豆?jié){機(jī)，包括機(jī)頭1、杯體2、 刀軸3及位于刀軸3末端的粉碎刀具4,所述機(jī)頭包括機(jī)頭上蓋和機(jī)頭下蓋，所述機(jī)頭下蓋 底部設(shè)置有連接體，粉碎罩5安裝于連接體上，所述刀軸3貫穿機(jī)頭底部及粉碎罩5伸入杯 體2內(nèi)，所述粉碎刀具4在位于粉碎罩5形成的粉碎腔6內(nèi)旋轉(zhuǎn)切削物料，所述杯體側(cè)壁具 有水位標(biāo)識(shí)區(qū)，所述粉碎腔6頂部具有液流反射面51，且該反射面位于水位標(biāo)識(shí)區(qū)以下，所 述反射面距離水位標(biāo)識(shí)區(qū)任意點(diǎn)所在水平面的高度為H1，且該水平面距離杯體底部的高度 為H 0
[0027] 本實(shí)施例中，刀軸即為電機(jī)軸，連接體與機(jī)頭下蓋為一體結(jié)構(gòu)，粉碎罩直接安裝于 機(jī)頭下蓋的前端面。所述水位標(biāo)識(shí)區(qū)即設(shè)置于杯體上的水位線，當(dāng)杯體上僅具有一條水位 線時(shí)，水位標(biāo)識(shí)區(qū)為該條水位線，當(dāng)杯體上具有多條水位線時(shí)，水位標(biāo)識(shí)區(qū)為最高水位線與 最低水位線之間所在的區(qū)域(包含最高水位線與最低水位線)。需要指出的是，水位標(biāo)識(shí)區(qū) 任意點(diǎn)所在的水平面是指正常制漿時(shí)，向杯體內(nèi)注入水的液面所在的平面，所述反射面距 離水位標(biāo)識(shí)區(qū)任意點(diǎn)所在水平面的高度H1，即液面靜止時(shí)，反射面深入液體內(nèi)的吃水深度 (Hl )，且該水平面距離杯體底部的高度H，即液體靜止時(shí)，杯體內(nèi)液面的高度（H)。反射面可 以為平面，也可以為向上凹陷或向下凸出的曲面，反射面為平面時(shí)，Hl為反射面的平面距離 靜止液面的高度，當(dāng)反射面為向上凹陷的曲面時(shí)，Hl為凹陷曲面的邊緣距離靜止液面的高 度，當(dāng)反射面為向下凸出的曲面時(shí)，Hl為凸出部的底部距離靜止液面的高度。另外，杯體底 部可以為平面，也可以為向上凸起或向下凹陷的球面，當(dāng)杯體底部為球面時(shí)，H為杯體的最 底部距離靜止液面的高度。
[0028] 當(dāng)粉碎罩為桶狀的導(dǎo)流體時(shí)，如圖2所示，所粉碎腔是指由導(dǎo)流體及機(jī)頭下蓋合 圍形成的腔體，且所述反射面為機(jī)頭下蓋的前端面，其中，導(dǎo)流體與機(jī)頭下蓋合圍形成的粉 碎腔的高度H2 -般為35mm~80mm，且導(dǎo)流體的底部距離杯體的底部距離一般不大于20mm， 才能保證杯體內(nèi)的物料被吸入進(jìn)導(dǎo)流體內(nèi)進(jìn)行循環(huán)粉碎。
[0029] 本申請(qǐng)人利用具有導(dǎo)流體的豆?jié){機(jī)，根據(jù)H1/H的比值不同時(shí)，進(jìn)行了 50次實(shí)驗(yàn)， 驗(yàn)證H1/H的比值與每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)空打次數(shù)及每次實(shí)驗(yàn)漿液中豆皮殘留個(gè)數(shù)之間的關(guān)系。
[0030] 實(shí)驗(yàn)條件如下表
實(shí)驗(yàn)過(guò)程中記錄每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)的空打次數(shù)，實(shí)驗(yàn)完成后，利用20目的濾網(wǎng)篩過(guò)濾豆 漿，計(jì)算每次過(guò)濾后留在網(wǎng)篩內(nèi)的豆皮數(shù)量。50次實(shí)驗(yàn)后，計(jì)算H1/H比值不同的條件下，平 均每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)空打次數(shù)與平均每次實(shí)驗(yàn)豆皮殘留個(gè)數(shù)，得到如下表所示的實(shí)驗(yàn)結(jié)果：
