平9-80205號(hào)公報(bào)以及H.Ishikawa et al./thin Solid Films 351(1999)212-215的文獻(xiàn)等中所說明的，眾所周知的有在PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)的基體上形成硬涂層，然后在其上形成SiOx/ITO/SiO2/ITO/SiO2或SiOx/TiNx(x＝0.3～1)/SiO2等層疊構(gòu)造的AR層。
另外，作為在LCD表面形成的AR薄膜，已知的有使用基體/SiOx/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2或基體/SiOx/TiO2/SiO2/TiO2/Al2O3/SiO2等的TiO2的透明度大的構(gòu)成。
構(gòu)成AR薄膜的各層由濺鍍而成膜，考慮其成膜速度，使用SiOx/ITO/SiO2/ITO/SiO2類的ITO濺鍍層的構(gòu)成要比使用TiO2層的構(gòu)成在生產(chǎn)性能方面優(yōu)越。在使用薄膜用的濺鍍裝置而成膜的場(chǎng)合，在濺鍍室，在沿著主輥而移動(dòng)的薄膜的移動(dòng)方向，其可成膜的長(zhǎng)度受到限制，即安裝陰極的長(zhǎng)度受到限制，以相同的薄膜移動(dòng)長(zhǎng)度相比較，ITO與TiO2的成膜速度的比大約為3比1。而且，以相同的濺鍍電力密度相比較，TiO2是ITO的成膜速度的1/3至1/6。這是從兼顧ITO的透明性與導(dǎo)電性所分析的成膜速度，若忽視透明性，則速度的差更大。
TiO2的成膜速度慢主要是因?yàn)門i相比ITO的成分元素的In或Sn，其濺鍍率小。
如上所述，雖然ITO膜要比TiO2膜生產(chǎn)性能優(yōu)越，但使用ITO膜的AR薄膜，例如用基體/SiOx4nm/ITO18nm/SiO232nm/ITO60nm/SiO295nm而構(gòu)成的AR薄膜，雖然透明，但缺點(diǎn)是帶有黃色。在CRT用途中，雖然即使AR層帶有黃色，可通過使R/G/B的陰極電流向消除黃色的方向調(diào)整，而能夠不受AR層黃色的影響，但是，在LCD的場(chǎng)合，為了使得對(duì)應(yīng)AR薄膜而進(jìn)行色調(diào)整就不容易了。因?yàn)楸仨毎ú噬珵V色器和其它的調(diào)整。因?yàn)檫@種情況，即使TiO2膜成膜速度慢，也還是用于作為透明高折射率材料，因此，AR薄膜成為高價(jià)物品。而且，即使在LCD用途或有機(jī)EL顯示器用途中，有的場(chǎng)合為了防止表面帶電也需要具有一定的導(dǎo)電性，對(duì)此TiO2層則較難。
另外，考慮到有機(jī)EL顯示器等用途的場(chǎng)合，以往構(gòu)成的AR薄膜防濕性能及氣體阻隔性不充分，例如要并用玻璃基片。例如，上面發(fā)光型的有機(jī)EL元素，是在TFT玻璃元件基片上形成有機(jī)發(fā)光層及電極而制作的。即，把光反射材料電極層、有機(jī)層(包括緩沖層+孔輸送層+有機(jī)發(fā)光層)、半透明反射層、透明電極等順次在TFT玻璃元件基片上形成之后，用UV硬化粘接樹脂層粘接玻璃基片、密封有機(jī)EL元件部分。然后，在玻璃基片上通過粘接層而貼附防反射薄膜，由此而完成色顯示優(yōu)異的有機(jī)EL顯示器。
但是，在密封有機(jī)EL有機(jī)元件部時(shí)，與玻璃基片的粘接和與AR薄膜的粘接的2次粘接工序是很復(fù)雜的，也導(dǎo)致制造成本的增加。而且，并用玻璃基片不利于薄型化和輕型化，另外，在實(shí)現(xiàn)柔性顯示器時(shí)也會(huì)造成很大障礙。
本發(fā)明是解決上述以往技術(shù)的問題點(diǎn)，目的是提供使用能夠高速濺鍍(スパッタリング)的金屬氧化物膜、生產(chǎn)性優(yōu)異的透明度高的無色的防反射薄膜以及帶防反射層塑料基片。
而且，本發(fā)明的目的是提供使用能夠高速濺鍍的金屬氧化物膜、具有導(dǎo)電性的透明度高的無色的防反射薄膜以及帶防反射層塑料基片。
另外，本發(fā)明的目的是提供具有防濕性及空氣阻隔性、不需要復(fù)雜的粘接工序、而且光學(xué)特性優(yōu)異的防反射薄膜以及帶防反射層塑料基片。
發(fā)明的公開即，權(quán)利要求1的發(fā)明涉及一種防反射薄膜，其特征在于在基體上形成硬涂(hard-coat)層、在該硬涂層上交替層疊透明高折射率氧化物層與透明低折射率氧化物層而構(gòu)成防反射薄膜，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由用反應(yīng)濺鍍(reactive sputtering)法而形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
在權(quán)利要求1的發(fā)明中，通過使用Nb靶的反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5膜來作為透明高折射率氧化物層，由此而與使用TiO2膜的情況相同，可以得到在400～650nm的可視光波長(zhǎng)范圍透明度高、分光透射率的變化幅度在10％以下且偏差小的無色高透明的防反射薄膜，而且，因?yàn)槟軌驅(qū)b2O5膜的成膜速度為TiO2膜的2～3倍，因此，可以得到比使用TiO2膜生產(chǎn)性優(yōu)異的廉價(jià)的防反射薄膜。
權(quán)利要求2的發(fā)明是在如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜中，其特征在于在基體上形成的硬涂層上，由反應(yīng)濺鍍法形成的氧化物層是從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成。
在權(quán)利要求2的發(fā)明中，由于在基體上設(shè)有硬涂層，并在其上通過使用Zr、Ti、Si、Cr等金屬或合金靶的反應(yīng)濺鍍法而形成從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成的氧化物層，由此而可以提高與硬涂層的附著力，可以得到硬度以及附著強(qiáng)度優(yōu)異的可靠性高的防反射薄膜。
權(quán)利要求3的發(fā)明是在如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜中，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層具有由Nb2O5構(gòu)成的膜、由從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物所構(gòu)成的膜。
在權(quán)利要求3的發(fā)明中，由于設(shè)有由Nb2O5構(gòu)成的透明高折射率氧化物層，而且設(shè)有層疊透明性優(yōu)異的Nb2O5膜與具有導(dǎo)電性的ITO膜等的In2O3以及/或者SnO2所構(gòu)成的膜而形成的透明高折射率氧化物層，所以，能夠不損失透明性且具有導(dǎo)電性，可以得到具有防靜電效果的無色高透明的防反射薄膜。
權(quán)利要求4以及5的發(fā)明是在如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜中，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層含有從In2O5以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物作為主要成分，并含有從Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中選擇的至少一種元素的氧化物成分、相當(dāng)于SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為5摩爾％以上、40摩爾％以下、而最好是10摩爾％以上、30摩爾％以下的氧化物膜。
在權(quán)利要求4以及5的發(fā)明中，由于設(shè)有由Nb2O5構(gòu)成的透明高折射率氧化物層，而且設(shè)有通過添加從Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中選擇的至少一種元素的氧化物成分、改善了ITO膜的400nm附近的光線透射率低、并由上述成分的氧化物所構(gòu)成的透明高折射率氧化物層，所以，能夠不損失透明性且具有導(dǎo)電性，可以得到具有防靜電效果的無色高透明的防反射薄膜。
