1.一種開(kāi)孔薄膜的真空打孔裝置，包括真空成型鼓，超聲波霧化裝置和成型網(wǎng)籠，其特征在于：所述的真空成型鼓具有位于真空成型鼓的一側(cè)的真空吸口區(qū)域，所述的超聲波霧化裝置位于真空吸口區(qū)域的正對(duì)面，所述的成型網(wǎng)籠位于真空成型鼓的外側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)孔薄膜的真空打孔裝置，其特征在于：所述的超聲波霧化裝置與真空吸口區(qū)域的水平方向上的距離為5-200mm。
3.如權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)孔薄膜的真空打孔裝置，其特征在于：所述成型網(wǎng)籠每平方厘米有20～1600個(gè)孔。