一種錫槽用的擋旗的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種錫槽用的擋旗，包括擋旗（2），所述的擋旗（2）呈半圓柱狀，半圓柱包括弧面、底平面（4）和兩個側(cè)面（5），擋旗（2）的弧面的弧頂內(nèi)凹形成一個頂平面（3），頂平面（3）與底平面（4）平行，所述的擋旗（2）中空，其底平面（4）的一端開口。本實用新型的有益效果是：本裝置隨時可以添加到錫槽的任何地方，不用擔(dān)心擋旗的附屬設(shè)備對玻璃質(zhì)量和安全有任何影響，這樣擋旗既起到控制錫液對流的作用，又不會有任何安全方面的隱患，提高了玻璃的合格率。
【專利說明】一種錫槽用的擋旗
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及到ー種擋旗，特別是涉及到用于浮法玻璃生產(chǎn)中放置于錫槽內(nèi)的擋旗。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在浮法玻璃生產(chǎn)中，錫槽內(nèi)一般設(shè)置帶支架或帶水冷的擋旗來阻止錫液的對流，這樣雖然錫液的對流減輕了，但是支架和水冷對錫槽生產(chǎn)的安全都會有影響，特別是如TFT、PDP等高質(zhì)量要求的玻璃，不允許有任何異物碰到玻璃，這樣帶支架和水冷的擋旗就不能滿足高標(biāo)準(zhǔn)化需求。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)和不足，提供一種錫槽用的擋旗，解決現(xiàn)有浮法玻璃生產(chǎn)中，在錫槽放置帶支架和水冷的擋旗組織錫液對流時，擋旗可能會碰到玻璃，從而影響玻璃質(zhì)量的缺陷。
[0004]本實用新型的目的通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):一種錫槽用的擋旗，設(shè)置于錫槽內(nèi)，包括擋旗，所述的擋旗呈半圓柱狀，半圓柱包括弧面、底平面和兩個側(cè)面，擋旗的弧面的弧頂內(nèi)凹形成ー個頂平面，頂平面與底平面平行，所述的擋旗中空，其底平面的一端開ロ。本裝置在使用時，底平面則朝上，本裝置內(nèi)部中空，即形成一個上端開ロ的腔體，當(dāng)內(nèi)部盛滿錫液，放于錫槽中后，即會沉入錫槽底部，頂平面即貼合在錫槽的底磚面上，而且本裝置的高度應(yīng)低于錫液液面，距離為10-20CM是最好的，這樣擋旗即不會觸碰到玻璃。錫液的液流主要分為兩個形式:ー是與玻璃前進(jìn)方向相同的前進(jìn)流，位于上層；ニ是玻璃帶下方錫液深層與錫液前進(jìn)流相反的深層回流；三是玻璃帶兩側(cè)錫液裸露的部分與玻璃帶前進(jìn)方向相反的回流。下方的深層回流對玻璃影響最大，下方的深層回流在玻璃帶下產(chǎn)生蠕動，與上層的錫液產(chǎn)生摻合，產(chǎn)生對流，上下錫液溫度不同，造成玻璃帶溫度不均而產(chǎn)生粘度不均，使得玻璃帶上產(chǎn)生了波紋，本裝置將上下兩個液流進(jìn)行了隔斷，上層前進(jìn)流在擋旗上方，深層回流位于擋旗下方，兩個液流不會進(jìn)行摻合，所以對流就不會產(chǎn)生。而且本裝置兩邊弧面設(shè)置，而且本裝置的寬度應(yīng)大于玻璃帶的寬度，深層回流上竄從擋旗側(cè)弧面到達(dá)玻璃帶兩側(cè)裸露部分的回流處，該處回流對玻璃帶的影響較小。
[0005]進(jìn)一歩，上述的擋旗的頂平面上布置有注液孔，有了注液孔，本裝置在放入錫槽中吋，不需要先裝錫液后才沉入錫槽底，通過注液孔，錫液自動流入裝置的內(nèi)腔中，顯得方便的多，而且頂平面貼合到錫槽底后，注液孔即被封閉，不會產(chǎn)生任何影響。
[0006]進(jìn)一歩。上述的擋旗耐火度不低于1100°C，因為錫槽內(nèi)錫液溫度有達(dá)到1000°C左右的，所以擋旗需要經(jīng)受住高溫。
