低輻射透明層疊體,包括其的建筑材料及低輻射透明層疊體的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種低輻射透明層疊體與應(yīng)用該低輻射透明層疊體的建筑材料以及低輻射透明層疊體的制備方法，上述低輻射透明層疊體包括基材及涂敷層，上述涂敷層是從上述基材起依次包括低輻射導(dǎo)電層、電介質(zhì)層及吸光金屬層的多層結(jié)構(gòu)。
【專利說明】低輻射透明層疊體，包括其的建筑材料及低輻射透明層疊 體的制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種低輻射透明層疊體、建筑材料及低輻射透明層疊體的制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 低福射玻璃（Low-Emissivity glass)是包含如銀（Ag) -樣在紅外線范圍中的反 射率高的金屬的低輻射層蒸鍍成薄膜的玻璃。如上所述的低輻射玻璃在夏天反射太陽輻射 熱，并在冬天保存室內(nèi)供暖器中所產(chǎn)生的紅外線，以此用作帶來建筑物的節(jié)能效果的功能 性材料。
[0003] 現(xiàn)有的電介質(zhì)層由金屬氧化物形成，采用鋅（Zn)、鈦（Ti)及錫（Sn)等的氧化物， 或者采用鋅和錫的復(fù)合金屬（SnZn)等。但是，就以往的形成電介質(zhì)層的金屬氧化物而言， 由于進行熱處理之后，在與氧化物相鄰的金屬層之間容易發(fā)生界面反應(yīng)，因而存在進行熱 處理前后的可見光透射率容易變化的缺點。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題
[0005] 本發(fā)明的一實例提供一種不僅確保隔熱性能，而且外部表面的可見光反射率高， 并且內(nèi)部表面的可見光反射率低，從而能夠同時實現(xiàn)視野確保及隱私確保效果的低輻射透 明層疊體。
[0006] 本發(fā)明的再一實例提供一種包括上述低輻射透明層疊體的建筑材料。
[0007] 本發(fā)明的另一實例提供一種制備上述低輻射透明層疊體的方法。
[0008] 技術(shù)方案
[0009] 本發(fā)明的一實例中，提供一種低輻射透明層疊體，該低輻射透明層疊體包括基材 及涂敷層，上述涂敷層是從上述基材起依次包括低輻射導(dǎo)電層、電介質(zhì)層及吸光金屬層的 多層結(jié)構(gòu)。
[0010] 上述基材一側(cè)的一面與上述吸光金屬層一側(cè)的另一面對于可見光的反射率之差 可以為約30%至約75%。
[0011] 上述低輻射導(dǎo)電層的輻射率可以為約〇. 01至約〇. 3。
[0012] 上述低福射導(dǎo)電層可包含面電阻（sheet resisitance)為約0· 78 Ω/sq至約 6. 42 Ω /sq的金屬。
[0013] 上述低輻射導(dǎo)電層可包含選自主要由銀（Ag)、金（Au)、銅（Cu)、鋁（Al)、鉬（Pt)、 離子摻雜金屬氧化物及它們的組合組成的組中的至少一種。
[0014] 上述吸光金屬層的可見光范圍的消光系數(shù)可以為約1. 5至約3。
[0015] 上述吸光金屬層可包含選自主要由鎳（Ni)、鉻（Cr)、鎳（Ni)與鉻（Cr)的合金、鈦 (Ti)及它們的組合組成的組中的至少一種。
[0016] 上述電介質(zhì)層包含選自主要由金屬氧化物、金屬氮化物及它們的組合組成的組 中的至少一種組分，或者在上述至少一種組分可摻雜選自包含鉍（Bi)、硼（B)、鋁（A1)、硅 (Si)、鎂（Mg)、銻（Sb)、鈹（Be)及它們的組合的組中的至少一種元素。
[0017] 上述電介質(zhì)層可包含選自主要由鈦氧化物（Titanium oxide)、錫鋅氧化物、鋅 氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、硅氮化物（Silicon nitride)、硅鋁氮化物 (Silicon aluminium nitride)及它們的組合組成的組中的至少一種。
