專(zhuān)利名稱(chēng)：真空吸附裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空吸附裝置，尤指一種將真空抽氣孔位置設(shè)計(jì)在 四周?chē)员荛_(kāi)成品區(qū)域的改進(jìn)的真空吸附裝置。
背景技術(shù)：
真空吸附裝置為一種輔助加工用的工具，例如當(dāng)一平面印刷電路板的 其中一個(gè)加工面需要進(jìn)行加工時(shí)，即可利用此真空吸附裝置的吸附作用將該 平面印刷電路板的另外一面吸住并定位，以利進(jìn)行該加工面的后續(xù)加工，因 此該真空吸附裝置為輔助加工工具中不可缺少的重要夾持工作。
請(qǐng)參閱圖1A至圖1D所示，其中圖1A為現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附一印 刷電路板前的立體示意圖；圖IB為一上下表面均具有油墨的印刷電路板的 側(cè)視示意圖；圖1C為現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附一印刷電路板后的立體示意 圖；圖ID為將經(jīng)過(guò)現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附的印刷電路板翻面后的立體示 意圖。
配合圖1A及圖1B可知，現(xiàn)有的真空吸附裝置A用于吸附一印刷電路 板(PCB) Pa，并且該印刷電路板Pa的正反表面均預(yù)先涂布有一油墨La或 任何的印刷物。另外，該印刷電路板Pa的上下表面均分成一中間區(qū)域Pal 及一外圍區(qū)域Pa2，并且該中間區(qū)域Pal用于涂布該油墨La。
再者，現(xiàn)有的真空吸附裝置A具有一真空吸附單元la，其中該真空吸附 單元la具有一真空吸附本體10a及多個(gè)設(shè)置于該真空吸附本體10a內(nèi)部的真 空抽氣孔lla，其中所述真空抽氣孔lla的開(kāi)口露出該真空吸附本體10a以 呈現(xiàn)一矩陣排列形狀。換言之，現(xiàn)有的所述真空抽氣孔lla布滿(mǎn)整個(gè)真空吸 附本體10a的表面。
參閱圖1C可知，當(dāng)該印刷電路板Pa設(shè)置于該真空吸附本體10a上以進(jìn) 行真空吸附時(shí)(該印刷電路板Pa可穩(wěn)固地吸附在該真空吸附本體10a上)， 該印刷電路板Pa可進(jìn)行后續(xù)的加工，例如在上述的油墨La上進(jìn)行網(wǎng)印、激光、微影等制程，以形成一成品區(qū)域(圖未示)。
參閱圖1D可知，當(dāng)該印刷電路板Pa翻面后，可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn) 生的多個(gè)微吸痕Ma將布滿(mǎn)該印刷電路板Pa的中間區(qū)域Pal上及外圍區(qū)域 Pa2上，因此位于該印刷電路板Pa的中間區(qū)域Pal的油墨La或經(jīng)過(guò)加工后 所產(chǎn)生的成品區(qū)域?qū)?huì)受到所述微吸痕Ma的影響。
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于是，提出本實(shí)用新型用于改善上述缺陷。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種改進(jìn)的真空吸附裝置。本實(shí)用新型 的多個(gè)真空抽氣孔沿著真空吸附本體的周?chē)室画h(huán)狀排列，因此當(dāng)印刷電路 板翻面后，可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn)生的微吸痕只會(huì)產(chǎn)生在外圍區(qū)域，因此 位于該印刷電路板的中間區(qū)域的印刷層或經(jīng)過(guò)加工后所產(chǎn)生的成品區(qū)域不 會(huì)受到微吸痕的影響。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供了一種 改進(jìn)的真空吸附裝置，其用于吸附一基板，并且該基板的正反表面的其中之
一預(yù)先涂布有一印刷層，其中該改進(jìn)的真空吸附裝置包括 一真空吸附單元
及一基板定位單元，其中，該真空吸附單元具有一真空吸附本體及多個(gè)設(shè)置 于該真空吸附本體的真空抽氣孔，其中所述真空抽氣孔沿著該真空吸附本體
