性，有可能會(huì)損失作為氯乙烯類地 板面磚的柔軟性機(jī)能。
[0022] 權(quán)利要求4的發(fā)明提供了根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的具有層疊型無(wú)機(jī)類 保護(hù)涂層的氯乙烯類面磚，其中，所述頂涂層側(cè)的表面光澤為70以上。
[0023] 在該發(fā)明中，能夠獲得具有陶瓷面磚所具有的高光澤性、高硬度、耐磨損性以及由 此帶來(lái)的長(zhǎng)期光澤維持性、長(zhǎng)期維持美觀等特點(diǎn)的免維護(hù)型的氯乙烯類面磚。
[0024] 權(quán)利要求5的發(fā)明提供了一種具有層疊型無(wú)機(jī)類保護(hù)涂層的氯乙烯類面磚的涂 覆方法，其為在氯乙烯類面磚的表面上至少實(shí)施底涂層、中間涂層、頂涂層的層疊型無(wú)機(jī)類 保護(hù)涂覆處理的方法，其中，層疊多個(gè)層，所述多個(gè)層由硬度為3H~6H、厚度為20ym~ 50ym的所述底涂層；硬度為6H~9H、厚度為10ym~40ym的中間涂層；硬度為10H以 上、厚度為3ym~20ym的頂涂層組成。
[0025] 在該發(fā)明中，氯乙烯類面磚上形成的無(wú)機(jī)類保護(hù)頂涂層能夠充分抑制交聯(lián)反應(yīng) (縮合反應(yīng)）時(shí)發(fā)生的涂覆劑的內(nèi)應(yīng)變，或隨之而來(lái)的面磚的翹曲或開(kāi)裂的發(fā)生。具體而 言，頂涂層雖是薄膜，但由于形成了超硬質(zhì)類涂層，因此得到的結(jié)構(gòu)使得中間涂層吸收頂涂 層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)變，底涂層吸收中間涂層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)變，進(jìn) 而氯乙烯面磚自身吸收底涂層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)變。由此，關(guān)于作為常溫硬化型 涂覆劑特有問(wèn)題的交聯(lián)時(shí)的內(nèi)應(yīng)變，通過(guò)使面磚自身的翹曲在1mm以下，能夠?qū)㈤_(kāi)裂的發(fā) 生率抑制在1%以內(nèi)。即，通過(guò)制成層疊型涂層，使涂覆劑在硬化收縮時(shí)發(fā)生的內(nèi)應(yīng)變能夠 通過(guò)各自硬度和厚度不同的層疊型涂層吸收。
[0026] 該方法將頂涂層以及中間層、底涂層的硬度和厚度設(shè)為參數(shù)，能夠吸收從頂涂層 到底涂層的各自的內(nèi)應(yīng)變，由此，使面磚自身的形變（面磚的翹曲）難以發(fā)生。另外，對(duì)于 作為地板材料在使用時(shí)發(fā)生的由步行導(dǎo)致的變形或集中荷重，通過(guò)將涂層設(shè)置為層疊型， 也能夠得到能在一定程度上吸收的緩沖結(jié)構(gòu)。該涂覆方法當(dāng)然能夠處理新設(shè)的面磚，同時(shí) 對(duì)于已經(jīng)設(shè)置好的氯乙烯類面磚也能夠在剝離蠟后進(jìn)行處理。
[0027] 另外，由于頂涂層自身為超硬質(zhì)類涂層，如果層厚度太厚，則容易發(fā)生開(kāi)裂。另一 方面，若層厚度變薄，則頂涂層自身難以獲得光澤。關(guān)于這一點(diǎn)，通過(guò)形成底涂層或中間涂 層補(bǔ)足厚度，即使是通過(guò)涂布固體成分濃度低的涂覆劑制成的薄頂涂層，也可能形成光澤 性高的膜。
[0028] 權(quán)利要求6的發(fā)明提供了根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有層疊型無(wú)機(jī)類保護(hù)涂層的氯 乙烯類面磚的涂覆方法，其中所述氯乙烯類面磚的聚氯乙烯含量為10%~40%。
