本公開涉及一種表面清潔設(shè)備的自清潔方法。

背景技術(shù)：

1、現(xiàn)有的地面清潔器以能夠完全潤濕待清潔的地板的方式以高流量的清潔液對地板實施清潔。通過使堅硬的地板面濕潤，清洗頭將塵埃從地板轉(zhuǎn)移到清潔液中，之后，該清潔液從堅硬的地板面被除去，并且作為被污染的清潔液而被保持在回收存儲部內(nèi)。

2、濕式表面清潔器通常具備：容納清潔溶液的清潔液存儲部；回收從被清洗的地板回收的污染物的回收存儲部；馬達驅(qū)動的真空源，以形成從被清洗地板到回收存儲部的抽真空流道；可再充電電池，為各部件提供能量；基站，用于濕式表面清潔器的充電和清潔后維護。

3、現(xiàn)有技術(shù)中，為了防止攪拌件發(fā)臭，在自清潔過程后采取加熱烘干讓攪拌件呈干燥狀態(tài)。為了實現(xiàn)攪拌件的徹底烘干，需要消耗大量的時間。例如在某款產(chǎn)品中，需要至少半個小時才能烘干攪拌件，用戶使用體驗較差。

4、另一方面，回收存儲部即使被清理，如果放置時間較長也容易發(fā)臭，導(dǎo)致用戶使用體驗較差。

5、在清水箱中添加含有殺菌功能的清潔劑能夠有效抑制攪拌件和回收存儲部內(nèi)的細菌蔓延，能夠達到較好的防臭效果。但是用戶每次需要手動添加，有時候忘記添加清潔劑，就非常不便。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了解決上述技術(shù)問題之一，本公開提供了一種表面清潔設(shè)備的自清潔方法。

2、根據(jù)本公開的一個方面，提供了一種表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其包括：

3、表面清潔設(shè)備獲得對所述表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔的信號；

4、判斷表面清潔設(shè)備是否?？坑诨?dāng)表面清潔設(shè)備未?？坑诨鶗r，將表面清潔設(shè)備?？坑诨賳幼郧鍧嵦幚碚埱?；

5、當(dāng)表面清潔設(shè)備?？坑诨鶗r，對表面清潔設(shè)備和基座進行自檢，獲取表面清潔設(shè)備和基座的當(dāng)前狀態(tài)；

6、根據(jù)所述表面清潔設(shè)備狀態(tài)，判斷所述表面清潔設(shè)備是否滿足第一預(yù)設(shè)條件；根據(jù)所述基座狀態(tài)，判斷所述基座是否滿足第二預(yù)設(shè)條件；以及

7、當(dāng)所述表面清潔設(shè)備滿足第一預(yù)設(shè)條件，所述基座滿足第二預(yù)設(shè)條件時，允許對表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔處理，并啟動自清潔循環(huán)；

8、其中，當(dāng)滿足下述條件時，判斷為表面清潔設(shè)備滿足第一預(yù)設(shè)條件：所述表面清潔設(shè)備的電量大于預(yù)設(shè)值、所述表面清潔設(shè)備的清潔液存儲部在位于表面清潔設(shè)備、所述表面清潔設(shè)備的回收存儲部在位于所述表面清潔設(shè)備以及所述回收存儲部內(nèi)的液體量小于等于預(yù)設(shè)值；

9、當(dāng)滿足下述條件時，判斷為基座滿足第二預(yù)設(shè)條件：所述基座的洗滌劑容納部內(nèi)的洗滌劑的含量能夠滿足一次自清潔循環(huán)。

10、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，所述自清潔循環(huán)中包括至少一次如下洗滌循環(huán)：

11、控制位于基座內(nèi)的第一控制元件以預(yù)設(shè)的流量向攪拌件或凹陷部分的至少一個提供預(yù)設(shè)時間的洗滌劑；

12、在基座提供洗滌劑的同時，控制表面清潔設(shè)備的攪拌件轉(zhuǎn)動第一預(yù)設(shè)時間；

13、當(dāng)基座提供洗滌劑結(jié)束后，控制表面清潔設(shè)備的攪拌件轉(zhuǎn)動第二預(yù)設(shè)時間；以及

14、啟動抽吸裝置，將攪拌件上的混合物及攪拌件周圍的混合物抽吸至表面清潔設(shè)備的回收存儲部。

15、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，還包括：

16、判斷當(dāng)前自清潔循環(huán)中是否已經(jīng)啟動洗滌循環(huán)；如果已啟動洗滌循環(huán)，則洗滌循環(huán)后控制表面清潔設(shè)備調(diào)整與自清潔模式相關(guān)的操作參數(shù)，以減少攪拌件上的洗滌劑。

