本實(shí)用新型涉及一種塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，屬于日用品領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

現(xiàn)市售的研磨器及有關(guān)的塊狀調(diào)味料的研磨器專利，多由容器、研磨頭、手柄為分開 結(jié)構(gòu)構(gòu)成的長圓筒形結(jié)構(gòu)，其體積大，不易攜帶，另外其內(nèi)部的零件多，使用后不易清洗再裝配。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，研磨效果好，并且零件少，結(jié)構(gòu)簡單，較易清洗。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案是，一種塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，包括研磨腔體，研磨腔體的上端設(shè)置有上蓋板，上蓋板上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)支桿，旋轉(zhuǎn)支桿的頂端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)把手，旋轉(zhuǎn)支桿的下段設(shè)置有四個(gè)均勻設(shè)置的上端研磨球；所述研磨腔體內(nèi)設(shè)置有四個(gè)均勻設(shè)置的下端研磨球，上端研磨球和下端研磨球接觸，上端研磨球和下端研磨球?yàn)閳A球形；所述上蓋板的下端面上設(shè)置有一個(gè)上研磨罩，上端研磨球設(shè)置于上研磨罩內(nèi)，研磨腔體內(nèi)設(shè)置有下研磨罩，下端研磨球設(shè)置于下研磨罩內(nèi)，上研磨罩和下研磨罩為圓錐形；所述上研磨罩和下研磨罩的內(nèi)表面上設(shè)置有若干弧形的研磨凸起，上端研磨球的外表面上設(shè)置有若干導(dǎo)向凹槽，下端研磨球的表面上設(shè)置有若干研磨凸起；所述上蓋板上設(shè)置有進(jìn)料管，進(jìn)料管的下端設(shè)置于上研磨罩內(nèi)。

優(yōu)化的，上述塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，所述上端研磨球的直徑小于下端研磨球的直徑，相鄰的兩個(gè)上端研磨球的間距與相鄰的兩個(gè)下端研磨球的間距相同。

優(yōu)化的，上述塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，所述導(dǎo)向凹槽為弧形凹槽，導(dǎo)向凹槽的弧度為下端研磨球與上端研磨球的直徑比值的兩倍。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于它能克服現(xiàn)有技術(shù)的弊端，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理新穎。本申請(qǐng)的設(shè)計(jì)中，使用上端研磨球和下端研磨球接觸配合設(shè)置的形式，這樣當(dāng)調(diào)料在進(jìn)行研磨時(shí)，通過上端研磨球和下端研磨球接觸可以將調(diào)料磨碎，將上端研磨球和下端研磨球設(shè)置為球形能夠起到在研磨過程中將塊狀的調(diào)料攪拌分散的目的。經(jīng)過實(shí)驗(yàn)得出，上端研磨球的直徑小于下端研磨球的直徑，相鄰的兩個(gè)上端研磨球的間距與相鄰的兩個(gè)下端研磨球的間距相同時(shí)，研磨的效果較好，研磨顆粒較均勻。為了進(jìn)一步提高研磨的均勻度，在上端研磨球的外表面上設(shè)置若干導(dǎo)向凹槽，下端研磨球的表面上設(shè)置若干研磨凸起，這樣通過導(dǎo)向凹槽和研磨凸起的配合作用可以進(jìn)一步提高研磨的均勻度，導(dǎo)向凹槽的弧度為下端研磨球與上端研磨球的直徑比值的兩倍時(shí)，效果較佳。上研磨罩和下研磨罩起到了導(dǎo)向的作用，將調(diào)料集中于上端研磨球和下端研磨球的研磨區(qū)域內(nèi)，防止調(diào)料在研磨過程中四散。使得上研磨罩和下研磨罩的內(nèi)表面上設(shè)置研磨凸起，這樣可以在研磨過程中起到攪拌調(diào)料顆粒的作用，使得研磨顆粒大小均勻。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1為研磨腔體、2為上蓋板、3為旋轉(zhuǎn)支桿、4為旋轉(zhuǎn)把手、5為上端研磨球、6為下端研磨球、7為上研磨罩、8為下研磨罩、9為研磨凸起、10為導(dǎo)向凹槽、11為進(jìn)料管。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施例進(jìn)一步闡述本發(fā)明的技術(shù)特點(diǎn)。