權(quán)利要求6的發(fā)明是在如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜中，其特征在于在高折射率氧化物層中，Nb2O5層以外的至少一層是從Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3中選擇的層所形成。
在權(quán)利要求6的發(fā)明中，由于至少一個(gè)高折射率層是用Nb2O5形成，而此以外的高折射率層的至少一層含有從Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3中選擇的層，因此，對(duì)于高折射率層的厚層，是作為由能夠高速成膜的反應(yīng)濺鍍而形成的Nb2O5層，而對(duì)于薄的高折射率層，是通過使用Nb2O5以外的材料而高速成膜，雖然此點(diǎn)稍有劣勢(shì)，但對(duì)于濺鍍時(shí)的靶材料的通用性上能夠有大的自由度。
權(quán)利要求7的發(fā)明涉及一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法所形成的Nb2O5層構(gòu)成。
在權(quán)利要求7的發(fā)明中，作為有機(jī)基體，在使用塑料板或在其上形成硬涂層的塑料板的場(chǎng)合，通過構(gòu)成由反應(yīng)濺鍍法而形成透明高折射率氧化物層的Nb2O5層，能夠使得帶防反射層塑料基片具有與薄膜上形成場(chǎng)合相同的作用。
權(quán)利要求8的發(fā)明涉及一種防反射薄膜，其特征在于在由有機(jī)材料構(gòu)成的基體上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層而構(gòu)成的防反射層，至少形成與基體的一個(gè)面相接、且具有與上述有機(jī)材料近似折射率的無機(jī)防濕層。
在權(quán)利要求8的發(fā)明中，對(duì)于使用由有機(jī)材料構(gòu)成的基體的防反射薄膜，由于形成無機(jī)防濕層而具有良好的防濕性、空氣阻隔性，不需要并用玻璃基片。結(jié)果，實(shí)現(xiàn)了使用該薄膜的顯示器的薄型化、輕型化。
權(quán)利要求9至11的發(fā)明規(guī)定了無機(jī)防濕層的形成位置以及基體的構(gòu)成。使用這些規(guī)定，可確切地發(fā)揮防濕性和空氣阻隔性。而且，基體構(gòu)成的規(guī)定規(guī)定了權(quán)利要求8所述發(fā)明的適用對(duì)象的防反射薄膜，通過這種規(guī)定可實(shí)現(xiàn)薄、輕型的防反射薄膜。
權(quán)利要求12的發(fā)明是在如權(quán)利要求8所述的發(fā)明中，其特征在于無機(jī)防濕層是從SiO2、SiOx、SiOxNy、Si3N4、SixNy、Al2O3、AlxOy、AlOxNy(注x、y均是任意的整數(shù))中選擇的至少一種作為主要成分。而且，權(quán)利要求13的發(fā)明是在如權(quán)利要求8所述的發(fā)明中，其特征在于無機(jī)防濕層的折射率為1.4～2.1。
在權(quán)利要求12的發(fā)明中，規(guī)定了構(gòu)成無機(jī)防濕層的材料。具體是，如權(quán)利要求13的發(fā)明所述，若從這些材料中選擇具有與基體有機(jī)材料近似折射率的材料，則無機(jī)防濕層的光學(xué)特性不會(huì)妨礙外光的防反射，可以保持具有防反射層的良好的防反射特性。
權(quán)利要求14的發(fā)明是在如權(quán)利要求8所述的發(fā)明中，其特征在于防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
在權(quán)利要求14的發(fā)明中，是對(duì)形成上述無機(jī)防濕層所增加的優(yōu)點(diǎn)，作為透明高折射率氧化物層，通過由使用Nb靶的反應(yīng)濺鍍法而形成Nb2O5膜，由此而可以得到與使用TiO2膜的情況相同、在400～650nm的可視光波長(zhǎng)范圍透明度高、分光透射率的變化幅度在10％以下且偏差小的無色高透明的防反射薄膜，而且，因?yàn)槟軌驅(qū)b2O5膜的成膜速度為TiO2膜的2～3倍，因此，可以得到比使用TiO2膜生產(chǎn)性優(yōu)異的廉價(jià)的防反射薄膜。
權(quán)利要求15的發(fā)明是涉及一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，至少形成與塑料基片的一個(gè)面相接、且具有與該塑料基片近似折射率的無機(jī)防濕層。
在權(quán)利要求15的發(fā)明中，作為有機(jī)基體，即使是在使用塑料板或在其上形成硬涂層的塑料板的場(chǎng)合，由于形成無機(jī)防濕層，可以得到具有與權(quán)利要求8的發(fā)明同樣作用的帶防反射層塑料基片。
權(quán)利要求16的發(fā)明是在如權(quán)利要求15所述的發(fā)明中，其特征在于防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是用由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
在權(quán)利要求16的發(fā)明中，是對(duì)形成上述無機(jī)防濕層所增加的優(yōu)點(diǎn)，作為透明高折射率氧化物層，通過使用Nb靶的反應(yīng)濺鍍法而形成Nb2O5膜，由此而與使用TiO2膜的情況相同，可以得到在400～650nm的可視光波長(zhǎng)范圍透明度高、分光透射率的變化幅度在10％以下且偏差小的無色高透明的防反射薄膜，而且，因?yàn)槟軌驅(qū)b2O5膜的成膜速度為TiO2膜的2～3倍，因此，可以得到比使用TiO2膜生產(chǎn)性優(yōu)異的廉價(jià)的帶防反射層塑料基片。
圖的簡(jiǎn)單說明

圖1是表示適用本發(fā)明的防反射薄膜的層疊構(gòu)成的一例的剖面圖。
圖2是模式地表示連續(xù)成膜防反射薄膜的各氧化物層的濺鍍裝置。
圖3是模式地表示為評(píng)價(jià)防反射薄膜與基體的附著強(qiáng)度的附著強(qiáng)度試驗(yàn)裝置。
圖4是表示圖3中的頂部形狀的平面圖。
圖5是表示各種氧化物膜的分光透射率特性。
圖6是表示各種氧化物膜的分光透射率特性。
圖7是表示各種氧化物膜的分光透射率特性。
圖8是表示有機(jī)EL顯示器的一構(gòu)成例的概略斜視圖。
圖9是表示有機(jī)EL顯示器的一構(gòu)成例的概略斜視圖。
圖10是表示在上面發(fā)光型的有機(jī)EL顯示器中，由貼附AR薄膜的玻璃基片而密封狀態(tài)的概略剖面圖。
圖11是表示在上面發(fā)光型的有機(jī)EL顯示器中，由帶無機(jī)防濕層AR薄膜而密封狀態(tài)的概略剖面圖。
圖12是表示帶無機(jī)防濕層AR薄膜的構(gòu)成例的概略剖面圖。
圖13是表示使用有機(jī)基體基片的有機(jī)EL顯示器的制作工序，是表示透明電極形成工序的概略斜視圖。
圖14是表示有機(jī)發(fā)光元素類型的形成工序的概略斜視圖。
圖15是表示光反射材料電極層的形成工序的概略斜視圖。
圖16是表示由密封膜而密封狀態(tài)的概略剖面圖。
圖17表示將實(shí)施例1的分光透射率特性與以往例進(jìn)行比較。
圖18表示將實(shí)施例1的分光反射率特性與以往例進(jìn)行比較。
圖19表示將實(shí)施例3的分光透射率特性與以往例進(jìn)行比較。
圖20表示將實(shí)施例3的分光反射率特性與以往例進(jìn)行比較。
圖21是水分滲透性評(píng)價(jià)所使用的不銹鋼制容器的概略斜視圖。
圖22是表示不銹鋼制容器由AR薄膜而密封狀態(tài)的概略剖面圖。
圖23是表示水份滲透性的評(píng)價(jià)結(jié)果的特性圖。
圖24是表示由離子化二元蒸鍍法的成膜裝置的一例的模式圖。
實(shí)施發(fā)明的形式以下，參照?qǐng)D對(duì)適用本發(fā)明的防反射薄膜以及帶防反射層的塑料基片予以詳細(xì)說明。
圖1是表示適用本發(fā)明的AR薄膜的層疊構(gòu)成的剖面圖，圖2是模式地表示連續(xù)成膜AR薄膜的各氧化物層的濺鍍裝置，圖3是模式地表示為評(píng)價(jià)AR薄膜的附著強(qiáng)度的附著強(qiáng)度試驗(yàn)裝置，圖4是表示圖3中的施加載荷的頂部形狀的平面圖。
圖1中，AR薄膜是由下述層而構(gòu)成基體1、在基體1上形成的硬涂層3、在硬涂層3上形成的第1濺鍍層5、在第1濺鍍層5上形成的第1透明高折射率氧化物層7、在第1透明高折射率氧化物層7上形成的第1透明低折射率氧化物層9、在第1透明低折射率氧化物層9上形成的第2透明高折射率氧化物層11、在第2透明高折射率氧化物層11上形成的第2透明低折射率氧化物層13、以及在第2透明低折射率氧化物層13的表面所形成的防止污染的防污層15。
