專利名稱：模制玻璃的模子和模子的生產方法
技術領域：
本發(fā)明涉及模制玻璃用的模子和模子的生產方法，更具體地，本發(fā)明涉及一種用于從熔融玻璃(粘塊)模制型坯的模子，特點模制玻璃制品的壽命長、模制性能好、平滑。
在模制玻璃的一個步驟中，大量高溫下熔融的玻璃被放入一個模子(空模和頸環(huán))。在這種情況下，大量的玻璃經(jīng)常不完全流入模子中或產生皺紋，這是由于相對于模子的摩擦阻力。為了防止這種現(xiàn)象，并且方便地能把模制成型坯形狀的玻璃從模子中移出，用含石墨的油(擦洗化合物)涂在模子的內表面上，保持幾十分鐘的間隔。但由于模子通常在高達500℃的溫度下加熱，油煙灰的產生污染了生產環(huán)境。另外，所用的過量石墨粘在玻璃容器的表面，引起產品污損并且劣化了產品的生產。
為解決這些問題，已提出用種種潤滑/分離劑來代替擦洗用化合物。例如日本已公開專利公開號127111/1976揭示了在一生產玻璃容器的設備中所用的潤滑/分離劑，含5-30%重量的至少一種從磷酸氫鋁、磷酸鋁和磷酸氫鎂中選出的化合物和40～90%重量的含酸水溶液。
為了給予模子內表面潤滑/分離的性能，更進一層，日本已公開專利公開號10207/1974揭示了模制玻璃制品的一種模子，在模子中把含磷3～13%重量的鎳膜用非電鍍法涂覆在模子的內表面，保持厚度5-300μm。
由本發(fā)明人申請的日本公開專利公開號10027/1988揭示了模制玻璃的一種模子，模子內表面用膜覆蓋，此膜中是用鎳或主要含鎳為基體的鎳基合金并含分散的石墨顆粒。
但是，前面的潤滑/分離劑的耐熱性和耐磨性是差的，只有約1-3天的壽命。上述合金涂覆的方法所生產的膜的耐久性是優(yōu)良的，但仍然有潤滑性很差的問題。
后者用石墨分散的鎳膜與上述那些現(xiàn)有技術相比，具有優(yōu)良的潤滑性和耐久性，但仍會在玻璃表面產生細痕。模制玻璃表面的細痕在使用一段時間后逐漸增大。
那就是說，石墨分散的鎳涂層具有石墨所擁有的優(yōu)良潤滑性和鎳擁有的優(yōu)良耐熱性和抗摩擦性。但在產生分散性涂層中，被涂在模子表面的鎳層象和模子表面垂直方向的顆粒一樣很大地成長。因此，由于經(jīng)受顆粒生長的鎳而引起了玻璃表面的細痕擴大。
因此，本發(fā)明的目的是提供用鎳或主要含鎳的鎳基合金作為基體而石墨顆粒分散地鍍覆于模子的內表面來模制玻璃的一種模子，其特征是能抑制鎳的顆粒成長，以合并地得到高潤滑性、耐熱性、分離性、耐磨性和耐久性，消除了現(xiàn)有技術的前述的缺陷。本發(fā)明進一步提供了生產這種模子的方法。
本發(fā)明提供了內表面涂鎳或主要含鎳的鎳基合金和石墨顆粒涂覆的模制玻璃的模子，其特征是所述的涂覆膜包括以開口小泡形式(opencell)存在的鎳基體或鎳基合金基體，以及一種保持于所述開口小泡中并向外暴露在表面上的石墨顆粒相，所述的鎳或鎳基合金以薄片狀形式存在于膜的平面方向和膜的垂直方向的膜垂直截面上，有幾十百分比到大于50%，具有薄片長度不大于20μm。
本發(fā)明進一步提供了模制玻璃的模子的生產方法，它包括在含有水溶性鎳鹽以及分散有石墨的溶液的分散液電鍍浴中浸漬模制玻璃的模子，使模子作為陰極，鎳金屬作為陽極，通以電流使鎳以及石墨沉淀，在分散電鍍浴中加入水溶性高分子物作為分散劑，以抑制在膜內以膜的水平面方向和膜垂直方向膜中的鎳或鎳基合金的成長。水溶性高分子的較好例子是陰離子高分子分散劑。當石墨顆粒事先被處理后再行使用時，得到的效果特別顯著。


