本發(fā)明涉及一種耐污染、耐磨性能和施工性能以及亮度性能得以改善的PVC地磚地面的涂敷方法,所述方法的特征在于,針對PVC地磚的表面,以具備多數(shù)層(多層結構)的方式進行地面涂敷,其中在蠟層的上部表層使用石材表面打磨用涂敷劑來進行涂敷及拋光,從而與以往純蠟層結構的地面涂敷方式相比,構成最外層安全膜形態(tài)的保護膜涂敷結構,從而根本上阻斷表面劃傷和污痕的發(fā)生,防止涂膜的剝離現(xiàn)象和打滑,由此不僅大幅確保使用耐久性和安全性,而且盡管是簡單的作業(yè)工序,但在防止黃變現(xiàn)象的同時,確保優(yōu)異的亮度,從而不僅改善作業(yè)性和施工性,而且還改善施工后的維修性,由此大幅提高經(jīng)濟性。
并且,本發(fā)明從根本上省略以往頻繁的剝離作業(yè)(3~6個月,使用毒性化學洗滌劑),從而降低以往因使用洗滌劑所致的成本上升,尤其防止環(huán)境污染,力求實現(xiàn)綠色的地面涂敷作業(yè),并且能改善在以往剝離作業(yè)時所發(fā)生的作業(yè)者滑倒問題,以及因化學有害物質(zhì)所致的呼吸器官疾病的發(fā)生等問題。
背景技術:
一般來講,聚氯乙烯(PVC)樹脂(通常稱之為“P地磚”)與其他材質(zhì)相比,更輕且其加工性和透明性優(yōu)異,因此被廣泛使用為各種家庭用或工業(yè)用地板材。
但是,該種P地磚的表面,通常其耐磨性、耐藥品性、耐化學性、耐熱性、耐候性變差,而且可塑劑容易從表面涌出,因此容易吸附污染物,從而單獨使用受到不少的限制。
由此,對P地磚地面材料的表面,通常利用以脂肪族環(huán)結構的聚氨酯丙烯酸酯為主要成分的光硬化型涂敷劑,于常溫下使用紫外線進行硬化,從而改善耐磨性、耐化學性、耐候性等表面物性,在韓國公開專利第93-013027號及第98-075109號中記載了這種實施例。
并且,在韓國專利第184731號及美國專利第5,703,109號中,還記載了進一步添加作為其他添加劑的抗靜電劑,從而提高地面材料耐污染性的方法。
但是,該種現(xiàn)有技術的表面保護涂敷方法,當在PVC地面材料上,施加了如煙頭火等瞬間性的高溫時,涂膜會嚴重受損,外觀燒黑,污染物不易清除,因此存在降低美觀和耐久性的問題。
究其原因如下,即使隨著溫度變化發(fā)生收縮和膨脹,但是為了保持與PVC層的粘貼,以柔韌性良好的配比來構成光硬化涂敷涂敷組合物,而由此交聯(lián)密度降低,因此在如煙頭火等瞬間性的高溫下,涂膜容易劣化,且其熱量快速傳遞并蓄積到PVC層上。
然而,相反地,若為了提高涂敷涂膜的耐熱性而增加交聯(lián)密度,則會導致涂膜的嚴重收縮,從而粘貼力下降,產(chǎn)生裂紋,PVC地面材料隨著溫度會發(fā)生嚴重的變形。
換言之,現(xiàn)有技術的P地磚涂敷方法,由于在短期內(nèi)容易發(fā)生剝離現(xiàn)象,從而耐久性變差,不僅對污痕或磨損脆弱,而且亮度低,所以需要頻繁實施再涂敷等,因此實際上會導致維護管理費用的上升。
現(xiàn)有技術文獻
韓國公開專利第10-1993-013027號(1993.07.21.公開)
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明是為了解決上述問題而提出的,其目的在于提供一種如下的耐污染、耐磨性能和施工性能以及亮度性能得以改善的PVC地磚地面的涂敷方法,所述方法的特征在于,針對PVC地磚的表面,以具備多數(shù)層(多層結構)的方式進行地面涂敷,其中在蠟層的上部表層使用石材表面打磨用涂敷劑來進行涂敷及拋光,從而與以往純蠟層結構的地面涂敷方式相比,構成最外層安全膜形態(tài)的保護膜涂敷結構,從而根本上阻斷表面劃傷和污痕的發(fā)生,防止涂膜的剝離現(xiàn)象和打滑,由此不僅大幅確保使用耐久性和安全性,而且盡管是簡單的作業(yè)工序,但在防止黃變現(xiàn)象的同時,確保優(yōu)異的亮度,從而不僅改善作業(yè)性和施工性,而且還改善施工后的維修性,由此大幅提高經(jīng)濟性。