本實(shí)用新型為一種塊狀調(diào)料手動(dòng)研磨器，包括研磨腔體，研磨腔體的上端設(shè)置有上蓋板，上蓋板上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)支桿，旋轉(zhuǎn)支桿的頂端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)把手，旋轉(zhuǎn)支桿的下段設(shè)置有四個(gè)均勻設(shè)置的上端研磨球；所述研磨腔體內(nèi)設(shè)置有四個(gè)均勻設(shè)置的下端研磨球，上端研磨球和下端研磨球接觸，上端研磨球和下端研磨球?yàn)閳A球形；所述上蓋板的下端面上設(shè)置有一個(gè)上研磨罩，上端研磨球設(shè)置于上研磨罩內(nèi)，研磨腔體內(nèi)設(shè)置有下研磨罩，下端研磨球設(shè)置于下研磨罩內(nèi)，上研磨罩和下研磨罩為圓錐形；所述上研磨罩和下研磨罩的內(nèi)表面上設(shè)置有若干弧形的研磨凸起，上端研磨球的外表面上設(shè)置有若干導(dǎo)向凹槽，下端研磨球的表面上設(shè)置有若干研磨凸起；所述上蓋板上設(shè)置有進(jìn)料管，進(jìn)料管的下端設(shè)置于上研磨罩內(nèi)。所述上端研磨球的直徑小于下端研磨球的直徑，相鄰的兩個(gè)上端研磨球的間距與相鄰的兩個(gè)下端研磨球的間距相同。所述導(dǎo)向凹槽為弧形凹槽，導(dǎo)向凹槽的弧度為下端研磨球與上端研磨球的直徑比值的兩倍。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于它能克服現(xiàn)有技術(shù)的弊端，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理新穎。本申請(qǐng)的設(shè)計(jì)中，使用上端研磨球和下端研磨球接觸配合設(shè)置的形式，這樣當(dāng)調(diào)料在進(jìn)行研磨時(shí)，通過上端研磨球和下端研磨球接觸可以將調(diào)料磨碎，將上端研磨球和下端研磨球設(shè)置為球形能夠起到在研磨過程中將塊狀的調(diào)料攪拌分散的目的。經(jīng)過實(shí)驗(yàn)得出，上端研磨球的直徑小于下端研磨球的直徑，相鄰的兩個(gè)上端研磨球的間距與相鄰的兩個(gè)下端研磨球的間距相同時(shí)，研磨的效果較好，研磨顆粒較均勻。為了進(jìn)一步提高研磨的均勻度，在上端研磨球的外表面上設(shè)置若干導(dǎo)向凹槽，下端研磨球的表面上設(shè)置若干研磨凸起，這樣通過導(dǎo)向凹槽和研磨凸起的配合作用可以進(jìn)一步提高研磨的均勻度，導(dǎo)向凹槽的弧度為下端研磨球與上端研磨球的直徑比值的兩倍時(shí)，效果較佳。上研磨罩和下研磨罩起到了導(dǎo)向的作用，將調(diào)料集中于上端研磨球和下端研磨球的研磨區(qū)域內(nèi)，防止調(diào)料在研磨過程中四散。使得上研磨罩和下研磨罩的內(nèi)表面上設(shè)置研磨凸起，這樣可以在研磨過程中起到攪拌調(diào)料顆粒的作用，使得研磨顆粒大小均勻。上端研磨球的球心處于同一平面內(nèi)，下端研磨球的球心處于同一平面內(nèi)。

當(dāng)然，上述說明并非是對(duì)本實(shí)用新型的限制，本實(shí)用新型也并不限于上述舉例，本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi)，作出的變化、改型、添加或替換，都應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。