[0029] 在該發(fā)明中，通過(guò)將在氯乙烯類面磚上形成的無(wú)機(jī)類保護(hù)頂涂層的交聯(lián)反應(yīng)時(shí) (縮合反應(yīng)時(shí)）發(fā)生的面磚的翹曲等限制在1mm以下，具有能夠?qū)㈤_(kāi)裂的發(fā)生率抑制在1% 以內(nèi)的氯乙烯類面磚的柔軟性，能夠廣泛用作硬質(zhì)類地板材料復(fù)合面磚和軟質(zhì)類地板材料 同質(zhì)面磚兩種類型。另外，在能夠防止由面磚的翹曲導(dǎo)致的無(wú)機(jī)類涂層開(kāi)裂的同時(shí)，能夠得 到具有乙烯基類面磚本來(lái)的柔軟性的合適的氯乙烯類面磚。另外，氯乙烯類面磚自身能夠 吸收在底涂層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的收縮帶來(lái)的內(nèi)應(yīng)變，即使對(duì)于作為地板材料在使用時(shí) 發(fā)生的由步行導(dǎo)致的變形或荷重，也能夠與涂層一同吸收。
[0030] 權(quán)利要求7的發(fā)明提供了根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的具有層疊型無(wú)機(jī)類保護(hù)涂層 的氯乙烯類面磚的涂覆方法，其中，所述氯乙烯類面磚的厚度為2mm~6mm。
[0031] 在該發(fā)明中，在能夠防止由面磚的翹曲導(dǎo)致發(fā)生的無(wú)機(jī)類涂層開(kāi)裂的同時(shí)，能夠 得到具有氯乙烯面磚本來(lái)的柔軟性的合適的氯乙烯類面磚。另外，面磚自身能夠吸收底涂 層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的收縮帶來(lái)的內(nèi)應(yīng)變，對(duì)于在作為地板材料使用時(shí)發(fā)生的因步行導(dǎo) 致的變形或荷重，也能與涂層一同吸收。
[0032] 權(quán)利要求8的發(fā)明提供了根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的具有層疊型無(wú)機(jī)類 保護(hù)涂層的氯乙烯類面磚的涂覆方法，其中，所述底涂層、中間涂層和頂涂層的疊層總厚度 為 33 ~110um。
[0033] 在該發(fā)明中，通過(guò)將所述底涂層、中間涂層和頂涂層的疊層總厚度設(shè)置為33ym 以上，即使頂涂層是通過(guò)涂布固體成分濃度低的涂覆劑得到的薄膜，也有可形成光澤性高 的膜。另外，即使是復(fù)合面磚等表面凹凸不平的面磚，也能得到70以上的光澤值。若疊層 總厚度超過(guò)110Um，則面磚會(huì)變得容易發(fā)生翹曲或開(kāi)裂等。
[0034] 權(quán)利要求9的發(fā)明提供了根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的具有層疊型無(wú)機(jī)類 保護(hù)涂層的氯乙烯類面磚的涂覆方法，其中，在30°C~KKTC下對(duì)層疊所述底涂層、中間涂 層和頂涂層的氯乙烯類面磚的表面實(shí)施1小時(shí)以上的熱處理。
[0035] 在該發(fā)明中，為了預(yù)防在熱處理時(shí)氯乙烯類面磚的變形而進(jìn)行矯正處理，由此有 利于無(wú)機(jī)類保護(hù)頂涂層發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)時(shí)（縮合反應(yīng)時(shí)）產(chǎn)生的面磚翹曲等限制在1mm以 下。優(yōu)選為30°C~50°C。
【附圖說(shuō)明】
[0036] 圖1為表1的鉛筆硬度試驗(yàn)與耐磨損試驗(yàn)的相關(guān)數(shù)據(jù)。
【具體實(shí)施方式】
[0037] 本實(shí)施例中使用的氯乙烯類面磚的聚氯乙烯含量為10%~40%，厚度為2mm~ 6mm。并且，在該氯乙烯類面磚表面上實(shí)施層疊型無(wú)機(jī)類保護(hù)涂層處理。