圖1是本發(fā)明模制玻璃的金屬模子模截面的內表面的電子顯微照相。
本發(fā)明模子的內表面用主要含鎳和石墨顆粒的鎳基合金或鎳通過鎳-石墨分散涂層涂覆得到一層膜。這是由于在模制玻璃的時候，此膜合并地表現(xiàn)出優(yōu)良的潤滑性、耐熱性、分離性和耐磨性。
已經(jīng)指出的，盡管由鎳-石墨分散液涂覆形成的膜具有石墨所擁有的優(yōu)良潤滑性和鎳所擁用的優(yōu)良耐熱性和耐磨性，但在產生分散涂層時，鎳涂層有象在模子表面的垂直方向或進一步在模子水平面的方向上的顆粒一樣成長的趨向，由于鎳已象顆粒一樣成長起來，玻璃表面的細痕不可避免的擴大。
本發(fā)明發(fā)現(xiàn)，當水溶性高分子作為分散劑被加入到含有石墨分散于其中的水溶性鎳鹽溶液的石墨電鍍浴中時，在膜的垂直方向或膜水平面方向上，膜中的鎳或鎳基合金被抑制成長，一種具有新型、精細結構的膜在模制玻璃的模子表面形成。
本發(fā)明模制玻璃的模子表面上的膜含有(1)鎳或鎳基合金的基體(以下簡稱為鎳)，它以薄片狀和總體上是連續(xù)地但以開口小泡的形式存在，和(2)在開口小泡中所含的向外暴露于表面的石墨顆粒相。甚至在此分散電鍍膜中，鎳基體的形式是通過在鎳被電鍍而沉淀于鎳顆粒上面使顆粒成長，所以鎳基體作為一個整體是一種連續(xù)的形式。但在本發(fā)明的膜中，鎳被抑制象顆粒一樣在平面方向和垂直方向的成長，得到了薄片狀或以開口小泡的形式存在，產生了杰出的性能。此開口小泡代表了連通氣泡型泡沫料的壁(微孔)的類型-盡管壁是連續(xù)的，但仍需要有開放部分。由鎳組成的開口小泡中含有石墨顆粒，進一步石墨顆粒向外暴露于膜的表面。
附圖1是本發(fā)明模制玻璃的模子表面模截面的電子顯微照相(放大200倍)，其中下方的連續(xù)部分是基礎金屬，上方的白色薄片狀部分代表鎳涂層，灰色顆粒代表石墨顆粒。從此圖中可以很好地理解本發(fā)明的玻璃模子的膜具有如上所述的精細結構。
從圖1可以知道，在膜平面的方向和它的垂直方向的膜的橫截面上，鎳鍍層或基體具有不大于20μm的薄片狀形態(tài)，且至少占到總數(shù)的50%。
本說明書中，用電子掃描顯微照相(SEM)拍下膜的橫截面，然后把像片放入圖像處理器處理而得到代表鎳涂層長度的薄片長度。SEM像的放大倍數(shù)是700倍，圖像處理的切割寬度是0.3μm。
本發(fā)明在模制玻璃的模子的表面膜中，鎳以精細的開口小泡形式存在，石墨顆粒則含于電池中。所以，此膜具有力學上剛性的結構并表現(xiàn)出優(yōu)良的耐磨性、耐久性和耐熱性。另外，通過開口小泡向外暴露的石墨顆粒在一段長時間里具有穩(wěn)定的優(yōu)良潤滑性能。更進一層，由于鎳以薄片狀存在，即使當膜被磨損時，玻璃模制品也不會產生傷痕;也就是說，玻璃模制品具有平滑和優(yōu)良的外觀。
本發(fā)明的方法體現(xiàn)了一個現(xiàn)象在分散電鍍浴中混合的高分子分散劑抑制了鎳在膜平面的方向上和垂直方向上象顆粒一樣的生長，產生了開放的蜂窩狀形式和薄片結構。雖然原因還不清楚，但可認為在電鍍浴中存在的高分子分散劑促進了石墨顆粒粘附在電鍍鎳的活性位點上，而鎳是象顆粒一樣成長。
當一陰離子高分子分散劑被用作高分子分散劑時，表現(xiàn)出抑制顆粒成長的特別大的作用，這很可能是因為石墨顆粒通過陽離子分散劑而沉淀在上述的活性位點上。因此，最好石墨顆粒事先用陰離子高分子分散劑處理。
