器皿清洗機(jī)和用于操作器皿清洗機(jī)的方法
【專利說明】器皿清洗機(jī)和用于操作器皿清洗機(jī)的方法
[0001]說明書
[0002]本發(fā)明涉及作為箱型器皿清洗機(jī)或傳送型器皿清洗機(jī)提供的用于餐用器皿或餐具的商用器皿清洗機(jī)，并且還涉及用于操作這種器皿清洗機(jī)的方法。
[0003]因此本發(fā)明涉及一種器皿清洗機(jī)，該器皿清洗機(jī)具有至少一個(gè)處理系統(tǒng)，所述處理系統(tǒng)包括噴射系統(tǒng)，該噴射系統(tǒng)具有至少一個(gè)用于將處理液噴灑到至少一個(gè)處理區(qū)內(nèi)的待清潔物品上的噴射器。
[0004]這種類型的根據(jù)本發(fā)明的用于餐用器皿或餐具的器皿清洗機(jī)作為箱型器皿清洗機(jī)或傳送型器皿清洗機(jī)提供。
[0005]具體地講，傳送型器皿清洗機(jī)是翼型器皿清洗機(jī)或架式傳送型器皿清洗機(jī)，并且與箱型器皿清洗機(jī)相比，在箱型器皿清洗機(jī)中待清潔的物品在清洗過程期間保持固定在箱型器皿清洗機(jī)的單個(gè)處理區(qū)中，在傳送型器皿清洗機(jī)的情況下，待清洗的物品被輸送經(jīng)過傳送型器皿清洗機(jī)的各個(gè)處理區(qū)。
[0006]傳送型器皿清洗機(jī)通常具有至少一個(gè)預(yù)清洗區(qū)和至少一個(gè)主清洗區(qū)，該主清洗區(qū)在待清洗的物品的輸送方向上看設(shè)置在預(yù)清洗區(qū)之后。在輸送的方向上看，至少一個(gè)后清洗區(qū)一般設(shè)置在主清洗區(qū)之后，并且至少一個(gè)最終漂洗區(qū)一般設(shè)置在后清洗區(qū)的下游。在輸送的方向上看，一旦穿過入口通道，直接接收在傳送帶上或由架保持的待清洗的物品因此通常穿過一個(gè)或多個(gè)預(yù)清洗區(qū)、一個(gè)或多個(gè)主清洗區(qū)、一個(gè)或多個(gè)后清洗區(qū)以及一個(gè)或多個(gè)最終沖洗區(qū)、干燥區(qū)和出口路徑。
[0007]傳送型器皿清洗機(jī)的上述清洗區(qū)中的每一個(gè)均分配有各自的處理系統(tǒng)，這些處理系統(tǒng)包括清洗泵以及與清洗泵連接的管線系統(tǒng)，清洗液通過該管線系統(tǒng)供給噴射系統(tǒng)或噴射系統(tǒng)的噴射器。供給噴射系統(tǒng)的至少一個(gè)清洗噴射器的清洗液或處理液被噴灑到傳送型器皿清洗機(jī)的各自的清洗區(qū)內(nèi)并且噴灑在待清洗的物品上，待清洗的物品通過傳送型器皿清洗機(jī)的傳輸裝置輸送穿過各自的清洗區(qū)。每個(gè)清洗區(qū)均分配有槽，清洗噴射器所噴灑的液體接收在該槽中并且/或者液體盛裝在該槽中以準(zhǔn)備用于各自處理區(qū)的噴射系統(tǒng)。
[0008]在依照慣例從現(xiàn)有技術(shù)已知的傳送型器皿清洗機(jī)中，清水形式的最終漂洗液通過最終漂洗區(qū)的漂洗噴射器噴灑在待清洗的物品上。至少一些噴灑的最終漂洗液通過噴流系統(tǒng)逆著待清洗物品的輸送方向從一個(gè)區(qū)輸送到另一個(gè)區(qū)。
[0009]噴灑的最終漂洗液收集在后處理區(qū)的槽中，最終清洗液通過屬于后清洗區(qū)的清洗系統(tǒng)的清洗泵從該槽輸送到后清洗區(qū)的漂洗噴射器。清洗液在后清洗區(qū)中從物品上沖洗掉。在此過程中累積的液體流入至少一個(gè)主清洗區(qū)的清洗槽內(nèi)，在待清洗的物品的輸送方向上看，所述清洗槽設(shè)置在后清洗區(qū)的上游。這里，液體通常設(shè)置有清潔劑并且通過屬于主清洗區(qū)的清洗系統(tǒng)的泵系統(tǒng)經(jīng)由主清洗區(qū)中的噴射器噴灑在待清洗的物品上。然后液體從主清洗區(qū)的清洗槽流入預(yù)清洗區(qū)的預(yù)清洗槽內(nèi)。預(yù)清洗槽中的液體經(jīng)由屬于預(yù)清洗區(qū)的清洗系統(tǒng)的泵系統(tǒng)通過預(yù)清洗區(qū)的預(yù)清洗噴射器噴灑在待清洗的物品上，以便從待清洗的物品清除更大的污垢顆粒。