以上是防反射薄膜的基本構(gòu)成，下面對(duì)其構(gòu)成例予以說明。在第1例中，作為第1透明高折射率氧化物層7以及第2透明高折射率氧化物層11，是使用由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5膜。而且，第1濺鍍層5是使用從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成的氧化物膜，第1以及第2透明低折射率氧化物層9、13使用的是由反應(yīng)濺鍍法所形成的SiO2膜。
上述第1濺鍍層5～第2透明低折射率氧化物層13的各濺鍍膜，是在形成硬涂層3的基體1上，用例如圖2所示的濺鍍裝置來成膜。作為基體1，可使用PET、TAC(三乙酰纖維素)、聚碳酸酯等有機(jī)物基體。作為在該基體1上形成的硬涂層3的材料，可舉出硅酮系列、多官能團(tuán)丙烯酸酯系列、氨基甲酸乙酯樹脂系列、密胺樹脂系列、環(huán)氧樹脂系列等，包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等的紫外線處理的丙烯酸酯系列材料，在鉛筆硬度、透明性、難產(chǎn)生裂紋等綜合性能方面是最佳的。
圖2所示的濺鍍裝置連續(xù)地設(shè)置輸送預(yù)先形成硬涂層的筒狀的薄膜105的卷出室109、在薄膜105上進(jìn)行濺鍍的濺鍍室101、卷取薄膜105的卷取室110。在濺鍍室101設(shè)有卷繞薄膜105并使其按箭頭方向移動(dòng)的主輥103，在主輥103的周圍，相隔一定距離而設(shè)置多個(gè)放置靶(target)的陰極107。在該構(gòu)成中，在各陰極107表面形成氧氣氛圍氣體，通過對(duì)陰極107施加電壓，對(duì)應(yīng)于放置在各陰極107的靶的濺鍍膜在薄膜105上順次成膜。
通過這樣的濺鍍裝置，在基體1的硬涂層3上最初形成從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOxN(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成的第1濺鍍層5。因?yàn)榈?濺鍍層5是由這樣的金屬低價(jià)氧化物而構(gòu)成，所以，可以使得對(duì)硬涂層的附著強(qiáng)度大。例如，作為靶材料，如果使用與氧的親和力大的Zr、Ti、Si、Cr高熔點(diǎn)金屬，在含氧為體積50％的Ar氛圍氣體中濺鍍成膜時(shí)，則這些金屬一部分被氧化而成為如上所述的金屬低價(jià)氧化物時(shí)，也與構(gòu)成硬涂層材料的有機(jī)分子的氧結(jié)合而能夠在與硬涂層之間形成強(qiáng)固的附著層，另外，在將SiO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3的氧化物材料作為靶來濺鍍成膜的場(chǎng)合，與硬涂層的附著強(qiáng)度小。
圖3所示的是用來檢查與硬涂層的附著強(qiáng)度的附著強(qiáng)度試驗(yàn)裝置，通過浸漬乙醇的例如4張重疊的絲網(wǎng)207、把施加2kg的負(fù)荷203的頂部205壓在薄膜201上，并在箭頭方向往復(fù)10cm的距離，以此來進(jìn)行薄膜201的濺鍍膜的附著強(qiáng)度，而該薄膜201形成有第1濺鍍層5、第1透明高折射率氧化物層7、第1透明低折射率氧化物層9、第2透明高折射率氧化物層11、第2透明低折射率氧化物層13以及防污層15。這里，頂部205的截面為橢圓形狀(長(zhǎng)徑23.3mm，短徑10mm)，平面如圖4所示是直徑為23.3的圓形狀，實(shí)際的接觸面(圖中點(diǎn)線所示)的直徑約17mm，接觸面積約2.3cm2。使用該附著強(qiáng)度試驗(yàn)裝置，測(cè)定在薄膜201上至產(chǎn)生剝離為止時(shí)的頂部205的往復(fù)次數(shù)，使用上述Zr、Ti、Si、Cr的金屬靶而由金屬低價(jià)氧化物所構(gòu)成的第1濺鍍層5的場(chǎng)合，在30～50次以上的往復(fù)試驗(yàn)中無傷，但在使用SiO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3的氧化物靶而形成第1濺鍍層5的場(chǎng)合，在5次以下的往復(fù)中即產(chǎn)生剝離。另外，在Zr、Ti、Si、Cr中，因?yàn)镾i也是低折射率氧化物層的SiO2常使用的材料，所以是易使用的材料。
在第1濺鍍層5上，成膜Nb2O5而作為第1透明高折射率氧化物層7，接著，在成膜SiO2而作為第1透明低折射率氧化物層9之后，再成膜Nb2O5膜、SiO2膜作為第2透明高折射率氧化物層11和第2透明低折射率氧化物層13。最后，在表面涂層有用于防止污染的防污層15而制成AR薄膜。Nb2O5膜以及SiO2膜是由反應(yīng)濺鍍法、例如使用Nb、Si的金屬靶、通過在含有氧氣為體積50％的Ar氛圍氣體中濺鍍而成膜。
圖5中，用曲線a表示60nm膜厚的Nb2O5膜的分光透射率特性，為了比較，用曲線b表示相同膜厚的TiO2膜的分光透射率特性，用曲線c表示ITO(83摩爾％In2O3-17摩爾％SnO2)膜的分光透射率特性。Nb2O5膜以及TiO2膜是使用Nb或Ti的金屬靶而成膜，而ITO膜是使用83摩爾％In2O3-17摩爾％SnO2成分的氧化物靶而成膜，各自的濺鍍條件如下。
使用Nb以及Ti靶時(shí)的濺鍍條件氛圍氣體Ar-50體積％O2電力密度6W/cm2基片帶硬涂層PET基體使用ITO靶時(shí)的濺鍍條件氛圍氣體Ar-10體積％O2電力密度3.6W/cm2基片帶硬涂層PET基體由圖5可知，Nb2O5膜在400nm的低波長(zhǎng)領(lǐng)域的光線透射率也很高，與TiO2膜相同，在寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有高的透明性。另外，Nb2O5膜能夠以TiO2膜的2～3倍的成膜速度來成膜，在至少一個(gè)透明高折射率氧化物層通過使用Nb2O5膜來取代TiO2膜，由此而能夠低成本地制作高透明無色的AR薄膜。
從上述說明可知，在第1例的膜構(gòu)成中，使用金屬低價(jià)氧化物膜作為在硬涂層上成膜的第1濺鍍層，而且在至少一個(gè)透明高折射率氧化物層通過使用Nb2O5膜來取代TiO2膜，由此而能夠廉價(jià)地得到與基體的附著性優(yōu)異的無色高透明的AR薄膜。
其次，說明膜構(gòu)成的第2例。另外，對(duì)于與第1例相同的部分省略重復(fù)說明。與第1例比較，本例中，為了不僅在寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)是無色高透明的，而且還具有最佳的比電阻，在第1透明高折射率氧化物層7或第2透明高折射率氧化物層11的Nb2O5膜上層疊薄的ITO膜。
ITO膜的缺點(diǎn)是在低波長(zhǎng)領(lǐng)域透射率低，帶有黃色，但是，在適于具有1×104Ω/口(歐姆·每平方)左右的導(dǎo)電性的場(chǎng)合，可以是5nm左右的厚度，即使在Nb2O5膜上層疊5nm厚度左右的薄的ITO膜，因?yàn)橛蒊TO膜引起的影響小，所以，在可視光波長(zhǎng)領(lǐng)域的分光透射率基本是平坦的。
因此，在本例中，由于在Nb2O5膜上層疊薄的ITO膜來作為透明高折射率氧化物層，所以具有防靜電效果，適合于LCD以及有機(jī)EL顯示器的用途，能夠廉價(jià)地得到可靠性高的無色高透明的AR薄膜。
其次，說明膜構(gòu)成的第3例。第3例與第2例相同，是具有導(dǎo)電性的無色高透明類型，與第1例比較，是在第1透明高折射率氧化物層7以及第2透明高折射率氧化物層11的任一個(gè)(例如第2透明高折射率氧化物層11)上使用Nb2O5膜，而在另一個(gè)(例如第1透明高折射率氧化物層7)上使用的是以In2O3或ITO作為主要成分、含有Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中的任意一種以上元素的氧化物、且相當(dāng)于含有SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為5～40摩爾％、而最好是10～30摩爾％范圍的氧化物膜。