優(yōu)選實施例的描寫模子的例子包括比如空模(blankmold)、整理模(finishmold)、頸環(huán)(neckring)、底板(bothoomplate)、檔板(baffle)、壓模(press-mold)等用于制造瓶子或罐及它們的型坯、盤子或用模制件比如模法、吹模法、壓吹法或吹及吹法從大量熔融玻璃或所述的粘塊加工成其它模制品。
用分散電鍍法在上述模子上形成的膜將在下面具體描述。首先，在分散電鍍前，模子內表面用堿去蠟清潔，用酸洗滌，用金鋼砂上光或噴沙處理。模子被浸漬于電鍍浴中，使模子作為陰極，鎳作陽極，兩極相對，通以電流使得石墨和鎳沉淀，與鎳一起形成膜。在這種情況下，重要的是水溶性高分子分散劑，尤其是陽離子高分子分散劑被引入至分散電鍍浴。
水溶性高分子分散劑被廣泛用于顆粒穩(wěn)定分散或懸浮于水介質中的目的。但本發(fā)明的上述分散劑不僅用于改善分散或懸浮性能，而且能抑制鎳涂層在預定方向上象顆粒一樣的成長，這是一個完全不同的作用。
水溶性分散劑較好的例子包括陰離子水溶性聚合物，比如羧甲基纖維素、羧甲基淀粉藻酸鹽、馬來酸-乙烯基醚共聚物、(甲)基丙烯酸-(甲基)丙烯酸酯共聚物、(甲基)丙烯酸-乙烯基乙酸鹽酯共聚物、通過接枝聚合(甲基)丙烯酸或(無水)馬來酸得到的纖維素衍生物、部分或全部皂化了的乙烯基聚乙酸酯和其它聚合物。
水溶性分散劑的例子可進一步包括其它水溶性高分子物，比如甲基纖維素、乙基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、淀粉、氰乙基化淀粉、聚乙烯基醇、酷蛋白、聚乙烯基醚、聚亞甲基1，2-亞乙基二醇、阿拉樹樹膠、聚乙烯基吡咯烷酮等，可以單獨運用，也可以合并運用。
本發(fā)明希望用一陰離子水溶性高分子分散劑來有效抑制鎳鍍層，在平面高度和平面方向上的顆粒成長。陽離子分散劑有陰離子基團，如磺酸基、磷酸基等基團。但除了羧酸基外，其它含陰離子基團的陰離子分散劑比如磺酸基或磷酸基，會污染石墨顆粒。所以希望用以羧基為陽離子基團的分散劑。高分子分散劑還可含有其它親水的基團，比如羥基、醚基、酯基等基團。
當用每一重量單位的摩爾數(shù)表示時，在水溶性高分子分散劑中的羧基濃度應為100～1200mmols/100g，更具體地200～1000mmols/100g。當羧基的濃度不在此范圍時，抑制鎳層的顆粒生長作用會減小。水溶性高分子分散劑的分子量應大到被認為是高分子，比如1000或更大，更具體些，大于2000。陽離子水溶性高分子分散劑的抗衡離子，即組成基的陽離子可以是任意陽離子。但從防止石墨顆粒不受污染并能增進耐熱性和耐久性的觀點出發(fā)，希望是銨鹽或胺鹽。即使粘住膜的情況下，這些鹽的陽離子加熱后也可容易地擴散且不污染石墨顆粒。
組成鹽的胺的例子包括烷基胺，比如三甲胺、三乙胺和正丁胺;醇胺如2-二甲基胺乙醇、二乙醇胺、三乙醇胺、氨甲基丙醇和二甲基氨甲基丙醇。進一步還可用多羥基胺，比如1，2-乙二胺、二亞乙基三胺等。進一步較好地用有一鏈烷基支鏈的胺和雜環(huán)胺。有支鏈烷基的胺的例子包括有3-6碳原子的支鏈烷胺，具體些，3-4個碳原子比如異丙基胺、仲丁基胺，叔丁基胺、異戍基胺等。雜環(huán)胺的例子包括有一個氮原子的飽和雜環(huán)胺，如吡咯烷、哌啶、嗎啉等。