為了達到上述目的,本發(fā)明包括:基礎工序S100,針對所設定的施工面積,以油布擦拭PVC地磚地面后,利用藥品實施洗滌,之后使用漂洗劑進行清洗,而后自然或人工烘干;拋光工序S200,在完成所述基礎工序的PVC地磚地面上涂蠟,并烘干規(guī)定時間后,以氣動拋光機涂敷涂敷劑,之后清除粉塵,接著進行油布擦拭作業(yè)和洗滌作業(yè)。
在此,在所述拋光工序S200,涂敷涂敷劑時對每一個地磚(45cm×45cm)噴射3ml的涂敷劑。
并且,在所述拋光工序S200,氣動拋光機的重量為100~150KG,馬力為20PS。
在此,在所述拋光工序S200,在涂敷及拋光涂敷劑時,優(yōu)選地,刷盤使用棉刷盤或白色刷盤,在涂敷涂敷劑時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1200~1300rpm,在拋光涂敷劑時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1600~1700rpm。
而且,在所述拋光工序S200,于氣動拋光機上設置溫熱供給裝置,從而通過刷盤進行涂敷及拋光時,供給30~60℃的熱源,從而提高涂敷及拋光質(zhì)量,縮短作業(yè)時間。
如此,本發(fā)明所具有的有益效果如下,即,本發(fā)明針對PVC地磚的表面,以具備多數(shù)層(多層結構)的方式進行地面涂敷,其中在蠟層的上部表層使用石材表面打磨用涂敷劑進行涂敷及拋光,從而與以往純蠟層結構的地面涂敷相比,構成最外層安全膜形態(tài)的保護膜涂敷結構,從而根本上阻斷表面劃傷和污痕的發(fā)生,防止涂膜的剝離現(xiàn)象和打滑,由此不僅大幅確保使用耐久性和安全性。
而且,本發(fā)明與簡單的作業(yè)工序相比,在防止黃變現(xiàn)象的同時,確保優(yōu)異的亮度,從而不僅改善作業(yè)性和施工性,而且還改善施工后的維修性,由此大幅提高經(jīng)濟性。
換言之,本發(fā)明針對PVC地磚,顯著改善了涂敷性能,從而不僅提供了低成本、高質(zhì)量,而且力求減少用于去除各種污染源的洗滌劑的使用,防止了剝離作業(yè)導致的地磚受損,并通過涂敷工序的簡單化,改善了作業(yè)者的施工疲勞。
附圖說明
圖1是示出了本發(fā)明的涂敷方法實施例的順序圖。
圖2至圖4是示出了本發(fā)明的拋光工序和第二至第四拋光工序的概略順序圖。
圖5是通過本發(fā)明的涂敷方法處理的地板層截面圖與現(xiàn)有技術中地板層截面圖的對比圖。
附圖標記說明
S100:基礎工序 S200:拋光工序
S300:第二拋光工序 S400:第三拋光工序
S400:第四拋光工序
具體實施方式
以下參照附圖更加詳細描述本發(fā)明。
首先,如圖1至圖4所示,本發(fā)明大體上由基礎工序S100至拋光工序S200構成。
在此,在所述基礎工序S100,針對所設定的施工面積,以油布擦拭PVC地磚地面后,利用藥品實施洗滌,之后使用漂洗劑進行清洗,而后自然或人工烘干。
即,基礎工序按油布擦拭(油布擦拭工序)→藥品洗滌→漂洗(清洗)→蠟涂敷→烘干等順序進行,作業(yè)次數(shù)通常以4~6個月為周期進行15~30次左右。
該種基礎工序,根據(jù)污染程度,洗滌部分還可以以準剝離形態(tài)被進行操作。
由此,本發(fā)明在上述基礎工序的基礎上,在其上面構成多數(shù)層,通過涂敷及涂層形成保護膜或安全膜形態(tài)的涂層,因此本發(fā)明對污染源的耐污染性(清潔度)大幅提高。