[0018] 上述基材可以是具有約90%至約100%的可見光透射率的透明基材。
[0019] 上述基材可以是玻璃或透明塑料基板。
[0020] 上述低福射導(dǎo)電層的厚度可以為約IOnm至約25nm。
[0021] 上述吸光金屬層的厚度可以為約5nm至約25nm。
[0022] 上述電介質(zhì)層的厚度可以為約5nm至約50nm。
[0023] 上述涂敷層在上述涂敷層的最外廓的單面或雙面還可包括至少一個電介質(zhì)層。
[0024] 上述低輻射透明層疊體包括：第一電介質(zhì)層，其介于上述基材與上述低輻射導(dǎo)電 層之間；第二電介質(zhì)層，其為上述電介質(zhì)層；第三電介質(zhì)層，其相對于上述第二電介質(zhì)層位 于與上述吸光金屬層對置的一面的上部。
[0025] 本發(fā)明的再一實例中，提供一種包括上述低輻射透明層疊體的建筑材料。
[0026] 本發(fā)明的另一實例中，提供一種低輻射透明層疊體的制備方法，該低輻射透明層 疊體的制備方法包括如下步驟：在基材上蒸鍍低輻射導(dǎo)電性金屬或金屬氧化物來形成低輻 射導(dǎo)電層的步驟；在上述低輻射導(dǎo)電層的上部形成電介質(zhì)層的步驟；以及在上述電介質(zhì)層 的上部蒸鍍吸光性金屬來形成吸光金屬層的步驟。
[0027] 有益效果
[0028] 上述低輻射透明層疊體不僅確保隔熱性能，而且外部表面的可見光反射率高，并 且內(nèi)部表面的可見光反射率低，從而能夠同時實現(xiàn)視野確保及隱私確保效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0029] 圖1是簡要表示本發(fā)明的一實例的低輻射透明層疊體的剖視圖。
[0030] 圖2是簡要表示本發(fā)明的另一實例的低輻射透明層疊體的剖視圖。
[0031] 圖3是在實施例1至實施例7的低輻射透明層疊體的雙面分別測定對于可見光的 反射率的結(jié)果。

【具體實施方式】
[0032] 下面，參照附圖對本發(fā)明的實施例進行詳細說明，以使本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普 通技術(shù)人員能夠容易實施。本發(fā)明能夠以多種不同的形態(tài)來體現(xiàn)，并不局限于在此所說明 的實施例。
[0033] 本發(fā)明中省略了與說明無關(guān)的部分，以明確說明本發(fā)明，在說明書全文中，相同的 附圖標(biāo)記表示相同的結(jié)構(gòu)部件。
[0034] 附圖中擴大了厚度，以明確地表現(xiàn)出多個層及區(qū)域。并且，附圖中放大表示一部分 層及區(qū)域的厚度，以便于說明。
[0035] 下面，在基材的"上部（或下部）"或者基材的"上（或下）"形成任意結(jié)構(gòu)，這將 表示任意結(jié)構(gòu)與上述基材的上表面（或下表面）相接而形成，并且，不局限于在形成于上述 基材和基材上的（或下）的任意結(jié)構(gòu)之間不包括其他結(jié)構(gòu)。
[0036] 下面，參照圖1對本發(fā)明的一實例的低輻射透明層疊體進行說明。
[0037] 圖1是本發(fā)明一實例的包括基材110及涂敷層190的低輻射透明層疊體100的剖 視圖。上述涂敷層190是在上述基材110的上部依次包括低輻射導(dǎo)電層130、電介質(zhì)層150 及吸光金屬層170的多層結(jié)構(gòu)。