[0038] 關(guān)于上述的基底層（底涂層及中間涂層）與頂涂層的涂覆劑，示于本申請(qǐng)人提出 的日本特開(kāi)2010-163584號(hào)公報(bào)（日本專利第4957926號(hào)）中。即，可以使用按如下組成配 制而成的化學(xué)地板保護(hù)用的具有可撓性的常溫硬化型無(wú)機(jī)質(zhì)涂覆劑：相對(duì)于涂覆劑整體組 成，4官能度的烷氧基硅烷與3官能度的烷氧基硅烷的混合物10~45wt%、平均直徑5~ 20nm的超微粒膠體氧化硅10~50wt%、用于賦予作為化學(xué)地板用的可撓性的硅樹(shù)脂烷氧 基低聚物和/或2官能度的烷氧基硅烷2~20wt%、作為所述超微粒膠體氧化硅和烷氧基 硅烷的偶聯(lián)劑而使用乙烯基、環(huán)氧基、氨基中的任意種類作為官能基的硅烷偶聯(lián)劑0.5~ 2.Owt%、以及作為促進(jìn)上述烷氧基硅烷加水分解生成的硅烷醇的縮合反應(yīng)的催化劑的磷 酸類催化劑或鈦類催化劑〇. 5~5wt%，其中該4官能度的烷氧基硅烷為選自四甲氧基硅 烷、四乙氧基硅烷中的至少1種以上，該3官能度的烷氧基硅烷選自甲基三甲氧基硅烷、苯 基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧 基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷中的至少1 種以上。并且，通過(guò)改變這些4官能度的硅烷或3官能度的硅烷、甲基/乙基硅酸鹽、硅溶 膠及它們的組合或配合比例，可研發(fā)出高硬度、高光澤的涂膜。
[0039] 用于本發(fā)明的4官能度的烷氧基硅烷使用四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷，3官能度 的烷氧基硅烷使用甲基二甲氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、苯基二乙氧 基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅 烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷等。
[0040] 另外，作為用于賦予可撓性的2官能度的烷氧基硅烷，使用二甲基二甲氧基硅烷、 ^苯基^甲氧基硅烷、^甲基^乙氧基硅烷、^苯基^乙氧基硅烷等。另外，作為娃樹(shù)脂燒 氧基低聚物，優(yōu)選使用引入了高分子體或賦予可撓性單元的甲基類低聚物。若增加高分子 體的甲基類低聚物的添加量，有可能會(huì)導(dǎo)致粘度上升，因此必需少量添加。
[0041]作為硅烷偶聯(lián)劑，官能基使用乙條基、環(huán)氧基、氣基等，主要使用乙條基二氣硅烷、 乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、2-(3, 4-環(huán)氧基環(huán)己基）乙基三甲氧基硅烷、 3_縮水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-縮水 甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基）-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨 基乙基）_3_氛基丙基二甲氧基硅烷、N_2_ (氛基乙基）_3_氛基丙基二乙氧基硅烷、3_氛基 丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷等。
[0042] 用于保持高硬度的膠體氧化硅為分散于有機(jī)溶劑中的類型，例如使用甲醇類、異 丙醇類、乙二醇類、二甲基乙酰胺類、甲基乙基酮類、甲基乙基類、二甲苯正丁醇類、甲基異 丁基類作為分散介質(zhì)。另外，也使用水分散型膠體氧化硅。任意一種的粒徑均為5nm~ 20nm〇
[0043] 作為催化劑，使用磷酸類或鈦類催化劑（有機(jī)鈦酸鹽）、鋁類催化劑等。磷酸類催 化劑使用以醇類（異丙醇等）稀釋到磷酸濃度為20~30%的磷酸類催化劑。另外，使用有 機(jī)鈦酸鹽等作為鈦類催化劑，主要使用以醇等將四異丙氧基鈦、四正丁氧基鈦、四（2-乙基 己基氧基）鈦、四（十八烷氧基）鈦、二異丙氧基雙（乙酰丙酮）鈦、二正丁氧基雙（三乙 醇胺酸）鈦、異丙氧基辛二醇鈦、硬脂酸鈦等稀釋到50%左右的有機(jī)鈦酸鹽，這些催化劑的 添加量在上述稀釋液的狀態(tài)下相對(duì)于烷氧基硅烷以重量比計(jì)為〇.lwt%~5.Owt%。進(jìn)一 步地，作為鋁類催化劑可使用鋁醇化物、鋁螯合物、環(huán)狀鋁低聚物等，使用以醇類（異丙醇） 等稀釋到20 %~50 %濃度的鋁類催化劑。
[0044] 在本實(shí)施例中，所述基底由底涂層及中間涂層組成，所述底涂層形成為3H~6H的 硬度、20ym~50ym的厚度，中間涂層形成為6H~9H的硬度、10