即,在本發(fā)明的拋光工序S200,于完成了上述基礎工序的PVC地磚地面上涂敷蠟,并烘干規(guī)定時間后,以氣動拋光機(Gas polisher)涂敷涂敷劑,而對涂敷的涂敷劑利用氣動拋光機來進行拋光作業(yè),之后清除粉塵,接著進行油布擦拭作業(yè)和洗滌作業(yè)。
涂敷劑在此,作為可選的實施例,所述涂敷劑,可以使用大理石涂敷劑,或者根據(jù)需要可以使用化學涂敷劑中的一種。
在此,對于所述烘干時間而言,優(yōu)選地,自然烘干24小時,或者利用熱風機在8~10小時內(nèi)完成烘干。
即,如果烘干時間過短,則蠟層會鈍化,因此在其上涂敷涂敷劑時,形成不了堅固的膜而產(chǎn)生堆積現(xiàn)象,相反地,如果烘干時間過長,則涂敷涂敷劑時,粘貼性下降,進而在后續(xù)的拋光作業(yè)時,表面涂敷性降低。
并且,所述氣動拋光機,與以往的步行式設備、打磨機、洗滌車、打蠟機、電動拋光機相比,在確保適當重量(壓力)的同時,實現(xiàn)高轉(zhuǎn)速(rpm),從而具有針對大面積的迅速處理性能,其原因是針對涂敷了涂敷劑的地表面,以適當重量加壓的同時,通過高速旋轉(zhuǎn)的刷盤(pad)進行處理,由此使涂敷劑的膠粘性變優(yōu)異。
在此,該拋光工序S200的主要技術特征在于,在不損害基礎工序中的蠟層的情況下,涂敷涂敷劑并進行拋光處理,在所述拋光工序S200,涂敷涂敷劑時對每一個地磚(45cm×45cm)噴射3ml的涂敷劑。
此時,優(yōu)選地,所述噴射速度為500m/s,在PVC地磚地面上形成1mm左右的薄蠟。
并且,在所述拋光工序S200,氣動拋光機的重量為100~150KG,馬力為20PS。
此時,在所述拋光工序S200,在涂敷及拋光涂敷劑時,刷盤使用混紡了合成纖維的棉刷盤或白色刷盤較好。
其原因在于,若使用通常的黑色刷盤、紅色刷盤、藍色刷盤、鋼刷盤,則由于表面粗糙,在使用中會產(chǎn)生刮掉或毀損蠟層的問題(飛揚問題),而當使用純棉刷盤時,由于涂敷劑滲透較多,存在作業(yè)速度下降的問題。
另外,本發(fā)明若使用白色刷盤,則涂敷涂敷劑時,優(yōu)選地,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1200~1300rpm,在對涂敷劑進行拋光時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1600~1700rpm。
同時,在所述拋光工序S200,于氣動拋光機上設置溫熱供給裝置,從而通過刷盤進行涂敷及拋光時,供給30~60℃的熱源,由此提高涂敷及拋光質(zhì)量,縮短作業(yè)時間。
此時,白色刷盤的材質(zhì)由棉和合成樹脂的混紡纖維構成,由于在纖維絲條會被涂敷油,從而在防止與蠟層之間的摩擦所致的劃傷或毀損的同時,基于加壓進行涂敷和拋光。
另外,在拋光工序之后,還可以進行另外的追加拋光工序,在第二拋光工序S300,在涂蠟后,涂敷(噴射)涂敷劑,并利用氣動拋光機對表面進行拋光,而后去除粉塵(油布擦拭及洗滌作業(yè))。
此時,在所述第二拋光工序S300,在涂敷及拋光涂敷劑時,優(yōu)選地,刷盤使用混紡了棉材質(zhì)的合成纖維刷盤或白色刷盤,在涂敷涂敷劑時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1400~1500rpm,在對涂敷劑進行拋光時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1800~1900rpm。
同時,在所述第二拋光工序S300,于氣動拋光機上設置溫熱供給裝置,從而通過刷盤進行涂敷及拋光時,供給65~70℃的熱源,從而提高涂敷及拋光質(zhì)量,縮短作業(yè)時間。