[0038] 就上述低輻射透明層疊體100而言，上述吸光金屬層170-側(cè)的一面（圖1中顯示 為"A"）與作為其相反面的上述基材110-側(cè)的一面（圖1中顯示為"B"）的相對于可見 光的反射率之差可以為約30 %至約75%。例如，相對于可見光的反射率之差為約50 %至約 75%時的上述低輻射透明層疊體100,當(dāng)使玻璃基材一側(cè)的一面朝向室外一側(cè)時，在外部因 高反射率而將窗戶識別為鏡面，相反，由于室內(nèi)一側(cè)的反射率低，可充分確保朝向外部的視 野，以此能夠使隱私效果最大化。
[0039] 上述涂敷層190作為基于在太陽光中選擇性地反射遠紅外線的低輻射導(dǎo)電層 130的多層薄膜結(jié)構(gòu)，通過降低輻射率來向上述低輻射透明層疊體100賦予基于低輻射 (Low_e:low emissivity)效果的隔熱性能。上述低福射透明層疊體100形成如上所述的 結(jié)構(gòu)，在夏天使太陽輻射熱反射，并在冬天保存室內(nèi)供暖器中所產(chǎn)生的紅外線，以此用作帶 來建筑物的節(jié)能效果的功能性材料。
[0040] "福射率（Emissivity) "是指物體吸收、透射及反射具有任意特定波長的能量的比 率。即本說明書中，輻射率是指在紅外線波長范圍的紅外線能量的吸收程度，具體地，在施 加相當(dāng)于呈現(xiàn)較強的熱作用的約5 μ m至約50 μ m的波長范圍的遠紅外線時，相對于所施加 的紅外線能量而所吸收的紅外線能量的比率。
[0041] 根據(jù)基爾霍夫的規(guī)律，被物質(zhì)所吸收的紅外線能量與再次輻射而釋放出來的能量 相同，因而，吸收率與福射率相同。
[0042] 并且，由于未吸收的紅外線能量在物質(zhì)的表面反射，因而，紅外線能量反射越高則 輻射率的值越低。如果將其以數(shù)值形態(tài)表示，則具有（輻射率=1-紅外線反射率）的關(guān)系。
[0043] 如上所述的輻射率可通過在該領(lǐng)域中通常公知的多種方法來測定而得，并不受特 別的限制，例如，根據(jù)KSL2514標(biāo)準，可利用傅立葉變換紅外光譜儀（FT-IR)等的設(shè)備進行 測定。
[0044] 對于呈現(xiàn)如上所述的較強的熱作用的遠紅外線的吸收率即輻射率，在測定隔熱性 能的程度的方面，具有非常重要的意義。
[0045] 上述低輻射透明層疊體100在如玻璃等的透明的基材110上形成如上所述的涂敷 層190,以此能夠用作節(jié)能型功能性建筑材料，該節(jié)能型功能性建筑材料在可見光范圍中維 持規(guī)定的透射特性，并降低輻射率，可提供優(yōu)秀的隔熱效果。
[0046] 上述低輻射導(dǎo)電層130作為可具有低輻射率的導(dǎo)電性材料，例如是由金屬形成的 層，即具有低面電阻，從而具有低輻射率。例如，上述低輻射導(dǎo)電層130的輻射率為約0.01 至約〇. 3,具體地，可以為約0. 01至約0. 2,更加具體地，可以為約0. 01至約0. 1，進而具體 地，可以為約0. 01至約0. 08。在上述低輻射導(dǎo)電層130具有上述范圍的輻射率的情況下， 由于同時考慮到低輻射透明層疊體100的隔熱效果及可見光透射率方面，因而這將是適當(dāng) 的。具有如上所述的輻射率的上述低輻射導(dǎo)電層130的由薄膜形成的材料的面電阻可以為 約 0· 78 Ω /sq 至約 6. 42 Ω /sq。
[0047] 上述低輻射導(dǎo)電層130執(zhí)行選擇性地透射及反射太陽輻射的功能。上述低輻射導(dǎo) 電層130可包含選自主要由銀（Ag)、金（Au)、銅（Cu)、鋁（Al)、鉬（Pt)、離子摻雜金屬氧化 物及它們的組合組成的組中的一種以上，但不局限于此。例如，上述離子摻雜金屬氧化物包 含銦錫氧化物（ITO)、氟摻雜錫氧化物（FTO)、鋁摻雜的鋅氧化物（AZO)及鎵鋅氧化物（GZO) 等。在一實例中，上述低輻射導(dǎo)電層130可以是銀（Ag),由此，上述低輻射透明層疊體100 能夠?qū)崿F(xiàn)高導(dǎo)電度、可見光范圍中的低吸收率以及優(yōu)秀的耐久性等。