[0010]箱型器皿清洗機(jī)是可以手動裝載和卸載的器皿清洗機(jī)。這些箱型器皿清洗機(jī)包括餐用器皿架傳遞器皿清洗機(jī)，這種器皿清洗機(jī)也稱為罩式器皿清洗機(jī)或前裝載式器皿清洗機(jī)。前裝載式器皿清洗機(jī)可以是臺下機(jī)、臺上機(jī)或自立式前端裝載機(jī)。
[0011]作為箱型器皿清洗機(jī)提供的器皿清洗機(jī)通常具有用于清潔待清洗物品的處理區(qū)(處理室)。作為再循環(huán)回路提供的清洗系統(tǒng)通常設(shè)置在此處理區(qū)中。液體會由于重力而從處理區(qū)流回到其內(nèi)的清洗槽通常設(shè)置在處理室下方。通常為水的清洗液(在需要時(shí)可以加入清潔劑)位于清洗槽中。
[0012]位于清洗槽中的清洗液可以通過所述至少一個(gè)清洗噴射器經(jīng)由管線系統(tǒng)從清洗泵輸送到至少一個(gè)清洗噴射器中，可以在處理室中被噴灑在待清潔的物品上。
[0013]在作為箱型器皿清洗機(jī)提供的器皿清洗機(jī)中，可以經(jīng)由清水入口將清水引入處理室內(nèi)，通常引入到噴射器系統(tǒng)內(nèi)以及處理區(qū)的管線系統(tǒng)內(nèi)。這例如在清潔程序開始時(shí)為了提供所需的再循環(huán)的水量是必要的。在作為箱型器皿清洗機(jī)提供的器皿清洗機(jī)的清潔程序階段之后，然而，引入的清水也可以用作最終的漂洗液。
[0014]在供給新的清水用于最終漂洗時(shí)，通常從清洗槽排出相同量的清洗液到就地的廢水網(wǎng)絡(luò)中。
[0015]已知引入的水量是可接受的清洗結(jié)果的關(guān)鍵前提。由于待引入的水通常從當(dāng)?shù)氐闹饕嬘盟慈〕觯话悴粷M足就清洗而言適合的水質(zhì)的所有要求。當(dāng)評估水質(zhì)時(shí)，將包括待引入的水的整體硬度、氯化物含量、重金屬濃度以及總鹽度。
[0016]為了避免在低合金餐具物品的情況下發(fā)生點(diǎn)蝕，工業(yè)中針對最大氯化物含量的通常參考指標(biāo)例如是每單位體積的水中為50mg。
[0017]在重金屬的情況下，每單位體積的水中約0.1mg的鐵和0.05mg的鎂被認(rèn)為是最大值，因?yàn)槌^這些極限值已經(jīng)導(dǎo)致待清洗的物品和器皿清洗機(jī)變色。
[0018]類似的考量應(yīng)用于待引入的水的總鹽度。
[0019]為了觀察這種類型的極限值，已知在商用器皿清洗機(jī)中使用反滲透系統(tǒng)。包括用于觀察這種類型的水質(zhì)極限值的常規(guī)系統(tǒng)的這種類型的商用器皿清洗機(jī)在這種情況下的缺點(diǎn)是維護(hù)密集型和能量密集型，并且還使不能再用于清洗目的的大量水流失。因此，常規(guī)的反滲透設(shè)施要求具有較高壓力并且因此具有高輸送率的泵，使得能量消耗顯著上升。此夕卜，這種類型的反滲透設(shè)施的膜過濾系統(tǒng)很快被阻塞，這增加了維護(hù)成本。此外，器皿清洗機(jī)在維護(hù)期間不可用于清洗操作，也就是說特別是在更換膜過濾系統(tǒng)期間不可用于清洗操作。
[0020]本發(fā)明的目的是提高物品的總處理能力以及在簡介中提及的這種類型的器皿清洗機(jī)的可靠性。尤其是說明一種器皿清洗機(jī)以及用于操作器皿清洗機(jī)的方法，通過該器皿清洗機(jī)以及用于操作器皿清洗機(jī)的方法可提高器皿清洗機(jī)的可靠性并且減少停機(jī)時(shí)間，同時(shí)降低成本并且同時(shí)降低能耗和水消耗，其中不超過上述提及的水質(zhì)極限值。
[0021]鑒于器皿清洗機(jī)，通過獨(dú)立權(quán)利要求1的主題實(shí)現(xiàn)了根據(jù)本發(fā)明的目的。
[0022]鑒于方法，通過獨(dú)立權(quán)利要求17的主題實(shí)現(xiàn)了根據(jù)本發(fā)明的目的。