圖6以及圖7與圖5相同，是用曲線d～i來表示60nm膜厚的上述成分的氧化物膜的分光透射率特性，各氧化物膜的成分為d73摩爾％In2O3-27摩爾％ZnO，e78摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-5摩爾％ZnO-5摩爾％SiO2，f70摩爾％In2O3-10摩爾％SnO2-20摩爾％Nb2O5，g78摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-10摩爾％MgO，h80摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-8摩爾％Al2O3，i75摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-7摩爾％MgO-6摩爾％TiO2。
而且，這些氧化物膜的成膜是使用各自相對(duì)應(yīng)成分的氧化物靶來進(jìn)行，濺鍍條件如下。
氛圍氣體Ar-10體積％O2電力密度3.6W/cm2基片帶硬涂層PET基體由圖6以及圖7可知，在In2O3或ITO上添加ZnO、SiO2、MgO、Al2O3，TiO2、Nb2O5等的氧化物膜，比ITO在400nm的低波長(zhǎng)側(cè)的透射率大約要大10％左右以上。在這些氧化物膜中，作為添加成分所使用的SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5，其自身低波長(zhǎng)側(cè)的光線透射率高，而且在與In2O3或SnO2混合融解時(shí)易玻璃化，是容易形成玻璃組織網(wǎng)格的氧化物(例如通過SiO2與Si之間的結(jié)合而形成玻璃網(wǎng)絡(luò)的氧化物是一代表)。通過把這些成分添加到In2O3或ITO上，可以比僅僅是由In2O3或ITO成分的膜提高低波長(zhǎng)側(cè)的透射率。因此，這些氧化物膜不僅可以保持與ITO膜相同程度的成膜速度，而且可以消除ITO膜的黃色，為此，最好是把In2O3或SnO2作為基本材料的氧化物膜中的SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5等換算相當(dāng)于氧化物的含有量合計(jì)為5摩爾％以上、40摩爾％以下。在5摩爾％以下，在低波長(zhǎng)領(lǐng)域的透射率的改善效果小，而在40摩爾％以上，則In2O3以及SnO2的比率過小，不能得到濺鍍成膜速度大的優(yōu)點(diǎn)。另外，從兼顧濺鍍成膜速度與在低波長(zhǎng)領(lǐng)域的透射率的觀點(diǎn)，最好是在10摩爾％以上、30摩爾％以下。
另外，例如73摩爾％In2O3-27摩爾％ZnO的氧化物成分，可以形成具有與ITO相同程度即300～500μΩ·cm左右的比電阻的膜，可以使AR薄膜具有導(dǎo)電性。即，在上述含有量范圍內(nèi)通過調(diào)整所添加的ZnO、SiO2、MgO、Al2O3、TiO2、Nb2O5等的種類和量，可以選擇氧化物膜的各種比電阻，在防靜電時(shí)能夠具有必要的各種導(dǎo)電性。
在成膜這些氧化物膜時(shí)，可以使用氧化物靶，也可以使用金屬靶。作為氧化物靶，可以根據(jù)目標(biāo)的濺鍍膜的成分而混合各自的氧化物材料，模壓成型，使用在調(diào)整氧氣濃度的氛圍氣體中燒結(jié)的材料。作為金屬靶，可使用對(duì)應(yīng)于目標(biāo)的濺鍍膜的成分的金屬成分的合金。在金屬靶的場(chǎng)合，濺鍍時(shí)最好是使用使用50％氧氣-50％Ar流量比的氣體，在氧化物靶的場(chǎng)合，最好是氧氣量在30％以下、具體為10％左右。
另外，在這些氧化物膜中，添加SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5等，也可以添加極微量的Sb2O3、B2O3、Y2O3、CeO2、ZrO2、ThO2、Ta2O5、Bi2O3、La2O3、Nd2O3等的透明氧化物。
由上述說明可知，在上述各膜構(gòu)成例中，作為透明高折射率氧化物層，是在一部分使用In2O3或ITO上添加ZnO、SiO2、MgO、Al2O3、TiO2、Nb2O5等的氧化物膜，而在其它部分使用Nb2O5膜，由此而可以廉價(jià)地得到具有防靜電效果的可靠性高的無色高透明的AR薄膜。
另外，在上述第1例～第3例中，是以在形成硬涂層的PET基體上形成時(shí)的膜構(gòu)成為中心進(jìn)行了說明，從提高透射率的目的以及處理偏光的觀點(diǎn)，上述各層當(dāng)然也可以形成在TAC(三乙酰纖維素)基體上、或形成在設(shè)有硬涂層的TAC基體上，而且，也可以形成在聚碳酸酯等的薄膜上、或形成在玻璃或丙烯酸基板上。而且，上述AR薄膜，是適用于在基體的反面涂敷粘接劑而貼附在欲具有防反射的面來使用的場(chǎng)合，此外，還可適用于在透明丙烯酸基板的正反面形成AR氧化物層來使用的種種形態(tài)。
另外，在第1例～第3例中，對(duì)作為高折射率氧化物層而形成的Nb2O5膜，通過選擇In2O3、SnO2、ZnO等的濺鍍條件，可以微量地添加能夠使得比Nb2O5濺鍍速度快的材料。
而且，在第1例～第3例中，至少一個(gè)高折射率氧化物層是用Nb2O5形成，此以外的高折射率層，也可以包含從Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3中選擇的層。
其次，說明本發(fā)明的第2個(gè)特征點(diǎn)的無機(jī)防濕層。例如在有機(jī)EL顯示器的場(chǎng)合，存在由于水份或氣體等而產(chǎn)生的有機(jī)EL元素性能惡化的危險(xiǎn)。在這樣的顯示器中，本發(fā)明的無機(jī)防濕層特別有效。
如圖8所示，有機(jī)EL顯示器是在TFT玻璃元件基片21上對(duì)應(yīng)于像素而形成有機(jī)發(fā)光層圖形22以及透明電極圖形(pattern)23，通過選擇地驅(qū)動(dòng)各有機(jī)發(fā)光層圖形22來發(fā)光，可以表示任意的圖像。
圖9是表示上述有機(jī)EL顯示器的剖面構(gòu)造。該有機(jī)EL顯示器是上面發(fā)光型，在TFT玻璃元素基片21上形成上述有機(jī)發(fā)光層圖形22以及透明電極圖形23，另外，還形成光反射材料電極層24以及半透明反射層25。
有機(jī)發(fā)光層圖形22包含空穴輸送層、電荷輸送層、發(fā)光層、緩沖層等，將這些層以一定順序?qū)盈B而形成該有機(jī)發(fā)光層圖形22，且對(duì)應(yīng)于各像素而組合。
在有機(jī)發(fā)光層22中，空穴輸送層起到的作用是把從陽極線注入的空穴輸送到發(fā)光層。作為構(gòu)成該空穴輸送層的空穴輸送材料，可以使用眾所周知的任一種，例如揮發(fā)油、苯乙烯胺、三苯胺、卟啉、三唑、咪唑、噁二唑、聚芳基烷、苯二胺、芳基胺、噁唑、蒽、芴酮、腙、芪、或是這些的衍生物，以及聚硅烷系化合物、乙烯基咔唑系化合物、噻吩系化合物、苯胺系化合物等雜環(huán)共軛系的單體、低聚物、聚合物等。作為具體的化合物，可例舉出α-奈基苯基二胺、卟啉、金屬四苯基卟啉、金屬萘亞甲基菁藍(lán)(naphthalocyanine)、4、4、4-三(3-甲基苯基苯基氨基)三苯基胺、N、N、N、N-四(對(duì)甲苯基)對(duì)苯二胺、N、N、N、N-四苯基4、4-二氨基聯(lián)苯、N-苯基咔唑、4-二-對(duì)甲苯基氨基芪、聚(對(duì)亞苯基亞乙烯基)、聚(噻吩亞乙烯基)、聚(2，2-噻吩基吡咯)等，當(dāng)然并不是限定這些材料。
發(fā)光層所用的材料，只要是滿足以下條件，則可以是任意的材料，條件是施加電壓時(shí)，能夠從陽極側(cè)注入空穴、或從陰極側(cè)注入電子，即，能夠使空穴以及電子移動(dòng)，能夠提供這些空穴與電子再結(jié)合的場(chǎng)，發(fā)光效率高等條件，例如可舉出低分子熒光色素、熒光性的高分子、金屬絡(luò)合物等的有機(jī)材料等。作為這樣的材料，具體可舉出蒽、萘、菲、芘、crycene、苝、丁二烯、香豆素、吖啶、芪、三(8-羥基喹啉)鋁絡(luò)合物、二(苯并羥基喹啉)鈹絡(luò)合物、三(二苯甲酰基甲基)菲咯啉銪絡(luò)合物、二甲苯?；蚁┗?lián)苯、α-奈基苯基二胺等。
電荷輸送層是把從陰極線注入的電子輸送到發(fā)光層。作為電荷輸送層可使用的電荷輸送材料，可舉出喹啉、苝、二-苯乙烯基、吡嗪或是這些的衍生物。作為具體的化合物，可列舉出8-羥基喹啉鋁、蒽、萘、菲、芘、crycene、苝、丁二烯、香豆素、吖啶、芪、(8-羥基喹啉)鋁絡(luò)合物、或是這些的衍生物。
上面發(fā)光型的有機(jī)EL顯示器的場(chǎng)合，如圖10所示，通常是在TFT玻璃元件基片21上順次形成光反射材料電極層24、有機(jī)發(fā)光層圖形22(包括緩沖層+空穴輸送層+有機(jī)發(fā)光層)、半透明反射層25、透明電極圖形23等之后，使用UV硬化粘接劑27等粘接在作為前面板的玻璃基片26，密封有機(jī)EL元件部分。之后，在玻璃基片26上，通過粘接層34來貼附防反射薄膜28，由此而完成了色顯示優(yōu)異的有機(jī)EL顯示器。