[0048] 例如，上述低輻射導(dǎo)電層130的厚度為約IOnm至約25nm。具有上述范圍的厚度的 低輻射導(dǎo)電層130適合同時實現(xiàn)低輻射率及高可見光透射率。
[0049] 上述吸光金屬層170可以由吸光性能優(yōu)秀的金屬形成，由于上述低輻射透明層疊 體100包含有上述吸光金屬層170,因而能夠增大上述涂敷層190 -側(cè)的一面和上述基材 110 -側(cè)的另一面對于可見光的反射率之差。
[0050] 在一實例中，上述吸光金屬層170在可見光范圍中的消光系數(shù)（extinction coefficient)可以是1. 5至3。上述消光系數(shù)是由作為光學(xué)材料的物質(zhì)固有的特性而具有的 光學(xué)常數(shù)導(dǎo)出的值，上述光學(xué)常數(shù)的公式由n-ik表示。此時，實數(shù)部分η為折射率，虛數(shù)部 分k為消光系數(shù)（也可命名為吸收系數(shù)、吸光系數(shù)及消光系數(shù)等）。消光系數(shù)為波長（λ ) 的函數(shù)，一般而言，金屬的消光系數(shù)大于〇。消光系數(shù)k與吸收系數(shù)α具有如下關(guān)系，α = (4 31 k)/λ，在使光通過的介質(zhì)的厚度為d時,吸收系數(shù)α根據(jù)I = IOexp (_α d)的關(guān)系， 因基于介質(zhì)的光的吸收，已通過的光的強度（I)比入射的光的強度（IO)減少。
[0051] 由于上述吸光金屬層170使用具有上述范圍的可見光范圍的消光系數(shù)的金屬來 吸收可見光的規(guī)定的部分，因而發(fā)生上述低輻射透明層疊體100的涂敷有上述吸光金屬層 170的一面（圖1中表示為"A"）與相反面（圖1中表示為"B"，上述低輻射透明層疊體的 上述基材110 -側(cè)的一面）的可見光反射率之差。
[0052] 如果上述吸光金屬層170的消光系數(shù)變小，可見光吸收率則變低，從而使上述A面 與上述B面的反射率之差變小，如果消光系數(shù)變大，被吸光金屬層所吸收的光的量則變多， 致使可見光透射率變小，由此，會難以確保清楚的可視性。如果上述吸光金屬層170具有上 述范圍的消光系數(shù)范圍，則既能夠確保上述A面和上述B面的規(guī)定的水平以上的反射率之 差，也能夠確保規(guī)定水平的可見光透射率。
[0053] 例如，上述吸光金屬層170可包含選自主要由鎳（Ni)、鉻（Cr)、鎳（Ni)與鉻（Cr) 的合金、鈦（Ti)及它們的組合組成的組中的一種以上，但不局限于此。
[0054] 例如，上述吸光金屬層170的厚度可以為約5nm至約25nm，具體地，可以為約15nm 至約25nm。就具有上述厚度范圍的上述吸光金屬層170而言，由于低輻射透明層疊體的雙 面的反射率之差，即（上述基材110-側(cè)的一面（A)的反射率）_(涂敷有上述吸光金屬層 170的一側(cè)的另一面（B)的反射率）的值為30%以上，因而能夠?qū)崿F(xiàn)充分的隱私效果，并通 過適當(dāng)?shù)鼐S持涂敷玻璃的透射率來能夠確保朝向外部的視野，且能夠?qū)⑸鲜龌?10 -側(cè) 的一面（A)的反射顏色，來實現(xiàn)使用人員首選的舒適的顏色，例如藍色。
[0055] 上述電介質(zhì)層150以介于上述低福射導(dǎo)電層130及上述吸光金屬層170之間的方 式層疊，從而使上述低輻射導(dǎo)電層130和上述吸光金屬層170分離，以使上述低輻射導(dǎo)電 層130和上述吸光金屬層170不連續(xù)層疊，由此，上述低輻射透明層疊體100能夠使上述基 材110 -側(cè)的一面和上述吸光金屬層170-側(cè)的另一面的相對于可見光的反射率之差最大 化，據(jù)此，由于上述低輻射透明層疊體100的一表面在外部的反射率高，而顯現(xiàn)為鏡子，因 此，不能確認內(nèi)部，并且，由于另一個表面的可見光反射率低，因而能夠確保視野。如上所述 的上述低輻射透明層疊體100能夠?qū)崿F(xiàn)隱私確保效果。因此，上述低輻射透明層疊體100 應(yīng)用為建筑材料，從而可有用地用作如建筑物的底層部的個人的私生活保護及要求安全的 范圍的外部視線遮擋用材料。