氨和胺類最好用量為水溶性高分子分散劑的羧基的0.3化學當量，更具體些，為0.7～1.3化學當量。
本發(fā)明的膜中，石墨最好以全部量的5-70%重量存在，較好的是為10-50%重量。當石墨量小于上述范圍時，膜失去了潤滑性能。當石墨數(shù)量超過上述范圍時，此膜變脆且失去了耐磨性。
石墨的例子包括一系列天然石墨和合成石墨。通常希望用有一0.3-90μm粒徑的天然石墨。當粒徑小于上述范圍時，顆粒傾向于凝結。當粒徑大于上述范圍時，另外地使膜和金屬粘接不牢固并進一步變脆。更好地，石墨應有0.3-20μm范圍內的粒徑。
根據(jù)本發(fā)明，當石墨暴露于大氣在550℃加熱24小時時，石墨不應減少大于50%的重量，這是從隨著時間流失保持膜的潤滑性的觀點來講的。由于石墨中所含的堿金屬、堿土金屬、金屬氧化物或金屬鹽被作為催化劑，大大影響了氧化，因而造成石墨顆粒損失。通過運用高度凈化的含小于100ppm灰份的石墨顆粒，可延長膜的壽命。
基體可由鎳或主要含鎳的鎳基合金組成，鎳基合金的例子可以是由鎳和至少一種合金元素，如磷、硼、鈷、鉬、鉻、鎢和鐵。這些合金元素可含有0-40%的合金重量，更具體些是0.2-30%重量。鎳基合金的較好例子是鎳與磷原子比率為99.5∶0.5～80∶20范圍的鎳磷合金(以重量基計算)。鎳-磷合金表現(xiàn)出特別優(yōu)良的耐磨性。
本發(fā)明所用的分散電鍍浴含有上述的鎳或鎳基合金成份、石墨和水溶性高分子分散劑作為主要成分。對于鎳或鎳合金成分，可用的水溶性鹽是如鎳鹽等。對電解浴，可用的為任意已知的浴如瓦茨浴、胺磺酰酸浴或氯化物浴。在這種情況下，如果亞磷酸、次磷酸或它的鹽被加入電鍍浴，則Ni-P合金鍍層便能形成。電鍍浴當然地可以以它本身與各種電鍍添加劑混合，如各種表面活性劑，具體的為非離子型表面活性劑，以改善石墨的分散性能。
本發(fā)明的水溶性高分子分散劑用量應為所用的石墨重量的2-50%重量，更具體些為5-30%重量。電鍍浴組合物的代表例子在下面描述。
成份普通范圍較佳范圍水溶性鎳鹽50-300g/l100-200g/l亞磷酸0-40g/l3-10g/l硼酸0-80g/l20-50g/l水溶性高分子分散劑0.1-25g/l0.5-12g/l表面活性劑0-20mg/l3-10mg/l石墨5-50g/l10-40g/lpH1.5-42-3.5
為了產生分散涂層，將被處理的模子浸在電鍍浴中使模子作陰極，用一鎳棒作為陽極，通以電流使形成一預定的膜。電流密度通常應該為0.5-10A/dm2，且最好1-8A/dm2。電鍍的電壓應選擇能產生上述電流密度的電壓，通常是0.5-5V。
為使膜含大量而均一的石墨，要被涂復的模子表面放在陽極的下方以利用石墨顆粒的沉淀效應進行共沉積。為使模子內部空腔被均勻地電鍍(共沉積)，電鍍操作是在模子被以陽極為中心的上下?lián)u動下進行。另外，攪拌間歇進行，因為液體的持續(xù)流動會使石墨顆粒沉淀得極少。由于沉淀增加了石墨顆粒的沉積量，使稠密膜的形成生長困難，我們進一步推薦在每次預定的時間間隔后，再次分散沉積的石墨顆粒層。這在進行上述攪拌操作下完成。
本發(fā)明模子內表面的石墨分散鎳涂膜通常有10-600μm的厚度。當厚度小于10μm時，膜從耐久性觀點上講是不希望的。但厚度大于600μm時，另一方面，從形成膜的觀點和經(jīng)濟的觀點上來說是有困難的。