但是，在使用上述玻璃基片26的場(chǎng)合，顯示器難以薄型化及輕型化。因此，本發(fā)明中，如圖11所示，不通過玻璃基片26而是用UV硬化粘接樹脂層27等來粘接具有無機(jī)防濕層的防反射薄膜29。
在上述用途的防反射薄膜29中，必須要設(shè)置無機(jī)防濕層，其構(gòu)成例在圖12中所示。該防反射薄膜29，是在用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)或三乙酰纖維素(TAC)等所構(gòu)成的有機(jī)基體基片30上，順次層疊形成無機(jī)防濕層31、防反射層32以及防污層33。當(dāng)然，并不限定于此，例如，也可以在形成有機(jī)基體基片30的防反射層32面的相反一側(cè)的面上形成無機(jī)防濕層31。
構(gòu)成無機(jī)防濕層31的無機(jī)材料必須要具有優(yōu)異的防濕性和氣體阻隔性，從光學(xué)特性的觀點(diǎn)，最好是具有與有機(jī)基體近似的折射率。因此，作為無機(jī)防濕層31的構(gòu)成材料，可以例舉出SiO2、SiO、SiOxNy、Si3N4、SixNy、Al2O3、AlxOy、AlOxNy(注x、y均是任意的整數(shù))等?？梢杂眠@些材料當(dāng)中的1種、或2種以上作為主要成分而形成無機(jī)防濕層31。
而且，具體說到折射率，因?yàn)樯鲜龅挠袡C(jī)基體基片的折射率為1.4～1.5，所以無機(jī)防濕層31的折射率最好是在1.4～2.5的范圍。如果無機(jī)防濕層31的折射率大大超過上述范圍，則有界面反射的問題。無機(jī)防濕層31的折射率最好是在上述范圍內(nèi)且盡量小些，根據(jù)這種觀點(diǎn)，SiO2以及Al2O3是合適的。
同時(shí)具有上述防反射性能和防濕性能的防反射薄膜，在上面發(fā)光型以外的有機(jī)EL顯示器中也是有用的。例如，在下面發(fā)光型的有機(jī)EL顯示器的場(chǎng)合，如圖13所示，在有機(jī)基體基片41上形成條狀的透明電極42，如圖14所示，在其上以一定間隔形成有機(jī)發(fā)光層圖形43。然后，如圖15所示，在有機(jī)發(fā)光層圖形43上重疊而形成與上述透明電極42垂直的光反射材料電極層44。其后，如圖16所示，用密封膜45封住有機(jī)基體基片41的相反一側(cè)，同時(shí)用UV硬化樹脂46粘接(參閱月刊顯示器，2001年7月，Vol.7，No.7，11～15)。
在這樣的構(gòu)造中，取代只是使用有機(jī)基體基片，而是使用兼有上述無機(jī)防濕層與防反射層的防反射薄膜來作為上述有機(jī)基體基片41，這樣由于在表面所形成的防反射層的效果，可以使得受到反射光的色的影響小，可以實(shí)現(xiàn)色再現(xiàn)性優(yōu)異的易觀看的畫面。
而且，上述的帶無機(jī)防濕層的防反射薄膜(AR薄膜)不僅具有優(yōu)異的防濕性、氣體阻隔性、光學(xué)特性，而且，因?yàn)槔缭诜婪瓷鋵优c由有機(jī)物樹脂形成的硬涂層之間，具有比防反射層厚幾倍的無機(jī)防濕層，所以，表面的鉛筆硬度高(4H～5H)，還具有優(yōu)異的顯示器耐傷性保護(hù)性能。
(實(shí)施例)以下，說明適用本發(fā)明的具體實(shí)施例。
實(shí)施例1在本發(fā)明的防反射薄膜的膜構(gòu)成中，作為相當(dāng)于第1例的實(shí)施例，制成了下述構(gòu)成的AR薄膜。
PET基體 188μm/硬涂層 6μm/SiOx層 4nm/Nb2O5層 15nm/SiO2層 28nm/Nb2O5層 112nm/SiO2層 85nm/防污層 5nm在上述構(gòu)成中，Nb2O5層的濺鍍，是用雙磁控管方式的陰極、在2個(gè)Nb靶間施加40KHz的交流、且在Ar∶氧氣氣體的體積比為1∶1、氣體壓力為0.1Pa下實(shí)施。以該濺鍍條件，可以實(shí)現(xiàn)比TiO2層的成膜為2.2倍的成膜速度。
而且，為了保持全光線透射率的減少量為0.5～2.5，SiOx層的成膜是以Ar∶氧氣氣體的體積比1∶1作為中心比，一邊調(diào)整一邊來實(shí)施濺鍍。此時(shí)，SiOx的x的值根據(jù)分析可在0.5以上且在不到2.0的范圍內(nèi)，最好是在1.0至1.8的范圍。在沒有形成這種SiOx層的場(chǎng)合，在圖3所示的附著強(qiáng)度試驗(yàn)中發(fā)生剝離，可知不能得到必要的強(qiáng)度。
而且，SiO2層，作為濺鍍條件將Ar∶氧氣氣體的體積比作為1∶1，同樣用雙磁控管方式的陰極來成膜。另外，在本實(shí)施例中，使用紫外線硬化型樹脂在PET薄膜的基體上形成6μm厚的硬涂層。沒有硬涂層時(shí)，是鉛筆硬度1H的硬度，由于形成硬涂層，可以實(shí)現(xiàn)鉛筆硬度3H的硬度。
這里，作為相對(duì)于本實(shí)施例的以往例，制成了下述構(gòu)成的AR薄膜。
PET基體 188μm/硬涂層6μm/SiOx層 4nm/ITO(83摩爾％In2O3-17摩爾％SnO2成分)層21nm/SiO2層 32nm/ITO層 60nm/SiO2層 95nm/防污層5nm實(shí)施例1與以往例的各自的AR薄膜的分光透射率在圖17所示，而分光反射率在圖18所示。另外，圖17以及圖18是用把微小波動(dòng)平均化的曲線來簡(jiǎn)要地表示分光透射率以及分光反射率，用點(diǎn)劃線表示實(shí)施例1，用實(shí)線表示以往例。由圖17可知，與以往例比較，可確認(rèn)實(shí)施例1的AR薄膜在400nm的光學(xué)波長(zhǎng)中有大約16％的透射率改善。這是由于ITO層與Nb2O5層對(duì)于波長(zhǎng)的光吸收特性不同。另外，由圖18可知，實(shí)施例1在500～600nm的波長(zhǎng)范圍的分光反射率可得到與以往例基本不變的值。
如上所述，在本實(shí)施例中，為了確保硬度以及耐傷持久性，在PET基體上形成硬涂層，為了充分確保AR薄膜對(duì)于硬涂層的附著強(qiáng)度而形成SiOx層，為了使得在可視光波長(zhǎng)領(lǐng)域的光透射率曲線平坦，形成能夠比TiO2的成膜速度為2倍以上的速度來成膜的Nb2O5膜作為高折射率氧化物層，所以，能夠得到生產(chǎn)性以及可靠性優(yōu)異的無色高透明的AR薄膜。
實(shí)施例2作為相當(dāng)于本發(fā)明的防反射薄膜的膜構(gòu)成的第2例的實(shí)施例，制成了下述構(gòu)成的AR薄膜。
PET基體188μm/硬涂層 6μm/SiOx層4nm/ITO層 4nm/Nb2O5層 12nm/SiO2層28nm/Nb2O5層 112nm/
SiO2層 85nm/防污層5nm在上述的構(gòu)成中，除了ITO層以外，其它與實(shí)施例1同樣而形成，ITO層是使用ITO靶、在Ar∶O2的體積比為9∶1的氛圍氣體中成膜。結(jié)果，在400nm波長(zhǎng)的透射率，與實(shí)施例1相比，降低了1％左右，而作為導(dǎo)電性可以得到1×104Ω/□的值，具有導(dǎo)電性而能夠不損失在可視波長(zhǎng)領(lǐng)域的透射率特性的平坦性。因此，可以得到生產(chǎn)性以及可靠性優(yōu)異的無色高透明的具有導(dǎo)電性的AR薄膜。
另外，雖然實(shí)施例1以及實(shí)施例2都可以用圖2所示的濺鍍裝置來成膜AR薄膜，但在實(shí)施例2的場(chǎng)合，在圖2中5個(gè)陰極107中，在薄膜移動(dòng)方向?qū)⒌?個(gè)部分換成2個(gè)短尺寸的陰極，成為共計(jì)6個(gè)陰極107，由此，在薄膜1次通過時(shí)能夠成膜6層的濺鍍膜。因?yàn)榈?層的SiOx膜以及第2層的ITO膜是共4nm左右的薄層，所以，即使用尺寸短的陰極也可以成膜。
實(shí)施例3作為相當(dāng)于本發(fā)明的防反射薄膜的膜構(gòu)成的第3例的實(shí)施例，制成了下述的AR薄膜。
PET基體 188μm/硬涂層6μm/SiOx層 4nm/73摩爾％In2O3-27摩爾％ZnO成分的層18nm/SiO2層 28nm/Nb2O5層 112nm/SiO2層 85nm/防污層5nm在上述構(gòu)成中，73摩爾％In2O3-27摩爾％ZnO成分的層是使用氧化物靶、且在Ar∶O2的體積比為9∶1的氛圍氣體中成膜。成膜速度也能夠與ITO膜的場(chǎng)合基本相同。其它與實(shí)施例1相同而制成AR薄膜。
