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一種用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置的制作方法

文檔序號:1964167閱讀:317來源:國知局
專利名稱:一種用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種化蠟裝置,特別是一種用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體晶片的減薄工序主要采用精密研磨機對晶片進行減薄, 一般是將晶片黏貼在涂有 蠟的重塊平面上,然后進行壓片、測量、減磨。化蠟就是一個重要步驟,目前化蠟時是將, 蠟鍋放到電爐上進行,需要專人員看管,化蠟時間長,效率低,蠟是在敞開的環(huán)境中融化, 污染環(huán)境,化出的蠟純凈度差。
公開號為CN2122836的中國專利提供了一種《化蠟裝置》,由電加熱器和蠟槽組成,電 加熱器的明電阻絲橫穿過支架上固定的絕緣板上的瓷管,并置于蠟槽內(nèi),明電阻絲首尾端分 別與兩個連接板連接,兩連接板通過接點總成螺絲與電源正、負極連接,電源電壓為安全電 壓27—32伏特,電流為130—140安培。該化蠟裝置只是通過電加熱化蠟,蠟仍然是在敞開 的環(huán)境中融化,不能保證蠟的純凈度。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型針對現(xiàn)有半導(dǎo)體晶片減薄工序中化蠟技術(shù)存在的不足,提供一種集化蠟與慮 蠟于一體、液態(tài)蠟純凈度高的用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置 本實用新型的用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置采用以下方案
本實用新型的化蠟裝置包括電加熱盤、液蠟暫存鍋和陶瓷化蠟筒,液蠟暫存鍋連接在電 加熱盤上,液蠟暫存鍋的上端設(shè)有鍋蓋,下部設(shè)有帶閥門的出液口,陶瓷化蠟筒安裝在鍋蓋 的底面,陶瓷化蠟筒的外壁上包覆有電熱絲,陶瓷化蠟筒的下端設(shè)有濾紙。
液蠟暫存鍋內(nèi)設(shè)有液位計。
本實用新型采用電加熱化蠟,使固態(tài)蠟在封閉的環(huán)境中熔化,并使熔化的液態(tài)蠟經(jīng)過過 濾后使用,集化蠟與慮蠟于一體,提高了液態(tài)蠟的純凈度,提高了化蠟效率。

附圖是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中1、電加熱盤,2、液蠟暫存鍋,3、液位計,4、鍋蓋,5、把手,6、陶瓷化蠟筒, 7、電熱絲,8、擋板,9、閥門,10、出液口, 11、濾紙,12、濾網(wǎng)。 .具體實施方式
如附圖所示,本實用新型的化蠟裝置包括電加熱盤l、液蠟暫存鍋2和化蠟筒3。液蠟暫 存鍋2連接在電加熱盤1上,電加熱盤l采用類似電飯鍋上的結(jié)構(gòu),設(shè)有溫控裝置。液蠟暫 存鍋2的上端設(shè)有鍋蓋4,左側(cè)下部設(shè)有出液口IO,出液口10上設(shè)有閥門9,液蠟暫存鍋2 的上部設(shè)有把手5,液蠟暫存鍋2內(nèi)還設(shè)有液位計3,液位計3可安裝在陶瓷化蠟筒6下端的 擋板8上。陶瓷化蠟筒6的上口敞開,上端安裝在鍋蓋4的底面,下端設(shè)有擋板8,陶瓷化 蠟筒6的外壁上包覆有電熱絲7。陶瓷化蠟筒6的下端設(shè)有濾網(wǎng)12,在擋板8的下面上設(shè)有 多層濾紙ll,可在濾紙ll的下面設(shè)置承托網(wǎng)。 本實用新型的工作過程是
首先將液蠟暫存鍋2用水刷干凈并用氣槍吹干,蓋嚴鍋蓋4,防止空氣灰塵落進液蠟暫存鍋2內(nèi),關(guān)閉液蠟暫存鍋2的出液口 10上的閥門9,接好電源線。在陶瓷化蠟筒6內(nèi)放入蠟 塊。熔化后的液態(tài)蠟通過濾網(wǎng)12往下流,依次通過三層濾紙11過濾后流入液蠟暫存鍋2內(nèi) 暫時存放起來,這時蠟經(jīng)過過濾已經(jīng)達到使用要求。隨著熔化液態(tài)蠟的增多,液蠟暫存鍋2 內(nèi)的液態(tài)蠟高度會不斷增加,液態(tài)蠟升到一定高度時,液位計3發(fā)出信號報警,停止在化蠟 筒內(nèi)加蠟。打開液蠟暫存鍋2上的閥門9,將液態(tài)蠟灌注于塑料或橡膠成型模內(nèi)直接固化成型。 使用完裝置畢后,將陶瓷化蠟筒6底部的濾紙11取下,用甲苯棉球擦凈濾紙承托網(wǎng)和陶瓷化 蠟筒6,用甲苯刷洗液蠟暫存鍋2的內(nèi)部和閥門9,以備下次使用。
當(dāng)剩下的液蠟在液蠟暫存鍋2內(nèi)凝固后,可通過底部的電加熱盤1加熱使之再次熔化利用。
權(quán)利要求1.一種用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置,包括電加熱盤、液蠟暫存鍋和陶瓷化蠟筒,其特征是液蠟暫存鍋連接在電加熱盤上,液蠟暫存鍋的上端設(shè)有鍋蓋,下部設(shè)有帶閥門的出液口,陶瓷化蠟筒安裝在鍋蓋的底面,陶瓷化蠟筒的外壁上包覆有電熱絲,陶瓷化蠟筒的下端設(shè)有濾紙。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置,其特征是液蠟暫存鍋內(nèi)設(shè)有液 位計。
專利摘要本實用新型提供了一種用于半導(dǎo)體晶片加工的化蠟裝置,該化蠟裝置包括電加熱盤、液蠟暫存鍋和陶瓷化蠟筒,液蠟暫存鍋連接在電加熱盤上,液蠟暫存鍋的上端設(shè)有鍋蓋,下部設(shè)有帶閥門的出液口,陶瓷化蠟筒安裝在鍋蓋的底面,陶瓷化蠟筒的外壁上包覆有電熱絲,陶瓷化蠟筒的下端設(shè)有濾紙。液蠟暫存鍋內(nèi)設(shè)有液位計。本實用新型采用電加熱化蠟,使固態(tài)蠟在封閉的環(huán)境中熔化,并使熔化的液態(tài)蠟經(jīng)過過濾后使用,集化蠟與慮蠟于一體,提高了液態(tài)蠟的純凈度,提高了化蠟效率。
文檔編號B28D5/00GK201435382SQ20092002973
公開日2010年3月31日 申請日期2009年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月15日
發(fā)明者娟 婁, 滿忠斌 申請人:山東華光光電子有限公司
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