[0056] 上述電介質(zhì)層150可由折射率為約1. 5至約2. 3的電介質(zhì)物質(zhì)形成，并且可根據(jù) 折射率的值來調(diào)節(jié)電介質(zhì)層150的厚度，以將透射率、反射率、透射顏色及反射顏色體現(xiàn)為 所需的目標(biāo)水平。并且，上述電介質(zhì)層150可由消光系數(shù)接近于0的物質(zhì)形成，消光系數(shù)大 于〇的物質(zhì)表示在入射光到達吸光金屬層之前被電介質(zhì)層吸收的物質(zhì)，這將成為阻礙確保 清楚的視野的原因，而不優(yōu)選。因而，電介質(zhì)層150的消光系數(shù)可在可見光范圍（在約380nm 至約780nm波長的范圍）中小于0.1。
[0057] 一般，由于使用于低輻射導(dǎo)電層130的金屬容易進行氧化，因而，上述電介質(zhì)層 150能夠起到上述低輻射導(dǎo)電層130的抗氧化膜的作用，并且，這種電介質(zhì)層150還起到提 高可見光透射率的作用。
[0058] 上述電介質(zhì)層150可包含多種的金屬氧化物、金屬氮化物等，例如，可包含選自主 要由鈦氧化物、錫鋅氧化物、鋅氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、硅氮化物、硅鋁氮 化物及它們的組合組成的組中的一種以上，但并不局限于此。在這種金屬氧化物和/或金 屬氮化物中可摻雜選自包含鉍（Bi)、硼（B)、鋁（Al)、硅（Si)、鎂（Mg)、銻（Sb)、鈹（Be)及 它們的組合的組中的一種以上。
[0059] 可通過適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)上述電介質(zhì)層150的材料和物性來調(diào)節(jié)上述低輻射透明層疊 體100的光學(xué)性能。并且，上述電介質(zhì)層150還可以由兩層以上的多層構(gòu)成。
[0060] 例如，上述電介質(zhì)層150的厚度可以為約5nm至約50nm。電介質(zhì)層的厚度可根據(jù) 形成的位置及物質(zhì)進行各種調(diào)節(jié)，以能夠?qū)⒄麄€多層薄膜的光學(xué)性能（透射率、反射率及 顯色指數(shù)）達到目標(biāo)性能的標(biāo)準，由于包括具有上述厚度范圍的上述電介質(zhì)層150,因而基 于電介質(zhì)層150可有效地控制光學(xué)性能，并且，還可在生產(chǎn)速度方面優(yōu)選采用。
[0061] 上述基材110可以是可見光透射率高的透明基材，例如，可使用具有約90%至約 100%的可見光透射率的玻璃或透明塑料基板。例如，上述基材110可無限制地使用建筑用 玻璃，根據(jù)使用目的，例如，上述玻璃的厚度可以為約2mm至約12_。
[0062] 為了體現(xiàn)出適合于使用目的的光譜，上述低輻射透明層疊體100通過調(diào)節(jié)用于形 成上述涂敷層190的各層的材料及厚度，從而可控制隨著波段而改變的透射率和反射率。 例如，對于上述低輻射透明層疊體100來說，如果可見光透射率高，則通過高透射率來確保 舒適的視野，相反，由于可見光反射率低，可能存在因外部視線而導(dǎo)致侵犯個人私生活的問 題，與此相反，如果可見光反射率高，雖然對外部視線的阻擋效果得到提高，但與此同時，由 于不能圓滿確保從室內(nèi)向室外的視野，因而不利于起到透明玻璃窗的作用。