在圖19中用雙點(diǎn)劃線表示實(shí)施例3的分光透射率、在圖20中用雙點(diǎn)劃線表示實(shí)施例3的分光反射率。由圖19可知，實(shí)施例3的AR薄膜與全用ITO形成的高折射率氧化物層的以往例比較，在400nm的光學(xué)波長(zhǎng)改善了約15％的透射率，在400～650nm的波長(zhǎng)范圍的分光透射率的波動(dòng)大幅度縮小為5％左右。另外，從圖20可知，實(shí)施例3在500～600nm的波長(zhǎng)范圍的分光反射率可以得到與以往例基本相同的值。而且，導(dǎo)電性也得到920Ω/口的值。
如上所述，在本實(shí)施例中，由于在薄的高折射率氧化物層上使用73摩爾％In2O3-27摩爾％ZnO類的導(dǎo)電率高的材料，在厚的高折射率氧化物層上使用透明性更優(yōu)異的Nb2O5層，因此，作為濺鍍膜構(gòu)成為5層也能夠得到具有導(dǎo)電性、高透明性以及高可靠性的廉價(jià)的AR薄膜。
實(shí)施例4作為相當(dāng)于本發(fā)明的防反射薄膜的膜構(gòu)成的第3例的其它的實(shí)施例，制成了下述的AR薄膜。
PET基體 75μm/硬涂層6μm/SiOx層 5nm/78摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-10摩爾％MgO成分的層18nm/SiO2層 20nm/Nb2O5層 83nm/SiO2層 85nm/防污層5nm而且，作為相對(duì)于該實(shí)施例的以往例，制成了下述構(gòu)成的AR薄膜。
PET基體 75μm/硬涂層6μm/SiOx層 5nm/ITO層 15nm/SiO2層 20nm/ITO層 98nm/SiO2層 85nm/防污層5nm在實(shí)施例4中，與上述構(gòu)成的以往例相比，在500～600nm的波長(zhǎng)范圍的分光反射率相同，而在400nm的低波長(zhǎng)側(cè)的光線透射率提高了12％。
另外，在相當(dāng)于第3例的實(shí)施例中，高折射率氧化物層使用同一材料，但并不限定于此，例如，也可以把一個(gè)透明高折射率氧化物層中的大致上半部的厚度作為78摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-10摩爾％MgO成分的氧化物膜，下半部的厚度作為75摩爾％In2O3-12摩爾％SnO2-7摩爾％MgO-6摩爾％TiO2成分的氧化物膜。在這種場(chǎng)合，與實(shí)施例2的情況相同，可以對(duì)應(yīng)于將圖2的陰極107作成6個(gè)。
實(shí)施例5作為相當(dāng)于本發(fā)明的防反射薄膜的膜構(gòu)成的第1例的其它實(shí)施例，制成了下述構(gòu)成的AR薄膜。
PET基體 188μm/硬涂層6μm/SiOx層 5nm/ZrO2層 18nm/SiO2層 28nm/Nb2O5層 112nm/SiO2層 85nm/防污層5nm上述構(gòu)成的ZrO2以外部分的濺鍍條件與實(shí)施例1相同。
而且，ZrO2部分是使用Zr金屬作為靶，仍然是用雙磁控管方式的陰極，在2個(gè)Zr靶間施加40KHz的交流、且在Ar∶氧氣氣體的體積比為1∶1、氣體壓力為0.3Pa下實(shí)施。
這樣，可了解到，即使將高折射率的一部分用Nb2O5以外的ZrO2來置換，也能得到與實(shí)施例1相同的反射率特性。而且，ZrO2層的成膜速度與同樣施加電力密度為15W/cm2相比較，則是Nb2O5層的成膜速度的1/4，但使用ZrO2的層的厚度是使用Nb2O5的層的1/6以下。因此，使用圖2所示的薄膜濺鍍機(jī)而連續(xù)成膜場(chǎng)合的薄膜的移動(dòng)速度是由最厚的Nb2O5層的成膜速度而確定的，由此可知，從生產(chǎn)性的觀點(diǎn)，不會(huì)有大的差距。因此，可以看出，即使把高折射率層的薄的層置換為Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3等層，也不會(huì)損壞本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。
另外，雖然主要說明了在薄的有機(jī)基體薄膜上形成本發(fā)明的情況，但在有機(jī)基體為塑料板、其厚度例如為300μm以上的厚板上形成的情況也是有效的。而且，防止來自丙烯酸樹脂的透明成型品或商品名ARTON(JSR株式會(huì)社制)等基片的表面反射的場(chǎng)合，本發(fā)明的防反射層也是有效的。在這種塑料基片上，與上述相同來形成防反射層，而可得到帶防反射層塑料基片。
而且，通過使用Zr、Ti、Si、Cr等金屬或合金靶的反應(yīng)濺鍍法，在基片上形成從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)、以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成的氧化物層，能夠提高與有機(jī)基體的附著強(qiáng)度，這與上述的AR薄膜的情況相同。
另外，在這種有機(jī)基片上形成硬涂層的場(chǎng)合，在提高硬度的狀態(tài)下，能夠提高由反應(yīng)濺鍍法的光學(xué)層的附著強(qiáng)度，這一點(diǎn)也與上述相同。而且，根據(jù)本發(fā)明，由于使高折射率層的至少一部分是由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5層，因此，AR層形成速度與以往的使用TiO2的情況相比是2～3倍，這一點(diǎn)也是同樣的。在使用這些塑料基片的場(chǎng)合，當(dāng)然不是使用圖2所示的輥?zhàn)颖∧び玫臑R鍍機(jī)，而是使用玻璃等的剛體基片用的濺鍍機(jī)。
實(shí)施例6、7本實(shí)施例是涉及形成無機(jī)防濕層的AR薄膜的實(shí)施例。
在表面形成5μm厚的有機(jī)物硬涂層A的188μm厚的PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)基體上，作為無機(jī)防濕層，用濺鍍法形成厚度2μm的由SiO2和Al2O3組成的層。
而且，在其上形成由SiO2與Nb2O5組成的防反射層(Nb2O515nm/SiO228nm/Nb2O5112nm/SiO285nm)，再形成防污層。這里，使折射率基本與丙烯酸系列硬涂層相同、是1.5～1.6左右來調(diào)整SiO2與Al2O3的比例而形成無機(jī)防濕層。即，是使用Si與Al的混合重量比為1∶3.9的合金靶、通過進(jìn)行Ar-50％氧氣氛圍氣體中的反應(yīng)濺鍍而形成。
在具有這樣而制成的無機(jī)防濕層的防反射薄膜(實(shí)施例6)中，可得到在波長(zhǎng)450～650nm的視感反射率0.3％。
其次，在表面形成5μm厚的有機(jī)物硬涂層A的188μm厚的PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)基體上，作為無機(jī)防濕層，用與實(shí)施例6同樣的方法形成厚度4μm的由SiO2和Al2O3組成的層，而AR層、防污層的形成與實(shí)施例6的形成相同，將此作為實(shí)施例7。
作為比較用，制作了沒有形成無機(jī)防濕層、而在硬涂層上形成3nm厚的SiOx層、且在其上形成由SiO2與Nb2O5組成的防反射層(Nb2O515nm/SiO228nm/Nb2O5112nm/SiO285nm)的薄膜(比較用樣品)在把這3種樣品的水分滲透性與以往的玻璃基片比較時(shí)，準(zhǔn)備了如圖21所示的不銹鋼制的容器51。該容器51是將5mm厚的不銹鋼焊接而成的內(nèi)容積為200×200×80mm且具有凸緣的容器。在該容器51中放入800cc的純水52，把帶無機(jī)防濕層AR薄膜貼在凸緣部51a，密封容器開口部。使用耐濕性UV粘接劑54的UV硬化密封處理而將AR薄膜53貼在凸緣部51a。
在圖22中，是用圖20的C-C′線位置的剖面圖來表示比較密封處理后的水份滲透性時(shí)的狀態(tài)。在AR薄膜53上設(shè)置不銹鋼制格子狀支撐板55，另外，為了在支撐板保持方向即箭頭方向施加力，使用馬蹄型螺旋夾鉗來進(jìn)行加壓保持。
使用這3種樣品以及0.7mm厚的玻璃板，準(zhǔn)備同樣是密封不銹鋼制的容器，在大氣壓中、100℃進(jìn)行時(shí)效試驗(yàn)。對(duì)于各樣片以及玻璃，精密秤量不銹鋼制的容器的初期重量與各時(shí)效時(shí)間經(jīng)過后的重量，記錄其重量差的變化，其在圖23所示。由于100℃的時(shí)效，不銹鋼容器內(nèi)的壓力上升，使水份的滲透泄漏加速。而且，因?yàn)槭怯猛瑯拥姆椒▉磉M(jìn)行各樣品及玻璃板與不銹鋼容器凸緣部的粘接和夾緊，所以，通過比較重量減少速度，可以對(duì)各樣品薄膜以及玻璃的水份滲透率來進(jìn)行相對(duì)比較。