的周?chē)室画h(huán)狀排列；該基板定位單元具有一用于定位該基板的定位元件及
一用于驅(qū)動(dòng)該定位元件移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種改 進(jìn)的真空吸附裝置，其用于吸附一基板，并且該基板的正反表面的其中之一 預(yù)先涂布有一印刷層，該印刷層通過(guò)印刷、噴涂、沉積或熱壓中的一種方法 而形成一綠漆或干膜的高分子層。其中該改進(jìn)的真空吸附裝置包括一真空吸 附單元，其具有一真空吸附本體及多個(gè)設(shè)置于該真空吸附本體的真空抽氣 孔，其中所述真空抽氣孔沿著該真空吸附本體的周?chē)室画h(huán)狀排列。
因此，本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置的優(yōu)點(diǎn)在于當(dāng)基板翻面后，
可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn)生的微吸痕只會(huì)產(chǎn)生在外圍區(qū)域，因此位于該基板的中間區(qū)域的印刷層或經(jīng)過(guò)加工后所產(chǎn)生的成品區(qū)域不會(huì)受到微吸痕的影 響。
為了能更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型為實(shí)現(xiàn)預(yù)定目的而采取的技術(shù)、手段及 功效，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，相信本實(shí)用新型的目 的、特征與特點(diǎn)，當(dāng)可由此獲得深入且具體的了解，然而所附的附圖僅提供 參考與說(shuō)明，并非用來(lái)對(duì)本實(shí)用新型加以限制。


圖1A為現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附一印刷電路板前的立體示意圖1B為一上下表面均具有油墨的印刷電路板的側(cè)視示意圖1C為現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附一印刷電路板后的立體示意圖1D為將經(jīng)過(guò)現(xiàn)有的真空吸附裝置吸附的印刷電路板翻面后的立體示
圖2A為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置吸附一印刷電路板前的 立體示意圖2B為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置定位一印刷電路板前的 俯視示意圖2C為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置定位一印刷電路板后的 俯視示意圖2D為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置吸附一印刷電路板后的 立體示意圖；以及
圖2E為將經(jīng)過(guò)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置吸附的印刷電路板翻 面后的立體示意圖。
其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下
真空吸附裝置 A
印刷電路板 Pa 中間區(qū)域 Pal
外圍區(qū)域 Pa2
油墨 La
真空吸附單元 la 真空吸附本體10a
真空抽氣孔 11a微吸痕
真空吸附裝置
Ma
B
Pb
印刷層 Lb 真空吸附單元 lb
基板定位單元 2b
微吸痕
Mb
中間區(qū)域 外圍區(qū)域
Pbl Pb2
真空吸附本體 10b 真空抽氣孔 lib 定位元件 20b 側(cè)面 200b 21b
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖2A所示，其為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置吸附一 印刷電路板前的立體示意圖。由上述圖中可知，本實(shí)用新型提供一種改進(jìn)的 真空吸附裝置B，其用于吸附一基板Pb，并且該基板Pb的正反表面的其中 之一預(yù)先涂布有一印刷層Lb，其中該基板Pb可為一印刷電路板(PCB)， 并且該印刷層Lb可為油墨或任何的印刷物，其中，印刷層Lb通過(guò)印刷或噴 涂或沉積或熱壓一高分子層而形成，該高分子層例如是綠漆或干膜。另外， 該基板Pb的上下表面均分成一中間區(qū)域Pbl及一外圍區(qū)域Pb2，并且該中 間區(qū)域Pbl用于涂布該印刷層Lb。