17、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，該操作參數(shù)包括以下的至少一個：

18、攪拌件脫水時間，表面清潔設(shè)備的清潔液泵流量，表面清潔設(shè)備的抽吸裝置的功率，以及攪拌件的旋轉(zhuǎn)速度。

19、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，在對表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔的過程中，基站停止向表面清潔設(shè)備充電。

20、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，在洗滌循環(huán)過程中，當(dāng)表面清潔設(shè)備從基座移除，自動停止洗滌循環(huán)。

21、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，在自清潔循環(huán)過程中，當(dāng)表面清潔設(shè)備從基座移除，自動停止自清潔循環(huán)。

22、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，所述洗滌劑含有發(fā)泡成分。

23、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，還包括：向表面清潔設(shè)備的攪拌件、基座的凹陷部分以及回收存儲部中的至少一個提供消泡劑。

24、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，在所述第一預(yù)設(shè)時間內(nèi)循環(huán)執(zhí)行下述步驟至少一次：控制攪拌件沿第一方向轉(zhuǎn)動，和/或，控制攪拌件沿第二方向轉(zhuǎn)動。

25、根據(jù)本公開的至少一個實施方式的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，控制攪拌件轉(zhuǎn)動第二預(yù)設(shè)時間包括：

26、在所述第二預(yù)設(shè)時間內(nèi)循環(huán)執(zhí)行下述步驟至少一次：控制攪拌件沿第一方向轉(zhuǎn)動和控制攪拌件沿第二方向轉(zhuǎn)動。

技術(shù)特征：

1.一種表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，所述自清潔循環(huán)中包括至少一次如下洗滌循環(huán)：

3.如權(quán)利要求2所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，還包括：

4.如權(quán)利要求3所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，該操作參數(shù)包括以下的至少一個：

5.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，在對表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔的過程中，基站停止向表面清潔設(shè)備充電。

6.如權(quán)利要求2所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，在洗滌循環(huán)過程中，當(dāng)表面清潔設(shè)備從基座移除，自動停止洗滌循環(huán)。

7.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，在自清潔循環(huán)過程中，當(dāng)表面清潔設(shè)備從基座移除，自動停止自清潔循環(huán)。

8.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，所述洗滌劑含有發(fā)泡成分。

9.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，還包括：向表面清潔設(shè)備的攪拌件、基座的凹陷部分以及回收存儲部中的至少一個提供消泡劑。

10.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其特征在于，在所述第一預(yù)設(shè)時間內(nèi)循環(huán)執(zhí)行下述步驟至少一次：控制攪拌件沿第一方向轉(zhuǎn)動，和/或，控制攪拌件沿第二方向轉(zhuǎn)動；和/或，控制攪拌件轉(zhuǎn)動第二預(yù)設(shè)時間包括：在所述第二預(yù)設(shè)時間內(nèi)循環(huán)執(zhí)行下述步驟至少一次：控制攪拌件沿第一方向轉(zhuǎn)動和控制攪拌件沿第二方向轉(zhuǎn)動。

技術(shù)總結(jié)
本公開提供一種表面清潔設(shè)備的自清潔方法，其包括：表面清潔設(shè)備獲得對所述表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔的信號；判斷表面清潔設(shè)備是否?？坑诨粚Ρ砻媲鍧嵲O(shè)備和基座進行自檢，獲取表面清潔設(shè)備和基座的當(dāng)前狀態(tài)；根據(jù)所述表面清潔設(shè)備狀態(tài)，判斷所述表面清潔設(shè)備是否滿足第一預(yù)設(shè)條件；根據(jù)所述基座狀態(tài)，判斷所述基座是否滿足第二預(yù)設(shè)條件；以及當(dāng)所述表面清潔設(shè)備滿足第一預(yù)設(shè)條件，所述基座滿足第二預(yù)設(shè)條件時，允許對表面清潔設(shè)備的攪拌件進行自清潔處理，并啟動自清潔循環(huán)。

技術(shù)研發(fā)人員：劉煜,謝明健,唐成,段飛,羅吉成
受保護的技術(shù)使用者：北京順造科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19