根據(jù)如上所述的本發(fā)明，在模子內表面上涂覆的石墨分散鎳膜，即在熔融玻璃接觸的表面上形成的，包括鎳或鎳基合金的基體，它們從整體上是連續(xù)的雪片狀，并形成開口小泡和在開口小泡中有一石墨顆粒相，它表面向外暴露。
在膜的平面方向和垂直方向上的膜的垂直截面上，以薄片狀存在的鎳或鎳基合金達百分之幾到大于50%是必要的，薄片長度小于20μm。較好地，鎳或鎳基合金應以這樣一個粒徑的顆粒形式存在，即這種粒徑是使顆粒的數(shù)目在平面方向和垂直方向達百分之幾到大于20%，顆粒有小于10μm的薄片長度。另外，鎳或鎳基合金應占到膜橫截面區(qū)域的20-70%。
由于石墨在一碳六元環(huán)的平面方向(通常，在晶體的平面方向)表面出很高的潤滑性。所以，在膜表面上的石墨顆粒應以百分之向到大于50%分布，并使石墨平面與膜平面方向的傾斜角小于30°。這種膜可通過合適地沉淀石墨并防止石墨凝聚而方便地形成。
下面就描寫本發(fā)明的工作實施例。
實施例模子實施例1模子用1，1，1-三氯乙烷電解去蠟，即40g/l氫氧化鈉的溶液的電解去蠟溶液中，在50℃，5A/dm2的陰極電流密度下電解去蠟1分鐘，用水洗滌，然后用浸漬于室溫的5%鹽酸溶液洗滌5秒鐘。進一步用水洗滌后，模子被水平放在pH值為2.5，溫度為65℃的電解浴中，下述浴液組合物和石墨的形式是使模子內表面(將被涂覆)面向上方，陽極鎳棒在半圓柱形模子內表面的中心，并通5A/dm2電流強度30分鐘產生涂層。電鍍過程中，電鍍浴以600rpm轉速轉3秒鐘，然后將攪拌停止15秒鐘，再重復上述操作。另外，攪拌時以陽極為中心使模子向右傾斜45°。在攪拌的下一時刻，模子被傾斜到其內表面面向上方，然后模子向左傾斜45°。這樣，模子在攪拌同時以向右45°形式間歇重復地從右偏45°轉到左偏45°，即和攪拌同步模子向右45°向上→0°→向左45℃→向上0°…來回傾斜地擺動，另外，為防止石墨凝結，把均化劑用于電鍍浴中。
電鍍浴成份硫酸鎳六水合物200g/l(118g/l)氯化鎳六水合物100g/l(55g/l)硼酸40g/l亞磷酸5g/l羧甲基纖維素2.5g/lSD-1(OKunoSeiyaku公司)7ml/l石墨25g/l
圓括號里的值代表脫水物的值石墨平均粒徑5μm灰份50ppm鐵含量30ppm或更小堿金屬-堿土金屬10ppm或更小模子實施例2模子用1，1，1-三氯乙烷去蠟，用金鋼砂對須涂覆的表面進行拋光，在有同樣浴成份的電鍍浴中水平放置，石墨的情況與模子實施例1相同，以使模子內表面向上且陽極鎳棒位于半圓柱形模子的內表面中心。在3秒開、15秒關的開關間隔下用800rpm的轉速攪拌涂覆浴的同時，通以5A/dm2電流強度進行電鍍，此時象模子實施例1一樣傾斜。另外，在電鍍以前先施加均化劑。
模子實施例3在同樣條件下進行電鍍，即與實施例1同樣的預處理、浴的組成、石墨條件，除了使用1A/dm2電流強度150分鐘以外。
模子實施例4象實施例1那樣的相同條件進行電鍍，但是把攪拌和模子轉動間隔換成3秒開，5秒關的循環(huán)。
模子實施例5預處理在與實施例1相同的條件下進行，電鍍系在pH為3溫度為55℃電鍍浴中進行，且下述的浴液成份(電鍍前均化)和石墨與實施例1的條件相同(攪拌，攪拌和模子轉動間隔，電流密度和時間)。
電鍍浴組成硫酸鎳六水合物160g/l(94g/l)氯化鎳六水合物120g/l(66g/l)
硼酸40g/l亞磷酸5g/l聚乙烯基醇2g/lSD-1(OKunoSeiyaku公司)7ml/l.