[0063] 上述低輻射透明層疊體100通過調(diào)節(jié)用于形成上述涂敷層190的各層的材料及厚 度，由此可對從外部可視的上述低輻射透明層疊體100的高反射面的顏色、反射率及透射 率等的光學(xué)性能進行微細的控制。
[0064] 如上所述，上述涂敷層190以介入方式還可包括除了如上所述的結(jié)構(gòu)以外的其它 追加的層，以體現(xiàn)出規(guī)定的光學(xué)性能。一實例中，上述涂敷層190在上述涂敷層190的最外 廓的單面或雙面還可包括至少一個電介質(zhì)層。
[0065] 對于上述還可包括的電介質(zhì)層的仔細說明如同上述電介質(zhì)層150的說明。
[0066] 圖2是簡要表示本發(fā)明的再一實例的包括基材210及涂敷層290的低輻射透明層 疊體的剖視圖。上述涂敷層290是從上述基材210的上部起依次包括第一電介質(zhì)層220、低 福射導(dǎo)電層230、第二電介質(zhì)層250、吸光金屬層270及第三電介質(zhì)層280的多層結(jié)構(gòu)。 [0067] 本發(fā)明的另一實例中，提供一種包括上述低輻射透明層疊體的建筑材料。上述建 筑材料應(yīng)用于上述低輻射透明層疊體，從而不僅確?；诘洼椛湫Ч母魺嵝阅埽胰?上所述地由于外部表面的可見光反射率高，并且內(nèi)部表面的可見光反射率低，因而能夠同 時實現(xiàn)視野確保效果及隱私確保效果。
[0068] 本發(fā)明的還一實例中，提供一種低輻射透明層疊體的制備方法，該低輻射透明層 疊體的制備方法包括如下步驟：在基材上對低輻射導(dǎo)電性金屬或金屬氧化物進行蒸鍍來形 成低輻射導(dǎo)電層的步驟；在上述低輻射導(dǎo)電層的上部形成電介質(zhì)層的步驟；以及在上述電 介質(zhì)層的上部對吸光性金屬進行蒸鍍來形成吸光金屬層的步驟。
[0069] 可根據(jù)上述透明層疊體的制備方法來制備上述低輻射透明層疊體100、200。
[0070] 上述透明層疊體的制備方法中，對于低輻射導(dǎo)電層、電介質(zhì)層及吸光金屬層的詳 細說明如上所述。
[0071] 上述蒸鍍方法不受特別的限制，可根據(jù)公知的方法執(zhí)行。
[0072] 上述電介質(zhì)層的形成方法例如可根據(jù)蒸鍍方法執(zhí)行，并且可根據(jù)公知的方法執(zhí) 行，并不受特別的限制，例如可利用磁控濺射蒸鍍機進行蒸鍍。
[0073] 下面，對本發(fā)明的實施例及比較例進行說明。但是，下面的實施例只是本發(fā)明的一 實施例，而本發(fā)明并不局限于以下實施例。
[0074] 實施例
[0075] 〈實施例1>
[0076] 使用磁控（C-Mag)溉射蒸鍍機（Selcos，Cetus-S)來制備出具有多層結(jié)構(gòu)的低福 射透明層疊體，該多層結(jié)構(gòu)具有如表1所示的組成及厚度。
[0077] 首先，在厚度為6mm的透明玻璃基材上將TiO2陶瓷作為靶，并利用無線電變頻電 源裝置來蒸鍍厚度為37. Onm的TiO2薄膜。工序氣體為氬lOOsccm，工序壓力維持為3mTorr。 工序電力應(yīng)用了 1.5kW。接著，將鋅中含有10wt%鋁的合金的氧化物作為靶，在調(diào)頻工序電 力為I. 2kW、工序氦為lOOsccm、工序壓力為3mTorr的條件下，蒸鍍厚度為6. 4nm的ZnAlOx 層。其次，將銀（Ag)金屬作為靶，在直流電流電力為0.5kW、工序氬為lOOsccm、工序壓力為 3mTorr的條件下，蒸鍍厚度為14. Onm的銀（Ag)薄膜。利用與上述ZnAlOx層相同的方法，在 上述銀（Ag)薄膜的上部蒸鍍了厚度為13. Inm的ZnAlOx層。然后，將50wt%的錫（Sn)及 50wt%的鋅（Zn)作為合金金屬靶，并維持IkW的調(diào)頻工序電力、30sccm的工序氬、30sccm 的氧以及3mT〇rr的工序壓力，并根據(jù)濺射工序中的反應(yīng)，來使氧化物薄膜蒸鍍，從而蒸鍍 厚度為35. 2nm的5泣11〇!￡層。在上述SnZnOx層的上部將80wt%的鎳（Ni)及20wt%的鉻 (Cr)的合金金屬作為靶，并在直流電流電力為0· 5kW、工序氬lOOsccm及工序壓力為5mTorr 的條件下，蒸鍍厚度為6. Onm的鎳鉻（NiCr)薄膜。在上述鎳鉻（NiCr)薄膜的上部，再次利 用與上述SnZnOx相同的方法來蒸鍍厚度為44. 5nm的SnZnOx層。