本申請(qǐng)人根據(jù)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，對(duì)于具有導(dǎo)流體的豆?jié){機(jī)來(lái)說(shuō)，H1/H的比值不同時(shí)，出現(xiàn)粉碎 刀具空打的次數(shù)也不相同。當(dāng)H1/H=0. 05時(shí)，粉碎刀具平均只出現(xiàn)了 1次空打，盡管實(shí)驗(yàn)過(guò) 程中，該條件下出現(xiàn)了空打，豆渣較粗，但空打引起的機(jī)頭噪音較小，且20目過(guò)濾豆渣量極 少、無(wú)豆皮，基本都在可接受的范圍內(nèi)。而當(dāng)H1/H < 0. 05時(shí)，不僅平均每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)的空 打次數(shù)較多，而且濕豆的粉碎效果較差，基本每次實(shí)驗(yàn)都有較多豆塊，而且20目過(guò)濾時(shí)，由 于豆塊的數(shù)量較多，豆皮無(wú)法從豆塊中分離，因此無(wú)法計(jì)算豆皮的個(gè)數(shù)，不管是空打引起的 機(jī)器噪音值，還是物料的粉碎情況都讓人難以接受。而當(dāng)H1/H > 0. 05后，粉碎刀具基本不 再出現(xiàn)空打的現(xiàn)象，并且此時(shí)，濕豆的粉碎效果較好，利用20目的濾網(wǎng)過(guò)濾基本無(wú)豆渣及 豆皮殘留。根據(jù)實(shí)驗(yàn)，本申請(qǐng)人還發(fā)現(xiàn)，當(dāng)H1/H = 0.4時(shí)，利用20目濾網(wǎng)過(guò)濾，發(fā)現(xiàn)濾網(wǎng)上 殘留有1個(gè)豆皮，豆?jié){口感基本無(wú)影響，而隨著H1/H值的增大，并且大于0. 4時(shí)，實(shí)驗(yàn)得到 的豆皮數(shù)量增多較多，制得的豆?jié){中殘存有較多豆皮，容易擱嗓子，影響口感。
[0031] 當(dāng)粉碎罩為擾流罩時(shí)，即擾流罩成碗狀結(jié)構(gòu)，如圖1所示，所述粉碎腔為擾流罩的 內(nèi)腔，所述反射面為擾流罩的頂壁內(nèi)表面。且一般擾流罩內(nèi)腔的高度H2為15mm~35mm，制 漿時(shí)，為了保證物料能夠從擾流罩的下方開(kāi)口處進(jìn)入到擾流罩內(nèi)，一般擾流罩的底部距離 杯體底部的距離也要求不大于20mm。
[0032] 本申請(qǐng)人利用具有擾流罩的豆?jié){機(jī)，根據(jù)H1/H的比值不同時(shí)，也進(jìn)行了 50次實(shí) 驗(yàn)，驗(yàn)證H1/H的比值與每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)空打次數(shù)及每次實(shí)驗(yàn)漿液中豆皮殘留個(gè)數(shù)之間的關(guān) 系。
[0033] 實(shí)驗(yàn)條件如下表
實(shí)驗(yàn)過(guò)程中記錄每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)的空打次數(shù)，實(shí)驗(yàn)完成后，利用20目的濾網(wǎng)篩過(guò)濾豆 漿，計(jì)算每次過(guò)濾后留在網(wǎng)篩內(nèi)的豆皮數(shù)量。50次實(shí)驗(yàn)后，計(jì)算H1/H比值不同的條件下，平 均每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)空打次數(shù)與平均每次實(shí)驗(yàn)豆皮殘留個(gè)數(shù)，得到如下表所示的實(shí)驗(yàn)結(jié)果：
本申請(qǐng)人根據(jù)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，對(duì)于具有擾流罩的豆?jié){機(jī)來(lái)說(shuō)，H1/H的比值不同時(shí)，出現(xiàn)粉碎 刀具空打的次數(shù)也不相同。當(dāng)H1/H=0. 25時(shí)，粉碎刀具平均只出現(xiàn)了 2次空打，盡管實(shí)驗(yàn)過(guò) 程中，該條件下出現(xiàn)了空打，豆渣較粗，但空打引起的機(jī)頭噪音都在可接受的范圍內(nèi)，并且 該條件下，20目過(guò)濾豆渣殘留量很少、也無(wú)豆皮，粉碎效果基本都可接受。而當(dāng)H1/H < 0. 25 時(shí)，不僅平均每次實(shí)驗(yàn)出現(xiàn)的空打次數(shù)較多，而且濕豆的粉碎效果較差，基本每次實(shí)驗(yàn)都有 較多豆塊，而且20目過(guò)濾時(shí)，由于豆塊的數(shù)量較多，豆皮無(wú)法從豆塊中分離，因此無(wú)法計(jì)算 豆皮的個(gè)數(shù)，不管是空打引起的機(jī)器噪音值，還是物料的粉碎情況都讓人難以接受。而當(dāng) H1/H > 0. 25后，粉碎刀具基本不再出現(xiàn)空打的現(xiàn)象，并且此時(shí)，濕豆的粉碎效果較好，利用 20目的濾網(wǎng)過(guò)濾基本無(wú)豆渣及豆皮殘留。根據(jù)實(shí)驗(yàn)，本申請(qǐng)人還發(fā)現(xiàn)，當(dāng)H1/H = 0. 7時(shí)，利 用20目濾網(wǎng)過(guò)濾，發(fā)現(xiàn)濾網(wǎng)上殘留有6個(gè)豆皮，該條件下，制得的豆?jié){豆皮容易擱嗓子，口 感較差，并且隨著H1/H值的進(jìn)一步增大，實(shí)驗(yàn)得到的豆皮數(shù)量增多較多，同樣制得的豆?jié){ 容易擱嗓子。