石墨30g/l石墨平均粒徑3μm灰份70ppm鐵含量30ppm或更小堿金屬+堿土金屬10ppm或更小模子實施例6在與模子實施例1相同的條件下進行預處理，電鍍通過把模子放入有下述浴成份、電鍍條件和石墨的電鍍浴中，在下列條件下用與模子實施例1相同的方法來進行。
電鍍浴組成硫酸鎳六水合物180g/l(160g/l)氯化鎳六水合物40g/l(22g/l)硼酸40g/l亞磷酸7g/l甲基纖維素2.5g/lSD-1(OKunoSeiyaku公司)7ml/l石墨20g/l浴條件浴溫度60℃浴pH值2.5事先均化石墨平均粒徑10μm灰份40ppm含鐵量小30ppm或更小堿金屬+堿土金屬10ppm或更小電鍍條件保持3秒開、10秒關的間隔循環(huán)，在700rpm下電鍍。
模子轉動象實施例1那樣間歇地向右和向左傾斜45°，電鍍進行37分鐘。
比較模子實施例1在與模子實施例1相同的預處理、浴成分和石墨條件下進行電鍍，但連續(xù)向左和右傾斜模子45°(5rpm)。
比較模子實施例2在與模子實施例1相同的預處理和石墨條件下進行電鍍。
電鍍浴組成硫酸鎳六水合物200g/l(118g/l)氯化鎳六水合物100g/l(55g/l)硼酸40g/l亞磷酸5g/lSD-1(OKunoSeiyaku公司)7ml/l石墨25g/l浴溫度60℃浴pH值2.5比較模子實施例3電鍍在與比較模子實施例2相同的預處理、電鍍浴成份和石墨條件下進行，但在850rpm下攪拌并保持攪拌和模子轉動間隔為4秒開、5秒關的循環(huán)。
比較模子實施例4
在與模子實施例5相同的預處理、電鍍浴成份和石墨條件下進行電鍍，但不進行均化。
比較模子實施例5電鍍在與模子實施例5相同的預處理、電鍍浴成份和涂覆條件下同模子實施例5進行，用下述的石墨。
石墨平均粒徑3μm灰份9000ppm含F(xiàn)e2O32600ppmSio24500ppmAl2O3900ppmCao400ppmMgo300ppmSo4300ppm得到的結果列于下表。
評價A用模制100ml飲料瓶的模子評價。
①直到縐紋和線條產生時的模制次數(shù)(用20個模子從最小模制次數(shù)到最大模制次數(shù))。
②模制平均次數(shù)。
③在瓶子表面細痕的評價。
◎根本不發(fā)生○不引起麻煩地略微發(fā)生△對于嚴格要求良好外觀，是不能接受的×通過一只檢查機器判為廢品從本發(fā)明的以上生產實施例的結果可以明顯看出，水溶性高分子物可在分散有石墨的水溶性鎳鹽溶液的分散電鍍浴中用作分散劑。所以這樣可以抑制鎳或鎳基合金在膜的平面方向或垂直方向的成長，并形成一種新型的有精細結構的膜，它包括(1)總體上是薄片狀連續(xù)的形態(tài)，且有一開放蜂窩結構的鎳或鎳基合金的基體(此后簡稱為鎳)和(2)在開放電池中含有的向外暴露在模制玻璃的模子表面的石墨顆粒相。此膜縮合有優(yōu)良的潤滑性、耐熱性、分離性、耐磨性和耐久性，且在不產生甚至是很細的痕跡情況下，使長時間里穩(wěn)定地生產具有非常平滑和優(yōu)良外觀的玻璃模制品成為可能。