[0078] 由此，制備出具有如下列表1所示的組成及厚度的涂敷層形成在玻璃基材上的低 輻射透明層疊體。
[0079]〈實施例2至實施例6>
[0080] 實施例2至實施例6中，除了將上述鎳鉻（NiCr)薄膜的厚度分別蒸鍍成9. Onm、 12. 0nm、15. 0nm、18. Onm及21. Onm之外，利用與實施例1中的相同的方法制備出具有如表1 所示的組成及厚度的涂敷層形成在玻璃基材上的低輻射透明層疊體。
[0081] 〈實施例7>
[0082] 利用與上述實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度 為32. Onm的二氧化鈦（TiO2)薄膜、厚度為5. 2nm的ZnAlOx層、厚度為21. 3nm的銀（Ag)薄 膜、厚度為5. Onm的ZnAlOx層、厚度為32. Onm的ZnAlOx層、厚度為21. 6nm的鎳鉻（NiCr) 薄膜以及厚度為41. 7nm的ZnAlOx層，從而制備出具有如下列表1所示的組成及厚度的涂 敷層形成在玻璃基材上的低輻射透明層疊體。
[0083] 〈比較例1>
[0084] 利用與上述實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度 為37. Onm的二氧化鈦（TiO2)薄膜、厚度為6. 4nm的ZnAlOx層、厚度為14. Onm的銀（Ag)薄 膜、厚度為13. Inm的ZnAlOx層及厚度為79. 7nm的ZnAlOx層，從而制備出具有如下列表1 所示的組成及厚度的涂敷層形成在玻璃基材上的低輻射透明層疊體。
[0085] 〈比較例2>
[0086] 利用與上述實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度 為37. Onm的二氧化鈦（TiO2)薄膜、厚度為6. 4nm的ZnAlOx層、厚度為14. Onm的銀（Ag)薄 膜、厚度為15. Onm的鎳鉻（NiCr)薄膜以及厚度為44. 5nm的ZnAlOx層，從而制備出具有如 下列表1所示的組成及厚度的涂敷層形成在玻璃基材上的低輻射透明層疊體。
[0087] 〈比較例3>
[0088] 利用與上述實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度 為37. Onm的二氧化鈦（Ti02)薄膜、厚度為19. 5nm的ZnAlOx層、厚度為35. 2nm的ZnAlOx 層、厚度為15. Onm的鎳鉻（NiCr)薄膜以及厚度為44. 5nm的ZnAlOx層，從而制備出具有如 下列表1所示的組成及厚度的涂敷層形成在玻璃基材上的低輻射透明層疊體。
[0089] 表 1
[0090]

【權(quán)利要求】
1. 一種低輻射透明層疊體，其特征在于， 包括基材及涂敷層； 所述涂敷層是從所述基材起的依次包括低輻射導(dǎo)電層、電介質(zhì)層及吸光金屬層的多層 結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述基材一側(cè)的一面與所 述吸光金屬層一側(cè)的另一面對于可見光的反射率之差為30%至75%。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述低輻射導(dǎo)電層的輻射 率為0.01至0.3。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述低輻射導(dǎo)電層包含面 電阻為〇? 78Q/sq至6. 