專利名稱:一種玻璃基板減薄蝕刻方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及液晶顯示器玻璃基板加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種玻璃基板減薄蝕刻方法。
背景技術(shù):
隨著人們對液晶顯示器的顯示效果的關(guān)注程度越來越高,特別是液晶顯示器的分辨率的要求不斷提升;故而,在液晶顯示器的玻璃基板加工過程中,其線距、線寬需要蝕刻得越來越細(xì),均勻性也要求越來越嚴(yán)格。為了滿足市場的要求,必須提供一種高要求的蝕刻方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種玻璃基板減薄蝕刻方法,該玻璃基板蝕刻方法能夠進(jìn)一步地提聞液晶顯不器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。為達(dá)到上述目的,本發(fā)明通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。一種玻璃基板減薄蝕刻方法,包括有以下工藝步驟,具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃;
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘;
c、將經(jīng)過第一次清洗 后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘,其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:
氫氟酸 20%-35%
硫酸 10%-25%
水45%-65% ;
d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘;
e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。其中,所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:
氫氟酸 25%-30%
硫酸 15%-20%
水50%-60%。其中,所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:
氫氟酸 28%
硫酸 18%
水54%。本發(fā)明的有益效果為:本發(fā)明所述的一種玻璃基板減薄蝕刻方法,該蝕刻方法包括有以下工藝步驟,具體為:a、將玻璃基板放置于提籃;b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘;c、將經(jīng)過第一次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘;d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘;e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:氫氟酸20%-35%、硫酸10%-25%、水45%-65%。通過上述工藝步驟,該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。
具體實施例方式下面結(jié)合具體的實施方式來對本發(fā)明進(jìn)行說明。實施例一,一種玻璃基板減薄蝕刻方法,包括有以下工藝步驟,具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃;
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘;
C、將經(jīng)過第一次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘,其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:
氫氟酸 28%
硫酸 18%
水54% ;
d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘;
e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。其中,本實施例一的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、蝕刻、二次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工,該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。實施例二,一種玻璃基板減薄蝕刻方法,包括有以下工藝步驟,具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃;
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘;
c、將經(jīng)過第一次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘,其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為: 氫氟酸 25%
硫酸 20%
水55% ;
d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘;
e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。其中,本實施例二的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、蝕刻、二次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工,該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。實施例三,一種玻璃基板減薄蝕刻方法,包括有以下工藝步驟,具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃;
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘;
C、將經(jīng)過第一次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘,其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為:
氫氟酸 30%
硫酸 20%
水50% ;
d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘;
e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。其中,本實施例二的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、蝕刻、二次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工,該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。以上內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實施方式
及應(yīng)用范圍上均會有改變之處,本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板減薄蝕刻方法,其特征在于,包括有以下工藝步驟,具體為: a、將玻璃基板放置于提籃; b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為1-1.5分鐘; C、將經(jīng)過第一次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于蝕刻槽內(nèi),蝕刻槽通過循環(huán)泵體連續(xù)地供給蝕刻劑,玻璃基板于蝕刻槽內(nèi)的蝕刻時間為8-15分鐘,其中,蝕刻槽內(nèi)的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為: 氫氟酸 20%-35% 硫酸 10%-25% 水45%-65% ; d、將經(jīng)過蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內(nèi),清洗時間為2-3分鐘; e、將經(jīng)過第二次清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內(nèi),直至玻璃基板烘干為止。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述 的一種玻璃基板減薄蝕刻方法,其特征在于:所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為: 氫氟酸 25%-30% 硫酸 15%-20% 水50%-60%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種玻璃基板減薄蝕刻方法,其特征在于:所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分,具體為: 氫氟酸 28% 硫酸 18% 水54%。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種玻璃基板減薄蝕刻方法,該蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、蝕刻、二次超聲波清洗、以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工,一次超聲波清洗時間為1-1.5分鐘,蝕刻時間為8-15分鐘,二次超聲波清洗時間為2-3分鐘,其中,蝕刻所使用的蝕刻劑包括20%-35%氫氟酸、10%-25%硫酸以及45%-65%水。該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質(zhì)量,蝕刻品質(zhì)好。
文檔編號C03C15/00GK103241957SQ20131020228
公開日2013年8月14日 申請日期2013年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月28日
發(fā)明者陳必盛 申請人:湖北優(yōu)尼科光電技術(shù)有限公司