本申請(qǐng)涉及清潔設(shè)備，特別是涉及一種清洗基站。

背景技術(shù)：

1、為清潔機(jī)器人進(jìn)行拖地模組清洗的清洗基站會(huì)逐漸積累臟污物質(zhì)，容易產(chǎn)生異味、滋生細(xì)菌，也會(huì)導(dǎo)致清洗基站無(wú)法將清潔機(jī)器人的拖地模組清洗干凈。目前，市面上的清洗基站主要包括兩種，其中一種清洗基站的清洗盤(pán)可拆卸，當(dāng)清洗盤(pán)較臟時(shí)，用戶(hù)可以將其拆卸下來(lái)手動(dòng)清洗，清洗完成后再將清洗盤(pán)安裝到清洗基站上去。這種清洗基站就需要用戶(hù)頻繁的清洗清洗盤(pán)，不僅麻煩，還不衛(wèi)生，用戶(hù)體驗(yàn)差。另一種清洗基站則會(huì)在清洗盤(pán)里設(shè)計(jì)可旋轉(zhuǎn)的刮條結(jié)構(gòu)，在清洗清潔機(jī)器人時(shí)通過(guò)旋轉(zhuǎn)的刮條刮除清洗基站中的臟污沉積。然而，這種可旋轉(zhuǎn)的刮條結(jié)構(gòu)覆蓋的范圍不夠全面，清洗基站內(nèi)存在有很多刮除不到的區(qū)域，并且刮條容易被毛發(fā)、泥沙卡住，導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)刮除的功能失效。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種清洗基站，清洗基站包括：

2、基站主體；

3、底座，與基站主體連接，底座用于承載清潔機(jī)器人；

4、清洗盤(pán)，用于安裝在底座上，并相對(duì)于底座可拆卸，清洗盤(pán)用于清洗清潔機(jī)器人的拖地模組，清洗盤(pán)還被配置為可更換為另一新的清洗盤(pán)。

5、區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本申請(qǐng)?zhí)峁┑那逑椿镜挠幸嫘Ч牵?/p>

6、本申請(qǐng)通過(guò)將用于可拆卸地安裝在底座上的清洗盤(pán)配置為可更換為另一新的清洗盤(pán)，使得清洗基站可利用基站主體及安裝在底座上的清洗盤(pán)配合清洗清潔機(jī)器人的拖地模組，在安裝于底座上的清洗盤(pán)積累了臟污物質(zhì)時(shí)，可以將積累了臟污物質(zhì)的清洗盤(pán)更換為另一清洗盤(pán)，從而本申請(qǐng)?zhí)峁┑那逑椿静粫?huì)存在積累的臟污物質(zhì)無(wú)法清除的情況，而且不需要用戶(hù)定期清洗、維護(hù)，只需將積累了臟污物質(zhì)的清洗盤(pán)取下、并替換上新的清洗盤(pán)即可，可以方便快捷地實(shí)現(xiàn)清洗基站的清潔。

技術(shù)特征：

1.一種清洗基站，其特征在于，所述清洗基站包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗盤(pán)上設(shè)有至少一個(gè)清洗肋，用于與所述清潔機(jī)器人的拖地模組相摩擦以清洗所述拖地模組。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗基站，其特征在于，至少部分所述清洗肋上設(shè)有清水槽，所述基站主體設(shè)有注水口，所述注水口與安裝在所述底座上的所述清洗盤(pán)的所述清水槽連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗盤(pán)設(shè)有污水槽，所述清洗肋設(shè)置在所述污水槽中，所述基站主體設(shè)有吸污口，所述吸污口與安裝在所述底座上的所述清洗盤(pán)的所述污水槽連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗基站，其特征在于，至少部分所述清洗肋上凸設(shè)有至少一個(gè)摩擦部，所述摩擦部用于與所述清潔機(jī)器人的拖地模組相摩擦。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗基站，其特征在于，所述底座上設(shè)有支撐肋，所述支撐肋用于定位所述清洗盤(pán)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗基站，其特征在于，所述底座設(shè)有安裝槽，所述安裝槽用于安裝所述清洗盤(pán)，所述支撐肋設(shè)置在所述安裝槽中。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗盤(pán)包括第一側(cè)和第二側(cè)，所述第一側(cè)用于在安裝狀態(tài)下面向所述底座，所述第二側(cè)用于在安裝狀態(tài)下背離所述底座，清洗肋自所述第一側(cè)朝所述第二側(cè)凹陷形成，所述支撐肋的至少部分容置于安裝在所述底座上的所述清洗盤(pán)的所述清洗肋中，以定位所述清洗盤(pán)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗基站，其特征在于，至少部分所述清洗肋上凸設(shè)有至少一個(gè)摩擦部，所述摩擦部設(shè)于所述清洗肋用于背離所述支撐肋的一側(cè)，所述摩擦部用于與所述清潔機(jī)器人的拖地模組相摩擦，所述支撐肋上設(shè)有與所述摩擦部配合的支撐部，所述支撐部用于支撐所述摩擦部。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗盤(pán)為薄膜結(jié)構(gòu)，和/或，所述清洗盤(pán)為一體式結(jié)構(gòu)。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N清洗基站，涉及清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。清洗基站包括基站主體、與基站主體連接的底座及用于安裝在底座上的清洗盤(pán)，清洗盤(pán)相對(duì)于底座可拆卸，用于清洗清潔機(jī)器人的拖地模組，清洗盤(pán)被配置為可更換為另一新的清洗盤(pán)。本申請(qǐng)通過(guò)將用于可拆卸地安裝在底座上的清洗盤(pán)配置為可更換為另一新的清洗盤(pán)，使得清洗基站可利用基站主體及安裝在底座上的清洗盤(pán)配合清洗清潔機(jī)器人的拖地模組，在安裝于底座上的清洗盤(pán)積累了臟污物質(zhì)時(shí)，可以將積累了臟污物質(zhì)的清洗盤(pán)更換為另一清洗盤(pán)，從而可以方便快捷地實(shí)現(xiàn)清洗基站的清潔。

技術(shù)研發(fā)人員：徐全元,鄭丹東
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安克創(chuàng)新科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240419
技術(shù)公布日：2024/12/19