42Q/sq的金屬。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述低輻射導(dǎo)電層包含選 自銀、金、銅、鋁、鉬、離子摻雜金屬氧化物及它們的組合中的至少一種。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述吸光金屬層的可見光 范圍的消光系數(shù)為1.5至3。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述吸光金屬層包含選自 鎳、鉻、鎳與鉻的合金、鈦及它們的組合中的至少一種。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于， 所述電介質(zhì)層包含選自金屬氧化物、金屬氮化物及它們的組合中的至少一種組分；或 者 在所述至少一種組分中摻雜有選自鉍、硼、鋁、硅、鎂、銻、鈹及它們的組合中的至少一 種元素。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述電介質(zhì)層包含選自鈦 氧化物、錫鋅氧化物、鋅氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、硅氮化物、硅鋁氮化物及 它們的組合中的至少一種。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述基材是具有90%至 100 %的可見光透射率的透明基材。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述基材是玻璃或透明塑 料基板。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述低輻射導(dǎo)電層的厚度 為 10nm至 25nm。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述吸光金屬層的厚度為 5nm至 25nm〇
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述電介質(zhì)層的厚度為 5nm至 50nm〇
15. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，所述涂敷層在所述涂敷層 的最外廓的單面或雙面還包括至少一個電介質(zhì)層。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的低輻射透明層疊體，其特征在于，包括： 第一電介質(zhì)層，其介于所述基材與所述低輻射導(dǎo)電層之間； 第二電介質(zhì)層，其為所述電介質(zhì)層； 第三電介質(zhì)層，其相對于所述第二電介質(zhì)層位于與所述吸光金屬層對置的一面的上 部。
17. -種建筑材料，其特征在于，包括根據(jù)權(quán)利要求書1至16中的任一項所述的低輻射 透明層疊體。
18. -種低輻射透明層疊體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： 在基材上蒸鍍低輻射導(dǎo)電性金屬或金屬氧化物而形成低輻射導(dǎo)電層的步驟； 在所述低輻射導(dǎo)電層的上部形成電介質(zhì)層的步驟；以及 在所述電介質(zhì)層的上部蒸鍍吸光性金屬而形成吸光金屬層的步驟。
【文檔編號】E04B1/78GK104379531SQ201280074012
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2012年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月19日
【發(fā)明者】田允淇 申請人:樂金華奧斯有限公司