權利要求
1.一種模制玻璃的模子，其內表面用鎳或主要含鎳的鎳基合金和石墨顆粒所涂覆，其特征在于，所述的膜含有以開口小泡(opencell)形式存在的鎳或鎳基合金基體和包含于開口小泡中的，向外暴露表面的石墨顆粒相，所述的鎳或所述的鎳基合金以不大于20μm的薄片形式，在膜的平面方向和垂直方向上的膜垂直橫截面上存在，數(shù)量為整個數(shù)量的至少50%。
2.如權利要求1所述的模制玻璃的模子，其特征在于所述的鎳或所述的鎳基合金在膜中以這樣顆粒尺寸的顆粒存在，即使在膜平面方向和它的垂直方向上的數(shù)量為百分之幾到大于20%，顆粒為小于10μm長度的薄片狀。
3.如權利要求1所述的模制玻璃的模子，其特征在于所述的鎳或所述的鎳基合金占到膜橫截面區(qū)域的20%-70%。
4.如權利要求1所述的模制玻璃的模子，其特征在于，顆粒的分布率為百分之幾到大于50%具有小于30°的石墨平面對膜平面的傾角。
5.如權利要求1所述的模制玻璃的模子，其特征在于所述的石墨顆粒被高度凈化，含有小于100ppm的灰分。
6.如權利要求1所述的模制玻璃的模子，其特征在于，當石墨被暴露于空氣并在550℃加熱24小時時，石墨的重量損失為小于50%。
7.一種模制玻璃的模子的生產方法，其特征在于，把模制玻璃的模子浸漬于含水溶性鎳鹽和分散有石墨的溶液的分散液電鍍浴中，使模子作陰極，鎳金屬作陽極，通以電流以沉淀鎳和石墨，把水溶性高分子物引入分散液電鍍浴作分散劑，以抑制膜中的鎳或鎳基合金在膜平面方向和垂直方向的成長。
8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述的水溶性高分子是銨鹽類的陰離子水溶性高分子物。
9.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述的水溶性高分子是銨鹽類的羧甲基纖維素。
10.如權利要求7-9所述的方法，其特征在于，水溶性高分子物以石墨顆粒被它包覆的形式存在。
11.如權利要求7-10所述的方法，其特征在于，所述的石墨顆粒被高度純化到含小于100ppm的灰份。
全文摘要
把水溶性高分子物作為分散劑引入至一含有石墨的水溶性鎳鹽溶液的分散性電鍍浴中?？梢栽谝种颇ぶ械逆嚮蜴嚮辖鹪谀て矫娣较蚝痛怪狈较虻某砷L的同時進行電鍍，把模制玻璃的模子沉浸于浴中，使模子作陽極，鎳金屬作陽極。在模子內表面膜形成，由于鎳被抑制象顆粒一樣地成長，所以此膜綜合表現(xiàn)出優(yōu)良的潤滑性、耐熱性、分離性、耐磨性和耐久性，并且沒有現(xiàn)有技術中存在的缺陷。
文檔編號C03B9/48GK1069531SQ9210969
公開日1993年3月3日 申請日期1992年8月19日 優(yōu)先權日1991年8月19日
發(fā)明者佐野廣喜, 佐佐木健之, 小林明 申請人:東洋制罐株式會社