此時,所述氣動拋光機為在包括第二拋光工序S300的以前的拋光工序中也能使用的設備,因此具有使用一個設備便能處理涂敷和拋光工序的優(yōu)點,其結果可以改善作業(yè)速度,能顯著降低相關費用,而且與以往相比,可以從根本上省略剝離作業(yè),從而不僅能預防作業(yè)者的安全事故,同時可大幅降低施工成本。
此時,所述涂敷作業(yè),是向涂蠟的PVC地磚地面上噴射涂敷劑之后一次涂擦的步驟,即如在皮鞋上擦鞋油時,將表面涂抹成灰暗時的情形一樣,屬于對整個表面大概涂抹的情形。
并且,在所述拋光作業(yè),針對完成了所述涂敷作業(yè)的涂敷劑(涂抹成灰暗的狀態(tài)),通過重量式的緊貼高速旋轉(zhuǎn)來予以處理,以使出光澤。
另外,在進行第二拋光工序后,還可以進行另外的第三拋光工序S400,在所述第三拋光工序S400,于涂蠟的基礎上,利用拋光機進行表面處理后,壓實蠟層,接著去除粉塵(油布擦拭及洗滌作業(yè)),而后涂敷(噴射)涂敷劑,利用大理石打磨機來對表面進行拋光,接著去除粉塵(油布擦拭及洗滌作業(yè))。
此時,在所述第三拋光工序S400,在涂敷及拋光涂敷劑時,優(yōu)選地,刷盤使用纖維刷盤或白色刷盤,在涂敷涂敷劑時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1500~1600rpm,在對涂敷劑進行拋光時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為2000~2200rpm。
同時,在所述第三拋光工序S400,于氣動拋光機上設置溫熱供給裝置,從而通過刷盤進行涂敷及拋光時,供給70~80℃的熱源,從而提高涂敷及拋光質(zhì)量,縮短作業(yè)時間。
即,所述氣動拋光機為一種大理石打磨機,在涂敷表面時,使用用于保護大理石的高價涂敷劑,從而顯著改善耐久性和亮度,尤其使用在超市內(nèi)時,對于炒咸菜、可樂、冰淇淋等污染源的耐久性也優(yōu)秀,與以往相比,防滑效果顯著,因此能改善保護性能,防止發(fā)生滑倒等安全事故。為此,所述涂敷劑混合有蠟成分。
另外,在進行第三拋光工序后,還可以進行另外的第四拋光工序S500,在所述第四拋光工序S500,在涂蠟后,利用拋光機進行表面處理后,壓實蠟層,接著去除粉塵(油布擦拭及洗滌作業(yè)),而后涂敷(噴射)涂敷劑,利用大理石打磨機來對表面進行拋光,接著去除粉塵(油布擦拭及洗滌作業(yè))。
此時,在所述第四拋光工序S500,在涂敷及拋光涂敷劑時,優(yōu)選地,刷盤使用纖維刷盤或白色刷盤,在涂敷涂敷劑時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為1700~1800rpm,在對涂敷劑進行拋光時,氣動拋光機的刷盤轉(zhuǎn)速為2300~2500rpm。
同時,在所述第四拋光工序S500,于氣動拋光機上設置溫熱供給裝置,從而通過刷盤進行涂敷及拋光時,供給70~80℃的熱源,從而提高涂敷及拋光質(zhì)量,縮短作業(yè)時間。
在此,對于所述拋光工序以后的第二至第四拋光工序而言,在作業(yè)途中,針對蠟表層,在涂敷劑的涂敷及拋光作業(yè)之前,還可以進行洗滌、漂洗及除塵作業(yè)。
據(jù)此,基礎工序以后的拋光工序是可以進行每小時100坪(1坪≈3.3m2)左右的涂敷施工,第二至第四拋光工序,可以為了針對如大面積以外的較窄空間(辦公室等),即狹小的面積,使其涂敷性能得以極大化而進行。
本發(fā)明并非局限在如上所述特定的優(yōu)選實施例,在不脫離權利要求所要保護的本發(fā)明要旨的情況下,只要是本發(fā)明所屬技術領域的普通技術人員,顯然任何人都可以實現(xiàn)各種變更實施例,而這種變更則均落入權利要求記載的范圍內(nèi)。