[0007]進(jìn)ー步,上述的擋旗采用密度大于3.0g/cm3的高錯磚制成。
[0008]本實用新型的有益效果是:本裝置隨時可以添加到錫槽的任何地方，不用擔(dān)心擋旗的附屬設(shè)備對玻璃質(zhì)量和安全有任何影響，這樣擋旗既起到控制錫液對流的作用，又不會有任何安全方面的隱患，提高了玻璃的合格率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為實施例1的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2為擋旗放置于錫槽內(nèi)的剖視圖；
[0011]圖3為實施例2的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖中，ト錫槽，2-擋旗，3-頂平面，4-底平面，5-側(cè)面，6-注液孔，7_底磚面。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合實施例對本實用新型作進(jìn)ー步的詳細(xì)說明，但是本實用新型的結(jié)構(gòu)不僅限于以下實施例:
[0014]【實施例1】
[0015]如圖1、圖2所示，一種錫槽用的擋旗，設(shè)置于錫槽I內(nèi)，包括擋旗2，所述的擋旗2呈半圓柱狀，半圓柱包括弧面、底平面4和兩個側(cè)面5，擋旗2的弧面的弧頂內(nèi)凹形成ー個頂平面3，頂平面3與底平面4平行，所述的擋旗2中空，其底平面4的一端開ロ。本裝置在使用時，底平面4則朝上，本裝置內(nèi)部中空，即形成一個上端開ロ的腔體，當(dāng)內(nèi)部盛滿錫液，放于錫槽I中后，即會沉入錫槽I底部，頂平面3即貼合在錫槽I的底磚面7上。
[0016]進(jìn)一歩。上述的擋旗2耐火度不低于1100°C，因為錫槽I內(nèi)錫液溫度有達(dá)到1000°C左右的，所以擋旗需要經(jīng)受住高溫。
[0017]進(jìn)ー步,上述的擋旗2采用`密度大于3.0g/cm3的高錯磚制成。
[0018]【實施例2】
[0019]如圖3，本實施例的結(jié)構(gòu)與實施例1基本一致，不同之處在于擋旗2的頂平面3上布置有注液孔6，有了注液孔6，本裝置在放入錫槽I中時，不需要先裝錫液后才沉入錫槽I底部，通過注液孔6，錫液自動流入裝置的內(nèi)腔中，顯得方便的多，而且頂平面3貼合到錫槽I底部后，注液孔6即被封閉，不會產(chǎn)生任何影響。
【權(quán)利要求】
1.一種錫槽用的擋旗，設(shè)置于錫槽(I)內(nèi)，其特征在干:包括擋旗(2)，所述的擋旗(2)呈半圓柱狀，半圓柱包括弧面、底平面(4)和兩個側(cè)面(5)，擋旗(2)的弧面的弧頂內(nèi)凹形成ー個頂平面(3)，頂平面(3)與底平面(4)平行，所述的擋旗(2)中空，其底平面(4)的一端開ロ。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種錫槽用的擋旗，其特征在于，所述的擋旗(2)的頂平面(3)上布置有注液孔(6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的ー種錫槽用的擋旗，其特征在于，所述的擋旗(2)耐火度不低于IlOO0C0
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種錫槽用的擋旗，其特征在于，所述的擋旗(2)采用密度大于3.0g/cm3的高錯磚制成。
【文檔編號】C03B18/16GK203429045SQ201320528497
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】李利升, 程鵬, 曾會喬 申請人:四川旭虹光電科技有限公司, 東旭集團(tuán)有限公司