[0034] 本申請(qǐng)人根據(jù)研究發(fā)現(xiàn)，對(duì)于具有粉碎罩的豆?jié){機(jī)來(lái)說(shuō)(如圖3所示)，當(dāng)Hl/ H多0. 05時(shí)(粉碎罩為導(dǎo)流體時(shí)，H1/H多0. 05,粉碎罩為擾流罩時(shí)，H1/H多0. 25)具有粉 碎罩的豆?jié){機(jī)出現(xiàn)空打的概率大大降低。這是因?yàn)?，?dāng)粉碎刀具在位于粉碎罩形成的粉碎 腔內(nèi)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，粉碎刀具會(huì)帶動(dòng)粉碎罩內(nèi)的漿液做水平方向上的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，并且在水平 方向上形成周向的循環(huán)。同時(shí)，位于粉碎罩邊緣的漿液受到離心力的作用會(huì)沿著粉碎罩的 內(nèi)壁上升，當(dāng)觸碰至粉碎腔頂部的反射面時(shí)，在重力和反射面反彈力的作用下，粉碎罩內(nèi)的 漿液會(huì)被反彈至粉碎刀具附近，從而形成豎直方向的循環(huán)，由于粉碎罩內(nèi)豎直方向的漿液 循環(huán)與位于粉碎罩內(nèi)水平方向的漿液循環(huán)方向不同，豎直方向的漿液循環(huán)對(duì)水平方向的漿 液循環(huán)具有部分阻擋及抵消的作用，從而減弱了粉碎刀具對(duì)粉碎罩內(nèi)漿液做水平方向旋轉(zhuǎn) 運(yùn)動(dòng)的能量。與此同時(shí)，由于水具有黏性，為了克服水分子之間的旋轉(zhuǎn)切應(yīng)力，位于粉碎罩 內(nèi)的衆(zhòng)液向粉碎罩外部的衆(zhòng)液傳遞的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)能量也會(huì)逐步減弱，因此，使得粉碎罩外部 的漿液沿杯體的內(nèi)壁上升的能量及高度都會(huì)降低，進(jìn)一步，位于粉碎刀具中心的漿液高度 不會(huì)低于粉碎刀具，從而粉碎刀具不容易存在空打現(xiàn)象。一般現(xiàn)有的豆?jié){機(jī)，電機(jī)轉(zhuǎn)速基本 都在llOOOr/min以下，本申請(qǐng)人根據(jù)研究發(fā)現(xiàn)，在本申請(qǐng)的條件下(對(duì)于粉碎罩為導(dǎo)流體， H1/H彡0. 05,且粉碎罩為擾流罩，H1/H彡0. 25時(shí))，即使提高電機(jī)轉(zhuǎn)速至12000r/min以 上，粉碎刀具的線速度上升，帶動(dòng)粉碎罩內(nèi)的漿液旋轉(zhuǎn)的能量增強(qiáng)，粉碎刀具也不容易出現(xiàn) 空打現(xiàn)象，因?yàn)?，此時(shí)，粉碎罩內(nèi)旋轉(zhuǎn)的漿液離心力增大，反射面對(duì)漿液的反彈力也進(jìn)一步 增大，在反彈力及被反彈的漿液的重力加速作用下，進(jìn)一步減弱了粉碎罩內(nèi)粉碎刀具帶動(dòng) 漿液作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的能量，同樣，位于粉碎罩外部的漿液沿杯體內(nèi)壁上升的能量和高度也會(huì) 相應(yīng)減小。并且在12000r/min以上時(shí)，由于粉碎刀具的線速度增加，漿液流的循環(huán)加快，粉 碎刀具觸碰物料的概率也進(jìn)一步增加，大大的提升了物料被粉碎的效率。本申請(qǐng)人還發(fā)現(xiàn)， 當(dāng)H1/H的比值不斷增大時(shí)，粉碎罩的吃水深度也不斷加大，電機(jī)帶動(dòng)粉碎刀具承受的負(fù)載 也不斷加大，粉碎罩內(nèi)的漿液需要克服的水的黏性應(yīng)力也在增大，粉碎罩內(nèi)旋轉(zhuǎn)的漿液帶 動(dòng)粉碎罩外杯體內(nèi)的衆(zhòng)液做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的能量反而減小，因此，H1/H的比值不斷增大時(shí)，具有 粉碎罩的豆?jié){機(jī)更不容易出現(xiàn)空打現(xiàn)象。
[0035] 同樣，對(duì)于具有粉碎罩的豆?jié){機(jī)來(lái)說(shuō)，當(dāng)H1/H彡0. 6時(shí)(粉碎罩為導(dǎo)流體時(shí)，Hl/ H <