合片設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種合片設(shè)備，特別是涉及一種帶磁磁體的合片設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 以往的帶磁磁體的合片一般是手工合片，即，人工用雙手將兩組帶磁磁體慢慢往 一起靠，直到兩組帶磁磁體相互吸引到一起。在進(jìn)行手工合片時(shí)，由于磁體磁性較大，在相 互吸引時(shí)容易夾手，造成安全事故。此外，在進(jìn)行手工合片時(shí)，人手很難消除兩組磁體吸引 到一起的一瞬間所產(chǎn)生的巨大的吸引力，造成兩組磁體相互撞擊，產(chǎn)生磕邊掉角和劃傷，人 為造成不合格品率的升高。而且，在進(jìn)行手工合片時(shí)，由于需要將兩組磁體慢慢靠近，以避 免夾手和磁體相互撞擊，導(dǎo)致勞動(dòng)強(qiáng)度大，生產(chǎn)效率低。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 有鑒于此，本實(shí)用新型的一個(gè)目的在于提供一種合片設(shè)備，能夠自動(dòng)進(jìn)行合片，避 免由于手工合片而導(dǎo)致的夾手，避免由于磁體撞擊而導(dǎo)致的磕邊掉角和劃傷，降低不合格 品率，并且提尚生廣效率。
[0004] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種合片設(shè)備，包括：右模塊（1)，所述右模 塊包括用于容納待合片的磁體的右模腔（2);以及左模塊（5)，所述左模塊包括用于容納待 合片的磁體的左模腔（8)。所述右模塊能夠相對(duì)于所述左模塊在第一方向上移動(dòng)，從而從所 述右模腔與所述左模腔不重合的第一位置移動(dòng)到所述右模腔與所述左模腔重合的第二位 置。所述右模腔內(nèi)的磁體與所述左模腔內(nèi)的磁體相面對(duì)的方向是第二方向，所述第一方向 與所述第二方向垂直。
[0005] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述右模塊具有右模腔放置部，所述右模腔能夠放置在 所述右模腔放置部，并且能夠從所述右模腔放置部卸下，所述左模塊具有左模腔放置部，所 述左模腔能夠放置在所述左模腔放置部，并且能夠從所述左模腔放置部卸下。
[0006] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述右模腔的內(nèi)輪廓與待合片的磁體的外輪廓相同，所 述左模腔的內(nèi)輪廓與待合片的磁體的外輪廓相同。
[0007] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述右模塊還包括右擋板（3)，所述右擋板位于當(dāng)所述右 模塊位于所述第二位置時(shí)覆蓋所述右模腔的位置。
[0008] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述右模塊還包括出料裝置（4)，所述出料裝置在所述第 二方向上貫穿所述右擋板，能夠相對(duì)于所述右擋板在所述第二方向上移動(dòng)。
[0009] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述左模塊還包括夾緊裝置(6)，所述夾緊裝置在所述第 一方向上位于與所述左模腔相同的位置，能夠在與所述第一方向和所述第二方向均垂直的 第三方向上移動(dòng)，從而與所述左模腔內(nèi)的磁體相接觸。
[0010] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述左模塊還包括出料平臺(tái)（7)，所述出料平臺(tái)在所述第 一方向上位于與所述左模腔相同的位置，在所述第三方向上相對(duì)于所述左模腔位于所述夾 緊裝置的相反側(cè)。
[0011] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，所述右模腔在所述第二方向上的尺寸比所述左模腔在所 述第二方向上的尺寸大。
[0012] 本實(shí)用新型的合片設(shè)備，能夠自動(dòng)進(jìn)行合片，避免由于手工合片而導(dǎo)致的夾手，避 免由于磁體撞擊而導(dǎo)致的磕邊掉角和劃傷，降低不合格品率，并且提高生產(chǎn)效率。
【附圖說(shuō)明】
[0013] 圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施方式的合片設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014] 圖2是圖1所示合片設(shè)備的左視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015] 下面結(jié)合附圖來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的合片設(shè)備。
[0016] 所謂合片是指將兩個(gè)或兩組具有磁性的磁體，通過(guò)將兩個(gè)或兩組磁體的2個(gè)異性 磁極間相互吸合，并使兩個(gè)或兩組磁體依靠吸力組合在一起的過(guò)程。例如，一個(gè)或一組磁體 的N極與另一個(gè)或另一組磁體的S極相互吸合后并組合在一起。
[0017] 前后方向是第一方向的一個(gè)例子。左右方向是第二方向的一個(gè)例子。上下方向是 第三方向的一個(gè)例子。
[0018] 圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施方式的合片設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1所示 合片設(shè)備的左視圖。如圖1和圖2所示，合片設(shè)備主要包括右模塊1和左模塊5。
[0019] 右模塊1用于帶動(dòng)待合片的兩組磁體中的一組磁體向左模塊5移動(dòng)。左模塊5在 合片過(guò)程中保持不動(dòng)。
[0020] 右模塊1主要包括右模塊本體1A、右模腔2、右擋板3和出料裝置4。
[0021] 右模塊本體IA呈立方體狀，在其前部具有在左右方向上貫穿右模塊本體IA的側(cè) 視時(shí)矩形的右模腔放置部。
[0022] 在右模腔放置部?jī)?nèi)，放置右模腔2。右模腔2的外輪廓與右模腔放置部的內(nèi)輪廓相 同。右模腔2呈側(cè)視時(shí)矩形的框狀。右模腔2在其內(nèi)部放置待合片的磁體，用于限制磁體 在合片過(guò)程中上下前后移動(dòng)，防止磁體的磕邊掉角和劃傷。可以準(zhǔn)備多個(gè)右模腔2,它們的 內(nèi)部尺寸根據(jù)待合片的磁體的尺寸而不同，從而可以對(duì)不同尺寸的磁體進(jìn)行合片。
[0023] 右擋板3在左右方向上位于右模塊本體IA的右側(cè)，并且緊貼右模塊本體IA的右 表面，在前后方向上位于右模塊本體IA的后部。右模塊3呈例如矩形的平板狀。在合片過(guò) 程中，右擋板3保持不動(dòng)。當(dāng)右模塊1向左模塊5移動(dòng)，從而右模腔2與左模腔8 (后述） 對(duì)齊時(shí)，右擋板3覆蓋右模腔2。
[0024] 由于在合片過(guò)程中，磁體相互之間先是斥力，然后才變成吸力，因此，右擋板3能 夠防止當(dāng)磁體相互之間是斥力時(shí)，右模腔2中的磁體因斥力而被彈出右模腔2。
[0025] 出料裝置4呈在左右方向上延伸的桿狀，在左右方向上貫穿右擋板3,并且能夠相 對(duì)于右擋板3在左右方向上移動(dòng)。當(dāng)右模腔2中的磁體與左模腔8中的磁體合片完成后， 出料裝置4向左移動(dòng)，從而將合片后的磁體頂入出料平臺(tái)7 (后述）。
[0026] 左模塊5主要包括左模塊本體5A、夾緊裝置6、出料平臺(tái)7和左模腔8。
[0027] 左模塊本體5A呈立方體狀，在其后部具有在左右方向上貫穿左模塊本體5A的側(cè) 視時(shí)矩形的左模腔放置部。左模塊本體5A的形狀與右模腔本體IA大體相同。左模塊本體 5A在左右方向上的尺寸（厚度）比右模腔本體IA在左右方向上的尺寸（厚度）小。
[0028] 在左模腔放置部?jī)?nèi)，放置左模腔8。左模腔8的外輪廓與左模腔放置部的內(nèi)輪廓相 同。左模腔