另外，根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置B具有一真空吸附單元 lb，其中該真空吸附單元lb具有一真空吸附本體10b及多個(gè)設(shè)置于該真空 吸附本體10b內(nèi)部的真空抽氣孔llb，并且所述真空抽氣孔lib沿著該真空 吸附本體10b的周?chē)室画h(huán)狀排列。
此外，根據(jù)使用者不同的使用需求，其中的真空吸附本體10b可為一鐵 制平臺(tái)、 一不銹鋼平臺(tái)、 一鐵氟龍平臺(tái)、 一鋁合金平臺(tái)或一陶瓷平臺(tái)，并且 平臺(tái)的表面處理包含鍍鉻、鍍鎳鉻等各種表面硬化處理。另外，所述真空 抽氣孔llb相對(duì)應(yīng)基板Pb的外圍區(qū)域Pb2。
請(qǐng)參閱圖2B至圖2D所示，其中圖2B為根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置定位一印刷電路板前的俯視示意圖；圖2C為根據(jù)本實(shí)用新型的改 進(jìn)的真空吸附裝置定位一印刷電路板后的俯視示意圖；圖2D為根據(jù)本實(shí)用 新型的改進(jìn)的真空吸附裝置吸附一印刷電路板后的立體示意圖。由上述附圖 可知，根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置B更進(jìn)一步具有一基板定位單 元2b，并且基板定位單元2b具有一用于定位基板Pb的定位元件20b及一用 于驅(qū)動(dòng)定位元件20b移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置21b。
配合圖2B及圖2D所示，首先，使用者可直接將基板Pb放置于真空吸 附本體10b上，并且緊靠基板定位單元2b的定位元件20b，也即，定位元件 20b的一端連接于驅(qū)動(dòng)裝置21b，并且定位元件20b的其中一側(cè)面200b接觸 于基板Pb (如圖2B所示)；然后，再通過(guò)該驅(qū)動(dòng)裝置21b的驅(qū)動(dòng)定位元件 20b移動(dòng)以推動(dòng)(如箭頭所示)基板Pb，定位至合適的吸附位置，也即將基 板Pb的外圍區(qū)域Pb2作為真空吸附單元lb的所述真空抽氣孔lib的吸附區(qū) 域(如圖2C所示)；最后，通過(guò)所述真空抽氣孔lib的配合來(lái)進(jìn)行真空吸 附，以將基板Pb穩(wěn)固地吸附在真空吸附本體10b上，進(jìn)而使得基板Pb可進(jìn) 行后續(xù)的加工(如圖2D所示)，例如在上述的印刷層Lb上進(jìn)行網(wǎng)印、激光、 微影等制程，以形成一成品區(qū)域。
請(qǐng)參閱圖2E所示，其為將經(jīng)過(guò)根據(jù)本實(shí)用新型的改進(jìn)的真空吸附裝置 吸附的印刷電路板翻面后的立體示意圖。由上述附圖可知，當(dāng)基板Pb翻面 后，可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn)生的微吸痕Mb只會(huì)產(chǎn)生在外圍區(qū)域Pb2，因 此位于基板Pb的中間區(qū)域Pbl的印刷層Lb或經(jīng)過(guò)上述加工后所產(chǎn)生的成品 區(qū)域不會(huì)受到微吸痕Mb的影響。
綜上所述，本實(shí)用新型的多個(gè)真空抽氣孔lib沿著真空吸附本體10b的 周?chē)室画h(huán)狀排列，因此當(dāng)印刷電路板翻面后，可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn)生 的微吸痕Mb只會(huì)產(chǎn)生在外圍區(qū)域Pb2，因此位于印刷電路板的中間區(qū)域Pbl 的印刷層Lb或經(jīng)過(guò)加工后所產(chǎn)生的成品區(qū)域不會(huì)受到微吸痕Mb的影響。