[0023]因此提出了一種器皿清洗機(jī)，該器皿清洗機(jī)具有至少一個(gè)處理系統(tǒng)，該處理系統(tǒng)包括噴射系統(tǒng)、清水系統(tǒng)和控制裝置，該噴射系統(tǒng)具有至少一個(gè)用于將處理液噴灑到至少一個(gè)處理區(qū)內(nèi)的待清潔物品上的噴射器。在這種情況下，清水系統(tǒng)具有至少一個(gè)水供給裝置、至少一個(gè)清水入口以及可控的電容式去離子裝置，所述至少一個(gè)清水入口用于將清水引入所述至少一個(gè)處理區(qū)內(nèi)，優(yōu)選為所述至少一個(gè)處理區(qū)的所述至少一個(gè)處理系統(tǒng)內(nèi)，以及可控的電容式去離子裝置在輸入側(cè)上連接到所述至少一個(gè)水供給裝置并且在輸出側(cè)上連接到所述至少一個(gè)清水入口。電容式去離子裝置具有至少一個(gè)單元，其中電容式去離子裝置的所述至少一個(gè)單元設(shè)計(jì)成在去離子模式下和在至少一個(gè)另外的操作模式下操作?？刂蒲b置設(shè)計(jì)成根據(jù)器皿清洗機(jī)的至少一個(gè)操作參數(shù)改變電容式去離子裝置的所述至少一個(gè)單元的操作模式。
[0024]這種類型的電容式去離子裝置或者其所述至少一個(gè)單元一般具有帶正電極和負(fù)電極的平板電容器，其中“正”和“負(fù)”涉及電容式去離子裝置的去離子模式。這種類型的電容式去離子裝置也稱為FTC單元(流通式電容單元)。
[0025]正電極和負(fù)電極通過間隔物保持一定距離，并且在兩者之間的間隙中限定待去礦物質(zhì)的水流過的路徑。在去礦物質(zhì)過程期間，也就是說，當(dāng)在正電極上施加正電勢并且在負(fù)電極上施加負(fù)電勢時(shí)，在電容器板之間流動的水(滲透)有效地被去除礦物質(zhì)。
[0026]在板的區(qū)域中，流動的水中的礦物質(zhì)因此被保留(滲余物)。為了使電容式去離子裝置在完成去礦物質(zhì)階段之后不含濃縮的滲余物，電容式去離子裝置的電容器板的極性被反置，也就是說，在去礦物質(zhì)操作中，在正極性的電容器板上施加負(fù)電勢；相應(yīng)地，在去礦物質(zhì)操作中，在負(fù)極性的電容器板上施加正電勢。為了防止礦物質(zhì)反向濃縮，也就是說，在各自相對的電容器板上的濃縮，陰離子膜設(shè)置在水已經(jīng)流過的間隙的一側(cè)并且設(shè)置在正電極上；相應(yīng)地，陽離子膜設(shè)置在間隙一側(cè)的負(fù)電極上。
[0027]由于電容器板的反向極化，在去礦物質(zhì)階段期間產(chǎn)生的滲余物在電容式去離子裝置的再生階段期間濃縮在電容器板之間的間隙的(仍然流動或僅慢慢流動的)水中。相對小體積的水中濃縮的滲余物此時(shí)可以以廢水的形式從電容式去離子裝置中沖洗掉。
[0028]根據(jù)本發(fā)明，由于電容式去離子裝置的至少一個(gè)單元以不同的操作模式根據(jù)器皿清洗機(jī)的至少一個(gè)操作參數(shù)進(jìn)行操作，所以可以避免器皿清洗機(jī)的維護(hù)時(shí)間或停機(jī)時(shí)間，并且因此可以最大可能地確保器皿清洗機(jī)的連續(xù)操作。由于能夠另外免除維護(hù)密集且能量密集的加工系統(tǒng)，例如反滲透系統(tǒng)，所以有可觀的能量優(yōu)勢。此外，由于僅需要非常少量的水來漂洗掉滲余物，所以大大減少了損失的水的比例。
[0029]本發(fā)明的目的還通過一種用于操作器皿清洗機(jī)，特別是作為箱型器皿清洗機(jī)或傳送型器皿清洗機(jī)提供的用于餐用器皿或餐具的商用器皿清洗機(jī)的方法來實(shí)現(xiàn)，其中器皿清洗機(jī)具有至少一個(gè)處理系統(tǒng)，該處理系統(tǒng)包括:噴射系統(tǒng)和清水系統(tǒng)，該噴射系統(tǒng)具有用于將處理液噴灑到至少一個(gè)處理區(qū)內(nèi)的待清潔物品上的至少一個(gè)噴射器。清水系統(tǒng)具有至少一個(gè)水供給裝置、至少一個(gè)清水入口以及可控的電容式去離子裝置，所述至少一個(gè)清水入口用于將清水引導(dǎo)到所述至少一個(gè)處理區(qū)內(nèi)，優(yōu)選所述至少一個(gè)處理區(qū)的所述至少一個(gè)處理系統(tǒng)內(nèi)，以及可控的電容式去離子裝置在輸入側(cè)上連接到所述至少一個(gè)水供給裝置，并且在輸出側(cè)上連接到所述至少一個(gè)清水