由圖23可知，用188μm厚PET以及比較用樣品的AR薄膜來密封不銹鋼制的容器的場(chǎng)合的重量減少，比用實(shí)施例6以及實(shí)施例7來密封不銹鋼制的容器的重量減少要大。而且，可知由實(shí)施例6以及實(shí)施例7來進(jìn)行不銹鋼制的容器的密封而由于水分滲透泄漏引起的重量減少速度，均與用0.7mm玻璃板來密封不銹鋼制的容器的情況相同。即，從進(jìn)行UV硬化粘接的不銹鋼容器凸緣部的水分滲透泄漏而引起的重量減少，實(shí)施例6、實(shí)施例7以及0.7mm玻璃板的情況是相同的，可以看出，基本觀察不到水分通過實(shí)施例6以及實(shí)施例7自身的泄漏與0.7mm厚的玻璃的差別。
由此可知，實(shí)施例6以及實(shí)施例7的防反射薄膜同時(shí)具有防反射性能和鉛筆硬度及防濕性能。
另外，作為本發(fā)明的其它例子，在形成5μm厚的有機(jī)物硬涂層的188μm厚PET的面上，可以通過圖24所示的離子化2元蒸鍍法，作為無機(jī)防濕層而形成SiO2與Al2O3所構(gòu)成的4μm厚的層。即，在圖24中，裝入SiO2原料的坩堝61與裝入Al2O3原料的坩堝62由分別相對(duì)于坩堝61、62而裝備的電子槍63、64來控制電子束，控制SiO2與Al2O3的各自的坩堝加熱溫度，可以在清理輥65上移動(dòng)的膜66上蒸鍍形成SiO2與Al2O3的重量比為1∶3.4的膜。
由于該重量比，形成折射率為1.55的SiO2-Al2O3混合膜。此時(shí)，作為為了蒸鍍SiO2以及Al2O3的電子槍63、64，是使用30kV的加速電壓。另外，為了充分促進(jìn)與氧氣的結(jié)合，在坩堝附近配置了氧氣氣體噴出管67、68。而且，此時(shí)，對(duì)與電阻69a以及直流電源69b相連接的白金制的正電位離子化環(huán)69施加+250V的電壓，這樣就可以對(duì)由坩堝61、62蒸發(fā)的SiO2以及Al2O3給予正的電荷而離子化。而且，附著在正電位離子化環(huán)69的SiO2以及Al2O3膜由于通電過熱而蒸發(fā)，避免了堆積，可以進(jìn)行生產(chǎn)流程。而且，作為離子鍍敷法的若干種方法，也可以使用所報(bào)告的HCD方式(Hollow Cathode Discharge)或URT～I(xiàn)P法(J.Vac.Soc.Jpn.Vol.44，No.4，2001 418～427，435～439)。
另外，作為由SiO2與Nb2O5組成的防反射層(SiOx3nm/Nb2O515nm/SiO228nm/Nb2O512nm/SiO285nm)，從兼顧低反射率特性和成膜速度的觀點(diǎn)是特別優(yōu)異的構(gòu)成，但在本發(fā)明中，并不排除把Nb2O5的一部分或全部置換為用其它的高折射率材料的膜構(gòu)成。即，即使把Nb2O5的薄層置換為Ta2O5、ZrO2、Si3N4、TiO2、或是由ITO與MgO、Al2O3等混合氧化物組成的高折射率氧化物，也能夠?qū)崿F(xiàn)同時(shí)具有作為防反射薄膜的性能與作為防濕薄膜性能的薄膜。
另外，在上述實(shí)施例中，所示的例子是在PET基體的單面上來設(shè)置硬涂層、無機(jī)防濕層、防反射層等全部，硬涂層例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、包括硅丙烯酸酯等紫外線硬化處理的丙烯酸酯系列材料，因?yàn)榫哂袃?yōu)異的表面平滑性，表面突起極少，所以，在其上形成無機(jī)氧化物層的SiO2·Al2O3混合層時(shí)，能夠使無機(jī)氧化物層細(xì)密地形成，因此，具有優(yōu)異的阻隔性能。但是，在形成AR層的面的相反一側(cè)的面上形成無機(jī)防濕層的場(chǎng)合所使用的作為底層的硬涂層，因?yàn)樵谧鳛轱@示器的表面?zhèn)仁菦]有的，所以，也可以沒有超過3H的高硬度層。即，因?yàn)槿绻斜砻嫫交裕瑒t自身不需鉛筆硬度，所以，從使得丙烯酸鹽酯成分少、重視平滑性的觀點(diǎn)，也可以作為硅烯類的平滑性材料多的硬涂層。在基體薄膜的同一面上形成防反射AR層與無機(jī)防濕層也可以實(shí)現(xiàn)高的鉛筆硬度，但即使把無機(jī)防濕層形成在與防反射層的相反一側(cè)，也可以實(shí)現(xiàn)同時(shí)具有3～4H的鉛筆硬度與防濕性能的本發(fā)明的AR薄膜。
另外，作為無機(jī)防濕層的材料，除了SiO2、Al2O3之外，還可以使用SiOx、SiOxNy、Si3N4、SixNy、AlxOy、AlOxNy等濺鍍膜、或者蒸鍍膜。
如上所述，根據(jù)權(quán)利要求1的發(fā)明，由于使用Nb2O5膜來作為透明高折射率氧化物層，因此，可以提供無色高透明而且廉價(jià)的防反射薄膜。
而且，根據(jù)權(quán)利要求2的發(fā)明，由于在形成硬涂層的基體上成膜與硬涂層附著性優(yōu)異的氧化物層，因此，可以廉價(jià)地提供無色高透明而且硬度以及附著強(qiáng)度優(yōu)異的可靠性高的防反射薄膜。
而且，根據(jù)權(quán)利要求3的發(fā)明，由于具有由Nb2O5構(gòu)成的透明高折射率氧化物層、在Nb2O5膜上層疊從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物所構(gòu)成膜的透明高折射率氧化物層，因此，可以廉價(jià)地提供具有防靜電效果的無色高透明的防反射薄膜。
而且，根據(jù)權(quán)利要求4以及5的發(fā)明，由于具有由Nb2O5構(gòu)成的透明高折射率氧化物層、在從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物成分上添加從Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中選擇的至少一種元素的氧化物成分而形成的透明高折射率氧化物層，因此，可以廉價(jià)地提供具有防靜電效果的無色高透明的防反射薄膜。
而且，根據(jù)權(quán)利要求6的發(fā)明，關(guān)于使用Nb2O5的高折射率層以外的部分的高折射率層，在增加材料選擇的自由度的狀態(tài)下，可以提供附著強(qiáng)度高、成膜速度快的AR(防反射)膜構(gòu)成。
而且，根據(jù)權(quán)利要求7的發(fā)明，對(duì)于厚度為300μm以上的塑料基片、或是在表面形成硬涂層的塑料基片的基片，使用本發(fā)明也可得到無色透明而且廉價(jià)的帶防反射層塑料基片。
另外，根據(jù)權(quán)利要求8～13的發(fā)明，在使用由有機(jī)材料構(gòu)成的基體的防反射薄膜中，可具有良好的防濕性、氣體阻隔性，不需要并用玻璃基片。而且，也不會(huì)損壞光學(xué)特性。結(jié)果，可以實(shí)現(xiàn)顯示器的薄型化、輕型化。另外，根據(jù)權(quán)利要求14的發(fā)明，除了上述之外，還具有權(quán)利要求1的發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。
另外，根據(jù)權(quán)利要求15以及16的發(fā)明，由于適用于由塑料基片、或是在表面形成硬涂層的塑料基片等有機(jī)材料構(gòu)成的基體，所以，可以得到光學(xué)特性優(yōu)異、具有良好的防濕性及氣體阻隔性、而且廉價(jià)的帶防反射層塑料基片。
(按照條約第19條的修改)1.一種防反射薄膜，其特征在于在基體上形成硬涂層、在該硬涂層上交替層疊透明高折射率氧化物層與透明低折射率氧化物層而構(gòu)成防反射薄膜，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由用反應(yīng)濺鍍法形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于在前述硬涂層上，由反應(yīng)濺鍍法形成的氧化物層是從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層具有由Nb2O5構(gòu)成的膜、由從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物所構(gòu)成的膜。
4.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層含有從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物作為主要成分，并含有從Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中選擇的至少一種元素的氧化物成分、相當(dāng)于SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為5摩爾％以上、40摩爾％以下的氧化物膜。