以上所述僅為本實(shí)用新型的一個(gè)最佳具體實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，本 實(shí)用新型的特征并不局限于此，即，上述具體實(shí)施例并非用以限制本實(shí)用新 型，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所附的權(quán)利要求書(shū)的范圍為準(zhǔn)，凡符合本實(shí) 用新型的精神與其類(lèi)似變化的實(shí)施例，均應(yīng)包含于本實(shí)用新型的范疇中，本 領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可輕易地想到其他變化或修飾，其均涵蓋在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種真空吸附裝置，用于吸附一基板，其特征在于該改進(jìn)的真空吸附裝置包括一真空吸附單元，其具有一真空吸附本體及多個(gè)設(shè)置于該真空吸附本體的真空抽氣孔，其中所述真空抽氣孔沿著該真空吸附本體的周?chē)室画h(huán)狀排列；以及一基板定位單元，其具有一用于定位該基板的定位元件及一用于驅(qū)動(dòng)該定位元件移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
2、 如權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于該基板的上下表 面均分成一中間區(qū)域及一外圍區(qū)域，并且該中間區(qū)域形成有一印刷層，而該 外圍區(qū)域作為該真空吸附單元的吸附區(qū)域。
3、 如權(quán)利要求2所述的真空吸附裝置，其特征在于該印刷層為通過(guò) 印刷、噴涂、沉積或熱壓一高分子層而形成的層。
4、 如權(quán)利要求2所述的真空吸附裝置，其特征在于所述真空抽氣孔 對(duì)應(yīng)于該基板的外圍區(qū)域。
5、 如權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于該真空吸附本體 為一鐵制平臺(tái)、 一不銹鋼平臺(tái)、 一鐵氟龍平臺(tái)、 一鋁合金平臺(tái)或一陶瓷平臺(tái)。
6、 如權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于該定位元件的一 端連接于該驅(qū)動(dòng)裝置，并且該定位元件的其中一個(gè)側(cè)面接觸于該基板。
7、 一種真空吸附裝置，用于吸附一基板，其特征在于該改進(jìn)的真空 吸附裝置包括一真空吸附單元，該真空吸附單元具有一真空吸附本體及多個(gè) 設(shè)置于該真空吸附本體的真空抽氣孔，其中所述真空抽氣孔沿著該真空吸附 本體的周?chē)室画h(huán)狀排列。
8、 如權(quán)利要求7所述的真空吸附裝置，其特征在于該基板的上下表 面均分成一中間區(qū)域及一外圍區(qū)域，并且該中間區(qū)域形成有一印刷層，而該 外圍區(qū)域作為該真空吸附單元的吸附區(qū)域。
9、 如權(quán)利要求8所述的真空吸附裝置，其特征在于該印刷層為通過(guò) 印刷、噴涂、沉積或熱壓一高分子層而形成的層。
10、 如權(quán)利要求8所述的真空吸附裝置，其特征在于所述真空抽氣孔 對(duì)應(yīng)于該基板的外圍區(qū)域。
專(zhuān)利摘要一種真空吸附裝置，用于吸附一基板，并且該基板的正反表面均預(yù)先涂布有一印刷層，其中該真空吸附裝置包括一真空吸附單元及一基板定位單元。該真空吸附單元具有一真空吸附本體及多個(gè)設(shè)置于該真空吸附本體內(nèi)部的真空抽氣孔，其中所述真空抽氣孔沿著該真空吸附本體的周?chē)室画h(huán)狀排列。該基板定位單元具有一用于定位該基板的定位元件及一用于驅(qū)動(dòng)該定位元件移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。因此，當(dāng)該基板翻面后，可以發(fā)現(xiàn)因真空吸附所產(chǎn)生的微吸痕只會(huì)產(chǎn)生在該基板的外圍區(qū)域，因此位于該基板的中間區(qū)域的印刷層不會(huì)受到微吸痕的影響。
文檔編號(hào)B25B11/00GK201323704SQ20082017668
公開(kāi)日2009年10月7日 申請(qǐng)日期2008年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月10日
發(fā)明者宋尚霖, 張振銓 申請(qǐng)人:蘇州群策科技有限公司;欣興電子股份有限公司