5.如權(quán)利要求4所述的防反射薄膜，其特征在于前述氧化物膜含有前述氧化物成分相當(dāng)于SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為10摩爾％以上、30摩爾％以下。
6.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于在透明高折射率氧化物層中，Nb2O5層以外的至少一層是從Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3中選擇的層所形成。
7.一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法所形成的Nb2O5層構(gòu)成。
8.一種防反射薄膜，其特征在于在由有機(jī)材料構(gòu)成的基體上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層而構(gòu)成的防反射層，形成與至少基體的一個(gè)面相接、且具有與上述有機(jī)材料近似折射率的無機(jī)防濕層。
9.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層是在上述基體與防反射層之間形成。
10.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于在上述基體上形成硬涂層，在其上形成上述防反射層。
11.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于由上述有機(jī)材料構(gòu)成的基體具有在由有機(jī)材料構(gòu)成的基體薄膜的表面通過濕式涂敷法而形成表面改性層。
12.(修正后)如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層是從SiO2、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝0～2、y＝1.33～0)、Si3N4、SixNy(注x＝1～1.33)、Al2O3、AlxOy(注x＝0～1.0、y＝0～1.5)、AlOxNy(注x＝0～1.5、y＝0～1)中選擇的至少一種作為主要成分。
13.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層的折射率為1.4～2.1。
14.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
15.一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，形成與至少塑料基片的一個(gè)面相接、且具有與該塑料基片近似折射率的無機(jī)防濕層。
16.如權(quán)利要求15所述的帶防反射層塑料基片，其特征在于上述防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是用由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
權(quán)利要求
1.一種防反射薄膜，其特征在于在基體上形成硬涂層、在該硬涂層上交替層疊透明高折射率氧化物層與透明低折射率氧化物層而構(gòu)成防反射薄膜，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由用反應(yīng)濺鍍法形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于在前述硬涂層上，由反應(yīng)濺鍍法形成的氧化物層是從ZrOx(注x＝1～2)、TiOx(注x＝1～2)、SiOx(注x＝1～2)、SiOxNy(注x＝1～2、y＝0.2～0.6)以及CrOx(注x＝0.2～1.5)中選擇的至少一種材料所構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層具有由Nb2O5構(gòu)成的膜、由從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物所構(gòu)成的膜。
4.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于其它至少一個(gè)透明高折射率氧化物層含有從In2O3以及SnO2中選擇的至少一種金屬氧化物作為主要成分，并含有從Si、Mg、Al、Zn、Ti以及Nb中選擇的至少一種元素的氧化物成分、相當(dāng)于SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為5摩爾％以上、40摩爾％以下的氧化物膜。
5.如權(quán)利要求4所述的防反射薄膜，其特征在于前述氧化物膜含有前述氧化物成分相當(dāng)于SiO2、MgO、Al2O3、ZnO、TiO2以及Nb2O5為10摩爾％以上、30摩爾％以下。
6.如權(quán)利要求1所述的防反射薄膜，其特征在于在透明高折射率氧化物層中，Nb2O5層以外的至少一層是從Ta2O5、TiO2、ZrO2、ThO2、Si3N4、Y2O3中選擇的層所形成。
7.一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法所形成的Nb2O5層構(gòu)成。
8.一種防反射薄膜，其特征在于在由有機(jī)材料構(gòu)成的基體上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層而構(gòu)成的防反射層，形成與至少基體的一個(gè)面相接、且具有與上述有機(jī)材料近似折射率的無機(jī)防濕層。
9.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層是在上述基體與防反射層之間形成。
10.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于在上述基體上形成硬涂層，在其上形成上述防反射層。
11.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于由上述有機(jī)材料構(gòu)成的基體具有在由有機(jī)材料構(gòu)成的基體薄膜的表面通過濕式涂敷法而形成表面改性層。
12.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層是從SiO2、SiOx、SiOxNy、Si3N4、SixNy、Al2O3、AlxOy、AlOxNy(注x、y均是任意的整數(shù))中選擇的至少一種作為主要成分。
13.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述無機(jī)防濕層的折射率為1.4～2.1。
14.如權(quán)利要求8所述的防反射薄膜，其特征在于上述防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
15.一種帶防反射層塑料基片，其特征在于在塑料基片上、或是在表面形成硬涂層的塑料基片上，形成交替層疊透明高折射率氧化物層和透明低折射率氧化物層的防反射層，在該帶防反射層塑料基片中，形成與至少塑料基片的一個(gè)面相接、且具有與該塑料基片近似折射率的無機(jī)防濕層。
16.如權(quán)利要求15所述的帶防反射層塑料基片，其特征在于上述防反射層的至少一個(gè)透明高折射率氧化物層是用由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb2O5層所構(gòu)成。
全文摘要
一種生產(chǎn)性優(yōu)異的透明度高的無色的防反射薄膜、以及帶防反射層塑料基片。而且，是具有防濕性及氣體阻隔性、光學(xué)特性優(yōu)異的防反射薄膜以及帶防反射層塑料基片。是在基體上形成硬涂層、在硬涂層上交替層疊透明高折射率氧化物層與透明低折射率氧化物層而構(gòu)成的防反射薄膜。透明高折射率氧化物層是由反應(yīng)濺鍍法而形成的Nb
文檔編號(hào)B32B9/00GK1463367SQ02802034
公開日2003年12月24日 申請(qǐng)日期2002年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月17日
發(fā)明者小林富夫, 渡邊周二郎, 渡邊隆, 香川正毅, 石崎晴朗, 李成吉 申請(qǐng)人:索尼公司